TWI506341B - 觸摸顯示屏 - Google Patents

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Description

觸摸顯示屏
本發明涉及一種觸摸顯示屏，尤其涉及一種可靠性較高的觸摸顯示屏。
在現今電子產品市場中，個人數位助理(PDA)、移動電話(mobile phone)及筆記本(notebook)等可擕式電子產品都已廣泛使用觸摸屏(touch panel)作為其資料溝通的介面工具。由於目前電子產品皆以輕、薄、短、小為設計方向，搭配觸摸屏的顯示裝置已經成為各種電子產品的關鍵元件之一。
一般的觸摸顯示屏通常包括液晶顯示面板以及設置於液晶顯示面板之上的透明氧化銦錫(indium tin oxide，ITO)薄膜。上述的透明氧化銦錫薄膜通常設置有溝道以形成圖案化的結構。然而，在透明氧化銦錫薄膜上蝕刻溝道時，如果蝕刻程度過小的話，相鄰的氧化銦錫薄膜圖案層之間將沒有完全分離而影響氧化銦錫薄膜的性能；如果蝕刻程度過大的話，所述溝道將有可能延伸至液晶顯示面板的濾光層以及液晶層中而影響其顯示性能。
有鑒於此，有必要提供一種可靠性較高的觸摸顯示屏。
一種觸摸顯示屏，包括液晶顯示面板以及設置於液晶顯示面板之上的觸摸結構。所述液晶顯示面板包括上玻璃基板、下玻璃基板 以及設置於上玻璃基板和下玻璃基板之間的液晶層。所述上玻璃基板鄰近液晶層的下表面設置有濾光層。所述觸摸結構包括第一透明氧化銦錫薄膜。所述第一透明氧化銦錫薄膜上形成有溝道。所述第一透明氧化銦錫薄膜與濾光層之間設置有光蝕刻阻擋層，用於防止第一透明氧化銦錫薄膜中的溝道延伸至濾光層以及液晶層。
在上述觸摸顯示屏中，由於第一透明氧化銦錫薄膜與液晶層之間設置有光蝕刻阻擋層，當在第一透明氧化銦錫薄膜上設置溝道時，所述溝道將不會延伸至濾光層以及液晶層中，從而避免對液晶顯示面板的顯示性能造成影響。
10、20、30‧‧‧觸摸顯示屏
110、210、310‧‧‧液晶顯示面板
111、211、311‧‧‧上玻璃基板
112、212、312‧‧‧下玻璃基板
113、213、313‧‧‧液晶層
114、214、314‧‧‧濾光層
115、215、315‧‧‧下偏光層
116、216、316‧‧‧上偏光層
120、220、320‧‧‧觸摸結構
121、221、321‧‧‧第一透明氧化銦錫薄膜
122、222、322‧‧‧溝道
223‧‧‧第二透明氧化銦錫薄膜
130、230、330‧‧‧光蝕刻阻擋層
圖1係本發明第一實施例提供的觸摸顯示屏的結構示意圖。
圖2係圖1中在對第一透明氧化銦錫薄膜進行蝕刻時的結構示意圖。
圖3係本發明第二實施例提供的觸摸顯示屏的結構示意圖。
圖4係本發明第三實施例提供的觸摸顯示屏的結構示意圖。
以下參照圖示，對本發明的觸摸顯示屏進行進一步的說明。
請參見圖1，本發明第一實施例提供的觸摸顯示屏10包括液晶顯示面板110、設置於液晶顯示面板110之上的觸摸結構120、以及設置於觸摸結構120與液晶顯示面板110之間的光蝕刻阻擋層130。
所述液晶顯示面板110包括上玻璃基板111，下玻璃基板112以及 設置於上玻璃基板111和下玻璃基板112之間的液晶層113。上玻璃基板111鄰近液晶層113的下表面設置有彩色濾光層114。所述彩色濾光層114以沉積或塗布的方式設置於上玻璃基板111的表面。所述下玻璃基板112鄰近液晶層113的上表面設置有薄膜電晶體陣列(圖未示)，用以驅動液晶顯示面板110工作。在本實施例中，所述下玻璃基板112遠離液晶層113的下表面設置有下偏光層115，所述觸摸結構120遠離液晶顯示面板110的上表面設置有上偏光層116。所述上偏光層116與下偏光層115分別用於使特定方向的偏振光穿過。
所述觸摸結構120包括第一透明氧化銦錫薄膜121，所述第一透明氧化銦錫薄膜121上形成有溝道122以形成圖案化結構。
所述光蝕刻阻擋層130設置於上玻璃基板111鄰近觸摸結構120的上表面，用於防止第一透明氧化銦錫薄膜121中的溝道122延伸至液晶顯示面板110。在本實施例中，所述光蝕刻阻擋層130由對紫外光(ultraviolet light)或紅外光(infrared light)有強烈吸收或反射作用的材料組成。其中，紫外光為波長小於400nm的光線，紅外光為波長大於700nm的光線。所述光蝕刻阻擋層130的製作材料包括吸收紫外線的有機物如聚醯亞胺或者丙醋酸纖維等。所述光蝕刻阻擋層130的製作材料也可以是填充有金屬粒子的黏合劑層，所填充的金屬粒子包括鋁、銅、銀、鈀、鎳或其混合物。此外，所述光蝕刻阻擋層130還可以是多層反射膜如二氧化鈦薄膜、氧化鋅薄膜或者二氧化錫薄膜等。
請一併參見圖2，由於第一透明氧化銦錫薄膜121與液晶顯示面板110之間設置有光蝕刻阻擋層130，當利用紫外線鐳射( ultraviolet laser)或者紅外線鐳射(infrared laser)蝕刻第一透明氧化銦錫薄膜121而形成溝道122時，所述光蝕刻阻擋層130可以吸收或者反射所述紫外光或紅外光，從而使位於光蝕刻阻擋層130底部的彩色濾光層114以及液晶層113不會被紫外光或者紅外光所蝕刻，從而避免了液晶顯示面板110的發光性能受到影響。同時，薄膜電晶體陣列等也設置於光蝕刻阻擋層130的下面，所述光蝕刻阻擋層130也可以防止薄膜電晶體陣列等被紫外光或紅外光所蝕刻而影響其性能。
可以理解的是，本發明的觸摸顯示屏並不限於上述實施方式。
請參見圖3，本發明第二實施例提供的觸摸顯示屏20包括液晶顯示面板210、設置於液晶顯示面板210之上的觸摸結構220、以及設置於觸摸結構220與液晶顯示面板210之間的光蝕刻阻擋層230。
所述液晶顯示面板210包括上玻璃基板211，下玻璃基板212以及設置於上玻璃基板211和下玻璃基板212之間的液晶層213。上玻璃基板211鄰近液晶層213的下表面設置有彩色濾光層214。所述彩色濾光層214以沉積或塗布的方式設置於上玻璃基板211的表面。所述下玻璃基板212鄰近液晶層213的上表面設置有薄膜電晶體陣列(圖未示)，用以驅動液晶顯示面板210工作。在本實施例中，所述下玻璃基板212遠離液晶層213的下表面設置有下偏光層215，所述觸摸結構220遠離液晶顯示面板210的上表面設置有上偏光層216。所述上偏光層216與下偏光層215分別用於使特定方向的偏振光穿過。
所述觸摸結構220包括第一透明氧化銦錫薄膜221和第二透明氧化 銦錫薄膜223。所述第一透明氧化銦錫薄膜221設置於上玻璃基板211的上表面，第一透明氧化銦錫薄膜221上形成有溝道222以形成圖案化結構。所述第二透明氧化銦錫薄膜223設置於液晶層213與下玻璃基板212之間且位於薄膜電晶體陣列的上面。
所述光蝕刻阻擋層230設置於第一透明氧化銦錫薄膜221與上玻璃基板211之間，用於防止第一透明氧化銦錫薄膜221中的溝道222延伸至液晶顯示面板210。在本實施例中，所述光蝕刻阻擋層230由對紫外光(ultraviolet light)或紅外光(infrared light)有強烈吸收或反射作用的材料組成。所述光蝕刻阻擋層230的製作材料包括吸收紫外線的有機物如聚醯亞胺或者丙醋酸纖維等。所述光蝕刻阻擋層230的製作材料也可以是填充有金屬粒子的黏合劑層，所填充的金屬粒子包括鋁、銅、銀、鈀、鎳及其混合物。此外，所述光蝕刻阻擋層230還可以是多層反射膜如二氧化鈦薄膜、氧化鋅薄膜或者二氧化錫薄膜等。當利用紫外線鐳射(ultraviolet laser)或者紅外線鐳射(infrared laser)蝕刻第一透明氧化銦錫薄膜221而形成溝道222時，所述光蝕刻阻擋層230可以吸收或者反射所述紫外光或紅外光，從而使位於光蝕刻阻擋層230底部的彩色濾光層214以及液晶層213不會被紫外光或者紅外光所蝕刻，從而避免了液晶層213的發光性能受到影響。同時，由於薄膜電晶體陣列等也設置於光蝕刻阻擋層230的下面，所述光蝕刻阻擋層230也可以防止薄膜電晶體陣列等被紫外光或紅外光所蝕刻而影響其性能。
可以理解的是，本發明的光蝕刻阻擋層的設置位置亦並不限於上述實施方式。請參見圖4，本發明第三實施例提供的觸摸顯示屏 30包括液晶顯示面板310、設置於液晶顯示面板310之上的觸摸結構320、以及設置於觸摸結構320下面且位於液晶顯示面板310之內的光蝕刻阻擋層330。
所述液晶顯示面板310包括上玻璃基板311，下玻璃基板312以及設置於上玻璃基板311和下玻璃基板312之間的液晶層313。上玻璃基板311鄰近液晶層313的下表面設置有彩色濾光層314。所述彩色濾光層314以沉積或塗布的方式設置於上玻璃基板311的表面。所述下玻璃基板312鄰近液晶層313的上表面設置有薄膜電晶體陣列(圖未示)，用以驅動液晶顯示面板310工作。在本實施例中，所述下玻璃基板312遠離液晶層313的下表面設置有下偏光層315，所述觸摸結構320遠離液晶顯示面板310的上表面設置有上偏光層316。所述上偏光層316與下偏光層315分別用於使特定方向的偏振光穿過。
所述觸摸結構320包括第一透明氧化銦錫薄膜321。所述第一透明氧化銦錫薄膜321設置於上玻璃基板311的上表面，第一透明氧化銦錫薄膜321內形成有溝道322以形成圖案化結構。
所述光蝕刻阻擋層330設置於上玻璃基板311與濾光層314之間，用於防止蝕刻過程中紫外線鐳射(ultraviolet laser)或者紅外線鐳射(infrared laser)穿透至濾光層314或者液晶層313中，從而對液晶顯示面板310的顯示性能造成影響。在本實施例中，所述光蝕刻阻擋層330由對紫外光(ultraviolet light)或紅外光(infrared light)有強烈吸收或反射作用的材料組成。所述光蝕刻阻擋層330的製作材料包括吸收紫外線的有機物如聚醯亞胺或者丙醋酸纖維等。所述光蝕刻阻擋層330的製作材料也可 以是填充有金屬粒子的黏合劑層，所填充的金屬粒子包括鋁、銅、銀、鈀、鎳及其混合物。此外，所述光蝕刻阻擋層330還可以是多層反射膜如二氧化鈦薄膜、氧化鋅薄膜或者二氧化錫薄膜等。同時，由於薄膜電晶體陣列等也設置於光蝕刻阻擋層330的下面，所述光蝕刻阻擋層330也可以防止薄膜電晶體陣列等被紫外光或紅外光所蝕刻而影響其性能。
綜上所述，本發明確已符合發明專利之要件，遂依法提出專利申請。惟，以上所述者僅為本發明之較佳實施方式，自不能以此限制本案之申請專利範圍。舉凡熟悉本案技藝之人士援依本發明之精神所作之等效修飾或變化，皆應涵蓋於以下申請專利範圍內。
10‧‧‧觸摸顯示屏
110‧‧‧液晶顯示面板
111‧‧‧上玻璃基板
112‧‧‧下玻璃基板
113‧‧‧液晶層
114‧‧‧濾光層
115‧‧‧下偏光層
116‧‧‧上偏光層
120‧‧‧觸摸結構
121‧‧‧第一透明氧化銦錫薄膜
122‧‧‧溝道
130‧‧‧光蝕刻阻擋層

Claims (10)

  1. 一種觸摸顯示屏，包括液晶顯示面板以及設置於液晶顯示面板之上的觸摸結構，所述液晶顯示面板包括上玻璃基板、下玻璃基板以及設置於上玻璃基板和下玻璃基板之間的液晶層，所述上玻璃基板鄰近液晶層的下表面設置有濾光層，所述觸摸結構包括第一透明氧化銦錫薄膜，所述第一透明氧化銦錫薄膜上形成有溝道，其中，所述第一透明氧化銦錫薄膜與濾光層之間設置有光蝕刻阻擋層，用於防止第一透明氧化銦錫薄膜中的溝道延伸至濾光層以及液晶層。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之觸摸顯示屏，其中，所述光蝕刻阻擋層為吸收紫外線的有機物。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之觸摸顯示屏，其中，所述光蝕刻阻擋層的製作材料為聚醯亞胺或者丙醋酸纖維。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之觸摸顯示屏，其中，所述光蝕刻阻擋層為填充有金屬離子的黏合劑層。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之觸摸顯示屏，其中，所述金屬離子包括鋁、銅、銀、鈀、鎳或其混合物。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之觸摸顯示屏，其中，所述光蝕刻阻擋層為多層反射膜。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之觸摸顯示屏，其中，所述多層反射膜為二氧化鈦薄膜、氧化鋅薄膜或者二氧化錫薄膜。
  8. 如申請專利範圍第1項至第7項任意一項所述之觸摸顯示屏，其中，所述光蝕刻阻擋層設置於上玻璃基板鄰近觸摸結構的上表面上，所述下玻璃基板的下表面設置有下偏光層，所述第一透明氧化銦錫薄膜的上表面設 置有上偏光層。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之觸摸顯示屏，其中，進一步包括第二透明氧化銦錫薄膜，所述第二透明氧化銦錫薄膜設置於液晶層與下玻璃基板之間。
  10. 如申請專利範圍第1項至第7項任意一項所述之觸摸顯示屏，其中，所述光蝕刻阻擋層設置於上玻璃基板與濾光層之間，所述下玻璃基板的下表面設置有下偏光層，所述第一氧化銦錫薄膜的上表面設置有上偏光層。
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