TWI584169B - 具感測金屬網格之觸控面板及其製法 - Google Patents

Description

具感測金屬網路之觸控面板及其製法

本案係關於一種觸控面板及其製法，尤指一種具可降低或避免干涉紋(Moire)發生之感測金屬網格之觸控面板及其製法。

目前，觸控技術已廣泛地應用於各種電子產品之顯示裝置中，以便於使用者利用觸控方式操控該電子產品的作動。觸控面板為了使其觸控區域的電極不易被視認，通常採用氧化銦錫(ITO)來形成透明電極。但隨著觸控面板之應用逐漸朝大尺寸之方向發展，使用氧化銦錫透明電極之技術存在著電阻較大、觸控回應速度較慢，需多道製程步驟以及製作成本較高等技術問題，因此金屬網格(Metal Mesh)感測電極於是被發展以取代氧化銦錫透明電極之應用。

然而，觸控面板之金屬網格與顯示面板貼合應用時，易產生所謂的干涉紋(Moire)，影響畫面顯示品質。干涉紋的產生主要是因為金屬網格圖案形狀所造成，當相鄰的條紋圖案彼此規律地排列時，即會產生光學干涉紋。此外，當金屬網格的線寬越粗，或相鄰的條紋產生重疊或交叉點而使條紋圖案彼此厚度增加時，將容易造成干涉紋發生。另一原因則為觸控面板與顯示面板貼合時，觸控面板之金屬網格與顯示面板之薄膜電晶體陣列(Thin-Film Transistor array, TFT array)(如黑色矩陣(black matrix)或RGB像素排列)同為規則網格狀排列，因此兩規則網格狀排列之圖案重疊時，亦會產生光學干涉紋。

為避免或降低干涉紋現象之發生，目前觸控面板之金屬網格的圖案與線條形狀通常根據顯示面板之薄膜電晶體陣列排列，而設計為由複數條直線狀的金屬微線以交錯且規則排列的方式構成網格圖案，藉此以增加可見度。舉例而言，金屬網格包含複數條直線狀之第一金屬微線沿第一方向延伸且平行排列，以及複數條直線狀之第二金屬微線沿第二方向延伸且平行排列，其中複數條直線狀之第一金屬微線與複數條直線狀之第二金屬微線係相互隔離且交錯設置以形成一觸控陣列。然而，現有技術之觸控面板之金屬網格必需與顯示面板之薄膜電晶體陣列有良好的配合才能降低干涉紋的發生，因此金屬網格之複數條直線狀的金屬微線間的空間與交錯之角度需經過精細的設計，造成設計上的困難，且易因金屬網格圖案設計誤差而降低了可見度。另一方面，若使用隨機圖案設計來解決干涉紋問題，卻有可能因網格設計開口率大小不一且分佈不均，而產生亮度不均勻之現象。當複數個隨機圖案彼此組合時，於其界面相交處亦可能因節點位置隨機變化而使隨機圖案間不易拼接或產生干涉紋等。

因此，如何發展一種具可降低或避免干涉紋(Moire)發生之感測金屬網格之觸控面板及其製法以解決現有技術所面臨之問題，實為有待解決之課題。

本案之目的在於提供一種具感測金屬網格之觸控面板及其製法，可構成具隨機網格圖塊之感測金屬網格，避免感測金屬網格之網格圖塊之線路條紋產生重疊或過多交叉點而造成干涉紋發生。

本案之另一目的在於提供一種具感測金屬網格之觸控面板及其製法，可精確控制感測金屬網格之隨機網格圖塊之變化，以避免感測金屬網格之網格圖塊之線路條紋因隨機變化之設計而造成開口率大小不一或分佈不均之情況，同時避免其應用之觸控顯示裝置產生亮度不均勻之現象。

本案之再一目的在於提供一種具感測金屬網格之觸控面板及其製法，可精確控制感測金屬網格之隨機網格圖塊之變化，使兩個以上網格圖塊於進行搭接組合時，避免兩組網格圖塊之搭接界面產生搭接紋而影響視效。

本案之又一目的在於提供一種具感測金屬網格之觸控面板及其製法，可因應像素單元之排列設計而構成具隨機網格圖塊之感測金屬網格。

為達上述目的，本案提供一種觸控面板，包含一透光基板及至少一觸控感測電極。透光基板，具有至少一表面，以及複數個參考節點，規則排列設置於至少一表面，並組配構成一可視觸控區。觸控感測電極，設置於至少一表面，具有複數個網格節點、複數個折點及複數個金屬微線，其中複數個網格節點對應於參考節點而設置於至少一表面。複數個折點為以任兩相鄰該參考節點連線上任一點為中心並給定之一可偏移區域範圍中隨機選取者。複數個金屬微線連接於任兩相鄰之網格節點與折點間而構成該觸控感測電極。

為達上述目的，本案提供一種觸控面板之製法，其包含步驟(a)提供一透明基板，具有至少一表面；(b)於透明基板之至少一表面上，定義複數個參考節點，其中複數個參考點係規則排列；(c)以任兩相鄰之參考節點連線上任一點為中心，給定一可偏移區域，並於可偏移區域內隨機選定一折點；以及(d)定義複數個網格節點，對應於複數個參考節點，連接至少一表面上所有相鄰之網格節點與折點以形成一觸控感測電極，並組配構成一可視觸控區。

1‧‧‧觸控面板

11‧‧‧透明基板

111‧‧‧表面

112‧‧‧可視觸控區

113‧‧‧周邊線路區

12‧‧‧參考節點

12’‧‧‧網格節點

13‧‧‧參考點

14‧‧‧折點

15‧‧‧網格圖塊

15a至15f‧‧‧網格圖塊

16‧‧‧觸控感測電極

161‧‧‧金屬微線

17‧‧‧金屬引線

2‧‧‧像素圖層

21‧‧‧像素單元

A‧‧‧可偏移區域

C,C1,C2‧‧‧可偏移區域

P‧‧‧局部區域

R,R1,R2,R3‧‧‧預定半徑值

S10~S14、S20~S25、S30~S34‧‧‧步驟

X,Y‧‧‧軸

第1圖係揭示本案較佳實施例之具感測金屬網格之觸控面板製造流程圖。

第2A至2D圖係揭示第1圖流程步驟中之階段性結構示意圖。

第3圖係揭示本案另一較佳實施例之具感測金屬網格之觸控面板製造流程圖。

第4A至4C圖係揭示第3圖流程步驟中之階段性結構示意圖。

第5圖係揭示本案較佳實施例之觸控面板之結構示意圖。

第6圖係揭示第5圖中P局部區域之另一實施態樣之放大圖。

第7圖係揭示本案再一較佳實施例之具感測金屬網格之觸控面板製造流程圖。

第8A至8B圖係揭示第7圖流程步驟中之階段性結構示意圖。

第8C圖係揭示第7圖流程步驟中之另一階段性結構示意圖。

第9圖係揭示本案較佳實施例之感測金屬網格與像素圖層之結構對應圖。

體現本案特徵與優點的一些典型實施例將在後段的說明中詳細敘述。應理解的是本案能夠在不同的態樣上具有各種的變化，其皆不脫離本案的範圍，且其中的說明及圖式在本質上係當作說明之用，而非用於限制本案。

第1圖係揭示本案較佳實施例之具感測金屬網格之觸控面板製造流程圖，以及第2A至2D圖係揭示第1圖流程步驟中之階段性結構示意圖。本案之具感測金屬網格之觸控面板及其製法簡述如下：首先，如第1及2A圖所示，提供透明基板11，其中透明基板11具有至少一表面111(如步驟S10)。接著，於表面111上定義複數個第一參考節點12，規則排列於表面111上(如步驟S11)。於此步驟中，複數個第一參考點12並構成菱形之圖案單元之陣列而沿X-Y軸方向擴展延伸，當然本案並不受限於此，任何可重覆擴展延伸拼接之圖案單元，如三角形、 矩形、六邊形、八邊形等，均得以適用之。接著，如第1及2B圖所示，任兩相鄰之參考節點12連線上之中間點均可定義為一參考點13，以參考點13為中心，給定每一個參考點13一可偏移區域C，並於可偏移區域C內隨機選定一折點14(如步驟S12)。於本實施例中，可偏移區域C範圍係為以一預定半徑值R構成之一圓形區域。該預定半徑值R之範圍為任兩相鄰之參考節點12間距的八分之一至二百分之一。該預定半徑值R更佳之實施範圍為前述線路間距之十分之一距離到百分之一距離，即介於3微米至50微米之間，較佳為介於5微米至30微米之間。接著，如第1及2C所示，將每一參考節點12之位置定義為一網格節點12’，再連接表面111上所有相鄰之網格節點12’及折點14，則可於表面111上構成感測金屬網格之一網格圖塊15(如步驟S13)。於此步驟中，網格圖塊15之圖案係透過一光罩顯影及金屬蝕刻之製程轉移至透光基板11之表面111上，而成一觸控感測電極16，並組配構成一可視觸控區112，如第2D圖所示。

第3圖係揭示本案另一較佳實施例之具感測金屬網格之觸控面板製造流程圖，以及第4A至4C圖係揭示第3圖流程步驟中之階段性結構示意圖。如第3圖所示，首先提供一透明基板11(請參考第2A圖)，其中透明基板11具有至少一表面111(如步驟S20)。接著，如第3及4A圖所示，於透明基板11之表面111上定義複數個第一參考節點12，規則排列於表面111上(如步驟S21)。於此步驟中，複數個第一參考點12並構成菱形之圖案單元之陣列而沿X-Y軸方向擴展延伸，當然本案並不受限於此，任何可重覆擴展延伸拼接之圖案單元，如三角形、矩形、六邊形、八邊形等，均得以適用之。接著，任兩相鄰之參考節點12連線上隨機選定一參考點13，以參考點13為中心，給定每一個參考點13一第一可偏移區域C1，並且於第一可偏移區域C1內隨機選定一折點14(如步驟S22)。接著，如第1、4A及4B圖所示，以每一參考節點12為中心，給定一第二可偏移區域C2，並於第二可偏移區域C2內隨機選定一網格節點12’(如步驟S23)。於本實施例中，第一 可偏移區域C1範圍及第二可偏移區域C2範圍可分別為以一第一預定半徑值R1及一第二預定半徑值R2所構成之一圓形區域。其中第一預定半徑值R1及第二預定半徑值R2之範圍為任兩相鄰之參考節點12間距的八分之一至二百分之一。第一預定半徑值R1及第二預定半徑值R2更佳之實施範圍為前述線路間距之十分之一距離到百分之一距離，即介於3微米至50微米之間，較佳為介於5微米至30微米之間。之後，如第4C圖所示，連接表面111上所有相鄰之網格節點12’及折點14，以於表面111上構成感測金屬網格之一網格圖塊15。於此步驟中，第4C圖所示之網格圖塊15之圖案透過一光罩顯影及金屬蝕刻之製程轉移至透光基板11之表面111上，而形成一觸控感測電極16，並組配構成一可視觸控區112(請參考第2D圖)。

於前述實施例中，網格圖塊15均可視為一具隨機不重覆圖紋之網格圖塊。於一些實施例中，構成於透明基板11表面111之觸控感測電極16，更可由複數個網格圖塊15搭接方式組合形成更大面積之網格圖塊組合。第5圖係揭示本案較佳實施例之觸控面板之結構示意圖。本案之觸控面板1包含透光基板11、觸控感測電極16及複數個金屬引線17。透光基板11(請參閱第2A圖)，具有至少一表面111，以及複數個參考節點12，規則排列設置於表面111。其中，觸控感測電極16，設置於透光基板11上，組配形成一可視觸控區112，具有複數個網格節點12’、複數個折點14及複數個金屬微線161(請參閱第2D圖)。其中複數個網格節點12’分別對應設置於原複數個參考節點12之位置上。複數個折點14，即如前述實施例中之可偏移區域C,C1範圍中隨機選取者。金屬微線161係連接於任兩相鄰之網格節點12’與折點14間，且架構形成該觸控感測電極16。於本實施例中，觸控感測電極16係由數個網格圖塊15a至15f拼接而成，其中兩相鄰網格圖塊藉由其邊界之參考節點接合即可完成拼接，複數個網格圖塊可沿第一方向(如X軸)或第二方向(Y軸)接續接合而形成更大面積之網格圖塊組合。於本實施例中，觸控 感測電極16可由例如但不限於2×6=6個網格圖塊15a至15f所拼接而成，進而構成金屬網格之觸控感測電極16。此外，觸控面板1之複數個金屬引線17係設置於透明基板11上，並於可視觸控區112之周圍組配構成一周邊線路區113，其形成方式如第1圖步驟S14及第3圖步驟S24所示，可透過一光罩顯影及金屬成形蝕刻製程構成。於本實施例中，網格圖塊15之複數個參考節點12均規則排列，因此每一個網格圖塊15與另一網格圖塊15進行拼接時，彼此之交界處具規則排列之節點，易於接合，不會如習知過度隨機變化及節點偏移而造成拼接不易或拼接界面開口率過大的問題，同時也避免了網格圖塊設計搭接時產生之拼接痕。於一些實施例中，觸控感測電極16與金屬引線17可透過同一光罩顯影及金屬成形蝕刻製程，而一併形成於透光基板11之上。於本實施例中，連接相鄰之網格節點12’與折點14之金屬微線161係為一直線段，但本案並不以此為限。於一些實施例中，連接相鄰之網格節點12’與折點14之金屬微線161至少包含一弧線段。第6圖係揭示第5圖中P局部區域之另一實施態樣之放大圖。如第5及6圖所示，於一些實施例中，連接相鄰之網格節點12’與折點14之金屬微線161可為一弧線段。於更佳之實施態樣中，連接相鄰之網格節點12’與折點14之金屬微線161更為透過樣條插值(Spline Interpolation)所生成之弧線段。其中每一平滑之雲形曲線(Spline)所連接之網格節點12’與折點14，其所對應之參考節點12與參考點13係位於同一直線上。換言之，位於同一直線上之參考節點12與參考點13，在對應選定網格節點12’及折點14後，即以該群組之網格節點12’及折點14為固定點而擬合成為一平滑曲線。當然，任兩相鄰網格節點12’與折點14之金屬微線161亦可自由選配群組化而擬合成一開放或封閉之雲形曲線，本案並不以此為限。

第7圖係揭示本案再一較佳實施例之具感測金屬網格之觸控面板製造流程圖，以及第8A至8B圖係揭示第7圖流程步驟中之階段性結構示意圖。如第7圖所示，首先，提供透明基板11(參考第2A圖)，其中透明基板11具有至少一表 面111(如步驟S30)。接著，如第7及8A圖所示，於透明基板11之表面111上定義複數個第一參考節點12，規則排列於表面111上(如步驟S31)。於此步驟中，複數個第一參考點12係構成菱形之圖案單元之陣列而沿X-Y軸方向擴展延伸，當然本案並不受限於此，任何可重覆擴展延伸拼接之圖案單元，如三角形、矩形、六邊形、八邊形等，均得以適用之。接著，在任兩相鄰之參考節點12連線上隨機選定一參考點13，同時再以參考點13為中心，給定每一個參考點13一可偏移區域A，並且於可偏移區域A內隨機選定一折點14(如步驟S32)。於本實施例中，可偏移區域A範圍係為以一第一預定半徑值R1與一第三預定半徑值R3構成之一環形區域內或兩圓周上，當然本案並不以此為限。第一預定半徑值R1大於第三預定半徑值R3即可構成可偏移區域A範圍之環形區域。其中第一預定半徑值R1與第三預定半徑值R3之範圍介為任兩相鄰之參考節點12間距的八分之一至二百分之一。第一預定半徑值R1與第三預定半徑值R3更佳之實施範圍為前述線路間距之十分之一距離到百分之一距離，即介於3微米至50微米之間，較佳為介於5微米至30微米之間。接著，如第7及8B圖所示，將每一參考節點12之位置定義為一網格節點12’，再連接表面111上所有相鄰之網格節點12’及折點14，以於表面111上構成感測金屬網格之一網格圖塊15(如步驟S33)。其中，網格圖塊15之圖案透過一光罩顯影及金屬蝕刻之製程轉移至透光基板11之表面111上，而成一觸控感測電極16，並組配構成一可視觸控區112，如第2D圖所示。可替換地，網格節點12’亦以每一參考節點12為中心，於其對應之相同大小之可偏移區域A範圍之環形區域內隨機選定者。連接表面111上所有相鄰之網格節點12’及折點14，則於表面111上構成感測金屬網格之一網格圖塊15即如第8C圖所示。

於前述實施例中，觸控面板之觸控感測電極16均可依所得網格圖塊15拼接後之線路圖紋，以一光罩顯影及金屬成形蝕刻製程，與周邊之金屬引線17(參閱第5圖)一併形成於透光基板11之上。由於本案主要透過任兩節點間之折 點變化產生隨機網格圖塊，不會如習知過度隨機變化而產生開口大小不平均的現象。當網格節點如參考節點規則排列時，複數個網格圖塊透過邊界參考節點之對應接合即可輕易完成拼接，且完全無界面拼接紋之產生。於一些實施例中，如第3圖所示者，亦可以每一個參考節點12為中心，給定一第二可偏移區域C2，並於第二可偏移區域C2內隨機選定一網格節點12’而使網格圖塊15之網格節點12’隨機偏移。其中第二可偏移區域C2為以第二預定半徑值R2所構成之一圓形區域，其大小可等於或小於第一預定半徑值R1所構成之第一可偏移區域C1。由於隨機之網格節點12’均落於以其對應之參考節點12為中心之第二可偏移區域C2內，當兩相鄰網格圖塊15再行設計搭接時，其搭接邊界之參考節點12可對應接合，而兩相鄰網格圖塊15邊界之網格節點12’均會落於其對應之第二可偏移區域C2內，透過第二可偏移區域C2之範圍控制(即給定第二預定半徑值R2控制第二可偏移區域C2之大小)，使其邊界接合處之開口率不會過大，且不易有拼接痕之產生。於一些實施例中，其最外圍邊界處之複數個網格節點12’可分別給定為原複數個參考節點12而呈規則排列，藉此使複數個網格圖塊15進行拼接時更可輕易完成，且其搭接界面間也不會產生搭接紋而影響視效。

於一些實施例中，參考節點構成之圖案單元陣列可為以一三角形、矩形、菱形、六邊形或八邊形所構成者。於本實施例中，雖以菱形為圖案單元所構成者為例，但本案實際上並不以此為限。第9圖係揭示第1圖所示之具感測金屬網格之觸控面板與一顯示模組之像素圖層之結構對應圖。如第9圖所示，觸控面板之觸控感測電極之每一個網格圖塊15之設計均對應於顯示模組之像素圖層2之複數個像素單元21，其中像素單元21係由紅色子像素、綠色子像素及藍色子像素所排列組合而成。為因應不同之需求，紅色子像素、綠色子像素及藍色子像素之排列組合可有不同之態樣區域。而本案之參考節點即可因應不同區域之組態而為模組化之設計，即參考節點之規則排列方式可視像素單元之排列而 為設計，藉此可有效防止與像素單元產生干涉條紋的現象。其中每一個網格圖塊15之邊長至少大於一像素單元21的尺寸。

綜上所述，本案提供一種具感測金屬網格之觸控面板及其製法，可構成具隨機網格圖塊之感測金屬網格結構，避免感測金屬網格之網格圖塊之線路條紋產生重疊或過多交叉點而造成干涉紋發生。此外，本案具感測金屬網格之觸控面板及製法，更可精確地控制感測金屬網格之隨機網格圖塊之變化，以避免感測金屬網格之網格圖塊之線路條紋因隨機變化之設計而造成開口率大小不一或分佈不均之情況，同時避免其應用之觸控顯示裝置產生亮度不均勻之現象。另一方面，本案以特定之可偏移區域控制感測金屬網格結構之隨機圖紋變化，使兩個以上網格圖塊於進行搭接組合時，避免兩組網格圖塊之搭接界面產生搭接紋而影響視效。且感測金屬網格之網格圖塊之設計更可因應像素單元之排列設計而構成。

本案得由熟習此技術之人士任施匠思而為諸般修飾，然皆不脫如附申請專利範圍所欲保護者。

1‧‧‧觸控面板

11‧‧‧透明基板

112‧‧‧可視觸控區

12’‧‧‧網格節點

14‧‧‧折點

15‧‧‧網格圖塊

16‧‧‧觸控感測電極

161‧‧‧金屬微線

X,Y‧‧‧軸

Claims (20)

1. 一種觸控面板，包含: 一透光基板，具有至少一表面，以及複數個參考節點，規則排列設置於該至少一表面；以及 至少一觸控感測電極，設置於該至少一表面，具有複數個網格節點、複數個折點及複數個金屬微線，其中該複數個網格節點分別對應於該複數個參考節點而設置於該至少一表面，複數個折點係為以任兩相鄰之該參考節點連線上任一點為中心並給定之一可偏移區域範圍中隨機選取者，以及該複數個金屬微線連接於任兩相鄰之該網格節點與該折點間而構成該觸控感測電極，並組配構成一可視觸控區。
2. 如申請專利範圍第1項所述之觸控面板，其中該複數個折點係分別為以任兩相鄰之該參考節點連線上之一中點為該中心並於給定之該可偏移區域範圍中隨機選取者。
3. 如申請專利範圍第1項所述之觸控面板，其中該網格節點之位置係設置於對應之該參考節點上。
4. 如申請專利範圍第1項所述之觸控面板，其中該網格節點之位置係設置於對應之該參考節點為該中心之該可偏移區域範圍內隨機選取者。
5. 如申請專利範圍第1項所述之觸控面板，其中該可偏移區域範圍為以一預定半徑值構成之一圓形區域內或一圓周上，其中該預定半徑值之範圍介於任兩相鄰之該參考節點之間距之八分之一至二百分之一。
6. 如申請專利範圍第5項所述之觸控面板，其中該預定半徑值之範圍介於任兩相鄰之該參考節點之間距之十分之一至百分之一。
7. 如申請專利範圍第1項所述之觸控面板，其中該可偏移區域範圍為以一第一預定半徑值與一第二預定半徑值構成之一環形區域內或兩圓周上，其中該第一預定半徑值與該第二預定半徑值之範圍介於任兩相鄰之該參考節點間距之八分之一至二百分之一，且該第一預定半徑值大於該第二預定半徑值。
8. 如申請專利範圍第7項所述之觸控面板，其中該第一預定半徑值之範圍介於任兩相鄰之該參考節點之間距之十分之一至百分之一。
9. 如申請專利範圍第1項所述之觸控面板，其更包含複數個金屬引線，設置於該透明基板之該至少一表面，並於該可視觸控區之周圍組配構成一周邊線路區。
10. 如申請專利範圍第1項所述之觸控面板，其中該金屬微線為一直線段或一弧線段。
11. 如申請專利範圍第10項所述之觸控面板，其中該弧線段為一通過任兩相鄰之該網格節點與該折點之雲形曲線。
12. 一種觸控面板之製法，包含步驟： (a)  提供一透明基板，其中該透明基板具有至少一表面； (b)  於該透明基板之該至少一表面上，定義複數個參考節點，其中該複數個參考點係規則排列； (c)  以任兩相鄰之該參考節點連線上之任一點為一中心，給定一可偏移區域，並於該可偏移區域內隨機選定一折點；以及 (d)  定義複數個網格節點，對應於該複數個參考節點，連接該至少一表面上所有相鄰之該網格節點與該折點以形成一觸控感測電極，並組配構成一可視觸控區。
13. 如申請專利範圍第12項所述之觸控面板之製法，其中該步驟(c)更包含步驟(c1)以任兩相鄰之該參考節點連線上之一中點為該中心之該可偏移區域中隨機選取該折點之位置。
14. 如申請專利範圍第12項所述之觸控面板之製法，其中該步驟(d)更包含步驟(d1)將該網格節點位置設置於對應之該參考節點上。
15. 如申請專利範圍第12項所述之觸控面板之製法，其中該步驟(d)更包含步驟(d1)以該網格節點所對應之該參考節點為該中心之該可偏移區域內隨機選取該網格節點之位置。
16. 如申請專利範圍第12項所述之觸控面板之製法，其中該可偏移區域為以一預定半徑值構成之一圓形區域內或一圓周上，其中該預定半徑值之範圍介於任兩相鄰之該參考節點之間距之八分之一至二百分之一。
17. 如申請專利範圍第16項所述之觸控面板之製法，其中該預定半徑值之範圍介於任兩相鄰之該參考節點之間距之十分之一至百分之一。
18. 如申請專利範圍第12項所述之觸控面板之製法，其中該可偏移區域為以一第一預定半徑值與一第二預定半徑值構成之一環形區域內或兩圓周上，其中該第一預定半徑值與該第二預定半徑值之範圍介於任兩相鄰之該參考節點之間距之八分之一至二百分之一，且該第一預定半徑值大於該第二預定半徑值。
19. 如申請專利範圍第12項所述之觸控面板之製法，其中於該步驟(d)中，該網格節點與該折點係透過一金屬微線連接，其中該金屬微線係為一直線段或一弧線段，其中該弧線段為一通過任兩相鄰之該網格節點與該折點之雲形曲線。
20. 如申請專利範圍第19項所述之觸控面板之製法，其中該第一預定半徑值之範圍介於任兩相鄰之該參考節點之間距之十分之一至百分之一。