TWI596165B

TWI596165B - Painting metal plate

Info

Publication number: TWI596165B
Application number: TW106106783A
Authority: TW
Inventors: Katsumi Owa; Yugo Nakane; Shuichi Sugita
Original assignee: Nisshin Steel Co Ltd
Priority date: 2016-09-16
Filing date: 2017-03-02
Publication date: 2017-08-21
Also published as: JP2018043460A; CN109715390A; JP6063088B1; CN109715390B; MY179958A; TW201814008A; WO2018051523A1

Description

塗裝金屬板

本發明是有關於一種塗裝金屬板。

對於電梯（elevator）等的門材或操作面板等，一直使用藉由蝕刻或著色、表面處理等而提高了設計性的不鏽鋼板。對於該些不鏽鋼板，要求指紋等難以附著，或耐污染性高，耐擦傷性高等。因此，通常於不鏽鋼板的表面形成有包含樹脂或蠟（wax）、油（oil）等的塗膜。

然而，若於不鏽鋼板的表面形成包含樹脂的塗膜，則因經時變化而塗膜產生龜裂或白化等，容易損及設計性。另外，蠟或油必須定期重塗。

因此，正研究於不鏽鋼板的表面形成包含無機材料的塗膜（例如專利文獻1）。包含無機材料的塗膜有經時變化少、硬度高的優點。 [現有技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2009-1685號公報

[發明所欲解決之課題] 然而，若包含無機材料的塗膜的厚度薄，則經金屬板表面反射的光與經塗膜表面反射的光容易干擾，容易產生色斑或著色等（以下亦稱為「干擾紋」）。另一方面，若增加塗膜的厚度，則容易喪失源自金屬板的質感（光澤等），設計性容易受損。另外，為了抑制干擾紋，亦想到於塗膜中含有骨材，但於該情形時，塗膜的透明性亦容易降低，設計性容易受損。

本發明是鑒於此種狀況而成。即，本發明的目的在於提供一種耐污染性優異、不產生干擾紋、設計性優異的塗裝金屬板。 [用以解決課題之手段]

本發明提供以下的塗裝金屬板。 [1] 一種塗裝金屬板，具有：金屬板；及塗膜，形成於所述金屬板的至少一個面上，實質上包含組成式K ₂O·xSiO ₂（3.5≦x＜6.8）所表示的組成物；並且具有所述塗膜的任意10處中，每1 mm ²的塗膜被覆率的平均值為1%～90%。

[2] 如[1]所記載的塗裝金屬板，其中所述塗膜被覆率的平均值為3%～80%。 [3] 如[1]或[2]所記載的塗裝金屬板，其中所述塗膜包含形成為島狀的多個膜，所述膜的平均最大寬幅為500 μm以下。 [發明的效果]

根據本發明，可獲得一種耐污染性優異、不產生干擾紋，設計性優異的塗裝金屬板。

本發明是有關於一種塗裝金屬板，其具有金屬板及不連續地形成於該金屬板上的塗膜。該金屬塗裝板例如可應用於電梯的門材或操作面板、家電產品的外板、傢具或日用品、建材等。

如上文所述，為了提高金屬板的耐污染性等，正研究於金屬板表面形成包含無機材料的塗膜。然而，若於金屬板表面形成相對較薄的塗膜，則容易產生干擾紋。另一方面，若增加塗膜的厚度，則金屬板的設計性容易受損。再者，對於先前的塗裝金屬板，就耐污染性等觀點而言，於金屬板上以均勻的厚度且無斑點地形成塗膜。

相對於此，本發明者等人發現，藉由不連續地形成塗膜，不易產生干擾紋，進而發現，若為實質上包含組成式K ₂O·xSiO ₂（3.5≦x＜6.8）所表示的組成物的塗膜，則即便不連續，亦可獲得充分的耐污染性。

關於即便覆蓋金屬板的塗膜不連續，亦表現出耐污染性的機制考慮如下。對於包含所述組成物的塗膜而言，鉀於表面微量溶出。繼而，鉀離子與大氣中的水分發生水合而吸引大氣中的水分。結果，不僅塗膜的形成區域，連塗膜彼此之間的區域、即金屬板露出的區域亦被薄的水膜所覆蓋。因此，即便皮脂或油性油墨等油污附著於塗裝金屬板表面，污漬亦成為漂浮於水膜上的狀態，可藉由擦拭等而容易地去除污漬。

另外，通常若污漬附著於塗裝金屬板表面後經過一段時間，則污漬的一部分成分含浸至塗膜或金屬板中，污漬的去除變困難。相對於此，對於本發明中的塗裝金屬板而言，因於塗裝金屬板表面存在充分厚度的水膜，故污漬成分難以滲透至塗裝金屬板中。進而，塗膜的親水性高，故水容易滲透至塗裝金屬板表面與污漬之間。因此，可藉由水擦拭等將附著於塗裝金屬板表面的污漬剝離。

所述塗膜可僅形成於金屬板的一個面上，亦可形成於兩個面上。另外，塗膜可僅形成於金屬板的一部分區域中，亦可形成於金屬板的一個面或兩面的整個區域中。

此處，具有塗膜的任意10處中，每1 mm ²的塗膜被覆率的平均值（以下亦稱為「平均塗膜被覆率」）為1%～90%，較佳為3%～80%，更佳為10%～80%，進而佳為15%～80%。若平均塗膜被覆率為所述範圍，則不易產生干擾紋，亦容易表現出耐污染性。再者，特定塗膜被覆率的區域（1 mm ²）的形狀並無特別限制，例如可為正方形或長方形等矩形狀、圓形狀等任意形狀，通常設為矩形狀。平均塗膜被覆率是藉由以下的方法來確定。

利用SEM（掃描式電子顯微鏡）/EDS（能量分散型X射線光譜法）對形成有塗膜的區域中的任意10處（1 mm ²的區域）測定Si元素分佈。繼而，利用圖像處理軟體對所得的Si的分佈圖像進行二值化。二值化時，將未形成塗膜的部分（金屬板）的Si檢測值作為基準，將Si增加（即便為稍許）的區域作為存在塗膜的區域進行處理。繼而，根據所得的二值化圖像，將Si增加的區域（存在塗膜的區域）的畫素數除以總畫素數，算出塗膜被覆率。然後，將該些塗膜被覆率的平均值作為平均塗膜被覆率。

此處，塗膜較佳為包含形成為島狀的多個膜。所謂形成為島狀的膜，是指不連續地形成且與其他膜分離的膜。於所述平均塗膜被覆率為50%以下的情形時，容易將膜形成為島狀。另外，通常各膜的外周長大多成為1600 μm以下。再者，各膜的形狀或膜彼此的間隔並無特別限制。多個膜可形成為均勻的形狀，亦可形成為不均勻的形狀。另外，該些膜能以均勻的間隔而形成，亦能以不均勻的間隔而形成。其中，多個膜較佳為以大致均勻的密度形成於金屬板上。若膜的形成密度有偏差，則有時無法充分獲得所述效果。另外，若各膜的面積過大，則膜的有無容易被肉眼看見。因此，於塗膜包含形成為島狀的多個膜的情形時，膜的平均最大寬幅較佳為500 μm以下，更佳為10 μm～200 μm。各膜的最大寬幅是由所述二值化圖像而求出，將任意10個膜的最大寬幅的平均值作為平均最大寬幅。

另外，塗膜的平均厚度較佳為0.05 μm～3 μm，更佳為0.1 μm～0.6 μm。若塗膜的平均厚度為0.05 μm以上，則容易充分獲得所述效果。另一方面，若塗膜的平均厚度為3 μm以下，則塗膜的可見光透過性充分變高，不易損及源自金屬板的質感。塗膜的平均厚度是藉由任意地切割塗裝金屬板並自剖面進行觀察而測定。具體而言，利用樹脂將自塗裝金屬板切割的試片包埋後，藉由研磨等而製作適當的剖面，進而藉由離子研磨（ion milling）加工等而製作高精度的觀察剖面。繼而，利用SEM或穿透式電子顯微鏡（Transmission Electron Microscope，TEM）對存在塗膜的任意10處進行觀察，將10處的厚度的平均值作為平均厚度。

此處，本發明的塗裝金屬板中的金屬板並無特別限制，例如可使用不鏽鋼（Stainless Steel，SUS）304、SUS316等沃斯田鐵（austenite）系不鏽鋼或SUS430等肥粒鐵（ferrite）系不鏽鋼。於要求機械強度的用途中，較佳為使用藉由冷軋將沃斯田鐵系、肥粒鐵系不鏽鋼進行加工硬化而成的材料或SUS410、SUS420系等麻田散鐵（martensite）系不鏽鋼板，或SUS631等析出強化型不鏽鋼板。另外，除了不鏽鋼板以外，亦可使用銅、碳鋼、鐵-鎳系合金、各種鍍覆鋼板、鋁板。

該些金屬板亦可為依常法進行了表面加工的金屬板。金屬板例如可為實施了光亮退火（Bright Annealing，BA）精加工或鏡面精加工等平滑的表面精加工的金屬板，亦可為以設計性或功能性為目的而實施了拉絲（Hairline，HL）精加工等直線狀的研磨加工的金屬板。另外，亦可為實施了振動研磨（vibration grinding）等曲線狀的研磨加工的金屬板，亦可為實施了點狀的凹凸加工的金屬板等。進而，亦可為藉由氧化呈色或濺鍍著色等各種方法而經著色的金屬板。

另一方面，塗膜實質上包含組成式K ₂O·xSiO ₂（3.5≦x＜6.8）所表示的組成物，可製成將矽酸鉀（K ₂O·nSiO ₂（2≦n≦4））與膠體二氧化矽（SiO ₂）的混合液塗佈、乾燥所得的膜。再者，所述組成式K ₂O·xSiO ₂並非表示塗膜中的元素的狀態，而表示構成元素之比。塗膜中，通常SiO ₂形成矽氧烷鍵。另一方面，鉀成為鉀離子，與未形成矽氧烷鍵的矽酸鹽離子互相電性吸引而存在。如上文所述，塗膜顯示出高親水性，但可認為該親水性是藉由在塗膜表面微量溶出的鉀離子的高水合性、及矽烷醇基的親水性而表現出。

所述組成式中的x所表示的氧化矽（SiO ₂）相對於氧化鉀（K ₂O）之比例只要為3.5以上且小於6.8即可，更佳為3.8以上且5.2以下。若x所表示的值小於3.5，則鉀離子於塗膜表面過剩地溶出。而且，容易產生溶出的鉀離子與大氣中的二氧化碳反應成為碳酸鹽而析出的霜華（efflorescence）現象。另外，若x所表示的值小於3.5，則難以充分地形成塗膜，有時平均塗膜被覆率無法成為所需的範圍。另一方面，若x所表示的值為6.8以上，則於形成塗膜時需要大量混合膠體二氧化矽。結果，造膜性降低，有時平均塗膜被覆率並無法成為所需的範圍，或不具有作為膜的充分的強度。再者，所述塗膜的組成可藉由矽酸鉀與膠體二氧化矽之混合比等來調整。另外，所述塗膜的組成可藉由EDS、X射線螢光（X-Ray Fluorescence，XRF）、電子探針微分析（Electron Probe Micro-Analysis，EPMA）等來確認，可藉由X射線光電子光譜（X-ray Photoelectron Spectroscopy，XPS）、紅外線（Infrared Ray，IR）等來確認Si的化學鍵狀態。

所述塗膜是藉由以下方式獲得：利用既定的方法將矽酸鉀及膠體二氧化矽的混合液以成為上文所述的平均塗膜被覆率的方式塗佈於金屬板上，並使其乾燥。用以形成塗膜的矽酸鉀及膠體二氧化矽可為普通試劑，亦可為工業用化學品。矽酸鉀的市售品的例子中包括日本化學工業公司製造的「A矽酸鉀」或「2K矽酸鉀」、富士化學公司製造的「2號矽酸鉀」、日產化學公司製造的「斯諾特（Snowtex）K2」等。另一方面，膠體二氧化矽的市售品的例子中包括艾迪科（ADEKA）公司製造的「艾迪拉特（Adelite）AT」或日產化學公司的「斯諾特（Snowtex）」、日本化學工業公司的「西莉卡多（Silicadol）」。

再者，塗膜形成用的混合液中，亦可與矽酸鉀及膠體二氧化矽一併而視需要添加溶劑、流平劑、消泡劑等。另外，塗膜形成用的混合液的固體成分濃度是根據塗膜的形成方法而適當選擇，就不連續地形成膜，且控制薄的膜厚的觀點而言，固體成分濃度較佳為相對較低的範圍，較佳為1質量%～10質量%。

關於塗膜形成用的混合液的塗佈方法，只要為能以平均塗膜被覆率成為所述範圍的方式形成塗膜的方法，則並無特別限制。例如可設為藉由噴霧槍（spray gun）、靜電霧化裝置、噴墨裝置、凹版輥轉印裝置等來塗佈所述混合液的方法。再者，於藉由噴霧槍或靜電霧化裝置形成塗膜的情形時，為了調整平均塗膜被覆率，較佳為設法減小噴霧槍或靜電霧化裝置的噴出管徑，或調整霧化壓力等。

另外，混合液的乾燥方法只要可使溶劑充分揮發即可，其方法並無特別限制，例如可於常溫下乾燥，亦可加熱至80℃～300℃。藉由進行加熱，而促進溶劑的水的乾燥，促進造膜。進而，藉由加熱至200℃以上，而促進矽氧烷鍵的形成，可於短時間內獲得牢固的塗膜。然而，於加熱的情形時注意原板的由氧化所致的變色（回火色（temper color））。關於乾燥時間，通常於進行加熱的情形時為10分鐘～30分鐘左右，於常溫乾燥的情形時亦只要為24小時便足矣。 [實施例]

以下，參照實施例對本發明加以詳細說明，但本發明不受該些實施例的限定。

藉由以下的方法製作塗裝金屬板，對各塗裝金屬板確認表面的耐污染性、及干擾紋的有無。再者，金屬板是使用以下的表1所示的金屬板A～金屬板E。

[表1] <TABLE border="1" borderColor="#000000" width="_0001"><TBODY><tr><td> 金屬板 </td><td> 鋼種 </td><td> 表面精加工 </td></tr><tr><td> A </td><td> SUS316 </td><td> 振動研磨 </td></tr><tr><td> B </td><td> SUS304 </td><td> 拉絲研磨 </td></tr><tr><td> C </td><td> SUS430 </td><td> 噴砂 </td></tr><tr><td> D </td><td> SUS316 </td><td> 振動研磨+濺鍍著色 </td></tr><tr><td> E </td><td> SUS304 </td><td> 拉絲研磨+氧化呈色 </td></tr></TBODY></TABLE>

[塗裝金屬板的製作] 將矽酸鉀（富士化學公司製造，商品名：2號矽酸鉀，K ₂O·nSiO ₂（n＝3.61），或富士化學公司製造，商品名：1號矽酸鉀，K ₂O·nSiO ₂（n＝2.04））及膠體二氧化矽（日本化學工業公司製造，商品名西莉卡多（Silicadol））以按固體成分換算計為表2所示的質量比混合，獲得混合液。藉由霧化噴霧將該混合液以成為表2所示的平均塗膜被覆率的方式塗佈於金屬板A～金屬板E上。其後，於250℃下乾燥20分鐘，獲得塗膜。再者，所得的塗膜的平均厚度均為0.6 μm以下。平均厚度是如以下般測定。首先，切割塗裝金屬板，利用樹脂將所切割的試片包埋後藉由研磨而製作剖面。進而，藉由離子研磨加工等而製作高精度的觀察剖面，利用SEM進行觀察。對存在塗膜的任意10處測定厚度，將該些厚度的平均值作為平均厚度。

另外，每1 mm ²的平均塗膜被覆率是如以下般測定。首先，使用SEM（日立高新技術（Hitachi High-technologies）公司製造，商品名：S-3700N）/EDS（牛津儀器（Oxford Instruments）公司製造，商品名：x-act）測定作為塗膜主成分的Si的元素分佈。測定是對形成有塗膜的區域中的任意10處（1 mm ²）進行。繼而，利用圖像處理軟體（阿多波（adobe）公司製造，photoshop）對所得的Si的分佈圖像進行二值化。二值化時，將未形成塗膜的部分（金屬板）的Si檢測值作為基準，將Si增加（即便為稍許）的區域作為存在塗膜的區域進行處理。根據所得的二值化圖像，將Si增加的區域（存在塗膜的區域）的畫素數除以區域內的總畫素，算出塗膜被覆率。繼而，算出塗膜被覆率的平均值，將其作為平均塗膜被覆率。對於No.4、No.5、No.8、No.9，將SEM圖像及利用EDS測定該區域的Si分佈並進行二值化所得的圖像示於圖1～圖4中。

[評價] 對各實施例及比較例中所得的塗裝金屬板確認油性油墨去除試驗（耐污染性）、及干擾紋的有無。將結果示於表2中。

（1）油性油墨去除試驗（耐污染性）利用油性標記物（寺西化學工業製造，商品名：神奇油墨（Magic ink）（註冊商標）No.700黑）於實施例及比較例中所得的塗裝金屬板上描畫。繼而，描畫後1分鐘後及1小時後，利用含浸有水的布（旭化成公司製造，商品名：般可（Bemcot）M3-II）擦拭描畫部分的油性油墨，評價水擦拭後的油性油墨的痕跡的程度。油性油墨的痕跡是以如下基準進行評價。 ◎：無痕跡（去除率為100%）〇：有極少許的痕跡（去除率為90%以上～小於100%） △：有痕跡（去除率為5%以上～小於90%） ×：幾乎未去除（去除率小於5%）

（2）干擾紋的確認干擾紋的有無是於標準光源下目測評價。標準光源裝置是使用愛色麗（X-Rite）公司製造的商品名：麥克貝斯（Macbeth）嘉基（Judge）II。另外，參照光是設為TL84。干擾紋是以如下基準進行評價。〇：未產生（對設計的影響：無） △：稍許產生（對設計的影響：輕微） ×：明顯產生（對設計的影響：有）

[表2] <TABLE border="1" borderColor="#000000" width="_0002"><TBODY><tr><td> No. </td><td> 金屬板 </td><td> 塗膜 </td><td> 油性油墨去除試驗 </td><td> 干擾紋 </td><td> 備註 </td><td> </td></tr><tr><td> 矽酸鉀（g） </td><td> 膠體二氧化矽（g） </td><td> x*1 （mol） </td><td> 平均塗膜被覆率（%） </td><td> 塗膜的形狀（平均最大寬幅） </td><td> 1分鐘後 </td><td> 1小時後 </td></tr><tr><td> 1 </td><td> A </td><td> </td><td> </td><td> - </td><td> 0 </td><td> - </td><td> × </td><td> × </td><td> ○ </td><td> </td><td> 比較例 </td></tr><tr><td> 2 </td><td> A </td><td> 100*2</td><td> 13.3 </td><td> 4.3 </td><td> 1 </td><td> 島狀的膜（12 μm） </td><td> △ </td><td> △ </td><td> ○ </td><td> </td><td> 實施例 </td></tr><tr><td> 3 </td><td> A </td><td> 100*2</td><td> 13.3 </td><td> 4.3 </td><td> 3 </td><td> 島狀的膜（16 μm） </td><td> ◎ </td><td> △ </td><td> ○ </td><td> </td><td> 實施例 </td></tr><tr><td> 4 </td><td> A </td><td> 100*2</td><td> 13.3 </td><td> 4.3 </td><td> 6 </td><td> 島狀的膜（34 μm） </td><td> ◎ </td><td> △ </td><td> ○ </td><td> </td><td> 實施例 </td></tr><tr><td> 5 </td><td> A </td><td> 100*2</td><td> 13.3 </td><td> 4.3 </td><td> 13 </td><td> 島狀的膜（62 μm） </td><td> ◎ </td><td> △ </td><td> ○ </td><td> </td><td> 實施例 </td></tr><tr><td> 6 </td><td> A </td><td> 100*2</td><td> 13.3 </td><td> 4.3 </td><td> 17 </td><td> 島狀的膜（76 μm） </td><td> ◎ </td><td> ○ </td><td> ○ </td><td> </td><td> 實施例 </td></tr><tr><td> 7 </td><td> A </td><td> 100*2</td><td> 13.3 </td><td> 4.3 </td><td> 21 </td><td> 島狀的膜（95 μm） </td><td> ◎ </td><td> ○ </td><td> ○ </td><td> </td><td> 實施例 </td></tr><tr><td> 8 </td><td> A </td><td> 100*2</td><td> 13.3 </td><td> 4.3 </td><td> 33 </td><td> 島狀的膜（147 μm） </td><td> ◎ </td><td> ◎ </td><td> ○ </td><td> </td><td> 實施例 </td></tr><tr><td> 9 </td><td> A </td><td> 100*2</td><td> 13.3 </td><td> 4.3 </td><td> 53 </td><td> 不連續膜 </td><td> ◎ </td><td> ◎ </td><td> ○ </td><td> </td><td> 實施例 </td></tr><tr><td> 10 </td><td> A </td><td> 100*2</td><td> 13.3 </td><td> 4.3 </td><td> 77 </td><td> 不連續膜 </td><td> ◎ </td><td> ◎ </td><td> ○ </td><td> </td><td> 實施例 </td></tr><tr><td> 11 </td><td> A </td><td> 100*2</td><td> 13.3 </td><td> 4.3 </td><td> 86 </td><td> 不連續膜 </td><td> ◎ </td><td> ◎ </td><td> △ </td><td> </td><td> 實施例 </td></tr><tr><td> 12 </td><td> A </td><td> 100*2</td><td> 13.3 </td><td> 4.3 </td><td> 95 </td><td> 不連續膜 </td><td> ◎ </td><td> ◎ </td><td> × </td><td> </td><td> 比較例 </td></tr><tr><td> 13 </td><td> A </td><td> 100*2</td><td> 13.3 </td><td> 4.3 </td><td> 100 </td><td> 連續膜 </td><td> ◎ </td><td> ◎ </td><td> × </td><td> </td><td> 比較例 </td></tr><tr><td> 14 </td><td> A </td><td> 100*2</td><td> 1.8 </td><td> 3.7 </td><td> 18 </td><td> 島狀的膜（81 μm） </td><td> ◎ </td><td> ○ </td><td> ○ </td><td> </td><td> 實施例 </td></tr><tr><td> 15 </td><td> A </td><td> 100*2</td><td> 57.7 </td><td> 6.6 </td><td> 26 </td><td> 島狀的膜（113 μm） </td><td> ◎ </td><td> ◎ </td><td> ○ </td><td> </td><td> 實施例 </td></tr><tr><td> 16 </td><td> A </td><td> 100*3</td><td> 55.1 </td><td> 3.2 </td><td> 48 </td><td> 島狀的膜（370 μm） </td><td> ◎ </td><td> ◎ </td><td> ○ </td><td> 有霜華 </td><td> 比較例 </td></tr><tr><td> 17 </td><td> A </td><td> 100*2</td><td> 63.5 </td><td> 6.9 </td><td> 65 </td><td> 不連續膜 </td><td> - </td><td> - </td><td> - </td><td> 無法造膜 </td><td> 比較例 </td></tr><tr><td> 18 </td><td> B </td><td> 100*2</td><td> 13.3 </td><td> 4.3 </td><td> 7 </td><td> 島狀的膜（48 μm） </td><td> ◎ </td><td> △ </td><td> ○ </td><td> </td><td> 實施例 </td></tr><tr><td> 19 </td><td> C </td><td> 100*2</td><td> 13.3 </td><td> 4.3 </td><td> 40 </td><td> 島狀的膜（164 μm） </td><td> ◎ </td><td> ◎ </td><td> ○ </td><td> </td><td> 實施例 </td></tr><tr><td> 20 </td><td> D </td><td> 100*2</td><td> 13.3 </td><td> 4.3 </td><td> 75 </td><td> 不連續膜 </td><td> ◎ </td><td> ◎ </td><td> ○ </td><td> </td><td> 實施例 </td></tr><tr><td> 21 </td><td> E </td><td> 100*2</td><td> 13.3 </td><td> 4.3 </td><td> 10 </td><td> 島狀的膜（55 μm） </td><td> ◎ </td><td> ◎ </td><td> ○ </td><td> </td><td> 實施例 </td></tr></TBODY></TABLE>^*1K ₂O·xSiO ₂中的x的值 ^*2使用2號矽酸鉀 ^*3使用1號矽酸鉀

如表2所示，於未形成塗膜的情形時（平均塗膜被覆率：0%），於油性油墨試驗中，無法去除油性油墨痕（No.1）。相對於此，若平均塗膜被覆率為1%以上，則均可去除油性油墨（No.2～No.16、及No.18～No.21）。然而，若平均塗膜被覆率為95%以上，則產生干擾紋（No.12及No.13）。

另外，關於構成塗膜的組成物，若組成式K ₂O·xSiO ₂的x小於3.5，則產生霜華，塗裝金屬板的設計性降低（No.16）。另一方面，若x為6.8以上，則無法造膜（No.17）。

本申請案主張基於2016年9月16日提出申請的日本專利申請案2016-181356號的優先權。將該申請案說明書及圖式中記載的內容全部引用至本申請案說明書中。 [產業上的可利用性]

本發明的塗裝金屬板的耐污染性優異，不產生干擾紋，設計性優異。因此，該塗裝金屬板可應用電梯的門材或操作面板、家電產品的外板、傢具或日用品、各種內飾建材等。

無

圖1A為實施例（No.4）中製作的塗裝金屬板的掃描式電子顯微鏡（Scanning Electron Microscope，SEM）圖像，圖1B為利用能量分散型X射線光譜法（Energy Dispersive X-Ray Spectroscopy，EDS）測定該區域的Si分佈並進行二值化所得的圖像。圖2A為實施例（No.5）中製作的塗裝金屬板的SEM圖像，圖2B為利用EDS測定該區域的Si分佈並進行二值化所得的圖像。圖3A為實施例（No.8）中製作的塗裝金屬板的SEM圖像，圖3B為利用EDS測定該區域的Si分佈並進行二值化所得的圖像。圖4A為實施例（No.9）中製作的塗裝金屬板的SEM圖像，圖4B為利用EDS測定該區域的Si分佈並進行二值化所得的圖像。

Claims

一種塗裝金屬板，具有：金屬板；以及塗膜，形成於所述金屬板的至少一個面上，實質上包含組成式K ₂O·xSiO ₂（3.5≦x＜6.8）所表示的組成物；並且具有所述塗膜的任意10處中，每1 mm ²的塗膜被覆率的平均值為26%～90%，所述塗膜的平均厚度為0.1 μm～0.6 μm。
如申請專利範圍第1項所述之塗裝金屬板，其中所述塗膜包含形成為島狀的多個膜，所述膜的平均最大寬幅為500 μm以下。