TWI597219B - 用於容納供儲存一或多個眼用鏡片之一眼用鏡片儲存盒且用於消毒眼用鏡片的基座 - Google Patents

Description

用於容納供儲存一或多個眼用鏡片之一眼用鏡片儲 存盒且用於消毒眼用鏡片的基座

本發明涉及一種用於容納一供儲存一或多個眼用鏡片之眼用鏡片儲存盒的基座。

眾所熟知隱形眼鏡可用於改善視力。各種隱形眼鏡之商業生產已行之多年。早期隱形眼鏡設計係藉由硬式材料製作。雖然目前仍在某些應用中使用這些鏡片，然由於其不良舒適度與相對透氧性較低，這些鏡片並不適用於所有病患。於該領域之近期發展中，以水凝膠所製成之軟式隱形眼鏡漸漸興起。

今日，水凝膠隱形眼鏡使用很普遍。相較於硬質材料製成之隱形眼鏡，水凝膠鏡片通常具有更佳之配戴舒適度。許多水凝膠隱形眼鏡戴用時間可多於一日。然而，考量微生物與細菌在鏡片上的滋長，戴用者最好定期移除該鏡片並進行鏡片消毒。

隱形眼鏡之消毒傳統上需要將該隱形眼鏡置於一容器或一盒並把該隱形眼鏡經受化學消毒劑處理。然而，化學消毒劑未必總是如所期望的有效。

再者，在處理隱形眼鏡期間，維持一清潔環境通常被認為對於良好眼部健康非常重要。隱形眼鏡盒之外部清潔是清潔度經常被忽視的一個面向。即便操作隱形眼鏡使用者留意手洗程序以及鏡片溶液的正確使用，此等操作之功效仍然有限，如果病原體，例如細菌與真菌存在於用於儲存該隱形眼鏡之隱形眼鏡盒外部。

因此，帶有細菌、黴菌、真菌或其他類型有害生物形式之隱形眼鏡有時會被再放入使用者眼部中，從而導致眼部患病。此外，最有效之消毒溶液常為昂貴並且會增加使用隱形眼鏡來進行視力矯正或美容強化的總成本。因此需要新方法與方式以消毒隱形眼鏡。

因此，本發明提供一種用於容納一供儲存一或多個眼用鏡片之眼用鏡片儲存盒的基座。該基座包含一用於容納該能夠儲存一或多個鏡片之眼用鏡片儲存盒的容器；一接近該儲存盒之消毒輻射源；以及一在該眼用鏡片儲存盒中且介於該消毒輻射源與該鏡片間之漫射材料。該鏡片儲存盒可為能夠容納具有下列 波長與強度之消毒輻射，即適合殺滅隱形眼鏡上之不欲細菌、病毒、黴菌、真菌與類似者的波長與強度。該基座可為能夠提供具有一或多種波長與強度之受控消毒輻射，並且其持續時間適合殺滅隱形眼鏡上之不欲細菌、病毒、黴菌、真菌與類似者。

該漫射材料可包含一含氟聚合物。

該漫射材料可經成形以包住該盒之形狀。

該基座可額外包含一用於將消毒輻射朝向眼用鏡片儲存隔間反射之反射表面，其中該反射表面包含一或多種下列者：鐵氟龍、鋁、氧化鎂與氧化鋯。

該基座可額外包含一光學性能材料，該材料能夠將該輻射聚焦至該漫射材料之至少一部分。

該消毒輻射源可包含一或多個發射紫外線輻射之發光二極體。

該消毒輻射源可包含一或多個殺菌燈泡。

該殺菌燈泡可具有環繞該鏡片儲存盒之一或多個儲存隔間的形狀。

該基座可額外包含一用於造成該消毒源之一或多者來脈動紫外線輻射之機構，其中該脈動機構包含一電子電路。

該脈動機構可造成該消毒輻射源之一或多者產生一輻射圖型，並且該輻射圖型穿過一儲存於該儲存隔間中之鏡片的一表面。

該基座可額外包含一執行軟體之處理器並且其中所產生之輻射圖型係基於該軟體中所包括之指令。

該發光二極體可發射介於約50微瓦特至5瓦特間的功率。

該消毒輻射源可為能夠發射波長介於250奈米與280奈米間之輻射。

由該殺菌燈泡之一或兩者所發射之消毒輻射可包含一對接近該基座之儲存隔間的足夠強度與時間長度曝露，以殺滅一儲存於該儲存隔間中之鏡片上的生物體。

該處理器可用於控制消毒輻射之產生。

由該消毒輻射源提供之消毒輻射所經歷的時間週期可基於一由該處理器所產生之邏輯控制訊號。

由該消毒輻射源提供之消毒輻射的強度可基於一由該處理器所產生之邏輯控制訊號。

該基座可額外包含一音訊組件，其可用來基於該消毒輻射源之操作來提供一音訊訊號。

該基座可額外包含一用於在該消毒輻射通過該漫射材料後測量該消毒輻射之反饋迴路系統。

該基座可額外包含一或多個位置接近該漫射材料之感應器，並且其能夠偵測該反饋迴路系統之強度值。

該基座可額外包含一用於基於由該處理器所傳送之數位數據來顯示一消毒過程之狀態的顯示器。

該基座可額外包含一用於儲存與一消毒過程有關之資訊的數位儲存器。

該基座可額外包含一用於提供機械移動予一置於該儲存基座中之儲存盒的振動產生裝置。

該振動產生裝置可包含一壓電機構。

該壓電機構可基於一由一處理器所產生之邏輯訊號來操作。

該基座可額外包含一用於在下列兩者間提供邏輯通訊之通用串列匯流排連接器：該處理器與該數位儲存器；以及個人處理裝置。

該基座可額外包含一用於提供一供操作該儲存基座之電流的通用串列匯流排連接器。

該基座可額外包含一用於儲存電力以操作該儲存基座之電儲存器。

該電儲存器可包含一或多個可再充電電池。

該電儲存器可包含一或多個鋰離子電池。

該眼用鏡片儲存隔間可包含一用於對準一隱形眼鏡之對準工件，以在基本上垂直於一穿過該隱形眼鏡周緣之平面的角度來接收消毒輻射。

該眼用鏡片儲存隔間可包含一紫外線輻射可穿透之儲存盒，並且紫外線輻射瞄準之角度係基本上垂直於穿過該儲存盒底部與頂部之其中一或二者的平面。

該眼用鏡片儲存隔間可額外包含一磁鐵，並且該基座額外包含一磁性脈衝源，其中該磁性脈衝會振動該眼用鏡片儲存隔間。

可包括一或多種漫射材料類型以控制該消毒輻射之強度、波長、方向、對比與漫射。例如，若該漫射材料為一含氟聚合物，則例如為氟化乙烯丙烯「FEP」。

可使用特定形狀與幾何來改變傳遞至該隱形眼鏡之輻射強度，並且將該輻射均勻分布至該隱形眼鏡之所有區域。

該消毒輻射基座可包括一或多個用於將消毒輻射朝向一眼用鏡片(儲存於一設置於該消毒輻射基座中之儲存盒)反射之反射表面，例如一鏡面。

該消毒基座可額外包括一測量與控制傳遞之UV劑量的機構，以達到特定生物體所需之特定消毒劑量目標。

該基座可提供機械上足以有效移開死亡微生物之振動頻率，並且使未死亡微生物增加於消滅生物輻射中之曝露。

100‧‧‧消毒系統

101‧‧‧輻射消毒基座

102‧‧‧輻射消毒儲存盒

103‧‧‧消毒輻射源

105‧‧‧定位工件

106‧‧‧頂蓋

107‧‧‧反射表面

108‧‧‧反射表面

200‧‧‧輻射消毒源

200A‧‧‧發光二極體

201‧‧‧隱形眼鏡

202‧‧‧輻射消毒輻射

202A‧‧‧消毒輻射

203‧‧‧平面

204‧‧‧頂點

205‧‧‧平面

207‧‧‧周緣

208‧‧‧光學件

300‧‧‧輻射消毒儲存盒

301‧‧‧儲存隔間

302‧‧‧對準機構

303‧‧‧輻射窗

304‧‧‧輻射窗

305A‧‧‧固定機構

305B‧‧‧固定機構

306‧‧‧對準機構、反射表面、蓋子

307‧‧‧儲存隔間

308‧‧‧蓋子

400‧‧‧輻射消毒基座單元

401‧‧‧發光二極體

402‧‧‧發光二極體

403‧‧‧處理器板

404‧‧‧電訊連接器

405‧‧‧電池

406‧‧‧振動產生裝置

407‧‧‧顯示器

408‧‧‧數位儲存器

409‧‧‧掃描器

410‧‧‧感應器

411‧‧‧感應器

500‧‧‧輻射消毒基座單元

501‧‧‧輻射消毒基座

502‧‧‧頂蓋

503‧‧‧顯示器

600A‧‧‧輻射消毒基座單元

601A‧‧‧殺菌燈泡

602A‧‧‧輻射消毒儲存盒

603A‧‧‧反射表面

604A‧‧‧反射表面

605A‧‧‧孔洞

600B‧‧‧輻射消毒基座單元

601B‧‧‧殺菌燈泡

602B‧‧‧輻射消毒儲存盒

603B‧‧‧反射表面

604B‧‧‧反射表面

605B‧‧‧孔洞

700‧‧‧輻射消毒源

700A‧‧‧殺菌燈泡

701‧‧‧隱形眼鏡

702‧‧‧輻射

702A‧‧‧消毒輻射

703‧‧‧平面

704‧‧‧頂點

705‧‧‧平面

707‧‧‧周緣

708‧‧‧光學件

800‧‧‧輻射消毒源

800A‧‧‧殺菌燈泡

801‧‧‧儲存盒

802‧‧‧消毒輻射

802A‧‧‧消毒輻射

803‧‧‧平面

804‧‧‧光學件

805‧‧‧平面

900‧‧‧儲存盒

901‧‧‧儲存隔間

902‧‧‧更換指示器

903‧‧‧儲存隔間蓋

1000‧‧‧輻射消毒基座單元

1001‧‧‧感應器

1002‧‧‧掃描器

1003‧‧‧攝影機

1004‧‧‧處理器板

1005‧‧‧數位儲存器

1006‧‧‧顯示器

1100A‧‧‧輻射消毒基座單元

1101A‧‧‧電磁鐵

1100B‧‧‧輻射消毒儲存盒

1101B‧‧‧永久磁鐵

1200‧‧‧消毒基座

1201‧‧‧殺菌燈泡

1205‧‧‧反射表面

1210‧‧‧電路板

1215‧‧‧導線

1225‧‧‧漫射材料

1230‧‧‧感應器

1300‧‧‧消毒基座

1301‧‧‧頂蓋

1305‧‧‧磁鐵

1310‧‧‧漫射材料

1315‧‧‧漫射材料

1320‧‧‧漫射材料

圖1繪示一位於一基座單元中之例示性鏡片儲存盒。

圖2繪示一消毒輻射源與一位於一鏡片儲存盒中之眼用鏡片間的對準。

圖3繪示一蓋子已移除之例示性儲存盒的放大圖。

圖4繪示一基座單元之態樣。

圖5描述一基座單元，該基座單元處於一關閉態並具有一顯示器。

圖6A繪示一基座單元之一部分的剖視圖，該基座單元具有一圍繞一鏡片儲存盒隔間之殺菌燈泡。

圖6B繪示一基座單元之一部分的剖視圖，該基座單元具有一位於一鏡片儲存盒隔間下方之殺菌燈泡。

圖7繪示一消毒輻射源殺菌燈泡與一位於一鏡片儲存盒中之眼用鏡片間的對準。

圖8繪示一消毒輻射源殺菌燈泡與一鏡片儲存盒間的對準。

圖9繪示一具有更換指示器之儲存盒的放大圖。

圖10繪示一具有感應器之基座單元的態樣，其感應器係用來擷取一儲存盒更換指示器之狀態資訊。

圖11A繪示一具有電磁鐵之基座單元的態樣，該電磁鐵係用來給予振動移動。

圖11B繪示一具有一磁鐵或金屬區域之儲存盒的放大圖，該磁鐵或金屬區域係用來實施振動移動。

圖12繪示一例示性幾何與配置之一剖面，該幾何與配置係用於該消毒基座中之輻射漫射材料。

圖13繪示一具有一頂蓋之消毒基座，該頂蓋包含UV漫射材料與反射表面。

在下列段落中將給出一或多個本發明實施例之詳細說明。較佳實施例與替代實施例之說明僅為例示性實施例，且熟悉該技藝之人士應可理解可輕易進行各種變化、修改及變更。因此，應可理解該例示性實施例並未限制本發明之範疇。

名詞解釋，在有關本發明之說明與申請專利範圍中，各式用語將應用如下定義：漫射材料：如本說明書中所用者，係指一因為其組成或使用一塗料而能夠漫射消毒輻射之材料，並且不會因曝露於該消毒輻射而明顯劣化，其中該漫射材料為至少部分對於該消毒 輻射具可穿透性。例如，該漫射材料可包括一含氟聚合物，例如氟化乙烯丙烯「FEP」材料或塗料。

消毒輻射：如本說明書中所用者，係指一頻率與強度足以降低一生物形式(接受一消毒輻射劑量)之預期壽命的輻射。

消毒輻射劑量：如本說明書中所用者，係指一用來降低生物量達至少兩個對數標度上之對數級的輻射量，並且較佳為三個對數級或更多，其中生物包括至少細菌、病毒、黴菌與真菌。

鏡片：係指任何駐在於眼睛中或上之眼用裝置。該等裝置可提供視覺矯正或妝飾。例如，該術語鏡片可指一隱形眼鏡、人工水晶體(intraocular lens)、覆蓋鏡片(overlay lens)、眼嵌入物(ocular insert)、光學嵌入物(optical insert)或其他之類似裝置，透過鏡片可矯正或修正視覺，或在不阻礙視覺的情況下可妝飾性地改善(例如虹膜顏色)眼睛生理外觀。該等鏡片可為由聚矽氧彈性體或水凝膠製成之軟式隱形眼鏡，其包括但不限於聚矽氧水凝膠與含氟水凝膠。

現請參照圖1，所繪示者為一眼用鏡片消毒系統100，其包括一輻射消毒基座101、一輻射消毒儲存盒102與一消毒輻射源103。根據本發明，一輻射消毒儲存盒102係位於來自該 輻射消毒源103之輻射的路徑內，而使儲存於該輻射消毒儲存盒102內之一或多個眼用鏡片曝露於自該輻射消毒源103發出之輻射，且將存在於或接近該眼用鏡片之生物形式曝露於該消毒輻射並殺滅，從而實質上消毒該眼用鏡片。

如所繪示者，該輻射消毒儲存盒102係處於一開啟態，並且具有一輻射消毒基座101與一頂蓋106。該輻射消毒儲存盒102可包括一用於對準該消毒輻射源103與該輻射消毒儲存盒102之定位工件105。如本文所示，該定位工件105包括一用於容納一環狀排列之消毒輻射源103的環狀凹部。定位工件105可包括幾乎任何多邊形形狀之凹部。此外或或者，該盒可包括一或多個對準銷。該定位工件105可包括一按扣、一螺紋式接合或其他可拆之接合固定類型。

該定位工件105可使該輻射消毒輻射源103對準一概略垂直於一隱形眼鏡(儲存於該輻射消毒儲存盒102中)之頂點的位置。此外或或者，該定位工件105可使該輻射消毒輻射源103對準一概略垂直於一延伸穿過一隱形眼鏡底部周緣之平面的位置。

該定位工件亦可為能夠傳送一來自一輻射消毒基座101之振動頻率至該輻射消毒儲存盒102，並且最終至一儲存於該輻射消毒儲存盒102中之鏡片。該振動頻率能夠使已死亡生物形 式從照射至未死亡生物形式之輻射路徑上移開。藉由將更多未死亡生物形式曝露於一直接輻射路徑，移開該死亡生物形式能夠提供更有效力的消毒。

該輻射消毒輻射源103可包括一或多個發光二極體(LED)。該等發光二極體可包括紫外線(UV)發射發光二極體，其可發射具有波長介於約250奈米光輻射與約280奈米光輻射間之光輻射。較佳的是，波長係介於250奈米與275奈米間，而最佳為254奈米。

亦可提供一反射表面107於該輻射消毒儲存盒102上方之頂蓋區域。亦可將一反射表面108包括於該輻射消毒儲存盒102下方之區域。以下為非限定實例，反射表面可包括Teflon® PTF-E、鋁、氧化鎂、氧化鋯與Alzak®。

現請參照圖2，一方塊圖繪示一朝向一隱形眼鏡201之輻射消毒源200(例如一或多個輻射UV光譜之輻射消毒輻射202的UV發光二極體)的對準。UV發光二極體可經排列，而使一輻射消毒儲存盒將對準一相關於該隱形眼鏡201之特定位置。可經由一對準工件來維持該對準方式。該輻射消毒儲存盒可經對準，以使UV輻射202指向之角度基本上垂直於一觸及該隱形眼鏡201之頂點204的平面203，該隱形眼鏡係存留於一輻射消毒儲存盒。

此外或或者，該輻射消毒儲存盒可經對準，以使來自一或多個UV發射發光二極體200A之消毒輻射202A指向之角度基本上垂直於一穿過該隱形眼鏡201之周緣207的平面205。如圖12與13所說明者，可使用一漫射材料來進一步控制輻射，以確保如對比與強度等事項上的均勻性。

可使用一或多個光學件208來將消毒輻射聚焦於一儲存於一消毒輻射儲存盒中之鏡片上。可將一光學件包括於一基座中或一儲存盒之一部分中。

現請參照圖3，所繪示者為一例示性輻射消毒儲存盒300。該輻射消毒儲存盒300包括一或多個鏡片儲存隔間301。一儲存隔間301能夠容納與儲存一或多個眼用鏡片，例如一隱形眼鏡。

可將一或多個用於定位一眼用鏡片(儲存於一儲存隔間301中)之鏡片對準機構302包括於該輻射消毒儲存盒300中。一鏡片對準機構302可包括例如一具有一弓形表面的底座，該弓形表面有概略類似於一眼用鏡片之一內側尺寸的大小與形狀。一凸面可包括一弧，該弧概略等同於一眼用鏡片(待儲存於該輻射消毒儲存盒300內)之凹面的弧。一鏡片對準機構306可包含一凹處，該凹處有概略類似於一眼用鏡片之外側尺寸的大小與形狀。

定位可將該儲存之鏡片對準於消毒輻射之一直接路徑。然而，可提供一或多個反射表面306或一輻射漫射材料。一反射表面306可基本上包括一鏡面，並且形成自功能為以一所欲方向反射消毒輻射之一玻璃、一塑膠、一金屬或一塗料。一般而言，該方向將朝向一儲存於一儲存盒300(位於該基座中)中之鏡片。該反射表面306可概略接近於與/或概略平行於一儲存鏡片之表面。此外或或者，該盒可包括一概略圍繞一儲存鏡片之周緣的反射表面306。

可將一或多個輻射窗303-304包括於該儲存隔間301內。該等輻射窗303-304提供對於消毒輻射波長為至少部分可穿透之該輻射消毒儲存盒部分。較佳的是，該等輻射窗303-304將對於傳送至該儲存隔間301中之消毒輻射為儘可能接近於100%可穿透。可射出成型之塑膠對於UV輻射可為90%或更多甚至98%或更多可穿透。特定波長可包括介於約254奈米至280奈米間。

一輻射窗亦可包括一用於將消毒輻射朝向一眼用鏡片(儲存於該儲存隔間301中)之區域瞄準的光學件。整個儲存盒可由一可透光材料所構成，該可透光材料可因而容許輻射通過並抵達該鏡片。

可形成該等輻射窗303-304之材料實例包括例如：環狀烯烴、TOPAS、ZEONOR®或其他可射出成型塑膠。其他塑膠 或玻璃亦可作為用於該等輻射窗303-304之材料使用。該等輻射窗303-304區域應足以讓足夠消毒輻射進入該儲存隔間，以殺滅存在於一眼用鏡片(儲存於該儲存隔間301內)上之生物形式。

製造一輻射消毒儲存盒之方法包括射出成型製程。其他方法包括，例如，車削、立體光固化與三維列印。

輻射消毒儲存盒300可包括一用於固定與自一儲存隔間307移開一蓋子306之固定機構305A-305B。該固定機構305A-305B可包括一螺紋部分、一按扣與其他機構之一錐形接點，以供使用者可自行決定將該蓋子308可拆地固定至該盒。在將該蓋子308固定至該儲存隔間307時，該蓋子會密封該儲存隔間307而免於接觸周圍大氣，並且亦會將一眼用鏡片及可選擇地一溶液，例如一含鹽溶液圍阻於該隔間307內。

現請參照圖4，所繪示者為一輻射消毒基座單元400並且其具有多個消毒輻射源發光二極體401-402。如所繪示者，該等消毒輻射源發光二極體401-402可包括頂部消毒輻射源發光二極體401與低部消毒輻射源發光二極體402之一或二者。除了該頂部消毒輻射源發光二極體401與低部消毒輻射源發光二極體402以外，該基座單元可包括一處理器板403，該處理器板具有用於控制與該輻射消毒基座400有關之不同方面的控制電子設備。

該處理器板403可耦合至一數位儲存器408。該數位儲存器可包括可執行軟體，該可執行軟體為可依照命令執行或自動依照該輻射消毒基座單元400之操作執行。該數位儲存器408亦可儲存相關於該輻射消毒盒400之操作的數據。操作數據可包括例如一輻射消毒基座單元400操作所經過之時間週期；消毒中之鏡片的序號；一鏡片已放置使用之時間週期，或其他資訊。該輻射消毒基座單元400可包括一掃描器409或其他輸入手段，以輸入一與一鏡片(儲存於一輻射消毒基座單元400中)有關之識別號碼。例如，該掃描器409可掃瞄一鏡片包裝上之一條碼或其他符號，並且記錄與該條碼或符號有關之消毒資訊。可記錄之資訊可包括例如，鏡片已曝露於消毒輻射之小時數與鏡片已放置使用之天數。

該消毒輻射源發光二極體401-402之一或多者可包括整合式發光二極體感應器。或者，該基座單元可包括與消毒輻射源發光二極體401-402分離之頂部發光二極體感應器與低部發光二極體感應器的一或二者。發光二極體感應器可與一處理器板403進行邏輯通訊，並且該處理器板可儲存數據於數位儲存器408中。

可將頂部CCD影像感應器410或低部CCD影像感應器411包括於一輻射消毒基座單元400。CCD影像感應器410-411 可與一處理器板403進行邏輯通訊，並且該處理器板可儲存數據於數位儲存器408中。

該處理器板403可分析發光二極體感應器數據與CCD影像感應器數據之一或二者，以供包括但不限於偵測消毒輻射源發光二極體401-402是否有功能、偵測消毒輻射源發光二極體401-402之操作是否在可接受水準、偵測是否有輻射消毒儲存盒存在於輻射消毒基座單元400中、偵測是否有一隱形眼鏡或多個隱形眼鏡存在於輻射消毒儲存盒內、偵測隱形眼鏡清潔度、依據與先前鏡片清潔度數據與目前鏡片清潔度數據比較判定是否新隱形眼鏡已置入輻射消毒儲存盒中、偵測當該使用者戴用鏡片度數不同時，輻射消毒儲存盒內是否左、右隱形眼鏡置放正確以及依據二項UV讀值與不同鏡片廠牌數據特徵之比較以偵測鏡片廠牌。

亦可將一電訊連接器404包括於該輻射消毒基座單元400中。該電訊連接器404可包括一通用串列匯流排(USB)連接器或其他連接器之類型。該連接器可包括一端子，該端子用於傳輸數據與電力之一或二者。該電訊連接器404可提供電力以操作該輻射消毒基座單元400。該基座單元亦可包括一或多個電池405或其他電力儲存裝置。該電池405可包括一或多個鋰離子電池或其他可再充電裝置。該電力儲存裝置可藉由該電訊連接器404接 收一充電電流。較佳的是，該輻射消毒基座單元400係經由該電池405中所儲存之電力來操作。

該電訊連接器404可包括一簡易之AC或DC電流源。

該基座單元可包括一機械移動源，例如一振動產生裝置406。該振動產生裝置406可包括，例如一壓電轉換器。一壓電轉換器供給一低功率之可靠裝置以提供機械或振動移動。

該振動移動之頻率可經調整以有效移動儲存於一儲存盒(位於該輻射消毒基座單元400中)內之死亡生物體。死亡生物體的移動會曝露可能已經被遮蓋而不會照射到消毒輻射之活生物體。該振動移動之頻率可經調整以有效移除隱形眼鏡(儲存於一輻射消毒盒中)上之蛋白質。移除蛋白質的振動頻率可與移除生物體的振動頻率相同或不同。

該處理器板403或其他電子電路系統可控制由該消毒輻射源發光二極體401-402所發射之光或輻射模式。該光模式可包括例如脈衝UV或其他形式之閃控輻射，以一固定頻率或可變頻率之一或二者進行，其中至少某些頻率係適用於消毒微生物。實例可包括一或多種下列者：連續波循環；連續方波循環；可變波循環；以及可變方波循環。

該消毒輻射源發光二極體401-402可提供在50微瓦特至5瓦特範圍之功率。可使用連續低功率或者使用脈衝UV在一延長之時間週期內施加消毒輻射之等效劑量，在脈衝UV中高功率之短暫突發係分散於該時間週期內，最佳為使用一較連續UV中所使用者為短之時間週期。可使用脈衝UV，以達到較等同或較小UV劑量的連續UV更有效的微生物消滅。

該處理器板403或其他電子電路系統可額外調整光模式、消毒循環時間與消毒強度，其依據因素包括但不限於鏡片曾消毒次數、自從鏡片第一次消毒起所歷經時間、測得鏡片清潔度與當前燈泡效能。

該基座單元亦可包括一顯示器407。該顯示器407可與該處理器板403進行邏輯通訊，並且以人類可讀形式進行與該輻射消毒基座單元400操作相關之數據通訊。

現請參照圖5，所繪示者為一處於一關閉位置之輻射消毒基座單元500。一輻射消毒基座501係由一頂蓋502覆蓋，該頂蓋係鉸接至該輻射消毒基座501並且摺疊覆蓋於該輻射消毒基座501之頂部。如所繪示者，一顯示器503可位於該頂蓋502中，並且可提供一消毒循環或程序(由該輻射消毒基座單元500所執行)之指示。

現請參照圖6A，所繪示者為一輻射消毒基座單元600A之一部分的剖視圖，其具有一消毒輻射源殺菌燈泡601A。如所繪示者，可將一殺菌燈泡601A容納於該輻射消毒基座單元600A內，其概略圍繞容納該輻射消毒儲存盒602A之隔間。該基座單元可包括一反射表面603A於該輻射消毒儲存盒602A上方之頂蓋區域中。亦可將一反射表面604A包括於該輻射消毒儲存盒602A下方之區域中。此外，該殺菌燈泡孔洞605A可結合一反射表面。以下為非限定實例，反射表面可包括Teflon® PTF-E、鋁、氧化鎂、氧化鋯與Alzak®。

圖6B繪示一輻射消毒基座單元600B之一部分的剖視圖，其具有一位於該容納輻射消毒儲存盒602A之隔間下方的消毒輻射源殺菌燈泡601B。反射表面603B與604B可分別存在於該輻射消毒儲存盒602B上方與下方，以及於該殺菌燈泡孔洞605B中。

可將一殺菌燈泡容納於一輻射消毒基座單元之頂蓋內。該基座單元可包括多個殺菌燈泡，包括位於該基座單元之下部、一頂蓋部分或上述兩者中。殺菌燈泡可代替或另增設於前圖所述之UV發光二極體燈泡，而存在於一輻射消毒基座單元中。

以下作為非限定實例，一殺菌燈泡可包括一低壓汞汽燈泡或一中壓汞汽燈泡。該殺菌燈泡可發射紫外線光輻射。該 殺菌燈泡可發射紫外線(UV)光輻射，其具有波長介於約250奈米光輻射與約280奈米光輻射間之光輻射。較佳的是，其波長係介於約250奈米與275奈米間，而最佳為約260奈米。

先前圖示中所述之非發光二極體組件包括但不限於定位工件、反射表面、振動產生裝置、用於聚焦輻射之光學件、處理器板、數位儲存器、掃描器、電連接器、電池與顯示器，可包括於具有殺菌燈泡之消毒基座單元中。

雖然該脈衝UV方法較佳者可能不具有一殺菌燈泡，但包括處理器板或其他電子電路之輻射消毒基座單元600A或600B可調整光模式、消毒循環時間與消毒強度，其依據因素包括但不限於鏡片曾消毒次數、自從鏡片第一次消毒起所歷經時間與測得鏡片清潔度。

現請參照圖7，一方塊圖繪示一朝向一隱形眼鏡701之輻射消毒源700(例如一或多個輻射UV光譜消毒輻射702之殺菌燈泡)的對準方式。該殺菌燈泡發光二極體可經排列，而使一輻射消毒儲存盒將對準一相關於該隱形眼鏡701之特定位置。可經由一對準工件來維持該對準方式。該輻射消毒儲存盒可經對準，以使UV輻射702瞄準之角度基本上垂直於一觸及該隱形眼鏡701之頂點704的平面703，該隱形眼鏡係存留於一輻射消毒儲存盒中。

或者，該輻射消毒儲存盒可經對準，以使來自一或多個UV發射殺菌燈泡700A之消毒輻射702A瞄準之角度基本上垂直於一穿過該隱形眼鏡701之周緣707的平面705。

可使用一或多個光學件708來將消毒輻射聚焦於一儲存於一消毒輻射儲存盒中之鏡片上。可將一光學件包括在該輻射路徑內之不同位置上，一些例示性位置可包括：於一基座中；於一儲存盒之一部分中；以及作為一輻射源之一部分，例如一發光二極體或燈泡。

現請參照圖8，一方塊圖繪示一朝向一隱形眼鏡儲存盒801之輻射消毒源800(例如一或多個輻射UV光譜消毒輻射802之殺菌燈泡)的對準方式。該殺菌燈泡發光二極體可經排列，而使一輻射消毒儲存盒將對準一相關於該隱形眼鏡儲存盒801之特定位置。可經由一對準工件來維持該對準方式。

該輻射消毒儲存盒可經對準，以使UV輻射802指向之角度基本上垂直於一穿過該隱形眼鏡儲存盒801之頂部的平面803。

或者，該輻射消毒儲存盒可經對準，以使來自一或多個UV發射殺菌燈泡800A之消毒輻射802A指向之角度基本上垂直於一穿過該隱形眼鏡儲存盒801頂部或底部之一或二者的平面805。

可使用一或多個光學件804來將消毒輻射聚焦於一消毒輻射儲存盒801上。可將一光學件包括於一基座中或一儲存盒之一部分中。

現請參照圖9，所繪示者為一具有更換指示器之例示性輻射消毒儲存盒900。具有更換指示器之輻射消毒儲存盒900包括一或多個鏡片儲存隔間901。一儲存隔間901能夠容納與儲存一或多個眼用鏡片，例如一隱形眼鏡。如所繪示者，可將一更換指示器902包括於該具有更換指示器之輻射消毒儲存盒900之一凸緣上，通常介於二鏡片儲存隔間901間。該更換指示器902可包括一圍繞鏡片儲存隔間901之一或二者的環、一鏡片儲存隔間蓋903上之區域、一位於或完全圍繞該具有更換指示器之輻射消毒儲存盒900的區域，或者其他位於該具有更換指示器或鏡片儲存隔間蓋903之輻射消毒儲存盒900內的位置。

該更換指示器902可由在塑膠或其他材料內或上之染料所構成，而該具有更換指示器或鏡片儲存隔間蓋903之輻射消毒儲存盒900係由該塑膠或其他材料所製成。此外或或者，該更換指示器902可為一嵌入於或黏附至該具有更換指示器或鏡片儲存隔間蓋903之輻射消毒儲存盒900的材料。

一更換指示器902染料或材料可改變顏色或質地或同時改換顏色與質地，以指示使用者應拋棄目前具有更換指示器 之輻射消毒儲存盒900，並開始使用新者。該更換指示器902之顏色或質地可在一段期間內逐漸轉變，直到其達到使用者可通常辨別的狀態，此係作為應拋棄該具有更換指示器之輻射消毒儲存盒900的根據。

現請參照圖10，所繪示者為一輻射消毒基座單元1000，其具有一或多個發光二極體感應器1001、一掃描器1002與一攝影機1003。如圖9所示，一發光二極體感應器1001、掃描器1002或攝影機1003會擷取輻射消毒儲存盒上之更換指示器的狀態資訊。

一可接附至該處理器板1004或與該處理器板1004進行邏輯通訊之數位儲存器1005可儲存更換指示器數據。該處理器板1004可比對該更換指示器數據與先前所儲存之更換指示器數據，以識別該數據中之變化量值。一特定變化量值會決定更換一輻射消毒儲存盒的時間點。此外或或者，該處理器板1004可比對目前更換指示器數據與已儲存之目標數據，以決定應何時更換一輻射消毒儲存盒。當該處理器板1004邏輯決定應更換輻射消毒儲存盒時，該處理器板1004會引發一訊息於一顯示器1006，以呈現予使用者。

該具有處理器板1004與數位儲存器1005之輻射消毒基座單元1000可用來追蹤使用時間、使用次數或其他相關於一 輻射消毒儲存盒之標準。例如，可基於新輻射消毒儲存盒置入該輻射消毒基座單元1000之日期來追蹤使用時間。可基於新輻射消毒儲存盒置入後已發生的消毒循環次數來決定使用次數。當處理器板1004邏輯基於使用時間、使用次數或其他標準來決定應更換一輻射消毒儲存盒時，一適當之使用者訊息會出現於該顯示器1006中。

以下作為非限定實例，該處理器板1004邏輯可分析關於一輻射消毒儲存盒之多個變數，包括更換指示器數據、使用時間記錄、使用次數圖或其他相關資訊。該處理器板1004邏輯將包括演算法，以識別指示應更換一輻射消毒儲存盒之變數組合。 該處理器板1004接著發出欲呈現於顯示器1006上之訊息，通知該使用者應更換該輻射消毒儲存盒。

現請參照圖11A，所繪示者為一輻射消毒基座單元1100A，其具有一電磁鐵1101A，位於該基座單元之下部。該電磁鐵1101A或可置於一輻射消毒基座單元1100A之頂蓋中。

現請參照圖11B，一輻射消毒儲存盒1100B包括一永久磁鐵1101B。當一具有永久磁鐵1101B之輻射消毒儲存盒1100B存在於一輻射消毒基座單元1100A中時，可對電磁鐵1101A施予電流，以及自電磁鐵1101A移除電流，造成永久磁鐵1101B之相吸與相斥，並導致該輻射消毒儲存盒1100B之振動。調整施 加於一電磁鐵1101A之電流可控制振動頻率與振幅之一或多者。 可用一非磁性金屬區域替代實施一永久磁鐵1101B，一電磁鐵1101A可吸引該非磁性金屬區域，導致輻射消毒儲存盒1100B之振動。

該振動移動之頻率可經調整，以有效移動儲存於一輻射消毒儲存盒1100B中之死亡生物體，以及有效移動容納於其中之隱形眼鏡上的死亡生物體。死亡生物體的移動會曝露可能已經被遮蓋而不會照射到消毒輻射之活生物體。該振動移動之頻率可經調整以有效移除隱形眼鏡(儲存於一輻射消毒盒中)上之蛋白質。移除蛋白質的振動頻率可與移除生物體的振動頻率相同或不同。

在使用一或多種消毒輻射源(如消毒發光二極體或殺菌燈泡)或其組合時，可使用一漫射材料。該漫射材料有助於確保待消毒之鏡片接收到均勻分布之輻射，此對於確保適當消毒結果可為重要。漫射材料(例如一含氟聚合物)能夠漫射輻射同時不會明顯劣化，並且消毒輻射至少可部分穿透，所以消毒輻射可因而抵達該鏡片之所有部分。一含氟聚合物可最小化對比問題(會防止均勻消毒)。一含氟聚合物(例如FEP)可經射出成型為能夠包圍該儲存盒之幾何。此可使該漫射材料能夠輕易結合至該儲存盒中。

現請參照圖12，所繪示者為一例示性幾何與配置之一剖面，其用於該消毒基座1200中之輻射漫射材料。在1201處，所繪示者為一環繞殺菌燈泡。在該殺菌燈泡1201周圍，可使用漫射材料1225。在1215處，所繪示者為用於該燈泡之導線。

亦可使用一反射表面1205來與該漫射材料一同協助輻射分布並且提高裝置效率。在1230處，可放置一或多個感應器於該漫射材料中，以幫助測量傳遞至該鏡片之特定區域的輻射。 此可藉由使用該項技術領域中所習知的處理器與反饋迴路系統來達成。測量經漫射之輻射可使一處理器來提高或降低該消毒輻射之強度或時間。

可將一用於該處理器之電路板1210放置於該反射材料1205下方。可包括其他組件例如一攝影機、一聚焦光學鏡片、對準工件與振動組件(如前所討論者)以確保改善之消毒效果。 此外，該基座之幾何可為使該漫射材料可以包住該消毒盒，從而在遍及該鏡片之所有區域提供更均勻之消毒輻射。此外，可將該漫射材料容納於該盒之至少數個部分中，因為此可能為所欲者。

圖13繪示一具有一頂蓋之例示性消毒基座1300，該頂蓋包含UV漫射材料與反射表面。在1310、1315與1320處，所繪示者為漫射材料。具體而言，1320繪示一幾何，其可用來包住該盒並且在該盒置於該基座內時對準該盒。在1305處，可將一磁 鐵或其他軟墊材料置於該頂蓋1301中，以避免由任何裝置振動造成之摩擦所產生的不欲噪音。該襯墊材料可額外幫助圍阻該輻射，從而防止輻射由該基座與該基座頂蓋間形成之溝槽透出，因為此可能為所欲者。並且，若使用一觸控螢幕作為介面，則該襯墊材料1305可為能夠反射或圍阻該輻射，以保護該顯示器免於接觸輻射而劣化。

100‧‧‧消毒系統

101‧‧‧輻射消毒基座

102‧‧‧輻射消毒儲存盒

103‧‧‧消毒輻射源

105‧‧‧定位工件

106‧‧‧頂蓋

107‧‧‧反射表面

108‧‧‧反射表面

Claims (17)

1. 一種用於容納供儲存一或多個眼用鏡片之一眼用鏡片儲存盒且用於消毒眼用鏡片的基座，該基座包含：一用於容納該能夠儲存一或多個鏡片之眼用鏡片儲存盒的容器；一接近該儲存盒之消毒輻射源；以及一在該眼用鏡片儲存盒中且介於該消毒輻射源與該鏡片間之漫射材料(diffusing material)，其中該消毒幅射源包含一或多個殺菌燈泡；其中該一或多個殺菌燈泡具有一環繞該眼用鏡片儲存盒之一或多個眼用鏡片儲存隔間的形狀，其中該殺菌燈泡係容納於該基座內，其概略圍繞容納該儲存盒之隔間。
2. 如申請專利範圍第1項所述之基座，其中該漫射材料包含一含氟聚合物(fluoropolymer)。
3. 如申請專利範圍第1或2項所述之基座，其中該漫射材料係經成形以包住該盒之形狀。
4. 如申請專利範圍第1至2項其中任一項所述之基座，其額外包含一用於將消毒輻射朝向眼用鏡片儲存隔間反射之反射表面，其中該反射表面包含一或多種下列者：鐵氟龍(Teflon)、鋁 (aluminum)、氧化鎂(magnesium oxide)與氧化鋯(zirconium oxide)。
5. 如申請專利範圍第1至2項其中任一項所述之基座，其額外包含一光學性能材料，該光學性能材料能夠將該輻射聚焦至該漫射材料之至少一部分。
6. 如申請專利範圍第1至2項其中任一項所述之基座，其中該消毒輻射源包含一或多個發射紫外線輻射之發光二極體。
7. 如申請專利範圍第1至2項其中任一項所述之基座，其額外包含一用於造成該消毒輻射源之一或多者來脈動紫外線輻射的機構，其中該脈動機構包含一電子電路。
8. 如申請專利範圍第7項所述之基座，其中該脈動機構造成該消毒輻射源之一或多者來產生一輻射圖型，並且該輻射圖型穿過一儲存於該眼用鏡片儲存隔間中之鏡片的一表面。
9. 如申請專利範圍第1至2項其中任一項所述之基座，其額外包含一執行軟體之處理器並且其中所產生之輻射圖型係基於該軟體中所包括之指令。
10. 如申請專利範圍第6項所述之基座，其中該發光二極體發射介於約50微瓦特至5瓦特間之功率。
11. 如申請專利範圍第1項所述之基座，其中該消毒輻射源能夠發射波長介於250奈米與280奈米間之輻射。
12. 如申請專利範圍第1項所述之基座，其中由該殺菌燈泡之一或多者所發射之消毒輻射包含一對接近該基座之儲存隔間的足夠強度與時間長度曝露，以殺滅一儲存於該儲存隔間中之鏡片上的生物體。
13. 如申請專利範圍第9項所述之基座，其額外包含一用於在該消毒輻射通過該漫射材料後測量該消毒輻射之反饋迴路系統(feedback loop system)。
14. 如申請專利範圍第13項所述之基座，其額外包含一或多個位置接近該漫射材料之感應器，並且其能夠偵測該反饋迴路系統之強度值。
15. 如申請專利範圍第1至2項其中任一項所述之基座，其中該眼用鏡片儲存隔間包含一用於對準一隱形眼鏡之對準工件，以在基本上垂直於一穿過該隱形眼鏡周緣之平面的角度來接收消毒輻射。
16. 如申請專利範圍第1至2項其中任一項之基座，其中該眼用鏡片儲存盒為紫外線輻射可穿透，並且紫外線輻射指向之角度係基本上垂直於穿過該儲存盒底部與頂部之一或二者的平面。
17. 如申請專利範圍第1至2項其中任一項所述之基座，其中該眼用鏡片儲存隔間額外包含一磁鐵，並且該基座額外包含一磁性脈衝源，其中該磁性脈衝振動該眼用鏡片儲存隔間。