TWI597630B - 觸控面板 - Google Patents
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Description
本發明係有關於觸控技術領域,特別是有關於一種觸控面板。
隨著科技的進步,觸控面板的應用也日益增加。目前觸控面板的應用主要包括:可攜式電子產品,如:平板電腦、手機、數位相機;金融商業用途,如:提款機、遠端視訊會議;公共資訊用途,如:機場、車站導覽、資料查詢等。
傳統的觸控面板包括基板及感測層。其中,感測層包括複數個相互間隔設置的電極,該些電極位於基板上。電極通常由透明導電材料製成,基板為玻璃等材質,由於電極對光線的折射率與基板對光線的折射率不同,將有可能導致電極可見,影響觸控面板視覺外觀效果。另外,電極設置於基板上,無其它部件將電極與外界隔離,致使電極易受到環境的侵蝕或後觸控面板續製程的影響,從而影響觸控面板感測功能。
本發明實施例提供一種觸控面板,通過在感測層上設置折射率較高的保護層,保護層因其折射率較高,可將大部份外部光線反射掉,使進入感測層的光線減少,進而透過感測層反射出來的光線也較少,可改
善感測層可見的問題,提高觸控面板視覺外觀。同時保護層對感測層兼具保護的作用。
在本發明一實施例中,提供一種觸控面板,包括:一感測層,
包括多個間隔設置的電極;以及一保護層,保護層設置於該感測層上,且該保護層的折射率比該感測層的折射率大0.1以上。
本發明實施例提供的觸控面板,通過在感測層上設置折射率
較高的保護層,保護層因其折射率較高,可將大部份外部光線反射掉,使進入感測層的光線減少,從而降低甚或避免感測層可見的問題,改善觸控面板視覺外觀效果,同時,在觸控面板的製作過程中,保護層對感測層兼具保護的作用。
為讓本發明之上述和其他目的、特徵、和優點能更明顯易懂,下文特舉出較佳實施例,並配合所附圖式,作詳細說明如下:
100‧‧‧基板
102‧‧‧感測層
103‧‧‧電極
104、204‧‧‧保護層
106‧‧‧空隙
201、301‧‧‧顯示器
203、303‧‧‧蓋板
305‧‧‧遮蔽層
第1圖顯示在本發明一實施例中的觸控面板的剖面圖。
第2圖顯示在本發明另一實施例中的觸控面板的剖面圖。
第3圖顯示在一實施例中所形成的觸控面板與顯示器結合的剖面圖。
第4圖顯示在另一實施例中所形成的觸控面板與顯示器結合的剖面圖。
以下依本發明之不同特徵舉出數個不同的實施例。本發明中特定的元件及安排係為了簡化,但本發明並不以這些實施例為限。舉例而
言,於第二元件上形成第一元件的描述可包括第一元件與第二元件直接接觸的實施例,亦包括具有額外的元件形成在第一元件與第二元件之間、使得第一元件與第二元件並未直接接觸的實施例。此外,為簡明起見,本發明在不同例子中以重複的元件符號及/或字母表示,但不代表所述各實施例及/或結構間具有特定的關係。
在本發明各種實施例中,在感測層上設置一具高折射率
(High Refractive Index)的保護層,高折射率的保護層一方面可將電極與外界隔離以避免感測層受到環境的侵蝕或後續製程的影響,對感測層起到保護的作用,另一方面則具備光學漫射、反射控制的功能,可使外部光線大部份被保護層反射掉,使進入感測層的光線減少,進而透過感測層反射出來的光線也較少,從而降低甚或避免感測層可見的問題。
第1圖顯示在本發明一實施例中的觸控面板的剖面圖。參照
第1圖,觸控面板包括感測層102及保護層104,其中保護層104的折射率比感測層102的折射率大0.1以上。
感測層102可包括多個間隔設置的電極103。在一些實施例
中,可利用透光率較好的導電材料形成這些電極103。例如奈米銀絲(silver nano-wire)、奈米碳管(carbon nanotube)、石墨烯(graphene)、導電高分子(conductive polymer)、金屬氧化物、或前述之組合。金屬氧化物例如可為氧化銦錫(indium tin oxide;ITO)、氧化銦鋅(indium zinc oxide;IZO)、鋁氧化鋅(cadmium tin oxide;CTO)、氧化鋁鋅(aluminum zinc oxide;AZO)、氧化銦錫鋅(indium tin zinc oxide;ITZO)、氧化鋅(zinc oxide)、氧化鎘(cadmium oxide;CdO)、氧化鉿(hafnium oxide;HfO)、氧化銦鎵鋅(indium gallium zinc
oxide;InGaZnO)、氧化銦鎵鋅鎂(indium gallium zinc magnesium oxide;InGaZnMgO)、氧化銦鎵鎂(indium gallium magnesium oxide;InGaMgO)、氧化銦鎵鋁(indium gallium aluminum oxide;InGaAlO)、或前述之組合。感測層102的形成方法包括先形成一導電層,例如包括電鍍法、濺鍍(sputtering)法、印刷(printing)法、或前述之組合,再圖案化該導電層形成多個相互間隔的電極103,圖案化導電層的方法可包括微影及蝕刻方法,例如濕式蝕刻、干式蝕刻等方法。在另一實施例中,感測層102的形成方法還包括:先形成一導電層,再在導電層上形成保護層104,然後圖案化導電層形成多個相互間隔的電極103,例如,圖案化導電層的方法包括,透過一蝕刻工藝將蝕刻液滲透過保護層104進而圖案化導電層,形成多個相互間隔的電極103。
保護層104例如包括壓克力樹脂或環氧樹脂,其厚度例如介於50nm至3μm。為了使保護層104的折射率大於感測層102的折射率,可選用本身折射率較感測層102折射率高的壓克力樹脂或環氧樹脂,或者可在壓克力樹脂或環氧樹脂中摻雜高折射率粒子,以使保護層104的折射率高於感測層102的折射率。高折射率粒子包括二氧化鈦、二氧化鋯、或前述之組合。另外,採用壓克力樹脂或環氧樹脂中摻雜高折射率粒子以形成保護層104,不僅使保護層104的折射率比感測層102的折射率高,還可以使保護層104具有漫反射的功能,可進一步降低感測層102可見的現象。在一實施例中,保護層104的折射率比感測層102的折射率大0.1以上。例如,當電極103的材料為奈米銀絲時,保護層104的折射率可介於1.6至2.0,較佳為1.8。當電極103的材料為ITO時,保護層104的折射率可介於1.9至2.3,較佳為2.0。當電極103的材料為AZO時,保護層104的折射率可介於2.0至2.3。當電極103的材
料為導電高分子時,保護層104的折射率可介於1.7至2.0。保護層104的形成方法例如包括旋轉塗佈(spin coating)、棒狀塗佈(bar coating)、刮刀塗佈(blade coating)、滾筒塗佈(roller coating)、線棒塗佈(wire bar coating)、浸漬塗佈(dip coating)、噴灑塗佈(spray coating)、或其他塗佈方法。
此外,在一實施例中,觸控面板還包括一基板100,電極103
相互間隔的設置於基板100上。由於電極103之間具有一空隙,保護層104的一部分填充於該些空隙中,也即保護層104的一部分可透過電極103之間的空隙與基板100直接接觸(如第1圖所示),保護層104可通過電極103之間的間隙(例如通過奈米銀絲材料自身具有一定的疏密度)而與基板100接觸,可提高電極103與基板110之間的附著力,防止電極103脫落,此實施例中的保護層104可透過上述的塗佈方式形成在感測層102上。
第2圖是相對於第1圖的另一實施例,其中電極103之間具有
一空隙,保護層204設置於感測層102上之后,該些電極103之間仍存在該些空隙。亦即,保護層204並未填入感測層102之各電極103間的空隙中,因此在一部分的保護層204及基板100之間具有空隙106。此實施例中的保護層204可透過先成膜後貼附的方式形成在感測層102上,在製程上較為簡易達成。在本實施例中,保護層204、感測層102與基板100間的相對關係與上一實施例相同,且各自元件的形成材料與特性亦相同,在此不再多所贅述。
上述實施例中所描述的基板100可為有機或無機基板,其中,有機基板例如以塑化材料所製造,無機基板例如以玻璃材料所製造。在一實施例中,基板100可為聚亞醯胺基板(PI)、聚醚醚酮(PEEK)基板、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)基板、聚碳酸酯(PC)基板、或玻璃基板。
第3圖顯示在一實施例中所形成的觸控面板與顯示器結合的
剖面圖。請合併參照第1圖,感測層102及其內含的電極103設置於基板100上,保護層104設置於感測層102上。此外,在保護層104上則設置有蓋板203,蓋板203例如為保護玻璃(cover glass),作為外部觸控物體的直接接觸面。在基板200的另一側上則為顯示器201。其中,第3圖中的保護層104、感測層102與基板100亦可由圖2中的保護層204、感測層102與基板100所取代,其相對關係在此即不再多所贅述。
第4圖則顯示在另一實施例中所形成的觸控面板與顯示器結
合的剖面圖。與第3圖所示實施例不同之處在於,在此實施例中,可利用單片玻璃方法(One glass solution;OGS),將感測層102及保護層104直接設置於蓋板303上,其中,以蓋板303作為基板,蓋板303位於保護層104上,保護層104設置於感測層102上,即保護層104位於蓋板303與感測層102之間。
顯示器301則位於感測層102的另一側。與第3圖所示實施例相比,可省略基板100,使觸控面板更加輕薄。此外,保護層104還具有平坦層的作用,例如,觸控面板還包括遮蔽層(Black mask)305,遮蔽層305位於蓋板303下表面的周邊區域,用於遮蔽觸控面板周邊線路(圖未示)。在觸控面板的非周邊區域,保護層104位於蓋板303與感測層102之間,在觸控面板的周邊區域,保護層104位於感測層102與遮蔽層305之間。保護層104可使得感測層102較平坦的設置於保護層104上,不會因為遮蔽層305引起的高度差而使得感測層102不平整。其中,第4圖中的保護層104與感測層102亦可由圖2中的保護層204與感測層102所取代,其相對關係在此即不再多所贅述。
本發明實施例提供的觸控面板,利用具高折射率的保護層覆
蓋感測層,保護層因其折射率較感測層大,可將大部份外部光線反射掉,使進入感測層的光線減少,從而降低甚或避免感測層可見的問題,改善觸控面板視覺外觀效果,同時保護層對感測層兼具保護及平坦層的作用。此外,近來由於銦礦的來源取得不易以及銦元素的日漸枯竭,使用其他材料來取代氧化銦錫(ITO)作為觸控面板的電極材料成為一個熱門的課題。因此,在本發明一些實施例中,由於奈米銀絲具有較高的折射率,奈米銀絲形成的電極相較於普通的電極需要更高折射率的保護層。因此,本發明一些實施例中,利用具高折射係數的保護層覆蓋感測層,其降低甚或避免感測層可見,改善觸控面板視覺外觀效果尤為明顯。
雖然本發明已以數個較佳實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可作任意之更動與潤飾,因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
100‧‧‧基板
102‧‧‧感測層
103‧‧‧電極
104‧‧‧保護
Claims (10)
- 一種觸控面板,包括:一感測層,包括多個間隔設置的電極;以及一保護層,設置於該感測層上,且該保護層的折射率比該感測層的折射率大0.1以上,其中該些電極的材料包括:奈米銀絲,且該保護層的折射率介於1.6至1.8。
- 如申請專利範圍第1項所述之觸控面板,其中該些電極的材料包括:奈米銀絲,且該保護層的折射率為1.8。
- 如申請專利範圍第1項所述之觸控面板,其中該保護層包括壓克力樹脂或環氧樹脂。
- 如申請專利範圍第1項所述之觸控面板,其中該保護層包括壓克力樹脂或環氧樹脂中摻雜有高折射率粒子。
- 如申請專利範圍第4項所述之觸控面板,其中該高折射率粒子包括二氧化鈦、二氧化鋯、或前述之組合。
- 如申請專利範圍第1項所述之觸控面板,其中該些電極之間具有一空隙,該保護層的至少一部分填充於該些空隙中。
- 如申請專利範圍第1項所述之觸控面板,其中該些電極之間具有一空隙,該保護層設置於該感測層上之後,該些電極之間仍存在該些空隙。
- 如申請專利範圍第6或7項所述之觸控面板,更包括:一基板,其中該些電極設置於該基板上。
- 如申請專利範圍第6或7項所述之觸控面板,更包括:一蓋板,該蓋板設置於該保護層上。
- 如申請專利範圍第1項所述之觸控面板,其中該電極包括奈米銀絲、奈米碳管、石墨烯、導電高分子、金屬氧化物、或前述之組合。
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