TWI590438B - 有機發光顯示面板及其製造方法 - Google Patents

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金度亨
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Description

有機發光顯示面板及其製造方法
本發明係關於一種發光顯示面板及其一種製造方法，以及尤其係關於一種具有提高的效率和壽命之有機發光顯示面板及其一種製造方法。
對於在一螢幕上體現各種資訊作為先進資訊和通訊中之一核心技術之一影像顯示裝置，在具有改善性能之薄的、輕量和便攜裝置之發展中具有一連續進步。透過控制從一有機發光層所發射之光強而顯示一影像之有機發光顯示裝置，作為能夠減輕為陰極射線管(CRT)缺點之顯示裝置重量和體積之平板顯示裝置，已經引起重大關注。
有機發光顯示裝置透過使用以一矩陣形式所設置之畫素顯示一影像，每個畫素包含三個子畫素(紅(R)、綠(G)和藍(B))。但是，在係為有機發光顯示裝置其中之一之一白色有機發光顯示裝置中，一顏色透過形成在白色有機發光顯示裝置中之R彩色濾光片、G彩色濾光片和B彩色濾光片而被實現。由於在一顯示器中，形成在彩色濾光片上之一塗層包含R子畫素、G子畫素、B子畫素和W子畫素，B子畫素和W子畫素之透射率相比R子畫素和G子畫素之透射率以一相對高比例而被降低，因此降低面板效率。
因此，鑒於上述問題，本發明旨在提供一種有機發光顯示面板及其一種製造方法，其充分解決了由於習知技術之限制和劣勢之一個或多個問題。
本發明之一目的係在於提供一種具有提高的效率和壽命之有機發光顯示面板及其一種製造方法。
本發明其他的優點、目的和特徵將在如下的說明書中部分地加以闡述，並且本發明其他的優點、目的和特徵對於本領域的普通技術人員來說，可以透過本發明如下的說明得以部分地理解或者可以從本發明的實踐中得出。本發明的目的和其他優點可以透過本發明所記載的說明書和申請專利範圍中特別指明的結構並結合圖式部份，得以實現和獲得。
為了獲得本發明的這些目的和其他特徵，現對本發明作具體化和概括性的描述。依照本發明之一方面，本發明之實施例係提供了一種有機發光顯示面板，包含：一基板，係具有紅色子畫素區域、綠色子畫素區域、藍色子畫素區域和白色子畫素區域；紅色濾光片係形成在紅色子畫素區域中，綠色濾光片係形成在綠色子畫素區域中，藍色濾光片係形成在藍色子畫素區域中；一塗覆層，係形成在除紅色子畫素區域和白色子畫素區域之外之藍色子畫素區域和綠色子畫素區域中，或形成在紅色子畫素區域、綠色子畫素區域、藍色子畫素區域和白色子畫素區域中，進而在紅色子畫素區域和綠色子畫素區域中之塗覆層之厚度係大於藍色子畫素區域和白色子畫素區域中之塗覆層之厚度；以及有機發光單元，分別形成在紅色子畫素區域、綠色子畫素區域、藍色子畫素區域和白色子畫素區域中。
具體而言，在依照本發明之一第一實施例之有機發光顯示面板中，形成在紅色子畫素區域和綠色子畫素區域中之有機發光單元係設置在塗覆層上；形成在藍色子畫素區域中之有機發光單元係設置在藍色彩色濾光片上；以及形成在白色子畫素區域中之有機發光單元係設置在形成以覆蓋形成在基板上之一薄膜電晶體之一保護層上。
這裡，依照第一實施例之有機場致發光顯示面板可以更包含一緩衝層，緩衝層係形成在塗覆層和紅色子畫素區域及綠色子畫素區域中之有機發光單元之每個之間、藍色濾光片和藍色子畫素區域中之有機發光單元之間、以及保護層和白色子畫素區域中之有機發光單元之間，其中緩衝層係由包含SiNx或SiOx之一有機絕緣材料所形成。
具體而言，在依照本發明之一第一實施例之有機發光顯示面板中，形成在紅色子畫素區域、綠色子畫素區域、藍色子畫素區域中之塗覆層被設置在紅色濾光片、綠色濾光片和藍色濾光片上；以及形成在白色子畫素區域中之塗覆層被設置在形成以覆蓋形成在基板上之一薄膜電晶體之一保護層上。
在本發明的另一方面中，一種製造一有機發光顯示面板之方法包含：形成具有紅色子畫素區域、綠色子畫素區域、藍色子畫素區域和白色子畫素區域之一基板；分別形成紅色濾光片於紅色子畫素區域中，綠色濾光片於綠色子畫素區域中，藍色濾光片於藍色子畫素區域中；形成一塗覆層於除藍色子畫素區域和白色子畫素區域之外之紅色子畫素區域和綠色子畫素區域中；以及分別形成有機發光單元在紅色子畫素區域、綠色子畫素區域、藍色子畫素區域和白色子畫素區域中。
另外，形成一塗覆層於除藍色子畫素區域和白色子畫素區域之外之紅色子畫素區域和綠色子畫素區域中係包含：形成一有機層於提供有紅色濾光片、綠色濾光片和藍色濾光片之基板之整個表面之上；透過使用包含對應於紅色子畫素區域和綠色子畫素區域之一遮掩單元、對應於藍色子畫素區域和白色子畫素區域之一半透射單元、以及對應於薄膜電晶體之一接觸孔之一透射單元之一掩膜圖案化有機層，形成一塗覆層於紅色子畫素區域、綠色子畫素區域、藍色子畫素區域、白色子畫素區域中；以及去除位於藍色子畫素區域和白色子畫素區域中之塗覆層之部份。
在本發明的另一方面中，一種製造一有機發光顯示面板之方法包含：形成具有紅色子畫素區域、綠色子畫素區域、藍色子畫素區域和白色子畫素區域之一基板；分別形成紅色濾光片於紅色子畫素區域中，綠色濾光片於綠色子畫素區域中，藍色濾光片於藍色子畫素區域中；形成一塗覆層於紅色子畫素區域、綠色子畫素區域、藍色子畫素區域和白色子畫素區域中，進而在紅色子畫素區域和綠色子畫素區域中之塗覆層之厚度係大於在藍色子畫素區域和白色子畫素區域之塗覆層之厚度；以及分別形成有機發光單元在紅色子畫素區域、綠色子畫素區域、藍色子畫素區域和白色子畫素區域中。
另外，形成一塗覆層於紅色子畫素區域、綠色子畫素區域、藍色子畫素區域和白色子畫素區域中，進而在紅色子畫素區域和綠色子畫素區域中之塗覆層之厚度係大於在藍色子畫素區域和白色子畫素區域之塗覆層之厚度係包含：形成一有機絕緣材料於提供有紅色濾光片、綠色濾光片和藍色濾光片之基板之整個表面之上；透過使用包含對應於紅色子畫素 區域和綠色子畫素區域之一遮掩單元、對應於藍色子畫素區域和白色子畫素區域之一半透射單元、以及對應於薄膜電晶體之一接觸孔之一透射單元之一掩膜圖案化有機絕緣材料而形成一塗覆層。
可以理解的是，如上所述的本發明之概括說明和隨後所述的本發明之詳細說明均是具有代表性和解釋性的說明，並且是為了進一步揭示本發明之申請專利範圍。
100‧‧‧基板
102‧‧‧閘極
108‧‧‧源極
110‧‧‧汲極
112‧‧‧閘絕緣層
114‧‧‧主動層
115‧‧‧半導體圖案
116‧‧‧歐姆接觸層
118‧‧‧有機保護層
120‧‧‧畫素接觸孔
122‧‧‧第一電極
124B‧‧‧B彩色濾光片
124G‧‧‧G彩色濾光片
124R‧‧‧R彩色濾光片
126‧‧‧塗覆層
130‧‧‧累積絕緣層
132‧‧‧累積孔
134‧‧‧有機共用層
136‧‧‧第二電極
140‧‧‧掩膜
148‧‧‧緩衝層
200‧‧‧單元驅動裝置
B‧‧‧藍色
C‧‧‧儲存電容器
DL‧‧‧資料線
G‧‧‧綠色
GL‧‧‧閘線
H1‧‧‧厚度
H2‧‧‧厚度
PL‧‧‧電線
R‧‧‧紅色
S1‧‧‧遮掩單元
S2‧‧‧半透射單元
S3‧‧‧透射單元
TD‧‧‧驅動薄膜電晶體
TS‧‧‧開關薄膜電晶體
W‧‧‧白色
第1圖係為依照本發明之一第一實施例之一有機發光顯示面板之一平面圖。
第2圖係為第1圖之有機發光顯示面板之一剖視圖。
第3圖係為基於第2圖之有機發光顯示面板之B子畫素和W畫素中之形成塗覆層之白色光譜之結果之一圖。
第4A圖至第4H圖係為用於第2圖之一種製造有機發光顯示面板之方法之描述之剖視圖。
第5圖為依照本發明之一第二實施例之一有機發光顯示面板之一剖視圖。
第6圖為依照本發明之一第三實施例之一有機發光顯示面板之一剖視圖。
現在將詳細參考在附圖中被闡述之示例之本發明之較佳實 施例。無論哪種可能性，貫穿整個附圖，相同標號將被使用以參考相同或類似部件。
「第1圖」係為依照本發明之紅色(R)子畫素區域、綠色(G)子畫素區域和藍色(B)子畫素區域之一等效電路圖，「第2圖」係為示出R子畫素區域、G子畫素區域和B子畫素區域之「第1圖」之有機發光顯示面板之一剖視圖。
參考「第1圖」和「第2圖」，依照本發明之一實施例之一有機發光顯示面板包含形成在閘線GL、資料線DL和電線PL之各自交叉點之複數個子畫素區域。
複數個子畫素區域包含R子畫素區域、G子畫素區域、B子畫素區域和白色(W)子畫素區域，其以一矩陣形式設置以顯示一影像。
R子畫素區域、G子畫素區域、B子畫素區域和W子畫素區域之每個包含一單元驅動裝置200和連接至單元驅動裝置200之一有機發光單元。
單元驅動裝置200包含：連接至閘線GL和資料線DL之一開關薄膜電晶體TS、連接至開關薄膜電晶體TS以及電線PL和有機發光單元之一第一電極122之間之一驅動薄膜電晶體TD、以及連接在電線PL和開關薄膜電晶體TS之一汲極之間之一儲存電容器C。
開關薄膜電晶體TS包含：連接至對應閘線GL之一閘極、連接至對應資料線DL之一源極、以及連接至驅動薄膜電晶體TD之一閘極和儲存電容器C之汲極。驅動薄膜電晶體TD包含連接至對應電線PL之一源極和連接至第一電極122之一汲極110。儲存電容器C係連接在對應電線 PL和驅動薄膜電晶體TD之閘極之間。
當一掃描脈衝被供給閘線GL時，開關薄膜電晶體TS被打開，以提供供給資料線DL之一資料訊號至儲存電容器C和驅動薄膜電晶體TD之閘極。驅動薄膜電晶體TD，回應被提供至閘極之資料訊號，控制從電線PL提供至有機發光單元裝置之電流I，因此調節有機發光單元之光強。另外，甚至當切換薄膜電晶體TS被關閉時，驅動薄膜電晶體TD透過充電在儲存電容器C中之一電壓提供一恒定電流I，直到一隨後框之一資料訊號被提供於此，進而有機發光單元之發射被維持。
如「第2圖」所示，驅動薄膜電晶體TD包含：形成在一基板100上之一閘極102、連接至有機發光單元之第一電極122之汲極110、與汲極110相對之一源極108、形成以覆蓋閘極102以經由插入在主動層114和閘極102之間之一閘絕緣層112形成在源極108和汲極110之間之一通道之一主動層114、除了用於與源極108和汲極110之一歐姆接觸之通道區域外形成在主動層114上之一歐姆接觸層116。另外，一有機保護層118係由位於驅動薄膜電晶體TD之上之一有機絕緣材料所形成，以平滑提供有驅動薄膜電晶體TD之基板100。作為另外一種選擇，包含由一無機絕緣材料構成之一無機保護層和由一有機絕緣材料構成之一有機保護層之一雙層保護層可以形成在驅動薄膜電晶體TD之上。
有機發光單元包含：連接至驅動薄膜電晶體TD之汲極110之第一電極122、具有暴露第一電極122之一累積孔(bank hole)132之一累積絕緣層(bank insulating layer)130、形成在第一電極122上之一有機共用層134、以及形成在有機共用層134之一第二電極136。
第一電極122，作為一陽極，係為由一透明導電氧化物(TCO)、銦錫氧化物(ITO)、或銦鋅氧化物(IZO)所形成之一透明導電電極。另外，第二電極136，作為一陰極，係由諸如鋁(Al)之一反射金屬材料所形成。如「第2圖」所示，一底部發射依照本發明而被執行。但是，底部發射、頂部發射和雙側發射也可以依照用以形成第一電極122和第二電極136之材料而被執行。
有機共用層134具有一結構，其中一空穴注射層(HIL)、一空穴傳輸層(HTL)、一發射層(EML)、一電子傳輸層(ERL)和一電子注入層(EIL)被依次堆放在第一電極122上。
在有機發光單元中，當一電壓被施加在第一電極122和第二電極136之間時，來自第一電極122之空穴和來自第二電極136之電子被注入EML中，並在EML中被重新結合以產生激子。當激子下降至一基態，光線被發射朝向底側。
一R彩色濾光片124R係形成在R子畫素區域之保護層118上以發射紅光R。一G彩色濾光片124G係形成在G子畫素區域之保護層118上以發射綠光G。一B彩色濾光片124B係形成在B子畫素區域之保護層118上以發射藍光B。沒有彩色濾光片被形成在W子畫素區域中之保護層118上以發射白光W。
同時，依照本發明，一塗覆層126係形成在R子畫素區域中之R彩色濾光片124R上和G子畫素區域中之G彩色濾光片124G上用於平坦化，但是塗覆層126不形成在B子畫素區域和W子畫素區域中，以提高面板之效率。特別地，將參考表1和表2被描述。
表1係示出塗覆層126被形成在R子畫素區域、G子畫素區域、B子畫素區域和W子畫素區域上之一比較示例，以及表2係示出塗覆層126被形成在R子畫素區域和G子畫素區域上而不形成在B子畫素區域和W子畫素區域上之依照本發明之一示例。
如表1和表2所示，在比較示例之B子畫素區域之效率係為2.87%時，本發明之B子畫素區域之效率係為3.33%，其被增加大約16.0%。在比較示例之W子畫素區域之效率係為74.8%時，本發明之W子畫素區域之效率係為77.00%，其被增加大約2.8%。因此，在比較示例之面板效率係為28.2%時，本發明之面板效率係為31.8%，其被增加大約12.8%。
另外，如表1和表2所示，在比較示例之B子畫素區域之電流密度係為1.78mA/cm2時，本發明之B子畫素區域之電流密度係為1.1mA/cm2，其被增加大約64%。在比較示例之W子畫素區域之電流密度係 為1.21mA/cm2時，本發明之W子畫素區域之電流密度係為1.13mA/cm2，其被增加大約89%。因此，既然依照本發明之電流密度被減少至比較示例之電流密度大約89%，B子畫素之壽命被增加至長於比較示例之壽命之2.04倍，W子畫素之壽命被增加至長於比較示例之壽命1.12倍。就這一點而言，由於通常具有最短壽命之B子畫素之壽命被增加，整個面板之壽命被增加。由於W子畫素之電流密度如表1、表2和「第3圖」所示被減少，整個面板之壽命被增加。
如此，依照本發明，既然降低透射率之塗覆層126不被形成在B子畫素區域和W子畫素區域中，面板效率則被提高。另外，由於電流密度被減少，面板之壽命被增加。
同時，儘管本發明參考在B子畫素區域和W子畫素區域中去除塗覆層126之一示例而被描述，透過去除在R子畫素區域、G子畫素區域、B子畫素區域和W子畫素區域中之塗覆層而可以獲得相同效果。
「第4A圖」至「第4H圖」係為依照本發明之另一實施例之用於「第2圖」之一種製造有機發光顯示面板之方法之描述之剖視圖。
參考「第4A圖」，包含一閘極102、一閘絕緣層112、一半導體圖案115、一源極108、以及一汲極110之一驅動薄膜電晶體係形成在一基板100上。
特別地，一閘金屬層透過諸如濺射之沉積係形成在基板100之上。閘金屬層可以由諸如Mo、Ti、Cu、AlNd、Al、Cr、Mo合金、Cu合金、Al合金和Mo-Ti合金之一金屬材料所形成。然後閘金屬層透過光刻製程和蝕刻製程被圖案化以形成閘極102。
然後，諸如氧化矽(SiOx)或氮化矽(SiNx)之一有機絕緣材料係形成在提供有閘極102之基板100之整個表面之上以形成閘絕緣層112。然後，一非晶矽層和摻雜有雜質(n+或p+)之一非晶矽層被依次形成在提供有閘絕緣層112之基板100上。然後，非晶矽層和摻雜有雜質(n+或p+)之非晶矽層透過光刻製程和蝕刻製程被圖案化以形成包含主動層114和歐姆接觸層116之半導體圖案115。
然後，一資料金屬層係形成在透過諸如濺射之沉積而提供有半導體圖案115之基板100之上。就這一點而言，資料金屬層係由鈦(Ti)、鎢(W)、鋁(Al)基金屬、鉬(Mo)、銅(Cu)諸如此類所形成。然後，資料金屬層透過光刻製程和蝕刻製程被圖案化以形成源極108和汲極110。然後，設置在源極108和汲極110之間之歐姆接觸層116透過使用源極108和汲極110作為掩膜而被去除以暴露主動層114。
如上所述，半導體圖案115、源極108和汲極110分別被形成，因此兩個掩膜被需要以形成半導體圖案115、源極108和汲極110。為了減少掩膜之數量，半導體圖案115、源極108和汲極110可以使用一縫隙掩膜或一半透射掩膜透過一單獨掩膜製程而被同時形成。
參考「第4B圖」，有機保護層118係形成在提供有源極108和汲極110之基板100上，以及R彩色濾光片124R、G彩色濾光片124G和B彩色濾光片124B分別被形成在子畫素區域之每個中。
特別地，諸如丙烯酸樹脂之一有機絕緣材料係形成在提供有源極108和汲極110之基板100之整個表面之上，以形成有機保護層118。然後，一紅色R彩色抗蝕劑被塗覆在有機保護層118上，並透過光刻和蝕 刻被處理，以形成一紅色彩色濾光片124R於R子畫素區域中之有機保護層118上。然後，一綠色G彩色抗蝕劑被塗覆在有機保護層118上，並透過光刻和蝕刻被處理，以形成一綠色彩色濾光片124G於G子畫素區域中之有機保護層118上。一藍色B彩色抗蝕劑被塗覆在有機保護層118上，並透過光刻和蝕刻被處理，以形成一藍色彩色濾光片124B於B子畫素區域中之有機保護層118上。因此，R彩色濾光片124R係形成在R子畫素區域中，G彩色濾光片124G係形成在G子畫素區域中，B彩色濾光片124B係形成在B子畫素區域中。
參考「第4C圖」，一塗覆層126透過使用一縫隙掩膜或一半透射掩膜光刻係形成在提供有R彩色濾光片124R、G彩色濾光片124G、B彩色濾光片124B之基板100之上。
特別地，諸如一丙烯酸樹脂層之一感光有機層係形成在提供有R彩色濾光片124R、G彩色濾光片124G、B彩色濾光片124B之基板100上。然後，感光有機層透過使用具有一遮掩單元S1、一半透射單元S2和一透射單元S3之一掩膜140光刻而被圖案化，以形成塗覆層126，進而塗覆層126在B子畫素區域和W子畫素區域中具有一第一厚度，以及在R子畫素區域和G子畫素區域中具有大於第一厚度之一第二厚度。就這一點而言，在R子畫素區域和G子畫素區域中之塗覆層126對應於掩膜140之遮掩單元S1，在B子畫素區域和W子畫素區域中之塗覆層126對應於掩膜140之半透射單元S2。
參考「第4D圖」，一畫素接觸孔120透過使用塗覆層126作為掩膜140蝕刻而被形成。
特別地，透過塗覆層被暴露並對應於掩膜140之透射單元S3之有機保護層118透過使用塗覆層126作為一掩膜蝕刻而被圖案化，以形成畫素接觸孔120。因此，畫素接觸孔120暴露每個子畫素區域之驅動薄膜電晶體之汲極110。
參考「第4E圖」，形成在提供有畫素接觸孔120之基板100上之B子畫素區域和W子畫素區域中之塗覆層126之部份被選擇地去除。
特別地，形成在提供有畫素接觸孔120之基板100上之塗覆層126經由一氧氣(O2)電漿灰化製程而被處理。設置在B子畫素區域和W子畫素區域中並具有第一厚度之塗覆層126之部份被去除，以及設置在R子畫素區域和G子畫素區域中並具有大於第一厚度之第二厚度之塗覆層126之部份透過灰化製程被減薄。因此，塗覆層126係形成在除了B子畫素區域和W子畫素區域外之R子畫素區域和G子畫素區域中。
參考「第4F圖」，第一電極122係形成在提供有塗覆層126之基板100上。
特別地，諸如一透明導電氧化物(TCO)、銦錫氧化物(ITO)、或銦鋅氧化物(IZO)之一透明金屬材料係透過諸如濺射之沉積而形成在提供有塗覆層126之基板100上。然後，透明金屬材料透過光刻製程和蝕刻製程而被圖案化以形成第一電極122。
參考「第4G圖」，具有一累積孔132之一累積絕緣層130係形成在提供有第一電極122之基板100上。
特別地，由諸如相片亞克力(photoacryl)之一有機絕緣材料所形成之累積絕緣層130被塗覆在提供有第一電極122之基板100之整 個表面之上。然後，累積絕緣層透過光刻製程和蝕刻製程被圖案化，以形成具有一累積孔132之累積絕緣層130，透過累積孔第一電極122被暴露。
參考「第4H圖」，一有機共用層134係形成在提供有累積絕緣層130之基板100上，以及一第二電極136係形成在有機共用層134上。
特別地，包含一空穴注射層(HIL)、一空穴傳輸層(HTL)、一發射層(EML)、一電子傳輸層(ETL)和一電子注入層(EIL)之一有機共用層134係形成在第一電極122上。然後，鋁(Al)和銀(Ag)係沉積在有機絕緣層134上以形成第二電極136。
「第5圖」係為依照本發明之一第二實施例之一有機發光顯示面板之一剖視圖。
相比「第2圖」中所示之有機發光顯示面板，除了一緩衝層148更被形成之外，「第5圖」中所示之有機發光顯示面板包含相同組成元件。因此，相同組成元件之一細節描述在下文中將被省略。
如果塗覆層126不形成在B子畫素區域和W子畫素區域中，緩衝層148被形成在提供有塗覆層126之基板100之整個表面之上，以為了避免B彩色濾光片124B與第一電極122直接接觸。換言之，緩衝層148係形成在形成在R子畫素區域和G子畫素區域中之塗覆層126和有機發光單元之第一電極122之間、B子畫素區域之B彩色濾光片124B和有機發光單元之第一電極122之間、以及W子畫素區域之保護層118和有機發光單元之第一電極122之間。就這一點而言，緩衝層148係由由於比塗覆層126更薄而不影響透射率之諸如SiNx或SiOx之一有機絕緣材料所形成。
「第6圖」係為依照本發明之一第三實施例之一有機發光顯示面板之一剖視圖。
相比「第2圖」所示之有機發光顯示面板，「第6圖」中所示之有機發光顯示面板包含除了塗覆層126具有不同局部厚度之外之相同組成元件。因此，相同組成元件之一細節描述在下文中將被省略。
在「第6圖」中所示之塗覆層126中，在B子畫素區域和W子畫素區域中之塗覆層126之厚度不同於在R子畫素區域和G子畫素區域中之塗覆層126之厚度。換言之，形成在B子畫素區域和W子畫素區域中之塗覆層126之厚度H2係小於形成在R子畫素區域和G子畫素區域中之塗覆層126之厚度H1。就這一點而言，既然降低B子畫素區域中之透射率之塗覆層126之厚度係相對較薄，B子畫素區域和W子畫素區域之效率之降低可以被避免。
同樣地，既然形成在B子畫素區域和W子畫素區域之塗覆層126比形成在R子畫素區域和G子畫素區域之塗覆層126較薄，則面板效率被增加。另外，隨著電流密度被降低，面板之壽命被增加。
「第6圖」中所示之有機發光顯示面板之塗覆層126可以使用參考「第4C圖」和「第4D圖」中所闡述之製程而被形成，其中「第4E圖」中所闡述之灰化製程不被執行。
依照本發明之有機發光顯示面板透過形成塗覆層，進而在B子畫素區域和W畫素區域中之塗覆層之厚度係小於在其他子畫素區域中之塗覆層之厚度，或透過選擇地去除在B子畫素區域和W畫素區域中之塗覆層，可以具有提高的效率和壽命。
顯而易見的是本領域之技術人員在不脫離本發明之精神和範圍的情況下，所作之更動與潤飾，均屬本發明之專利保護範圍之內。因此，其意在於本發明覆蓋它們來自所附之請求項和它們的等同替換之範圍內所提供的本發明之更改和潤飾。
100‧‧‧基板
102‧‧‧閘極
108‧‧‧源極
110‧‧‧汲極
112‧‧‧閘絕緣層
114‧‧‧主動層
115‧‧‧半導體圖案
116‧‧‧歐姆接觸層
118‧‧‧有機保護層
120‧‧‧畫素接觸孔
122‧‧‧第一電極
124R‧‧‧R彩色濾光片
124G‧‧‧G彩色濾光片
124B‧‧‧B彩色濾光片
126‧‧‧塗覆層
130‧‧‧累積絕緣層
132‧‧‧累積孔
134‧‧‧有機共用層
136‧‧‧第二電極
B‧‧‧藍色
G‧‧‧綠色
R‧‧‧紅色
W‧‧‧白色

Claims (11)

  1. 一種有機發光顯示面板，係包含：一基板，係具有紅色子畫素區域、綠色子畫素區域、藍色子畫素區域和白色子畫素區域；紅色濾光片係形成在該紅色子畫素區域中，綠色濾光片係形成在該綠色子畫素區域中，藍色濾光片係形成在該藍色子畫素區域中；一塗覆層，係形成在具有紅色濾光片、綠色濾光片及藍色濾光片的該基板上方；以及有機發光單元，分別形成在該紅色子畫素區域、該綠色子畫素區域、該藍色子畫素區域和該白色子畫素區域中，其中該塗覆層係位於紅色濾光片、綠色濾光片及藍色濾光片與該有機發光單元之間，以及該塗覆層係形成於該紅色子畫素區域、該綠色子畫素區域、該藍色子畫素區域和該白色子畫素區域中，進而在該紅色子畫素區域和該綠色子畫素區域中之該塗覆層之厚度係大於該藍色子畫素區域和該白色子畫素區域中之該塗覆層之厚度，或者該塗覆層係僅僅形成於該紅色子畫素區域與綠色子畫素區域中。
  2. 如請求項第1項所述之有機發光顯示面板，其中：形成在該紅色子畫素區域和該綠色子畫素區域中之該些有機發光單元係設置在該塗覆層上； 形成在該藍色子畫素區域中之該有機發光單元係設置在該藍色彩色濾光片上；以及形成在該白色子畫素區域中之該有機發光單元係設置在形成以覆蓋形成在該基板上之一薄膜電晶體之一保護層上。
  3. 如請求項第2項所述之有機發光顯示面板，更包含一緩衝層，該緩衝層係形成在該塗覆層和該紅色子畫素區域及該綠色子畫素區域中之該些有機發光單元之每個之間、該藍色濾光片和該藍色子畫素區域中之該有機發光單元之間、以及該保護層和該白色子畫素區域中之該有機發光單元之間，其中該緩衝層係由包含SiNx或SiOx之一有機絕緣材料所形成。
  4. 如請求項第1項所述之有機發光顯示面板，其中：形成在該紅色子畫素區域、該綠色子畫素區域、該藍色子畫素區域中之該塗覆層被設置在該紅色濾光片、該綠色濾光片和該藍色濾光片上；以及形成在該白色子畫素區域中之該塗覆層被設置在形成以覆蓋形成在該基板上之一薄膜電晶體之一保護層上。
  5. 一種製造一有機發光顯示面板之方法，該方法包含：形成具有紅色子畫素區域、綠色子畫素區域、藍色子畫素區域和白色子畫素區域之一基板； 分別形成紅色濾光片於該紅色子畫素區域中，綠色濾光片於該綠色子畫素區域中，藍色濾光片於該藍色子畫素區域中；形成一塗覆層於除該藍色子畫素區域和該白色子畫素區域之外之該紅色子畫素區域和該綠色子畫素區域中；以及分別形成有機發光單元在該紅色子畫素區域、該綠色子畫素區域、該藍色子畫素區域和該白色子畫素區域中，其中該塗覆層係位於該紅色濾光片、該綠色濾光片及該藍色濾光片與該有機發光單元之間。
  6. 如請求項第5項所述之製造一有機發光顯示面板之方法，其中：形成在該紅色子畫素區域和該綠色子畫素區域中之該些有機發光單元係設置在該塗覆層上；形成在該藍色子畫素區域中之該有機發光單元係設置在該藍色彩色濾光片上；以及形成在該白色子畫素區域中之該有機發光單元係設置在形成以覆蓋形成在該基板上之一薄膜電晶體之一保護層上。
  7. 如請求項第6項所述之製造一有機發光顯示面板之方法，更包含形成一緩衝層，在該塗覆層和該紅色子畫素區域和該綠色子畫素區域中之該些有機發光單元之每個之間、該 藍色濾光片該藍色子畫素區域中之和該有機發光單元之間、以及該保護層和該白色子畫素區域中之該有機發光單元之間，其中該緩衝層係由包含SiNx或SiOx之一有機絕緣材料所形成。
  8. 如請求項第6項所述之製造一有機發光顯示面板之方法，其中形成一塗覆層於除該藍色子畫素區域和該白色子畫素區域之外之該紅色子畫素區域和該綠色子畫素區域中係包含：形成一有機層於提供有該紅色濾光片、該綠色濾光片和該藍色濾光片之該基板之整個表面之上；透過使用包含對應於該紅色子畫素區域和該綠色子畫素區域之一遮掩單元、對應於該藍色子畫素區域和該白色子畫素區域之一半透射單元、以及對應於該薄膜電晶體之一接觸孔之一透射單元之一掩膜圖案化該有機層，形成一塗覆層於該紅色子畫素區域、該綠色子畫素區域、該藍色子畫素區域、該白色子畫素區域中；以及去除位於該藍色子畫素區域和該白色子畫素區域中之該塗覆層之部份。
  9. 一種製造一有機發光顯示面板之方法，該方法包含：形成具有紅色子畫素區域、綠色子畫素區域、藍色子畫素區域和白色子畫素區域之一基板； 分別形成紅色濾光片於該紅色子畫素區域中，綠色濾光片於該綠色子畫素區域中，藍色濾光片於該藍色子畫素區域中；形成一塗覆層於該紅色子畫素區域、該綠色子畫素區域、該藍色子畫素和該白色子畫素區域中，進而在該紅色子畫素區域和該綠色子畫素區域中之該塗覆層之厚度係大於在該藍色子畫素區域和該白色子畫素區域中之該塗覆層之厚度；以及分別形成有機發光單元在該紅色子畫素區域、該綠色子畫素區域、該藍色子畫素區域和該白色子畫素區域中，其中該塗覆層係位於紅色濾光片、綠色濾光片及藍色濾光片與該有機發光單元之間。
  10. 如請求項第9項所述之製造一有機發光顯示面板之方法，其中形成在該紅色子畫素區域、該綠色子畫素區域、該藍色子畫素區域中之該塗覆層被設置在該紅色濾光片、該綠色濾光片和該藍色濾光片上；以及形成在該白色子畫素區域中之該塗覆層被設置在形成以覆蓋形成在該基板上之一薄膜電晶體之一保護層上。
  11. 如請求項第10項所述之製造一有機發光顯示面板之方法，其中形成一塗覆層於該紅色子畫素區域、該綠色子畫素區域、該藍色子畫素區域和該白色子畫素區域中，進而 在該紅色子畫素區域和該綠色子畫素區域中之該塗覆層之厚度係大於在該藍色子畫素區域和該白色子畫素區域之該塗覆層之厚度係包含：形成一有機絕緣材料於提供有該紅色濾光片、該綠色濾光片和該藍色濾光片之該基板之整個表面之上；以及透過使用包含對應於該紅色子畫素區域和該綠色子畫素區域之一遮掩單元、對應於該藍色子畫素區域和該白色子畫素區域之一半透射單元、以及對應於該薄膜電晶體之一接觸孔之一透射單元之一掩膜圖案化該有機絕緣材料而形成一塗覆層。
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