CN104297973B - 触摸显示屏 - Google Patents

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Abstract

一种触摸显示屏，包括液晶显示面板以及设置在液晶显示面板之上的触摸结构。所述液晶显示面板包括上玻璃基板、下玻璃基板以及设置在上玻璃基板和下玻璃基板之间的液晶层。所述上玻璃基板邻近液晶层的下表面设置有滤光层。所述触摸结构包括第一透明氧化铟锡薄膜。所述第一透明氧化铟锡薄膜上形成有沟道。所述第一透明氧化铟锡薄膜与滤光层之间设置有光蚀刻阻挡层，用于防止第一透明氧化铟锡薄膜中的沟道延伸至滤光层以及液晶层。由于第一透明氧化铟锡薄膜与滤光层之间设置有光蚀刻阻挡层，当在第一透明氧化铟锡薄膜上设置沟道时，所述沟道将不会延伸至滤光层以及液晶层中，从而避免对液晶显示面板的显示性能造成影响。

Description

触摸显示屏
技术领域
本发明涉及一种触摸显示屏，尤其涉及一种可靠性较高的触摸显示屏。
背景技术
在现今电子产品市场中，个人数字助理（PDA）、移动电话（mobile phone）及笔记本（notebook）等便携式电子产品都已广泛使用触摸屏（touch panel）作为其数据沟通的界面工具。由于目前电子产品皆以轻、薄、短、小为设计方向，搭配触摸屏的显示装置已经成为各种电子产品的关键元件之一。
一般的触摸显示屏通常包括液晶显示面板以及设置在液晶显示面板之上的透明氧化铟锡（indium tin oxide，ITO）薄膜。上述的透明氧化铟锡薄膜通常设置有沟道以形成图案化的结构。然而，在透明氧化铟锡薄膜上蚀刻沟道时，如果蚀刻程度过小的话，相邻的氧化铟锡薄膜图案层之间将没有完全分离而影响氧化铟锡薄膜的性能；如果蚀刻程度过大的话，所述沟道将有可能延伸至液晶显示面板的滤光层以及液晶层中而影响其显示性能。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种可靠性较高的触摸显示屏。
一种触摸显示屏，包括液晶显示面板以及设置在液晶显示面板之上的触摸结构。所述液晶显示面板包括上玻璃基板、下玻璃基板以及设置在上玻璃基板和下玻璃基板之间的液晶层。所述上玻璃基板邻近液晶层的下表面设置有滤光层。所述触摸结构包括第一透明氧化铟锡薄膜。所述第一透明氧化铟锡薄膜上形成有沟道。所述第一透明氧化铟锡薄膜与滤光层之间设置有光蚀刻阻挡层，用于防止第一透明氧化铟锡薄膜中的沟道延伸至滤光层以及液晶层。
在上述触摸显示屏中，由于第一透明氧化铟锡薄膜与液晶层之间设置有光蚀刻阻挡层，当在第一透明氧化铟锡薄膜上设置沟道时，所述沟道将不会延伸至滤光层以及液晶层中，从而避免对液晶显示面板的显示性能造成影响。
附图说明
图1是本发明第一实施例提供的触摸显示屏的结构示意图。
图2是图1中在对第一透明氧化铟锡薄膜进行蚀刻时的结构示意图。
图3是本发明第二实施例提供的触摸显示屏的结构示意图。
图4是本发明第三实施例提供的触摸显示屏的结构示意图。
主要元件符号说明
触摸显示屏 10、20、30
液晶显示面板 110、210、310
上玻璃基板 111、211、311
下玻璃基板 112、212、312
液晶层 113、213、313
滤光层 114、214、314
下偏光层 115、215、315
上偏光层 116、216、316
触摸结构 120、220、320
第一透明氧化铟锡薄膜 121、221、321
沟道 122、222、322
第二透明氧化铟锡薄膜 223
光蚀刻阻挡层 130、230、330
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
以下参照图示，对本发明的触摸显示屏进行进一步的说明。
请参见图1，本发明第一实施例提供的触摸显示屏10包括液晶显示面板110、设置在液晶显示面板110之上的触摸结构120、以及设置在触摸结构120与液晶显示面板110之间的光蚀刻阻挡层130。
所述液晶显示面板110包括上玻璃基板111，下玻璃基板112以及设置在上玻璃基板111和下玻璃基板112之间的液晶层113。上玻璃基板111邻近液晶层113的下表面设置有彩色滤光层114。所述彩色滤光层114以沉积或涂布的方式设置在上玻璃基板111的表面。所述下玻璃基板112邻近液晶层113的上表面设置有薄膜晶体管阵列（图未示），用以驱动液晶显示面板110工作。在本实施例中，所述下玻璃基板112远离液晶层113的下表面设置有下偏光层115，所述触摸结构120远离液晶显示面板110的上表面设置有上偏光层116。所述上偏光层116与下偏光层115分别用于使特定方向的偏振光穿过。
所述触摸结构120包括第一透明氧化铟锡薄膜121，所述第一透明氧化铟锡薄膜121上形成有沟道122以形成图案化结构。
所述光蚀刻阻挡层130设置在上玻璃基板111邻近触摸结构120的上表面，用于防止第一透明氧化铟锡薄膜121中的沟道122延伸至液晶显示面板110。在本实施例中，所述光蚀刻阻挡层130由对紫外光（ultraviolet light）或红外光（infrared light）有强烈吸收或反射作用的材料组成。其中，紫外光为波长小于400nm的光线，红外光为波长大于700nm的光线。所述光蚀刻阻挡层130的制作材料包括吸收紫外线的有机物如聚酰亚胺或者丙醋酸纤维等。所述光蚀刻阻挡层130的制作材料也可以是填充有金属粒子的粘合剂层，所填充的金属粒子包括铝、铜、银、钯、镍或其混合物。此外，所述光蚀刻阻挡层130还可以是多层反射膜如二氧化钛薄膜、氧化锌薄膜或者二氧化锡薄膜等。
请一并参见图2，由于第一透明氧化铟锡薄膜121与液晶显示面板110之间设置有光蚀刻阻挡层130，当利用紫外线激光（ultraviolet laser）或者红外线激光（infraredlaser）蚀刻第一透明氧化铟锡薄膜121而形成沟道122时，所述光蚀刻阻挡层130可以吸收或者反射所述紫外光或红外光，从而使位于光蚀刻阻挡层130底部的彩色滤光层114以及液晶层113不会被紫外光或者红外光所蚀刻，从而避免了液晶显示面板110的发光性能受到影响。同时，薄膜晶体管阵列等也设置在光蚀刻阻挡层130的下面，所述光蚀刻阻挡层130也可以防止薄膜晶体管阵列等被紫外光或红外光所蚀刻而影响其性能。
可以理解的是，本发明的触摸显示屏并不限于上述实施方式。
请参见图3，本发明第二实施例提供的触摸显示屏20包括液晶显示面板210、设置在液晶显示面板210之上的触摸结构220、以及设置在触摸结构220与液晶显示面板210之间的光蚀刻阻挡层230。
所述液晶显示面板210包括上玻璃基板211，下玻璃基板212以及设置在上玻璃基板211和下玻璃基板212之间的液晶层213。上玻璃基板211邻近液晶层213的下表面设置有彩色滤光层214。所述彩色滤光层214以沉积或涂布的方式设置在上玻璃基板211的表面。所述下玻璃基板212邻近液晶层213的上表面设置有薄膜晶体管阵列（图未示），用以驱动液晶显示面板210工作。在本实施例中，所述下玻璃基板212远离液晶层213的下表面设置有下偏光层215，所述触摸结构220远离液晶显示面板210的上表面设置有上偏光层216。所述上偏光层216与下偏光层215分别用于使特定方向的偏振光穿过。
所述触摸结构220包括第一透明氧化铟锡薄膜221和第二透明氧化铟锡薄膜223。所述第一透明氧化铟锡薄膜221设置在上玻璃基板211的上表面，第一透明氧化铟锡薄膜221上形成有沟道222以形成图案化结构。所述第二透明氧化铟锡薄膜223设置在液晶层213与下玻璃基板212之间且位于薄膜晶体管阵列的上面。
所述光蚀刻阻挡层230设置在第一透明氧化铟锡薄膜221与上玻璃基板211之间，用于防止第一透明氧化铟锡薄膜221中的沟道222延伸至液晶显示面板210。在本实施例中，所述光蚀刻阻挡层230由对紫外光（ultraviolet light）或红外光（infrared light）有强烈吸收或反射作用的材料组成。所述光蚀刻阻挡层230的制作材料包括吸收紫外线的有机物如聚酰亚胺或者丙醋酸纤维等。所述光蚀刻阻挡层230的制作材料也可以是填充有金属粒子的粘合剂层，所填充的金属粒子包括铝、铜、银、钯、镍及其混合物。此外，所述光蚀刻阻挡层230还可以是多层反射膜如二氧化钛薄膜、氧化锌薄膜或者二氧化锡薄膜等。当利用紫外线激光（ultraviolet laser）或者红外线激光（infrared laser）蚀刻第一透明氧化铟锡薄膜221而形成沟道222时，所述光蚀刻阻挡层230可以吸收或者反射所述紫外光或红外光，从而使位于光蚀刻阻挡层230底部的彩色滤光层214以及液晶层213不会被紫外光或者红外光所蚀刻，从而避免了液晶层213的发光性能受到影响。同时，由于薄膜晶体管阵列等也设置在光蚀刻阻挡层230的下面，所述光蚀刻阻挡层230也可以防止薄膜晶体管阵列等被紫外光或红外光所蚀刻而影响其性能。
可以理解的是，本发明的光蚀刻阻挡层的设置位置亦并不限于上述实施方式。请参见图4，本发明第三实施例提供的触摸显示屏30包括液晶显示面板310、设置在液晶显示面板310之上的触摸结构320、以及设置在触摸结构320下面且位于液晶显示面板310之内的光蚀刻阻挡层330。
所述液晶显示面板310包括上玻璃基板311，下玻璃基板312以及设置在上玻璃基板311和下玻璃基板312之间的液晶层313。上玻璃基板311邻近液晶层313的下表面设置有彩色滤光层314。所述彩色滤光层314以沉积或涂布的方式设置在上玻璃基板311的表面。所述下玻璃基板312邻近液晶层313的上表面设置有薄膜晶体管阵列（图未示），用以驱动液晶显示面板310工作。在本实施例中，所述下玻璃基板312远离液晶层313的下表面设置有下偏光层315，所述触摸结构320远离液晶显示面板310的上表面设置有上偏光层316。所述上偏光层316与下偏光层315分别用于使特定方向的偏振光穿过。
所述触摸结构320包括第一透明氧化铟锡薄膜321。所述第一透明氧化铟锡薄膜321设置在上玻璃基板311的上表面，第一透明氧化铟锡薄膜321内形成有沟道322以形成图案化结构。
所述光蚀刻阻挡层330设置在上玻璃基板311与滤光层314之间，用于防止蚀刻过程中紫外线激光（ultraviolet laser）或者红外线激光（infrared laser）穿透至滤光层314或者液晶层313中，从而对液晶显示面板310的显示性能造成影响。在本实施例中，所述光蚀刻阻挡层330由对紫外光（ultraviolet light）或红外光（infrared light）有强烈吸收或反射作用的材料组成。所述光蚀刻阻挡层330的制作材料包括吸收紫外线的有机物如聚酰亚胺或者丙醋酸纤维等。所述光蚀刻阻挡层330的制作材料也可以是填充有金属粒子的粘合剂层，所填充的金属粒子包括铝、铜、银、钯、镍及其混合物。此外，所述光蚀刻阻挡层330还可以是多层反射膜如二氧化钛薄膜、氧化锌薄膜或者二氧化锡薄膜等。同时，由于薄膜晶体管阵列等也设置在光蚀刻阻挡层330的下面，所述光蚀刻阻挡层330也可以防止薄膜晶体管阵列等被紫外光或红外光所蚀刻而影响其性能。
可以理解的是，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术构思做出其它各种相应的改变与变形，而所有这些改变与变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (5)

1.一种触摸显示屏，包括液晶显示面板以及设置在液晶显示面板之上的触摸结构，所述液晶显示面板包括上玻璃基板、下玻璃基板以及设置在上玻璃基板和下玻璃基板之间的液晶层，所述上玻璃基板邻近液晶层的下表面设置有滤光层，所述触摸结构包括第一透明氧化铟锡薄膜，所述第一透明氧化铟锡薄膜上形成有沟道，其特征在于，所述第一透明氧化铟锡薄膜与滤光层之间设置有光蚀刻阻挡层，用于防止第一透明氧化铟锡薄膜中的沟道延伸至滤光层以及液晶层；所述光蚀刻阻挡层用于使位于所述光蚀刻阻挡层底部的彩色滤光层以及液晶层不被紫外光或红外光蚀刻；所述光蚀刻阻挡层为多层反射膜。
2.如权利要求1所述的触摸显示屏，其特征在于，所述多层反射膜为二氧化钛薄膜、氧化锌薄膜或者二氧化锡薄膜。
3.如权利要求1-2任意一项所述的触摸显示屏，其特征在于，所述光蚀刻阻挡层设置在上玻璃基板邻近触摸结构的上表面上，所述下玻璃基板的下表面设置有下偏光层，所述第一透明氧化铟锡薄膜的上表面设置有上偏光层。
4.如权利要求3所述的触摸显示屏，其特征在于，进一步包括第二透明氧化铟锡薄膜，所述第二透明氧化铟锡薄膜设置在液晶层与下玻璃基板之间。
5.如权利要求1-2任意一项所述的触摸显示屏，其特征在于，所述光蚀刻阻挡层设置在上玻璃基板与滤光层之间，所述下玻璃基板的下表面设置有下偏光层，所述第一透明氧化铟锡薄膜的上表面设置有上偏光层。
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