TWI565631B - 真空容器及採用真空容器之真空成型裝置 - Google Patents

真空容器及採用真空容器之真空成型裝置 Download PDF

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    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
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Description

真空容器及採用真空容器之真空成型裝置
本發明涉及一種成型裝置，尤其涉及一種真空成型裝置及其採用之真空容器。
於鑄造鑄件之過程中，一些熔融金屬被氧化而影響鑄件之品質。為了避免熔融金屬被氧化，通常於真空室中進行鑄造，例如，鑄造非晶合金。然，於真空室中取出成型品時，真空室易被破真空。為了防止真空室被破真空，一般於真空室上安裝真空容器。真空容器包括殼體及密封件，殼體之底面上設有水平之密封面，密封件垂直安裝於殼體內，且密封件之密封方向與殼體之底面垂直設置，以使密封件相對殼體運動與密封面緊密貼合，以密封真空室。然，取出成型品時殘渣易掉落至密封面上，以使密封件和密封面無法緊密貼合，需反復去除密封面上之殘渣，導致操作繁瑣。
鑒於上述情況，有必要提供一種操作簡單之真空容器及採用該真空容器之真空成型裝置。
一種真空容器，用以連接真空成型裝置之真空室，該真空容器包括連接腔室、閥門腔室、出料腔室及密封件，該連接腔室之底面上傾斜設有密封面，該連接腔室連接該真空室，該出料腔室相對該連接腔室設置，該出料腔室內設有用以與該真空室相連通之取料通道，該閥門腔室設置於該連接腔室及該出料腔室之間，且與該密封面相對設置，該密封件活動地收容於該閥門腔室內，且該密封件之密封方向相對該連接腔室之底面傾斜設置，以使該密封件能夠沿著該閥門腔室之側壁滑動至該連接腔室之底面上，且該密封件與該密封面緊密貼合，使得該密封件能夠將該連接腔室與該閥門腔室和該出料腔室密封隔開。
一種真空成型裝置，其包括真空室、與該真空室相連之真空容器，該真空容器包括連接腔室、閥門腔室、出料腔室及密封件，該連接腔室之底面上傾斜設有密封面，該連接腔室與該真空室相連接，該出料腔室相對該連接腔室設置，該出料腔室內設有與該真空室相連通之取料通道，該閥門腔室設置於該連接腔室及該出料腔室之間，且與該密封面相對設置，該密封件活動地收容於該閥門腔室內，且該密封件之密封方向相對該連接腔室之底面傾斜設置，以使該密封件能夠沿著該閥門腔室之側壁滑動至該連接腔室之底面上，且該密封件與該密封面緊密貼合，使得該密封件能夠將該連接腔室與該閥門腔室和該出料腔室密封隔開。
本發明之真空容器上傾斜設有密封面，以使殘渣不易停留於密封面上，使得密封面與密封件之側壁緊密貼合不易漏氣，也無需去除密封面上之殘渣，從而操作方便。
100、200‧‧‧真空成型裝置
10、101‧‧‧真空室
11‧‧‧取料口
20、201‧‧‧第一真空泵
30、301‧‧‧模具
50、501‧‧‧真空容器
51‧‧‧殼體
511‧‧‧取料通道
512、5012‧‧‧連接腔室
5121‧‧‧連接面
5123、5017‧‧‧底面
5125、5019‧‧‧密封面
513、5013‧‧‧閥門腔室
5131‧‧‧頂壁
5132‧‧‧穿設孔
5133‧‧‧第一導向壁
5135‧‧‧第二導向壁
5137‧‧‧支撐壁
515、5015‧‧‧出料腔室
5151‧‧‧安裝面
5153‧‧‧操作面
5155、5018‧‧‧出料面
5157‧‧‧出料口
517‧‧‧開口
53‧‧‧密封蓋
55‧‧‧密封件
551‧‧‧密封頭
553‧‧‧連接桿
57‧‧‧第一驅動件
60、601‧‧‧第二真空泵
70、701‧‧‧取料結構
71‧‧‧取料件
712‧‧‧伸縮桿
715‧‧‧取料部
73‧‧‧第二驅動件
80‧‧‧收集盒
圖1係本發明第一實施例之真空成型裝置之第一使用狀態示意圖，真空成型裝置之取料結構穿設於真空容器並進入真空室以取出成型品。
圖2係圖1所示真空成型裝置之第二使用狀態示意圖，取料結構移動至出料腔室內，且真空容器密封真空室。
圖3係圖2所示真空成型裝置之第三使用狀態示意圖，取料結構之密封蓋被打開，且成型品經由密封蓋取出。
圖4係本發明第二實施例之真空成型裝置之結構示意圖。
請參閱圖1，本發明之第一實施方式中之真空成型裝置100用以製造金屬成型品。本實施方式中，真空成型裝置100為製造非晶合金之壓鑄裝置，用以製造非晶合金之成型品。真空成型裝置100亦可為其他需真空狀態中進行加工之設備，例如真空化學熱處理設備等。真空成型裝置100包括真空室10、第一真空泵20、模具30、真空容器50、第二真空泵60及取料結構70。第一真空泵20連接真空室10，以抽出真空室10內之空氣。模具30安裝於真空室10內，以製造成型品。真空容器50與真空室10一側相連接。第二真空泵60連接於真空容器50，以抽出真空容器50內之空氣。取料結構70可移動地穿設於真空容器50，以進入真空室10並取出成型品。可理解，真空成型裝置100還包括其他結構，例如頂出機構、壓鑄機構等結構，為了節省篇幅，本案中省略介紹。
本實施例中，真空室10之一側開設有取料口11。第一真空泵20連接於真空室10，以抽出真空室10內之空氣，以使真空室10保持真空狀態。模具30安裝於真空室10內，用以鑄造非晶合金之成型品。
請一併參閱圖1至圖3，真空容器50固定安裝於真空室10之一側，且對準取料口11。真空容器50包括殼體51、密封蓋53、密封件55及第一驅動件57。殼體51包括連接腔室512、出料腔室515及設置於連接腔室512和出料腔室515之間之閥門腔室513。連接腔室512上開設有連接面5121。連接腔室512固定安裝於真空室10之一側，且連接面5121與取料口11相連通。連接腔室512之底面5123上傾斜延伸形成有密封面5125。
閥門腔室513大致呈中空立方體狀，且相對密封面5125設置。閥門腔室513包括頂壁5131、第一導向壁5133、第二導向壁5135及支撐壁5137。頂壁5131上貫通開設有穿設孔5132。第一導向壁5133由頂壁5131之一側邊緣垂直延伸至連接腔室512之頂面，且第一導向壁5133與連接腔室512之頂面之間之夾角大於90度設置。第二導向壁5135由頂壁5131之另一側邊緣垂直延伸至出料腔室515，且與第一導向壁5133平行設置。第二導向壁5135與密封面5125位於同一平面上。本實施例中，第二導向壁5135之高度小於第一導向壁5133之高度。支撐壁5137由第一導向壁5133遠離頂壁5131之一端垂直延伸而成，且與頂壁5131平行設置。出料腔室515大致呈中空長方體狀，出料腔室515內設置有與連接面5121相互連通之取料通道511。本實施方式中，第二導向壁5135及第一導向壁5133上分別貫通開設有與取料通道511相連通之開口517，以使取料通道511經由開口517、連接面5121及取料口11與真空室10相互連通，使得取料結構70經開口517、連接面5121及取料口11進入真空室10。出料腔室515包括安裝面5151、操作面5153及出料面5155。安裝面5151與頂壁5131及第二導向壁5135相交處相連接，且安裝面5151和頂壁5131之間之夾角及安裝面5151和第二導向壁5135之間之夾角大於90度設置。本實施例中，安裝面5151為水平面，且安裝面5151與支撐壁5137傾斜設置。操作面5153由安裝面5151遠離閥門腔室513之一端邊緣垂直延伸形成。出料面5155由操作面5153遠離安裝面5151之一端邊緣垂直延伸形成，並與安裝面5151平行設置，且與密封面5125之一端相連接。出料面5155上靠近操作面5153之位置處貫通開設有出料口5157。密封蓋53樞接於操作面5153上，用於封蓋出料口5157，以密封出料腔室515。密封蓋53被打開時，密封蓋53位於出料口5157之下方，且與操作面5153呈一定角度傾斜，以使出料腔室515內之成型品滑落至密封蓋53上，且沿著密封蓋53準確地滑落至收集盒80內。
請再次參閱圖3，密封件55活動地收容於閥門腔室513內，且密封件55之密封方向與連接腔室512之底面5123傾斜設置。密封件55包括密封頭551及凸設於密封頭551一側上之連接桿553。密封頭551之側壁分別與第一導向壁5133及第二導向壁5135相抵持，且密封頭551之底面與支撐壁5137相抵持。連接桿553活動地穿設於穿設孔5132，且部分凸出於殼體51外。第一驅動件57與連接桿553遠離密封頭551之一端相連接。於第一驅動件57之驅動下，密封頭551能夠沿著第一導向壁5133及第二導向壁5135滑動至連接腔室512之底面5123上，以使密封頭551之底面與支撐壁5137相抵持，密封頭551與密封面5125緊密貼合，使得密封頭551能夠將連接腔室512與閥門腔室513和出料腔室515密封隔開。
第二真空泵60與出料腔室515之安裝面5151相連接，以抽出取料通道511之空氣，以使出料腔室515保持真空狀態。本實施例中，真空室10之真空度與取料通道511之真空度相同。
取料結構70活動地穿設於真空容器50及真空室10，其包括取料件71及與取料件71相連接之第二驅動件73。取料件71包括伸縮桿712及與伸縮桿712一端相連接之取料部715。伸縮桿712活動地穿設於操作面5153，並收容於取料通道511內，且部分凸出於出料腔室515外。本實施例中，伸縮桿712與操作面5153密封相連接，以確保出料腔室515保持真空狀態。取料部715大致呈矩形框體狀，其收容於取料通道511內，用於取出真空室10內之成型品。第二驅動件73與伸縮桿712遠離取料部715之一端相連接。於第二驅動件73之驅動下，伸縮桿712經取料通道511、連接面5121及取料口11進入真空室10內，以使取料部715取出模具30上之成型品。
請再次參閱圖1至圖3，使用時，首先，啟動第二真空泵60以抽出取料通道511之空氣，直到真空室10之真空度與取料通道511之真空度相同再打開閥門腔室513；然後，於第二驅動件73之驅動下，伸縮桿712經取料通道511、開口517、連接面5121及取料口11進入真空室10內；接著，取料部715取出模具30上之成型品；再接著，於第二驅動件73之驅動下，伸縮桿712帶動取料部715縮回至出料腔室515內；於第一驅動件57之驅動下，密封頭551能夠沿著第一導向壁5133及第二導向壁5135移動至底面5123上，以使密封頭551之底面與支撐壁5137相抵持，且與密封面5125緊密貼合，使得密封頭551能夠將連接腔室512與閥門腔室513和出料腔室515密封隔開；接著，打開密封蓋53，且於第二驅動件73之驅動下伸縮桿712相對出料腔室515之操作面5153轉動，以使取料部715上之成型品滑落至密封蓋53上，且沿著密封蓋53準確之滑落至收集盒80內。
本發明之真空成型裝置100採用真空容器50及取料結構70，真空容器50包括殼體51、密封蓋53、密封件55及第一驅動件57，殼體51內傾斜設有密封面5125，密封件55活動地安裝於殼體51內，且與第一驅動件57相連接，於第一驅動件57之驅動下，密封件55與密封面5125緊密貼合，使得密封件55能夠將連接腔室512與閥門腔室513和出料腔室515密封隔開。由於密封面5125為傾斜之斜面，殘渣不易停留於密封面5125上，以使密封面5125與密封件55緊密貼合不易漏氣，亦無需去除密封面5125上之殘渣，從而操作方便，且提高了真空容器50之密封度。
另外，由於密封蓋53樞接於操作面5153上，且蓋設出料口5157，密封蓋53被打開時，密封蓋53與操作面5153呈一定角度傾斜，以使出料腔室515內之成型品滑落至密封蓋53上，且沿著密封蓋53準確地滑落至收集盒80內，從而有效地防止成型品於取料過程中掉落損壞，進而提高了取料效率。
請參閱圖4，本發明第二實施方式之真空成型裝置200與第一實施方式之真空成型裝置100大致相同，真空成型裝置200同樣包括真空室101、第一真空泵201、模具301、真空容器501、第二真空泵601及取料結構701，真空容器501包括連接腔室5012、出料腔室5015及設置於連接腔室5012和出料腔室5015之間之閥門腔室5013。其不同在於，連接腔室5012之底面5017和出料腔室5015之出料面5018位於同一水平面，連接腔室5012之密封面5019由底面5017朝向閥門腔室5013傾斜凸伸形成，且閥門腔室5013與密封面5019相對設置，出料面5018與密封面5019及底面5017之相交處相連接。
可理解，密封蓋53及出料口5157可省略，取料結構70從真空室10取出之成型品直接放置於出料腔室515內，等到成型品製造完全結束後將真空容器50從真空室10拆卸下來，且從取料通道511取出出料腔室515內之成型品即可，對應地無需第一真空泵20及第二真空泵60，從而可省略第一真空泵20及第二真空泵60。可理解，第一驅動件57可省略，直接由人工作業密封件55於閥門腔室513內活動即可。
綜上所述，本發明符合發明專利要件，爰依法提出專利申請。惟，以上所述者僅為本發明之較佳實施例，舉凡熟悉本案技藝之人士，在爰依本發明精神所作之等效修飾或變化，皆應涵蓋於以下之如申請專利範圍內。
無
100‧‧‧真空成型裝置
10‧‧‧真空室
11‧‧‧取料口
20‧‧‧第一真空泵
30‧‧‧模具
50‧‧‧真空容器
51‧‧‧殼體
511‧‧‧取料通道
512‧‧‧連接腔室
5121‧‧‧連接面
5123‧‧‧底面
5125‧‧‧密封面
513‧‧‧閥門腔室
5137‧‧‧支撐壁
515‧‧‧出料腔室
5157‧‧‧出料口
517‧‧‧開口
53‧‧‧密封蓋
55‧‧‧密封件
57‧‧‧第一驅動件
60‧‧‧第二真空泵
70‧‧‧取料結構

Claims (10)

  1. 一種真空容器，用以連接真空成型裝置之真空室，該真空容器包括連接腔室、閥門腔室、出料腔室及密封件，其改良在於：該連接腔室之底面上傾斜設有密封面，該連接腔室連接該真空室，該出料腔室相對該連接腔室設置，該出料腔室內設有用以與該真空室相連通之取料通道，該閥門腔室設置於該連接腔室及該出料腔室之間，且與該密封面相對設置，該密封件活動地收容於該閥門腔室內，且該密封件之密封方向相對該連接腔室之底面傾斜設置，以使該密封件能夠沿著該閥門腔室之側壁滑動至該連接腔室之底面上，且該密封件與該密封面緊密貼合，使得該密封件能夠將該連接腔室與該閥門腔室和該出料腔室密封隔開。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之真空容器，其中，該真空容器還包括密封蓋，該出料腔室貫通開設有與該取料通道相連通之出料口，該密封蓋樞接於該出料腔室上，且蓋設該出料口，以密封出料腔室，該密封蓋被打開時，該密封蓋位於該出料口之下方，且該密封蓋相對該出料腔室傾斜設置，以使該取料通道內之成型品能夠沿著該密封蓋滑落至預設位置處。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之真空容器，其中，該閥門腔室包括頂壁、第一導向壁、第二導向壁及支撐壁，該第一導向壁由該頂壁之一側邊緣垂直延伸至該連接腔室之頂面，該第二導向壁由該頂壁之另一側邊緣垂直延伸至該出料腔室，且與該第一導向壁平行設置，該第二導向壁與該密封面位於同一平面上，該支撐壁由該第一導向壁遠離該頂壁之一端垂直延伸，且與該頂壁平行設置，該密封件之側壁分別與該第一導向壁及該第二導向壁相抵持，於該第一驅動件之驅動下，該密封件能夠沿著該第一導向壁及該第二導向壁滑動至該連接腔室之底面上，並使該密封件之底面與該支撐壁相抵持，且該密封件與該密封面緊密貼合。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之真空容器，其中，該真空容器還包括第一驅動件，該頂壁上貫通開設有穿設孔，該密封件包括密封頭及凸設於該密封頭一側上之連接桿，該密封頭之側壁分別與該第一導向壁及該第二導向壁相抵持，該連接桿活動地穿設於該穿設孔，並部分凸出於該殼體外，且與該第一驅動件相連接，於該第一驅動件之驅動下，該密封頭能夠沿著該第一導向壁及該第二導向壁移動至該連接腔室之底面上，使得該密封頭與該支撐壁相抵持，且該密封件與該密封面緊密貼合。
  5. 如申請專利範圍第3項所述之真空容器，其中，該出料腔室包括安裝面、操作面及出料面，該安裝面與該頂壁及該第二導向壁相交處相連接，該操作面由該安裝面遠離該閥門腔室之一端邊緣垂直延伸形成，該出料面由該操作面遠離該安裝面之一端邊緣垂直延伸形成，並與該安裝面平行設置，且與該密封面相連接，該出料口開設於該出料面上。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之真空容器，其中，該安裝面及該出料面為水平面，且該安裝面與該支撐壁傾斜設置，該出料面與該底面平行設置，該密封面二端分別與該安裝面及該底面相連接。
  7. 如申請專利範圍第5項所述之真空容器，其中，該出料面和該底面位於同一水平面，該密封面由該底面朝向該閥門腔室傾斜凸伸形成，該出料面與該密封面及該底面之相交處相連接。
  8. 一種真空成型裝置，其包括真空室、與該真空室相連之真空容器，該真空容器包括連接腔室、閥門腔室、出料腔室及密封件，其改良在於：該連接腔室之底面上傾斜設有密封面，該連接腔室與該真空室相連接，該出料腔室相對該連接腔室設置，該出料腔室內設有與該真空室相連通之取料通道，該閥門腔室設置於該連接腔室及該出料腔室之間，且與該密封面相對設置，該密封件活動地收容於該閥門腔室內，且該密封件之密封方向相對該連接腔室之底面傾斜設置，以使該密封件能夠沿著該閥門腔室之側壁滑動至該連接腔室之底面上，且該密封件與該密封面緊密貼合，使得該密封件能夠將該連接腔室與該閥門腔室和該出料腔室密封隔開。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之真空成型裝置，其中，該真空容器還包括密封蓋，該出料腔室貫通開設有與該取料通道相連通之出料口，該密封蓋樞接於該出料腔室上，且蓋設該出料口，以密封出料腔室，該密封蓋被打開時，該密封蓋位於該出料口之下方，且該密封蓋相對該出料腔室傾斜設置，以使該取料通道內之成型品能夠沿著該密封蓋滑落至預設位置處。
  10. 如申請專利範圍第8項所述之真空成型裝置，其中，該閥門腔室包括頂壁、第一導向壁、第二導向壁及支撐壁，該第一導向壁由該頂壁之一側邊緣垂直延伸至該連接腔室之頂面，該第二導向壁由該頂壁之另一側邊緣垂直延伸至該出料腔室，且與該第一導向壁平行設置，該第二導向壁與該密封面位於同一平面上，該支撐壁由該第一導向壁遠離該頂壁之一端垂直延伸，且與該頂壁平行設置，該密封件之側壁分別與該第一導向壁及該第二導向壁相抵持，於該第一驅動件之驅動下，該密封件能夠沿著該第一導向壁及該第二導向壁滑動至該連接腔室之底面上，並使該密封件之底面與該支撐壁相抵持，且該密封件與該密封面緊密貼合。
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