TWI581039B - 光學膜片組及防止黏片的方法 - Google Patents

Description

光學膜片組及防止黏片的方法

本發明的實施例是有關於一種塑化膜片及其製作方法。特別是有關於一種光學膜片及其製作方法。

具高絕緣性之塑化膜片，因具有累積靜電之性質，在與其他不會洩漏靜電的物體摩擦或剝離時會產生靜電，不僅空氣中的污物、灰塵等容易附著，更會使兩彼此接觸的二膜片相互黏著。

當欲進行液晶面板的組裝製程時，一般以真空吸嘴吸取單一枚光學膜片，以進行後段組裝或加工處理。由於相互堆疊的光學膜片之間存在靜電，導致光學膜片之間相互吸引黏片，無法一次擷取單一枚光學膜片，而中斷組裝製程，影響液晶面板的產能及良率。

因此，有需要提供一種先進的光學膜片及防止黏片方法，以解決習知技術所面臨的問題。

根據本說明書的一實施例是提供一種光學膜片組，包括一第一光學膜片以及一第二光學膜片，第一光學膜片與第二光學膜片分別包括第一表面以及位於第一表面之相反一側的第二表面。其中，第一表面具有第一粗糙度，第二表面具有第二粗糙度。且第一粗糙度和第二粗糙度的數值總與第一表面和第二表面間之最大拉力的數值乘積實質小於1000。

根據本說明書的另一實施例是提供一種防止光學膜片黏片的方法，包括下述步驟：首先，提供至少二個光學膜片，使每一個光學膜片包括第一表面以及位於第一表面之相反一側的第二表面；並且使第一表面具有第一粗糙度，使第二表面具有第二粗糙度。接著堆疊這些光學膜片，使光學膜片之一者的第一表面與另一者的第二表面接觸。其中，第一粗糙度和第二粗糙度的數值總與第一表面和第二表面間之最大拉力的數值乘積實質小於1000。

根據上述，本說明書的實施例係提出一種光學膜片組及防止其黏片的方法，藉由使光學膜片位於相反兩側之表面具有不同的粗糙度，並且符合二表面粗糙度數值總合與二者之間最大拉力的數值乘積小於1000的條件。來降低相互堆疊時的至少二光學膜片因靜電而發生黏片的機會，以解決習知技術因光學膜片黏片導致組裝製程產能及良率不佳的問題。

100‧‧‧光學膜片

100’‧‧‧光學膜片

100”‧‧‧光學膜片

101‧‧‧偏光層

101a‧‧‧偏光子

101b‧‧‧第一保護層

101c‧‧‧第二保護層

102‧‧‧保護膜

102a‧‧‧保護膜上表面

102b‧‧‧保護膜下表面

102c‧‧‧微結構

103‧‧‧剝離膜

103a‧‧‧剝離膜下表面

103b‧‧‧剝離膜上表面

103c‧‧‧微結構

104‧‧‧黏著層

A‧‧‧剝離膜下表面與保護膜上表面之間的最大拉力

B‧‧‧剝離膜下表面粗糙度

C‧‧‧保護膜上表面粗糙度

F‧‧‧橫向拉力

為了對本說明書之上述實施例及其他目的、特徵和優點能更明顯易懂，特舉數個較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下：第1A圖係根據本說明書的一實施例所繪示之一種光學膜片的結構透視圖；第1B圖係沿著第1A圖的切線S所繪示之光學膜片的結構剖面圖；第1C圖係根據本說明書的另一實施例所繪示之光學膜片的結構剖面圖；以及第2圖根據本說明書的一實施例繪示複數個相互堆疊之光學膜片的結構透視圖。

本說明書是提供一種在組裝製程中不會發生黏片問題的光學膜片及防止其黏片的方法，可有效增進液晶面板組裝製程的產能及良率。為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉數種實施例詳細說明。

但必須注意的是，這些特定的實施案例與方法，並非用以限定本發明。本發明仍可採用其他特徵、元件、方法及參數來加以實施。較佳實施例的提出，僅係用以例示本發明的技術 特徵，並非用以限定本發明的申請專利範圍。該技術領域中具有通常知識者，將可根據以下說明書的描述，在不脫離本發明的精神範圍內，作均等的修飾與變化。

請參照第1A圖和第1B圖，第1A圖係根據本說明書的一實施例所繪示之一種光學膜片100的結構透視圖。第1B圖係沿著第1A圖的切線S所繪示之光學膜片100的結構剖面圖。其中，光學膜片100至少包括一個偏光層101、一個保護膜102以及一個剝離膜103。其中，保護膜102具有上表面102a以及位於上表面102a之相反一側的下下表面102b；剝離膜103具有下表面103a以及位於下表面103a之相反一側的上表面103b；且剝離膜103的上表面103b面對保護膜102下表面102b。偏光層則位於剝離膜103的上表面103b和保護膜102的下表面102b之間。

在本實施例之中，光學膜片100是一種偏光板，其中光學膜片100的偏光層101至少包括一個偏光子101a、一個第一保護層101b以及一個第二保護層101c。其中，偏光子101a位於第一保護層101b和第二保護層101c之間；第一保護層101b位於保護膜102與偏光子101a之間；以及第二保護層101c位於剝離膜103與偏光子101a之間。

偏光子101a可為聚乙烯醇(PVA)樹脂膜，其可藉由皂化聚醋酸乙烯樹脂製得。聚醋酸乙烯樹脂的例子包括醋酸乙烯之單聚合物，即聚醋酸乙烯，以及醋酸乙烯之共聚合物和其他能與醋酸乙烯進行共聚合之單體。其他能與醋酸乙烯進行共聚合之 單體的例子包括不飽和羧酸(例如丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸乙酯、正丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸甲酯)、烯烴(例如乙烯、丙烯、1-丁烯、2-甲丙烯)、乙烯醚(例如乙基乙烯醚、甲基乙烯醚、正丙基乙烯醚、異丙基乙烯醚)、不飽和磺酸(例如乙烯基磺酸、乙烯基磺酸鈉)等等。

第一保護層101b及/或第二保護層101c的材料可分別選自由聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethylmethacrylate，PMMA)、三聚醋酸纖維素(Triacetyl Cellulose，TAC)、丙烯酸樹脂膜、聚芳香羥樹脂膜、聚醚樹脂膜、環聚烯烴樹脂膜(例如聚冰片烯樹脂膜)、聚酯(Polyethylene Terephthalate，PET)、聚丙稀(Polypropylene，PP)、環烯烴聚合物(Cyclo Olefin Polymer，COP)、聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)以及上述任意組合所組成的一族群。

保護膜102和剝離膜103係用來保護偏光層101之完整並減少因碰撞或推疊所產生的刮傷或墊傷。保護膜102和剝離膜103可以具有相同或相異的材質。在一實施例中，保護膜102和剝離膜103的厚度實質介於15微米至40微米之間。

例如在本說明書的一些實施例之中，保護膜102和剝離膜103之材料可選自聚酯樹脂、烯烴樹脂、乙酸纖維素樹脂、聚碳酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、聚對苯二甲酸丁二酯(polyethylene terephthalate,PET)、聚乙烯(polyethylene,PE)或聚丙烯(Polypropylene,PP)、環烯烴樹脂或上述之組合。其中，聚酯樹脂可以例如是聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二 甲酸乙二酯，而丙烯酸樹脂可以例如是聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。

另外，第二保護層101c和剝離膜103的上表面103b之間還包括一黏著層104，用來將剝離膜103黏貼於偏光層101之上。在本實施例中，黏著層104可以是一種包含有丙烯酸樹酯的感壓膠(Pressure Sensitive Adhesive，PSA)。

在一實施例中，保護膜102的上表面102a具有實質介於40奈米(nm)至90奈米之間的粗糙度C。剝離膜103的下表面103a具有實質介於15奈米至40奈米之間的粗糙度B。在一實施例中，粗糙度B與粗糙度C可在薄膜拉伸中產生。

在本說明書的一些實施例之中，剝離膜103的粗糙度B和保護膜102的粗糙度C可以藉由分別在剝離膜103的下表面103a和保護膜102的上表面102a上形成微結構103c和微結構102c的方式來加以實現。例如請參考第1C圖，第1C圖係根據本說明書的另一實施例所繪示之光學膜片100’的結構剖面圖。在本實施例之中，光學膜片100’的微結構102c和微結構103c形成方式，係藉由噴砂處理或蝕刻處理，採用無化學活性的微粒子(未繪示)對保護膜102的上表面102a和剝離膜103的下表面103a進行衝擊，以在保護膜102的上表面102a和剝離膜103的下表面103a上形成複數個凹陷部。

在本說明書的另一些實施例之中，微結構102c和微結構103c的形成方式，則係藉由沉積和圖案化製程，以在保護膜 102的上表面102a和剝離膜103的下表面103a上形成複數個凸出部。並藉由控制複數個凸出部或凹陷部的密度來調整粗糙度B和粗糙度C的數值。

請參考第2圖所繪示，將一光學膜片100”以膠帶(未繪示)固定，並將另一個光學膜片100疊置於其上，使被固定之光學膜片100”之保護膜102的上表面102a與上方光學膜片100之剝離膜103的下表面103a接觸。當上方光學膜片100被橫向拉力F拉動時，藉由拉力測試可量測出上方光學膜片100之剝離膜103的下表面103a與被固定之光學膜片100”之保護膜102的上表面102a二者之間的最大拉力A。

在本說明書的實施例之中，粗糙度B和粗糙度C的數值總和(B+C)與剝離膜103下表面103a和保護膜102上表面102a之間的最大拉力A的數值乘積(B+C)×A實質小於1000。其中，最大拉力A值實值小於8牛頓(N)。

粗糙度B、粗糙度C和最大拉力A的數學關係式如下：A×(B+C)<1000；A<8

在本說明書的一些實施例之中，還可以選擇性地(optionally)在保護膜102上表面102a和/或剝離膜103下表面103a上分別塗佈一層抗靜電塗層(未繪示)，藉以進一步調整剝離膜103下表面103a和保護膜102上表面102a之間的最大拉力A。

其中，抗靜電塗層的材料可以是(a)具有4級銨鹽、 吡啶嗡鹽、第1至3級胺基等陽離子性基團的各種陽離子性抗靜電劑；(b)具有磺酸鹽基、硫酸酯鹽基、磷酸酯鹽基、膦酸鹽基等陰離子性基團的陰離子性抗靜電劑；(c)具有胺基酸類、胺基硫酸酯類等的兩性抗靜電劑；(d)具有胺基醇系、甘油系、聚乙二醇系等的非離子性抗靜電劑；或是(e)包含上述抗靜電劑之高分子所形成的高分子型抗靜電劑。

若單一光學膜片100之剝離膜103的下表面103a和保護膜102的上表面102a粗糙度B和粗糙度C和最大拉力A符合前述數學式的條件時，將數個光學膜片100以相互堆疊的方式行運輸、儲存或進行光學膜片的組裝製程時，兩相互接觸的光學膜片100之間及不會出現黏片的現象。

在一實施例中，亦可在光學膜片100形成之前，先挑選符合粗糙度B的剝離膜103，粗糙度C的保護膜102和最大拉力A之原膜材料後，再進行光學膜片100的製作，以避免後續黏片的現象。

以下特舉出複數個符合上述數學式之條件的實施例與未符合上述數學式之條件的複數個比較例來進行黏片測試。將數枚實施例所提供的光學膜片100(或比較例之光學膜片)以下方光學膜片100之保護膜102的上表面102a與上方光學膜片100之剝離膜103的下表面103a相互接觸的方式彼此堆疊，再以重物壓放5分鐘以上，移除重物之後，以手取或以光學膜片組裝製程中所使用之吸嘴來吸取位於最上方的一片光學膜片100(或比較例 之光學膜片)，檢測其是否會吸附下方的光學膜片100(或比較例之光學膜片)。檢測結果，X代表不黏片；O代表黏片

詳細測試狀況請參照下表：

值得住意的是，雖然在上述實施例中用來進行黏片測試的光學膜片的尺寸都為31.5吋，但在前述抗黏片的方法與參數條件仍適用於其他尺寸，例如大於40吋(例如42吋、50吋或65吋)的較大尺寸實施例，也適用於小於26吋(例如介於15吋至26吋之間)的較小尺寸實施例。

根據上述，本說明書的實施例係提出一種光學膜片及防止其黏片的方法，藉由使光學膜片位於相反兩側之表面具有不同的粗糙度，並且符合二表面粗糙度數值總合與二者之間最大拉力的數值乘積小於1000的條件。來降低相互堆疊時的至少二 光學膜片因靜電而發生黏片的機會，以解決習知技術因光學膜片黏片導致組裝製程產能及良率不佳的問題。

藉由本說明書的實施例可於製作光學膜片前，先依粗糙度篩選適合之保護層及剝離膜材料膜材，來降低相互堆疊時的至少二光學膜片因靜電而發生黏片的機會，以解決習知技術因光學膜片黏片導致組裝製程產能及良率不佳的問題。

雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明。此處所述的製程步驟和結構並未涵蓋製作整體積體電路的完整製造過程。本發明可以和許多目前已知或未來被發展出來的不同積體電路製作技術合併實施。本發明所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾。因此，本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

100‧‧‧光學膜片

101‧‧‧偏光層

101a‧‧‧偏光子

101b‧‧‧第一保護層

101c‧‧‧第二保護層

102‧‧‧保護膜

102a‧‧‧保護膜上表面

102b‧‧‧保護膜下表面

103‧‧‧剝離膜

103a‧‧‧剝離膜下表面

103b‧‧‧剝離膜上表面

104‧‧‧黏著層

Claims (10)

1. 一種光學膜片組，包括一第一光學膜片以及一第二光學膜片，該第一光學膜片與該第二光學膜片分別包括一第一表面，以及一第二表面，位於該第一表面的相反一側；該第一表面具有一第一粗糙度；該第二表面具有一第二粗糙度；該第一光學膜片與該第二光學膜片互相疊合時，該第一光學膜片之該第一表面與該第二光學膜片之該第二表面間具有一最大拉力；其中，該第一粗糙度和該第二粗糙度的一數值總和與該該最大拉力的一數值乘積實質小於1000。
2. 如申請專利範圍第1項所述之光學膜片組，其中該第一粗糙度實質介於15奈米(nm)至40奈米之間，及該第二粗糙度實質介於40奈米至90奈米之間。
3. 如申請專利範圍第1項所述之光學膜片組，該第一光學膜片與該第二光學膜片分別包括：一保護膜，具有該第一表面以及一第三表面，一剝離膜，具有該第二表面以及一第四表面位於該第二表面的相反一側，並且面對該第三表面；以及一偏光層，位於該第三表面和第四表面之間。
4. 如申請專利範圍第3項所述之光學膜片組，其中該保護膜和該剝離膜之材料分別選自聚酯樹脂、烯烴樹脂、乙酸纖維素樹脂、聚碳酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、聚對苯二甲酸丁二酯(polyethylene terephthalate,PET)、聚乙烯(polyethylene,PE)或聚丙烯(Polypropylene,PP)、環烯烴樹脂或上述之組合。
5. 如申請專利範圍第3項所述之光學膜片組，其中該偏光層係一偏光板，包括：一第一保護層；一第二保護層；以及一偏光子，位於該第一保護層和該第二保護層之間。
6. 如申請專利範圍第1項所述之光學膜片組，該第一光學膜片與該第二光學膜片更分別包括一抗靜電塗層塗佈於該第一表面和該第二表面至少一者上。
7. 如申請專利範圍第1項所述之光學膜片組，其中該最大拉力實值小於8牛頓(N)。
8. 一種防止光學膜片黏片的方法，包括：提供至少二光學膜片，使每一該些光學膜片包括一第 一表面以及一第二表面，位於該第一表面的相反一側；且使該第一表面具有一第一粗糙度，該第二表面具有一第二粗糙度；以及堆疊該些光學膜片，使該些光學膜片之一者的該第一表面與該些光學膜片之另一者的該第二表面接觸；其中，該第一粗糙度和該第二粗糙度的一數值總和與該第一表面和該第二表面間之一最大拉力的一數值乘積實質小於1000。
9. 如申請專利範圍第8項所述之防止光學膜片黏片的方法，其中該第一粗糙度實質介於15奈米至40奈米之間；該第二粗糙度實質介於40奈米至90奈米之間，及/或該最大拉力實值小於8牛頓(N)。
10. 如申請專利範圍第8項所述之防止光學膜片黏片的方法，其中該第一光學膜片與該第二光學膜片分別包括：一保護膜，具有該第一表面以及一第三表面，一剝離膜，具有該第二表面以及一第四表面位於該第二表面的相反一側，並且面對該第三表面，一偏光層，位於該第三表面和第四表面之間；以及其中該保護膜和該剝離膜之材料分別選自聚酯樹脂、烯烴樹脂、乙酸纖維素樹脂、聚碳酸酯樹脂、丙烯酸樹 脂、聚對苯二甲酸丁二酯(polyethylene terephthalate,PET)、聚乙烯(polyethylene,PE)或聚丙烯(Polypropylene,PP)、環烯烴樹脂或上述之組合。