TWI571434B - 奈米碳管陣列的轉移方法及奈米碳管結構的製備方法 - Google Patents

奈米碳管陣列的轉移方法及奈米碳管結構的製備方法 Download PDF

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Description

奈米碳管陣列的轉移方法及奈米碳管結構的製備方法
本發明涉及一種奈米碳管陣列的轉移方法及奈米碳管結構的製備方法，尤其涉及一種奈米碳管陣列的轉移方法及奈米碳管膜或奈米碳管線的製備方法。
奈米碳管(Carbon Nanotube,CNT)是一種由石墨烯片卷成的中空管狀物，其具有優異的力學、熱學及電學性質，因此具有廣闊的應用領域。由於單根奈米碳管的尺寸為奈米級，難於加以利用，人們嘗試將奈米碳管作為原材料，製成具有較大尺寸的宏觀奈米碳管結構。例如由複數奈米碳管形成的宏觀膜狀結構，即奈米碳管膜(Carbon Nanotube Film)，以及由複數奈米碳管形成的宏觀線狀結構，即奈米碳管線(Carbon Nanotube Wire)。
公開號為200927690的台灣發明專利申請中揭露了一種從奈米碳管陣列中直接拉取獲得的奈米碳管膜，這種奈米碳管膜具有較好的透明度，且具有宏觀尺度並能夠自支撐，其包括複數在凡得瓦力作用下首尾相連的奈米碳管。由於這種直接從陣列中拉取獲得的奈米碳管膜中奈米碳管基本沿同一方向延伸，因此能夠較好的發揮奈米碳管軸向具有的導電及導熱等各種優異性質，具有極為廣泛的產業前景，例如可以應用於觸摸屏、液晶顯示器、揚聲器 、加熱裝置、薄膜電晶體及導電線纜等多種領域。
這種特殊的奈米碳管膜的形成原理是超順排生長的奈米碳管陣列中奈米碳管之間通過凡得瓦力緊密結合，使在拉取部分奈米碳管時，與之相鄰的奈米碳管由於凡得瓦力的作用可以首尾相連的被連續地拉出，從而逐漸形成一個由首尾相連的奈米碳管構成的奈米碳管膜。然而，由於奈米碳管之間僅靠凡得瓦力相互吸引而成膜，一旦陣列的形態被破壞或改變，就有可能導致無法連續地拉出均勻的奈米碳管膜，因此傳統的做法是在生長基底(一般是單晶矽片)表面生長陣列之後，直接對生長基底上的奈米碳管陣列進行奈米碳管膜的拉取作業。
因此，奈米碳管陣列的生產者實際是將陣列連同生長基底一併提供給客戶。然而，這不但使生長基底的回收週期變長，不利於快速投入到新陣列的生長，也容易使昂貴的單晶矽片在運輸途中遭到破壞而報廢。另外，也可通過相同原理從奈米碳管陣列中拉取獲得奈米碳管線，而奈米碳管線在生產製備上同樣存在上述問題。
有鑒於此，提供一種能夠解決上述問題的奈米碳管陣列的轉移方法及奈米碳管結構的製備方法實為必要。
一種奈米碳管陣列的轉移方法，包括以下步驟：提供一代替基底及一生長基底，該生長基底表面具有奈米碳管陣列，該奈米碳管陣列的形態能夠使得一奈米碳管結構從該奈米碳管陣列中連續地拉出，該奈米碳管結構包括複數首尾相連的奈米碳管，該代替基底的表面具有複數微結構；將該奈米碳管陣列從該生長基底轉移 至該代替基底，並保持該奈米碳管陣列的形態仍能夠使該奈米碳管結構從該奈米碳管陣列中連續地拉出，包括：將該代替基底的表面接觸該奈米碳管陣列遠離該生長基底的表面；以及通過移動該代替基底與該生長基底中的至少一方，使該代替基底與該生長基底相遠離，從而使該奈米碳管陣列與該生長基底分離，並轉移至該代替基底。
一種奈米碳管結構的製備方法，包括以下步驟：提供一代替基底及一生長基底，該生長基底表面具有奈米碳管陣列，該奈米碳管陣列的形態能夠使得一奈米碳管結構從該奈米碳管陣列中連續地拉出，該奈米碳管結構包括複數首尾相連的奈米碳管，該代替基底的表面具有複數微結構；將該奈米碳管陣列從該生長基底轉移至該代替基底，並保持該奈米碳管陣列的形態仍能夠使該奈米碳管結構從該奈米碳管陣列中連續地拉出，包括：將該代替基底的表面接觸該奈米碳管陣列遠離該生長基底的表面；以及通過移動該代替基底與該生長基底中的至少一方，使該代替基底與該生長基底相遠離，從而使該奈米碳管陣列與該生長基底分離，並轉移至該代替基底；以及從該代替基底上的奈米碳管陣列拉取該奈米碳管結構，該奈米碳管結構包括首尾相連的奈米碳管。
一種奈米碳管結構的製備方法，包括以下步驟：提供一第一基底及一第二基底，該第一基底表面具有奈米碳管陣列，該奈米碳管陣列的形態能夠使得一奈米碳管結構從該奈米碳管陣列中連續地拉出，該奈米碳管結構包括複數首尾相連的奈米碳管，該第二基底的表面具有複數微結構；將該奈米碳管陣列從該第一基底轉移至該第二基底，並保持該奈米碳管陣列的形態仍能夠使該奈米碳 管結構從該奈米碳管陣列中連續地拉出，包括：將該第二基底的表面接觸該奈米碳管陣列遠離該第一基底的表面；以及通過移動該第二基底與該第一基底中的至少一方，使該第二基底與該第一基底相遠離，從而使該奈米碳管陣列與該第一基底分離，並轉移至該第二基底；以及從該第二基底上的奈米碳管陣列拉取該奈米碳管結構，該奈米碳管結構包括首尾相連的奈米碳管。
相較於先前技術，所述奈米碳管陣列的轉移方法及奈米碳管結構的製備方法中，在生長階段與拉膜階段，奈米碳管陣列設置於不同基底，作為拉膜階段的基底可以選擇廉價材料製造。因此，奈米碳管陣列的生產者可以將陣列轉移至代替基底上，將代替基底連同陣列提供給客戶，而較為昂貴的生長基底可迅速回收，從而優化了生產流程。因此，本發明的奈米碳管陣列的轉移方法及奈米碳管結構的製備方法對於奈米碳管膜和線在產業上的應用具有極為重要的意義，能夠帶來實際的成本降低及生產方式的變革。
10‧‧‧奈米碳管陣列
102‧‧‧第一表面
104‧‧‧第二表面
20‧‧‧生長基底
30‧‧‧代替基底
302‧‧‧代替基底的表面
304‧‧‧微結構
40‧‧‧奈米碳管結構
50‧‧‧拉取工具
圖1為本發明一實施例提供的奈米碳管陣列的轉移方法的示意圖。
圖2為本發明實施例從奈米碳管陣列中拉取獲得的奈米碳管膜的掃描電鏡照片。
圖3至圖5為本發明不同實施例中的代替基底的側視示意圖。
圖6至圖7為本發明不同實施例中的代替基底的俯視示意圖。
圖8為本發明實施例提供的奈米碳管結構的製備方法的示意圖。
圖9為本發明實施例從轉移至代替基底表面的奈米碳管陣列中拉 取奈米碳管膜的照片。
以下將結合附圖對本發明的奈米碳管陣列的轉移方法及奈米碳管結構的製備方法作進一步的詳細說明。
請參閱圖1，本發明提供一種奈米碳管陣列10的轉移方法，包括以下步驟：S1，提供一代替基底30及一生長基底20，該生長基底20表面具有奈米碳管陣列10，該奈米碳管陣列10的形態能夠使得一奈米碳管結構40可以從該奈米碳管陣列10中連續地拉出，該奈米碳管結構包括複數首尾相連的奈米碳管，該代替基底30的表面302具有複數微結構304；S2，將該奈米碳管陣列10從該生長基底20轉移至該代替基底30，並保持該奈米碳管陣列10的形態仍能夠使該奈米碳管結構40從該奈米碳管陣列10中連續地拉出，包括：S21，將該代替基底30具有複數微結構的表面302接觸該奈米碳管陣列10遠離該生長基底20的表面；以及S22，通過移動該代替基底30與該生長基底20中的至少一方，使該代替基底30與該生長基底20相遠離，從而使該奈米碳管陣列10與該生長基底20分離，並轉移至該代替基底30。
該奈米碳管結構40包括首尾相連的奈米碳管，是由複數奈米碳管通過凡得瓦力相互結合並首尾相連形成的宏觀結構，例如可以為奈米碳管膜或奈米碳管線。
首先對生長於該生長基底20且能夠從中拉取奈米碳管膜40的奈米碳管陣列10進行介紹。
該奈米碳管陣列10為通過化學氣相沈積的方法生長在該生長基底20的表面。該奈米碳管陣列10中的奈米碳管基本彼此平行且垂直於生長基底20表面，相鄰的奈米碳管之間相互接觸並通過凡得瓦力相結合。通過控制生長條件，該奈米碳管陣列10中基本不含有雜質，如無定型碳或殘留的催化劑金屬顆粒等。由於基本不含雜質且奈米碳管相互間緊密接觸，相鄰的奈米碳管之間具有較大的凡得瓦力，足以使在拉取一些奈米碳管(奈米碳管片段)時，能夠使相鄰的奈米碳管通過凡得瓦力的作用被首尾相連，連續不斷的拉出，由此形成連續的自支撐宏觀結構，如奈米碳管膜或奈米碳管線。這種能夠使奈米碳管首尾相連的從其中拉出的奈米碳管陣列10也稱為超順排奈米碳管陣列10。該生長基底20的材料可以為P型矽、N型矽或氧化矽等適合生長超順排奈米碳管陣列10的基底。
從奈米碳管陣列10中連續地拉出的該奈米碳管結構40包括複數首尾相連的奈米碳管。更為具體的，該奈米碳管結構40為可以實現自支撐的奈米碳管膜，該奈米碳管膜包括複數基本沿相同方向排列的奈米碳管。請參閱圖2，在該奈米碳管膜中奈米碳管為沿同一方向擇優取向排列。所述擇優取向是指在奈米碳管膜中大多數奈米碳管的整體延伸方向基本朝同一方向。而且，所述大多數奈米碳管的整體延伸方向基本平行於該奈米碳管膜的表面。進一步地，所述奈米碳管膜中多數奈米碳管是通過凡得瓦力首尾相連。具體地，所述奈米碳管膜中基本朝同一方向延伸的大多數奈米碳 管中每一奈米碳管與在延伸方向上相鄰的奈米碳管通過凡得瓦力首尾相連，從而使該奈米碳管膜能夠實現自支撐。當然，所述奈米碳管膜中存在少數隨機排列的奈米碳管，這些奈米碳管不會對奈米碳管膜中大多數奈米碳管的整體取向排列構成明顯影響。進一步地，所述奈米碳管膜可包括複數連續且定向排列的奈米碳管片段。該複數奈米碳管片段通過凡得瓦力首尾相連。每一奈米碳管片段包括複數相互平行的奈米碳管，該複數相互平行的奈米碳管通過凡得瓦力緊密結合。另外，所述奈米碳管膜中基本朝同一方向延伸的多數奈米碳管並非絕對的直線狀，可以適當的彎曲；或者並非完全按照延伸方向上排列，可以適當的偏離延伸方向。因此，不能排除奈米碳管膜的基本朝同一方向延伸的多數奈米碳管中並列的奈米碳管之間可能存在部分接觸而部分分離的情況。實際上，該奈米碳管膜具有較多間隙，即相鄰的奈米碳管之間具有間隙，使該奈米碳管膜可以具有較好的透明度。然而，相鄰奈米碳管之間接觸的部分以及首尾相連的奈米碳管之間連接的部分的凡得瓦力已經足夠維持該奈米碳管膜整體的自支援性。該奈米碳管膜的厚度約為0.5奈米至100微米，優選為0.5奈米至10微米。當具有較窄寬度時，該奈米碳管結構40也可以是一可實現自支撐的奈米碳管線。
所述自支撐是該奈米碳管膜或奈米碳管線不需要大面積的載體支撐，而只要一邊或相對兩邊提供支撐力即能整體上懸空而保持自身膜狀或線狀狀態，即將該奈米碳管膜或線置於(或固定於)間隔一定距離設置的兩個支撐體上時，位於兩個支撐體之間的奈米碳管膜或線能夠懸空保持自身膜狀或線狀狀態。所述自支撐主要通過奈米碳管膜或線中存在連續的通過凡得瓦力首尾相連延伸排 列的奈米碳管而實現。
所述能夠從中拉取奈米碳管膜的奈米碳管陣列10的製備方法已為眾多前案公開，例如可參閱馮辰等人在2007年2月12日申請的台灣專利I327177。
該代替基底30為固態，可以為柔性或硬質基底。該代替基底30具有一表面302，作為設置該奈米碳管陣列10的表面。將該奈米碳管陣列10從該生長基底20轉移至該代替基底30這一過程中，該奈米碳管陣列10的形態應基本得到保持，以仍能夠使該奈米碳管結構40從中連續地拉出為準，也就是仍保持為一超順排奈米碳管陣列。
在保持該奈米碳管陣列10的形態的前提下，當該奈米碳管陣列10轉移至該代替基底30後，該奈米碳管陣列10倒立設置於該代替基底30表面302。也就是該奈米碳管陣列10包括一第一表面102及與該第一表面102相對的第二表面104。奈米碳管從生長基底20的表面202長出，形成奈米碳管陣列10，奈米碳管靠近該生長基底20的一端為底端，遠離生長基底20的一端為頂端。在該生長基底20上，該第一表面102由該奈米碳管陣列10中所有奈米碳管的底端共同形成，該第二表面104由該奈米碳管陣列10中所有奈米碳管的頂端共同形成，該奈米碳管陣列10的第一表面102靠近或設置在該生長基底20的表面202，為奈米碳管陣列10的生長底端，該第二表面104為遠離該生長基底20的表面，為奈米碳管陣列10的生長頂端。當該奈米碳管陣列10轉移至該代替基底30後，該奈米碳管陣列10的第二表面104靠近或設置在該代替基底30的表面302，該第一表面102為遠離該代替基底30的表面302。
所述步驟S21及S22可以在常溫下進行。在該步驟S21及S22中，應保持該奈米碳管陣列10的形態仍能夠使該奈米碳管結構40可以從該奈米碳管陣列10中連續地拉出。為了使奈米碳管陣列10在轉移至該代替基底30後，仍然能夠拉取奈米碳管結構40，該代替基底30的表面302與該奈米碳管陣列10的第二表面104之間可以僅通過凡得瓦力結合，並且使該代替基底30與該奈米碳管陣列10之間的結合力(FBC)小於該奈米碳管陣列10中奈米碳管間的凡得瓦力(FCC)。然而，該代替基底30的表面302與該奈米碳管陣列10之間的結合力(FBC)應大於該生長基底20的表面202與該奈米碳管陣列10之間的結合力(FAC)，才能使該奈米碳管陣列10可以從該生長基底20分離，轉移至該代替基底30，即FAC<FBC<FCC。在該轉移過程中，該代替基底30的表面302與奈米碳管陣列10的第二表面104之間僅通過接觸產生的結合力，如凡得瓦力，使奈米碳管陣列10與生長基底20分離。
為了提高該代替基底30的表面302與該奈米碳管陣列10之間的結合力(FBC)，使FAC<BC<FCC，可以在該代替基底30的表面302設置複數微結構304，從而增大該表面302的表面積，從而在代替基底30材料不變的條件下提高該結合力(FBC)。該微結構304可以為在該代替基底30表面302的凸起或凹陷，如圖1及圖3至圖5所示，該微結構304的形狀可以是半球形、矩形、錐形、齒形、臺階形，或其他形狀。該微結構304可以是點狀或線狀，另外也可以是片狀。如圖6所示，在一實施例中，該微結構304為相互平行並間隔設置的槽體結構。如圖7所示，在另一實施例中，該微結構304為相互間隔並均勻分佈的半球形凸起。優選地，大量的微結構304均勻分佈在該代替基底30的表面302上。更為優選地，該微結構 304的數量使該代替基底30的表面302的表面積比平滑表面增加30%~120%。該代替基底30具有微結構304的表面302充分的與該奈米碳管陣列10接觸，通過該微結構304提高代替基底30與奈米碳管陣列10的接觸面積，使該代替基底30具有較大的吸附力，以提高FBC。因此，該代替基底30可以是常規的無機材料或有機材料基底，如玻璃、矽、石英，塑膠或橡膠，如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或聚對苯二甲酸乙二酯(PET)。
該凸出的微結構304的高度或該凹陷的微結構304的深度優選為奈米碳管陣列10高度的0.5%~10%，更優選為5微米~50微米，也就是該表面302仍需要具有一定的平整度，以避免該奈米碳管陣列10設置在該代替基底30的表面302時難以與該表面302充分接觸。該微結構304可以通過光刻、鐳射刻蝕或化學刻蝕等方法獲得。
可以理解，為了使FAC<FBC<FCC，也可以選擇具有合適的表面能和介面能的材料製造該代替基底30，至少是作為該代替基底30的表面。在一實施例中，該代替基底30的材料為聚二甲基矽氧烷(PDMS)。
可以理解，該代替基底30並非通過黏結劑黏附該奈米碳管陣列10，通過普通的黏結劑雖然能夠使FAC<FBC，而使奈米碳管陣列10能夠脫離該生長基底20，但由於奈米碳管陣列10中奈米碳管間的凡得瓦力極小，因此幾乎任何傳統意義上的黏結劑均會造成FBC>FCC，使後續的拉取奈米碳管結構40的步驟無法進行。可以理解，在該步驟S21~S22中，該代替基底30始終保持固態。
在該步驟S21中，為了使該代替基底30的表面302與該奈米碳管陣列10中的奈米碳管得到充分的接觸，可以通過該代替基底30輕微 的對該奈米碳管陣列10施加壓力。然而該代替基底30並非是將該奈米碳管陣列10中的奈米碳管壓倒，否則將改變奈米碳管陣列10的形態，使其無法再進行拉膜或拉線。
可以理解，由於該代替基底30的微結構304在該表面302所產生的高度差，當該表面302的凹陷處與該奈米碳管陣列10的第二表面104接觸時，在該表面302的凸出處可能會對與之接觸的奈米碳管產生壓力，使該奈米碳管陣列10中原本直立的奈米碳管產生微小的彎曲，然而由於該微結構304具有較小的高度，該奈米碳管的彎曲程度較小，當將該代替基底30與該生長基底20分離的過程中，該奈米碳管陣列10仍能彈性回復原有的高度，並保持能夠拉取奈米碳管結構40的形態。
在該步驟S22中，在使該奈米碳管陣列10與該生長基底20分離的過程中，該奈米碳管陣列10中的所有奈米碳管優選為同時脫離該生長基底20，也就是該代替基底30與該生長基底20中的至少一方的移動方向為垂直於該生長基底20的奈米碳管生長表面，使該奈米碳管陣列10中的奈米碳管沿該奈米碳管的生長方向脫離該生長基底20。當該彈性代替基底30與該生長基底20均發生移動時，兩者的移動方向均垂直於該生長基底20的奈米碳管生長表面。
在該步驟S21~S22中，該奈米碳管陣列10先受到朝向該生長基底20方向的壓力，再受到朝向該代替基底30的拉力。
請參閱圖8，本發明提供一種奈米碳管結構40的製備方法，除包括上述步驟S1至S2外，還進一步包括：S3，從該代替基底30上的奈米碳管陣列10拉取該奈米碳管結構40 。
請參閱圖9，該步驟S3與傳統的奈米碳管拉膜步驟的區別是，該奈米碳管膜是從轉移至該代替基底30表面的奈米碳管陣列10中，而非從直接在生長基底20表面的奈米碳管陣列10中進行拉取。在優選的實施例中，該奈米碳管膜是從倒立的設置在該代替基底30表面的奈米碳管陣列10中進行拉取，也就是從奈米碳管陣列的原來的生長底部進行拉取。
所述步驟S3具體包括以下步驟：S31，從該代替基底30表面的奈米碳管陣列10中通過拉取工具50選定一奈米碳管片段；S32，通過移動該拉取工具50，以一定速度拉取該選定的奈米碳管片段，從而首尾相連的拉出複數奈米碳管片段，進而形成一連續的奈米碳管結構40。
在該步驟S31中，當需要拉取奈米碳管膜時，可採用具有一定寬度的膠帶或黏性基條接觸該奈米碳管陣列10以選定具有一定寬度的一奈米碳管片段；當需要拉取奈米碳管線時，可以採用端面較窄的工具，如鑷子，選取寬度較窄的奈米碳管片段。在該步驟S32中，該選定的奈米碳管片段的拉取方向與該奈米碳管陣列10中奈米碳管的生長方向呈一不為0的角度a，優選為30度~90度。
上述步驟S22有別於步驟S3，步驟S22的目的是使奈米碳管陣列10整體脫離該生長基底20，脫離後仍保持陣列10的形態。而在步驟S3的目的是從奈米碳管陣列10中拉取奈米碳管膜或線，因此並非使奈米碳管陣列10整體脫離代替基底30，而是先使一小部分奈米碳管，如奈米碳管片段，脫離代替基底30，再由該拉出的奈米碳管片段帶動相鄰的奈米碳管片段被首尾相連的拉出，即陸續脫離 代替基底30。
所述奈米碳管陣列的轉移方法及奈米碳管結構的製備方法中，在生長階段與拉膜階段，奈米碳管陣列設置於不同基底，作為拉膜階段的基底可以選擇廉價材料製造。因此，奈米碳管陣列的生產者可以將陣列轉移至代替基底上，將代替基底連同陣列提供給客戶，而較為昂貴的生長基底可迅速回收，從而優化了生產流程。 因此，本發明的奈米碳管陣列的轉移方法及奈米碳管結構的製備方法對於奈米碳管膜和線在產業上的應用具有極為重要的意義，能夠帶來實際的成本降低及生產方式的變革。另外，通過在該代替基底表面設置該微結構，通過增大表面積的方式提高代替基底與奈米碳管陣列之間的結合力，拓寬了代替基底的材料的選擇範圍。
綜上所述，本發明確已符合發明專利之要件，遂依法提出專利申請。惟，以上所述者僅為本發明之較佳實施例，自不能以此限制本案之申請專利範圍。舉凡習知本案技藝之人士援依本發明之精神所作之等效修飾或變化，皆應涵蓋於以下申請專利範圍內。
10‧‧‧奈米碳管陣列
102‧‧‧第一表面
104‧‧‧第二表面
20‧‧‧生長基底
30‧‧‧代替基底
302‧‧‧代替基底的表面
304‧‧‧微結構

Claims (14)

  1. 一種奈米碳管陣列的轉移方法，包括以下步驟：提供一代替基底及一生長基底，該生長基底表面具有奈米碳管陣列，該奈米碳管陣列中的奈米碳管基本彼此平行且垂直於生長基底表面，該奈米碳管陣列的形態能夠使得一奈米碳管結構從該奈米碳管陣列中連續地拉出，該奈米碳管結構包括複數首尾相連的奈米碳管，該代替基底的表面具有複數微結構；將該奈米碳管陣列從該生長基底轉移至該代替基底，並保持該奈米碳管陣列的形態仍能夠使該奈米碳管結構從該奈米碳管陣列中連續地拉出，包括：將該代替基底具有複數微結構的表面接觸該奈米碳管陣列遠離該生長基底的表面；以及通過移動該代替基底與該生長基底中的至少一方，使該代替基底與該生長基底相遠離，從而使該奈米碳管陣列與該生長基底分離，並轉移至該代替基底。
  2. 如請求項第1項所述的奈米碳管陣列的轉移方法，其中，該奈米碳管結構為奈米碳管膜或奈米碳管線。
  3. 如請求項第1項所述的奈米碳管陣列的轉移方法，其中，該代替基底具有複數微結構的表面與該奈米碳管陣列僅通過凡得瓦力結合。
  4. 如請求項第1項所述的奈米碳管陣列的轉移方法，其中，該微結構為在該代替基底表面的凸起或凹陷，形狀為半球形、矩形、錐形、齒形或臺階形。
  5. 如請求項第1項所述的奈米碳管陣列的轉移方法，其中，該微結構為相互 平行並間隔設置的槽體結構。
  6. 如請求項第1項所述的奈米碳管陣列的轉移方法，其中，該代替基底具有該微結構的表面的表面積比平滑表面的表面積增加30%~120%。
  7. 如請求項第1項所述的奈米碳管陣列的轉移方法，其中，該微結構為在該代替基底表面的凸起或凹陷，該凸起的高度或該凹陷的深度為奈米碳管陣列高度的0.5%~10%。
  8. 如請求項第1項所述的奈米碳管陣列的轉移方法，其中，在該分離的過程中，該奈米碳管陣列中的所有奈米碳管為同時脫離該生長基底。
  9. 如請求項第1項所述的奈米碳管陣列的轉移方法，其中，該奈米碳管陣列中的奈米碳管沿該奈米碳管的生長方向脫離該生長基底。
  10. 如請求項第1項所述的奈米碳管陣列的轉移方法，其中，該代替基底與該生長基底中的至少一方的移動方向為垂直於該生長基底的奈米碳管生長表面。
  11. 如請求項第1項所述的奈米碳管陣列的轉移方法，其中，該代替基底與該奈米碳管陣列之間的結合力大於該生長基底與該奈米碳管陣列之間的結合力且小於該奈米碳管陣列中奈米碳管間的凡得瓦力。
  12. 如請求項第1項所述的奈米碳管陣列的轉移方法，其中，該代替基底的材料為聚二甲基矽氧烷、玻璃、矽、石英、聚甲基丙烯酸甲酯或聚對苯二甲酸乙二酯。
  13. 一種奈米碳管結構的製備方法，包括以下步驟：提供一代替基底及一生長基底，該生長基底表面具有奈米碳管陣列，該奈米碳管陣列中的奈米碳管基本彼此平行且垂直於生長基底表面，該奈米碳管陣列的形態能夠使得一奈米碳管結構從該奈米碳管陣列中連續地拉出，該奈米碳管結構包括複數首尾相連的奈米碳管，該代替基底的表面具有複數微結構； 將該奈米碳管陣列從該生長基底轉移至該代替基底，並保持該奈米碳管陣列的形態仍能夠使該奈米碳管結構從該奈米碳管陣列中連續地拉出，包括：將該代替基底具有複數微結構的表面接觸該奈米碳管陣列遠離該生長基底的表面；以及通過移動該代替基底與該生長基底中的至少一方，使該代替基底與該生長基底相遠離，從而使該奈米碳管陣列與該生長基底分離，並轉移至該代替基底；以及從該代替基底上的奈米碳管陣列拉取該奈米碳管結構。
  14. 一種奈米碳管結構的製備方法，包括以下步驟：提供一第一基底及一第二基底，該第一基底表面具有奈米碳管陣列，該奈米碳管陣列中的奈米碳管基本彼此平行且垂直於生長基底表面，該奈米碳管陣列的形態能夠使得一奈米碳管結構從該奈米碳管陣列中連續地拉出，該奈米碳管結構包括複數首尾相連的奈米碳管，該第二基底的表面具有複數微結構；將該奈米碳管陣列從該第一基底轉移至該第二基底，並保持該奈米碳管陣列的形態仍能夠使該奈米碳管結構從該奈米碳管陣列中連續地拉出，包括：將該第二基底具有複數微結構的表面接觸該奈米碳管陣列遠離該第一基底的表面；以及通過移動該第二基底與該第一基底中的至少一方，使該第二基底與該第一基底相遠離，從而使該奈米碳管陣列與該第一基底分離，並轉移至該第二基底；以及從該第二基底上的奈米碳管陣列拉取該奈米碳管結構。
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