TWI584826B - 容納眼用鏡片儲存盒的輻射消毒基座單元 - Google Patents

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TWI584826B
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艾德華 柯尼克
威廉 尼利
德瑞特 艾柏哈克
雷斯里 沃斯
卡森 普特
詹姆士 萊爾
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    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61LMETHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L12/00Methods or apparatus for disinfecting or sterilising contact lenses; Accessories therefor
    • A61L12/02Methods or apparatus for disinfecting or sterilising contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena, e.g. electricity, ultrasonics or ultrafiltration
    • A61L12/06Radiation, e.g. ultraviolet or microwaves
    • A61L12/063Ultraviolet radiation
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A45HAND OR TRAVELLING ARTICLES
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    • A45C11/00Receptacles for purposes not provided for in groups A45C1/00-A45C9/00
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Description

容納眼用鏡片儲存盒的輻射消毒基座單元 【相關申請案】
本專利申請案主張於2011年5月31日申請的美國專利申請案第13/118,931號;以及於2010年6月23日申請的美國暫時專利申請案編號第61/357,786號的優先權。
本發明描述一種供儲存眼用鏡片之盒,更具體而言,在一些實施例中,係描述一種基座用於容納在儲存如隱形眼鏡之眼用鏡片時,同時具有消毒功能之盒。
處置一隱形眼鏡時維護所處環境之清潔一般是保持良好眼部健康基本要件。一隱形眼鏡盒之外部清潔是清潔度經常被忽視的一狀況。即便操作隱形眼鏡使用者留意手洗程序以及鏡片溶液的正確使用,此等操作之功效仍然有限,如果病原體,例如細菌與真菌存在於用於儲存該隱形眼鏡之隱形眼鏡盒外部。
於移除一盒之頂端流程中以取得儲存於該盒內之一鏡片時,乾淨的手常與該一隱形眼鏡盒之外部上的病原體相接觸。該接觸會使得原本乾淨的手如今受到病原體污染。處置該鏡片與放置該鏡片到眼睛時,污染的手會將該病原體傳到剛經過該儲存盒內溶液消毒 的鏡片上。該結果為病原體傳入該隱形眼鏡戴用者眼中一區域的危險度增高。
今日,水凝膠隱形眼鏡使用很普遍。相較於硬質材料製成之隱形眼鏡,水凝膠鏡片通常具有更佳之配戴舒適度。許多水凝膠隱形眼鏡戴用時間可多於一日。然而,考量微生物與細菌在鏡片配戴期間的滋長,戴用者須定期移除該鏡片並進行鏡片消毒。
隱形眼鏡之消毒傳統上需要將該隱形眼鏡置於一容器或一盒並把該隱形眼鏡經受化學消毒劑處理。然而,化學消毒劑未必總是如所期望的有效。往往,具有細菌、黴菌、真菌或其他有害生物形態類型之一隱形眼鏡重新置入使用者眼睛中使眼睛受感染。此外,消毒溶液往往價格昂貴並增加用於矯正視力或改善妝飾之隱形眼鏡使用總成本。因此需要新方法與方式以消毒隱形眼鏡。
因此,本發明包括一基座,該基座用於一眼用鏡片儲存盒供儲存可重複使用隱形眼鏡且儲存時消毒該鏡片以及亦消毒至少該鏡片儲存盒之一部位。該基座容許產生以一波長且強度適用鏡片盒上以殺死不需要病原體,諸如細菌、病毒、黴菌、真菌等的消毒輻射至該儲存盒一表面。
此外,在一些實施例中,該基座提供機械上足以 有效擾動死亡微生物且提供未死亡微生物增加對滅菌輻射(life extinguishing radiation)的暴露之振動頻率。
在另一態樣中,在一些實施例中,一消毒輻射基座包括一個或多個反射表面,例如一鏡子,用於朝向安裝在該消毒輻射基座上之一眼用鏡片儲存盒反射消毒輻射。
本發明包括用於消毒一眼用鏡片儲存盒之一表面的方法與設備。此外,本發明包括一用於保存一眼用鏡片之儲存盒而該鏡片與該鏡片儲存盒之表面之一或二者係經消毒輻射消毒。
在以下的章節中將會有本發明實施例的詳細敘述。較佳實施例與另一實施例之說明僅為實例,且精於此項技藝之人士當可輕易思及各種變化、修改及變更。因此該例示性實施例並未限制基本發明之原理。
名詞解釋
在針對本發明之詳細說明與申請專利範圍中,各式所使用術語可用定義如下:消毒輻射:如本文所示意指輻射之一頻率與強度足夠縮減一收受一消毒輻射劑量之生物形態的預期壽命。
消毒輻射劑量:如本文所示意指相當的輻射用以 把相當的病原體生物減少到一對數尺度之至少二個對數數量級(two logs)且較佳地三個對數數量級或更多,其中生物至少包括細菌、病毒、黴菌以及真菌。
鏡片:係指位於眼睛內或眼睛上之任何眼科設備。該等裝置可提供視力矯正或裝飾。例如,術語鏡片可指隱形眼鏡、人工水晶體、覆蓋鏡片(overlay鏡片)、眼嵌入物(ocular insert)、光學嵌入物(optical insert)或其他之類似裝置,透過其,可矯正或修改視力,或在不阻防礙視力的情況下可提高眼睛生理裝飾功能(例如虹膜顏色)。在一些實施例中,本發明較佳鏡片係以矽橡膠或矽水膠製成之軟式隱形眼鏡,其中包括但不限矽水膠及螢光水膠(Fluorohydrogels)。
首先參考圖6,該圖表示一隱形眼鏡儲存盒600之實例,其包括一儲存盒鏡片支架601與一儲存盒頂蓋602,如圖所示。如本文所示,一些例子中一隱形眼鏡儲存盒600可累積顯著數量髒污與病原體滋長603於該儲存盒100之一個或多個表面。
參考圖1,該圖表示一眼用鏡片消毒系統100,其包括一輻射為基的消毒基座101、一輻射為基的消毒儲存盒102與一個或多個消毒輻射源103-104。該輻射為基的消毒儲存盒102可包括一儲存盒頂蓋與一儲存盒支架。根據本發明,一輻射為基的消毒儲存盒102放置於該一個或多個消毒輻射源103-104之該輻射路徑內,如此一輻射為基的消毒鏡片儲存盒102之該表 面以及儲放於該消毒儲存盒102內之眼用鏡片(圖未示)之一或二者暴露於一個或多個消毒輻射源103-104所放射之輻射且存在於輻射為基的消毒儲存盒102上或接近於該處之病原體係被暴露於由一消毒輻射源103-104所提供之消毒輻射,且被殺死,基本上來消毒該眼用鏡片之一或二者與該鏡片儲存盒之一表面。
如本文所示,包括一一般翻蓋型配置之該眼用鏡片消毒系統100,係定位於具有一輻射消毒基座101與一頂蓋106的開啟態中。一輻射消毒儲存盒102係顯示定位於該翻蓋輻射消毒儲存系統100中。在一些較佳實施例中,該輻射消毒儲存盒102包括一定位工件105用於使該輻射消毒儲存盒102與該消毒輻射源103對準。如本文所示,該定位工件105包括一環狀凹部用於收受一環狀排列之消毒輻射源103。定位工件105可包括幾乎任何多邊形形狀凹部。其他實施例可包括一個或多個定位梢。其他實施例中,一定位工件105可包括一按扣,一螺紋接合面或其他可移動固定式接合面。
在一些實施例中,該定位工件105以一個一般垂直於一儲存盒102之一頂端表面的位置對準該輻射消毒輻射源103-104,該儲存盒102係位於該眼用鏡片消毒系統100中。在附加實施例中,一定位工件105以一個一般垂直於一儲存盒102之一平面的位置對準該輻射消毒輻射源103,該儲存盒102係位於該眼用鏡 片消毒系統100中。
在另一態樣中,在一些實施例中,該輻射消毒基座101亦可包括一振動頻率106之一源,其能夠將一振動頻率由一輻射消毒基座101傳送到該輻射消毒儲存盒102與最終傳送到儲放在該輻射消毒儲存盒102內之一鏡片。
在一些較佳實施例中,該振動頻率可為一頻率,其能夠造成死亡生物形態從在對一未死亡生物形態之輻射路徑內移開。藉由將更多未死亡生物形態暴露於一直接輻射路徑,移動該死亡生物便於更有效的消毒。
該一個或多個輻射消毒輻射源103-104可包括一個或多個發光二極體(LEDs)。在一些較佳實施例中,該等發光二極體包括發射紫外線(UV)之發射發光二極體。較佳實施例包括發光二極體,其發射光輻射,該光輻射具有一波長介於約250奈米之光輻射與約280奈米之光輻射,較佳地,該波長介於250奈米與275奈米之間,與最較佳地254奈米。
參考圖2,一方塊圖說明一些一輻射消毒源200之對準方式的實施例,例如朝一隱形眼鏡儲存盒201之一個或多個在UV光譜中的UV發光二極體輻射消毒輻射202。在一些較佳實施例中,UV發光二極體將經排列使一輻射消毒儲存盒將對準於相對於該隱形眼鏡儲存盒201之一特定位置。可藉由一對準工件維持該對準方式。
在一些實施例中,一輻射消毒儲存盒對準以引導在一基本上垂直於一平面203之角度的UV輻射202平面穿過隱形眼鏡儲存盒201之一頂端部位。
在其他實施例中,輻射消毒儲存盒可對準以引導自一個或多個UV發射發光二極體200A在一基本上垂直於一平面205之角度的消毒輻射202A穿過隱形眼鏡儲存盒201之一底部。
在另一態樣中,在一些實施例中,一個或多個光學件204可用於使消毒輻射聚焦在一消毒輻射儲存盒201上。一光學件可包括於一基座或一儲存盒之一部分。
參考圖3,其說明一例示性輻射消毒儲存盒300。該輻射消毒儲存盒300包括一個或多個鏡片儲存隔間301。一儲存隔間301能夠收受與儲放一個或多個眼用鏡片,例如一隱形眼鏡。
一些實施例包括一個或多個鏡片對準機構302用於安置一眼用鏡片,該眼用鏡片係儲放於含在一輻射消毒儲存盒300內之一儲存隔間301中。一鏡片對準機構302A可包括例如一具有一弓形表面的基座,該弓形表面一般有類似於一眼用鏡片之一內部尺寸之大小與形狀。一凸面可包括一弧,該弧一般等同於一待被儲放於該輻射消毒儲存盒300內一眼用鏡片凹面之弧。其他實施例可包括一鏡片對準機構302B,該機構包含一般有類似於一眼用鏡片之一外部尺寸之大小與 形狀的一碗。
較佳的定位乃對準該儲放鏡片於消毒輻射之一直接路徑中。然而,其他實施例可包括一個或多個反射表面306。一反射表面306可基本上包括一鏡子且從功能為以一所欲方向反射消毒輻射之一玻璃、一塑膠、一金屬或一塗層所形成。一般而言,該方向將朝向一鏡片,該鏡片係儲放而位於該基座中之一儲存盒300中。在一些實施例中,反射表面306一般可為接近及/或平行於一儲放鏡片之一表面。其他實施例可包括一般圍繞於一儲放鏡片之一外緣的一反射表面306。
一個或多個輻射窗303-304係包括於該儲存隔間301內。該等輻射窗303-304提供至少對消毒輻射波部分穿透之該輻射消毒儲存盒部位。較佳地該等輻射窗303-304將對被透射到該等儲存隔間301中之消毒輻射儘可能接近於100%穿透。可射出成形的塑膠對UV輻射可為90%或甚至98%穿透。特定波長可包括介於約254奈米到280奈米之間。
在一些實施例中,一輻射窗亦可包括一光學件,該光學件用於將消毒輻射指向被儲放於該儲放隔間301內之一眼用鏡片的區域。
輻射窗303-304之材料的實例,舉例而言,可包括由環烯烴、托帕斯(TOPAS)、ZEONOR或其他可射出成形的塑膠形成。其他塑膠或玻璃亦可作為運用於該等輻射窗303-304之材料。該等輻射窗303-304區 域應足以讓足夠消毒輻射進入該儲存隔間以殺死出現於被儲放於該儲存隔間301內之一眼用鏡片上之生物形態。
一輻射消毒儲存盒之一些較佳生產方法包括射出成型法。其他方法包括,例如,車削、立體光固化與立體印花。
在另一態樣中,輻射消毒儲存盒300可包括一固定機構305A-305B,該固定機構305A-305B用於關緊與移除一儲存隔間307之一蓋308。該固定機構305A-305B可包括一螺紋部位、一按扣或其他機構之一錐形接點,使用者可自行決定藉由上述固定機構可移動地關緊該蓋308與該盒。於蓋308關緊到該儲存隔間307時,該蓋將周圍大氣封入該儲存隔間307中且亦含有一眼用鏡片以及,在一些實施例中,諸如一溶液,例如,一食鹽溶液,在該隔間307之內。
參考圖4,一輻射消毒基座單元400係被描述具多個消毒輻射源發光二極體401-402。如本文所示,該等消毒輻射源發光二極體401-402可包括頂部消毒輻射源發光二極體401與低部消毒輻射源發光二極體402之一或二者。除了該頂部消毒輻射源發光二極體401與低部消毒輻射源發光二極體402以外,該基座單元可包括一處理器板403,該處理器板403具用於控制與該輻射消毒基座400有關之不同態樣的控制電子。
該處理器板403可連接到一數位儲存器408。該數位儲存器可包括可執行軟體,該可執行軟體為依照命令可執行或自動依照該輻射消毒基座單元400之操作。該數位儲存器408亦可儲放相關於該輻射消毒盒400之操作的數據。操作數據可包括例如,一輻射消毒基座單元400之操作時間期間;進行消毒之鏡片序號;一鏡片放入使用之時間期間或其他資訊。在一些實施例中,一輻射消毒基座單元400可包括一掃描器409或其他輸入方式以輸入一識別號碼,該識別號碼伴隨被儲放在一輻射消毒基座單元400之一鏡片。例如,該掃描器409可掃瞄一鏡片包裝上之一條碼或其他代號且記錄伴隨該條碼號碼或代號之消毒資訊。可記錄資訊可包括例如,一鏡片暴露於消毒輻射之小時數與一鏡片放入使用天數。
一電力通訊連接器404亦可被包括於該輻射消毒基座單元400中。該電力通訊連接器404可包括一通用串列匯流排(USB)連接器或其他連接器之類型。該連接器可包括一終端機,該終端機用於傳輸數據與電力之一或二者。在一些實施例中,該電力通訊連接器404提供電力以操作該輻射消毒基座單元400。一些實施例亦可包括一個或多個電池405或其他電力儲存裝置。在一些較佳實施例中,該等電池405包括一個或多個鋰離子電池或其他可充電裝置。該電力儲存裝置可藉由該電力通訊連接器404收受一充電電流。 較佳地,該輻射消毒基座單元400借助於在電池405中所儲放的電力為運行的。
在一些實施例中,該電力通訊連接器404可包括一簡單交流或直流電流電源。
在另一態樣中,本發明可包括一機械式移動源,例如一振動產生裝置406。該振動產生裝置406可包括,例如之一壓電轉換器。一壓電轉換器供給一低功率可靠裝置以提供機械式或振動移動。
在一些實施例中,該振動移動經調整到一頻率,該頻率有效移動被儲放於在一輻射消毒基座單元400中之儲存盒內之死亡生物體。死亡生物體的移動暴露活生物體,用其他方法,該等活生物體可能已與消毒輻射隔絕。
在又一個態樣中,在一些實施例中,該處理器板403或其他電子電路可控制消毒輻射源發光二極體401-402所發射之光或輻射之一模式。該模式可包括,例如,固定頻率或變動頻率之閃控。
一些實施例亦可包括一顯示器407。該顯示器407可與該處理器板403進行邏輯通訊且,並以人類可讀形式進行與該輻射消毒基座單元400操作相關之數據通訊。
在另一態樣中,在一些實施例中,一個或多個UV成應器410可監控相當的UV輻射存在與提供輸入到一回饋回路,回饋回路控制來自消毒輻射源發光二極 體401-402之輸出。一些實施例包括一個或多個UV感應器410,其(等)在UV輻射已經穿過一個或多個之一鏡片儲存盒與一儲放鏡片後接收UV輻射。
UV感應器410回饋的使用調節發光二極體,該等發光二極體在發光二極體使用期期間可發射遞減輻射,且亦可調節不同鏡片儲存盒,該等鏡片儲存盒從一盒到另一盒可在透明度特性方面有不同。
參考圖5,一輻射消毒基座單元500係被描述處於一關閉位置。一輻射消毒基座501係以頂蓋502遮蓋,如該實施例所示;該頂蓋502以樞紐方式連結到該輻射消毒基座501並且在該輻射消毒基座501的上面折疊。其他實施例亦屬本發明之範疇。如本文所示,一顯示器503係位於該頂蓋502且可提供一正為輻射消毒基座單元500所執行之消毒循環或步驟之指示。
結論
本發明,如上所述與以下該申請專利範圍所進一步界定者,提供用於消毒一眼用鏡片之設備。
100‧‧‧眼用鏡片消毒系統、翻蓋輻射消毒儲存系統
101‧‧‧輻射為基的消毒基座、輻射消毒基座
102‧‧‧輻射為基的消毒儲存盒、消毒儲存盒、輻射消毒儲存盒、儲存盒
103‧‧‧消毒輻射源、輻射消毒輻射源
104‧‧‧消毒輻射源、輻射消毒輻射源
105‧‧‧定位工件
106‧‧‧頂蓋、振動頻率
107‧‧‧反射表面
200‧‧‧輻射消毒源
200A‧‧‧UV發射發光二極體
201‧‧‧隱形眼鏡儲存盒、消毒輻射儲存盒
202‧‧‧消毒輻射、UV發光二極體輻射消毒輻射、UV輻射
202A‧‧‧消毒輻射
203‧‧‧平面
204‧‧‧光學件
205‧‧‧平面
300‧‧‧輻射消毒儲存盒、儲存盒
301‧‧‧儲存隔間、鏡片儲存隔間
302‧‧‧鏡片對準機構
303‧‧‧輻射窗
304‧‧‧輻射窗
305A‧‧‧固定機構
305B‧‧‧固定機構
306‧‧‧鏡片對準機構、反射表面、蓋
307‧‧‧儲存隔間、隔間
400‧‧‧輻射消毒基座單元、輻射消毒盒
401‧‧‧消毒輻射源發光二極體、頂部消毒輻射源發光二極體
402‧‧‧消毒輻射源發光二極體、低部消毒輻射源發光二極體
403‧‧‧處理器板
404‧‧‧電力通訊連接器
405‧‧‧電池
406‧‧‧振動產生裝置
407‧‧‧顯示器
408‧‧‧數位儲存器
409‧‧‧掃描器
410‧‧‧UV感應器
500‧‧‧輻射消毒基座單元
501‧‧‧輻射消毒基座
502‧‧‧頂蓋
503‧‧‧顯示器
600‧‧‧隱形眼鏡儲存盒
601‧‧‧儲存盒鏡片支架
602‧‧‧儲存盒頂蓋
603‧‧‧病原體滋長
圖1根據本發明一些實施例描述位於一基本單位內之一鏡片儲存盒。
圖2根據本發明描述在一鏡片儲存盒中具一眼用鏡片之一消毒輻射源對準方式的一些實施例。
圖3根據本發明一些實施例描述一蓋經移除之一儲存盒之全貌圖。
圖4根據本發明一些實施例描述一基本單位之態樣。
圖5描述一基座單元,基座單元處於關閉態並具有一顯示器。
圖6描述一呈髒污情況的先前技術的隱形眼鏡儲存盒。
100‧‧‧眼用鏡片消毒系統
101‧‧‧輻射為基的消毒基座
102‧‧‧輻射為基的消毒儲存盒
103‧‧‧消毒輻射源
104‧‧‧消毒輻射源
105‧‧‧定位工件
106‧‧‧頂蓋

Claims (26)

  1. 一種用於容納供儲存一個或多個眼用鏡片之一眼用鏡片儲存盒的輻射消毒基座單元,該輻射消毒基座單元包含:一頂蓋;一基座;一收容器,其形成在該頂蓋或該基座之一或二者用於容納該眼用鏡片儲存盒;以及至少一消毒輻射源,其安裝在該頂蓋及該基座之至少一者,且配置成發射輻射直接朝向在該收容器中的該眼用鏡片儲存盒,使得該眼用鏡片儲存盒及在該眼用鏡片儲存盒內之該眼用鏡片暴露於該發射輻射以消毒該眼用鏡片儲存盒並儲存其內之該眼用鏡片;一處理器,其用於控制該消毒輻射之發射;一顯示器,係在該頂蓋中,其用於顯示基於該處理器所傳送之數位數據的一消毒流程之一狀態,其中該頂蓋以樞紐方式連結到該基座並且在該基座的上面折疊。
  2. 如申請專利範圍第1項之輻射消毒基座單元,其另外包含一反射表面用於使消毒輻射反射朝向該儲存盒。
  3. 如申請專利範圍第1項之輻射消毒基座單元,其另外包含一感應器,該感應器能夠感應相當的消毒輻射及一回 饋回路,該回饋回路能夠控制該消毒輻射源所發射之相當的輻射。
  4. 如申請專利範圍第1項之輻射消毒基座單元,該消毒輻射源包含一個或多個發光二極體。
  5. 如申請專利範圍第4項之輻射消毒基座單元,其中該一個或多個發光二極體係排列於該眼用鏡片儲存盒之一蓋上。
  6. 如申請專利範圍第4項之輻射消毒基座單元,其中該一個或多個發光二極體係排列於該眼用鏡片儲存盒下。
  7. 如申請專利範圍第4項之輻射消毒基座單元,其中該消毒輻射源係一紫外線發光二極體。
  8. 如申請專利範圍第7項之輻射消毒基座單元,其中該紫外線發光二極體發出之輻射其波長為介於250至280奈米之間。
  9. 如申請專利範圍第1項之輻射消毒基座單元,其中該發射輻射係足以殺死位於該眼用鏡片儲存盒之一表面的一生物體。
  10. 如申請專利範圍第1項之輻射消毒基座單元,其另外包含一光學件用於將消毒輻射指向該眼用鏡片儲存盒。
  11. 如申請專利範圍第1項之輻射消毒基座單元,其另外包含數位儲存器連接到該處理器。
  12. 如申請專利範圍第1項之輻射消毒基座單元,其中該處理器控制從該消毒輻射源所發出之該發射輻射的一時間期間。
  13. 如申請專利範圍第1項之輻射消毒基座單元,其中該處理器控制從該消毒輻射源所發出之該發射輻射所提供之一強度。
  14. 如申請專利範圍第1項之輻射消毒基座單元,其另外包含一音頻組件為有效的以提供基於該消毒輻射源之操作的一音頻訊號。
  15. 如申請專利範圍第11項之輻射消毒基座單元,其中該數位儲存器儲存相關於一消毒流程之資訊。
  16. 如申請專利範圍第1項之輻射消毒基座單元,其另外包含一振動產生裝置用於提供振動移動以利消毒。
  17. 如申請專利範圍第16項之輻射消毒基座單元,其中該振動產生裝置包含一壓電機構。
  18. 如申請專利範圍第17項之輻射消毒基座單元,其中該壓電機構係基於該處理器所產生之一邏輯訊號運作。
  19. 如申請專利範圍第15項之輻射消毒基座單元,其另外包含一通用串列匯流排連接器用於傳輸數據與電力之一或二者至該基座單元或從該基座單元傳輸數據與電力之一或二者。
  20. 如申請專利範圍第15項之輻射消毒基座單元,其另外包含一通用串列匯流排連接器用於提供操作該基座單元之電流。
  21. 如申請專利範圍第1項之輻射消毒基座單元,其另外包含一電力儲存裝置用於儲存電力以操作該基座單元。
  22. 如申請專利範圍第21項之輻射消毒基座單元,其中該電力儲存裝置包含一個或多個可充電電池。
  23. 如申請專利範圍第21項之輻射消毒基座單元,其中該電力儲存裝置包含一個或多個鋰離子電池。
  24. 如申請專利範圍第12項之輻射消毒基座單元,其中一輻射模式係基於來自該處理器之一訊號。
  25. 如申請專利範圍第1項之輻射消毒基座單元,其中沿一邊緣相互樞軸連接該頂蓋及該基座。
  26. 如申請專利範圍第1項之輻射消毒基座單元,其中定位該消毒輻射源以發射消毒輻射,其方向大致垂直於該眼用鏡片儲存盒之一端頂面。
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