JP2001012650A - 真空用ゲートバルブ - Google Patents

真空用ゲートバルブ

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JP2001012650A
JP2001012650A JP11188154A JP18815499A JP2001012650A JP 2001012650 A JP2001012650 A JP 2001012650A JP 11188154 A JP11188154 A JP 11188154A JP 18815499 A JP18815499 A JP 18815499A JP 2001012650 A JP2001012650 A JP 2001012650A
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seal
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band
shaped
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JP11188154A
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Kazuyoshi Shimoda
田 一 喜 下
Yoshinobu Nakamura
村 義 信 中
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BARUKAA SEIKI KK
Nippon Valqua Industries Ltd
Nihon Valqua Kogyo KK
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BARUKAA SEIKI KK
Nippon Valqua Industries Ltd
Nihon Valqua Kogyo KK
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 コンパクトで、しかも十分なシール接触面積
を有し、そのため、一定の締めつけ圧力によって確実に
シールすることができるシール性能が極めて良好な、特
に真空加工処理装置などに好適に用いることができる真
空用ゲートバルブを提供する。 【解決手段】 弁体が弁体用開口部を下方に移動して第
1シール座面に第1当接面が着座した状態で、シール部
材の第1の帯状シール部分および第2の帯状シール部分
と弁体の第1装着溝の底部の接触点がそれぞれ、帯状シ
ール部分の断面円の中心よりも内方に位置するようにす
るとともに、第1シール座面のテーパ状の傾斜面に、接
触点を中心に、帯状シール部分の断面円の直径を半径と
した円弧状の凹部を形成した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、真空室と外部雰囲気と
の間、または真空室相互間に設けられる真空用ゲートバ
ルブに関する。
【0002】
【従来の技術】シリコンウェハなどの半導体製造、薄膜
製造、液晶製造などにおいては、クリーンな環境下、高
い真空中で、イオンプレーティング、プラズマエッチン
グなどのワークの加工、処理などが行われている。この
ために使用する真空装置では、予備室に一旦ワークを搬
入して、予備室内を所定の真空度にした後、加工室、処
理室などへワークを順次搬入して、加工、処理などが行
われるように構成されている。また、これらの予備室
と、加工室、処理室などの間の搬出入口には、高い密
封、気密性を有する真空用ゲートバルブが設けられてお
り、加工室、処理室の真空度、クリーン条件が一定に維
持されるようになっている。
【0003】このような用途に使用される真空用ゲート
バルブは、図9〜図12に示したような構造を有してい
る。すなわち、真空用ゲートバルブ100は、一対の短
側壁105と一対の長側壁106とを備えた箱形状の弁
箱本体102を有しており、その長側壁106を貫通し
て略矩形状のゲート開口部108が形成されている。ま
た、弁箱本体102内に構成される空間部の内壁を構成
する四側壁から内方に向かって、前記空間部を上方空間
部110と下方空間部104とに区画する受座隔壁11
4が延設されている。受座隔壁114の長手側の内壁部
分116、118から弁箱本体102の内側底壁120
にいたる略U字状区間のシール座面122が形成されて
いる。また、この真空用ゲートバルブ100では、ゲー
ト開口部108に対して垂直方向に連続して形成された
弁体用開口部124を介して、上下方向に移動可能な弁
体130を備えている。
【0004】弁体130は、図10〜図12に示したよ
うに、アルミあるいはSUSなどの金属からなる弁体本
体131と、図13〜図14に示したように、この弁体
本体131に装着されフッ素ゴムなどからなる弾性体か
らなるシール部材133とから構成されている。弁体本
体131は、長形の円盤状に形成された基端部132と
その下方に延出して形成された板状部140とから構成
されている。このように形成された弁体本体131に、
図12〜図14に示したようなシール部材133が装着
される。
【0005】シール部材133は、2本の直線部が略平
行に延び両端部が環状に結ばれた第1シール部分138
と、この第1シール部分138の両端部から略U字状に
垂下して延出された第2シール部分146とから構成さ
れている。このようなシール部材133が弁体本体13
1に装着された弁体130を、受座隔壁114内の弁体
用開口部124を介して下方に降下させると、第1シー
ル部分138および第2シール部分146が、それぞれ
受座隔壁114の傾斜した第1シール座面139および
略U字状に連続して形成された第2シール座面122に
当接することにより、ゲート開口部108を閉鎖するよ
うに構成されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、最近では、
コンパクト化ならびにコスト低減を目的として、マルチ
チャンバー方式と呼ばれる真空加工処理装置が開発され
ている。このマルチチャンバー方式に用いられる真空加
工処理装置200は、図15に示したように、中央に設
けた共通真空室202の周囲に複数のそれぞれ別の加
工、処理を実施するための真空室204〜209が設け
られ、これらの真空室と共通真空室202との間に、上
記したような真空用ゲートバルブ100が設けられてい
る。そして、共通真空室202に設けられたロボット2
12を介して、ウェハーなどの被処理材料Dを各真空室
にゲートバルブ100を介して出し入れして処理するよ
うになっている。そして、処理し終わった被処理材料D
は、出し入れ用真空室211を介して、真空貯蔵カセッ
ト214に収納されるようになっている。
【0007】この場合、半導体ウェハや液晶などのサイ
ズの大型化に伴い、真空用ゲートバルブのゲート開口部
の形状が円形のものから、矩形状などの大口径のものが
用いられ、弁体自体も大型化している。そのため、弁体
のシール面積が大きくなり、片側の部屋を真空にし、他
方の側を大気圧にするなど約1気圧の圧力差で使用する
場合においては、弁体に作用する力が大きくなってい
る。
【0008】このため、通常では、弁体が圧力差によっ
て押さえつけられる側を真空側とし、押さえつける側を
大気側となるように予め設計された真空用ゲートバルブ
を用いているが、弁体を弁座に対して押さえつける圧力
にはシール材の締め代が限定されているため限度がある
ため、開口部のシール面積が小さい場合には対処が可能
であったが、このような大型化に伴って、シール圧力が
不足することとなってシール性能が低下するおそれがあ
った。
【0009】すなわち、上記したような従来の真空用ゲ
ートバルブ100では、図11及び図16に示したよう
に、弁体本体131に装着された弁体130を、受座隔
壁114内の弁体用開口部124を介して下方に降下さ
せ、シール部材133の第1シール部分138が受座隔
壁114の傾斜した第1シール座面139に当接する際
には、押しつけ圧力によって、第1シール部分138が
押し潰されることによって、第1シール座面139との
接触部150におけるシール接触面積が大きくなり、こ
れによってシール性を確保するようになっている。
【0010】しかしながら、従来の真空用ゲートバルブ
100では、押しつけ圧力によるシール部材133の第
1シール部分138の押し潰し量が比較的小さいので、
第1シール座面139との接触部150におけるシール
接触面積が小さく、そのままでは、真空、超真空などの
過酷な条件で用いるにはシール性が良好でない。そのた
め、従来では、弁体130を上下に駆動するエアーシリ
ンダーなどの駆動機構の駆動力、すなわち、押し付け圧
力を増大することにより対処している。
【0011】しかしながら、シール材の締め代が限定さ
れているため限度があるとともに、エアーシリンダーな
どの駆動機構の駆動力を増大するためには、弁体130
とエアーシリンダーなどの駆動機構とのシャフトなどの
接続部の剛性を上げなければならず、そのため機械も大
型化してしまうこととなっていた。本発明はこのような
実情に鑑み、コンパクトで、しかも十分なシール接触面
積を有し、そのため、一定の締めつけ圧力によって確実
にシールすることができるシール性能が極めて良好な、
特に真空加工処理装置などに好適に用いることができる
真空用ゲートバルブを提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は、前述した課題
および目的を達成するために発明なされたものであっ
て、本発明の真空用ゲートバルブは、長側壁と短側壁と
を備えた箱形状の弁箱本体の長側壁を貫通するように形
成されたゲート開口部と、前記弁箱本体内に構成される
空間部の内壁を構成する四側壁から内側に延設され、前
記空間部を上方空間部と下方空間部とに区画するととも
に、その上面に前記ゲート開口部に対して略垂直方向で
かつ傾斜した第1シール座面を形成する受座隔壁と、前
記受座隔壁の長手側の両端内壁部分から内側下方に傾斜
してゲート開口部の底面との間に連続して形成された第
2シール座面と、前記受座隔壁の内方に形成された弁体
用開口部を介して上下移動可能であり、上方から最下方
位置に至るまで移動することにより前記第1シール座面
および前記第2シール座面に着座する一方、最下方位置
から上方に移動することにより前記第1シール座面およ
び前記第2シール座面から離反する弁体とを備え、前記
弁体は、前記第1シール座面に当接する第1当接面並び
に前記第2シール座面に当接する縦方向の第2当接面と
を備えた弁体本体と、この弁体本体の第1当接面に形成
された略水平方向に広がる第1装着溝および第2当接面
に形成された略縦方向に広がる第2装着溝との間に装着
されるシール部材とから構成され、前記シール部材は、
前記第1当接面と密に当接され、両端部が連結された第
1の帯状シール部分および第2の帯状シール部分と、こ
れら第1の帯状シール部分および第2の帯状シール部分
に連結されて前記第2当接面と密に当接される第3の帯
状シール部分との連結体で構成されており、また前記弁
体に形成された前記第1当接面は、下方に近づくに従っ
て内方に傾斜してテーパ状に形成され、かつこの第1当
接面に当接する前記第1シール座面も内方に傾斜したテ
ーパ状に形成されており、前記弁体が前記弁体用開口部
を下方に移動して前記第1シール座面に前記第1当接面
が着座した状態で、前記シール部材の第1の帯状シール
部分および第2の帯状シール部分と弁体の第1装着溝の
底部の接触点がそれぞれ、前記帯状シール部分の断面円
の中心よりも内方に位置するようにするとともに、前記
第1シール座面のテーパ状の傾斜面に、前記接触点を中
心に、前記帯状シール部分の断面円の直径を半径とした
円弧状の凹部が形成され、前記弁体が前記弁体用開口部
を下方に移動して前記第1シール座面に前記第1当接面
が当接するときに、テーパ状の斜面に案内されて着座す
ることを特徴とする。
【0013】このような構成とすることによって、弁体
が弁体用開口部を下方に移動して、第1シール座面に、
弁体に形成された第1当接面が当接するときに、これら
の面が相補的なテーパ状斜面となっているので、テーパ
状の斜面に案内されて着座することになるが、この際、
テーパ効果によって、当該斜面間に剪断力が生じて、確
実にシール効果を達成することができる。
【0014】また、シール部材の第1の帯状シール部分
および第2の帯状シール部分と弁体の第1装着溝の底部
の接触点がそれぞれ、帯状シール部分の断面円の中心よ
りも内方に位置するので、弁体が弁体用開口部を下方に
移動して、第1シール座面に、弁体に形成された第1当
接面が当接するときに、下方への押圧方向が接触角度だ
け外側へ偏位することになる。
【0015】しかも、第1シール座面のテーパ状の傾斜
面に、前記接触点を中心に、帯状シール部分の断面円の
直径を半径とした円弧状の凹部が形成されているので、
剪断力が生じて、帯状シール部分の断面円が円弧状の凹
部内で大きく外側に押し潰されて、接触が大きくなるの
で、第1シール座面へのシール性が極めて良好となる。
【0016】従って、このような構成による本発明によ
れば、シール接触面積を十分に確保でき、シール性が極
めて良好であり、しかも、装置全体の大きさをコンパク
トに抑えることができる。
【0017】
【発明の実施の形態】以下図面に基づいて本発明の実施
例を説明する。図1は、本発明の一実施例に係る真空用
ゲートバルブの部分断面図、図2は、図1に示した真空
用ゲートバルブの閉弁状態を示すA−A線方向の要部概
略断面図、図3は、図1に示した弁箱本体の要部斜視図
である。
【0018】真空用ゲートバルブ10は、箱形状の弁箱
本体12と、その上部に設けられた駆動ボックス14と
から構成されている。弁箱本体12は、図3に示したよ
うに、長側壁11、13と短側壁18、20とを備えた
箱状に形成されている。弁箱本体12内には、その内壁
を構成する四側壁から内側に受座隔壁26が延設され、
この受座隔壁26により、内部の空間が下方空間部30
と上方空間部28とに区画されている。また、下方空間
部30を貫通して、対向する長側壁11、13に略矩形
状のゲート開口部22、24を備えている。
【0019】この受座隔壁26の上面部は内方にテーパ
状に傾斜しており、この上面部が第1シール座面32を
構成している。この第1シール座面32は、ゲート開口
部22、24に対して略垂直方向に形成されている。ま
た、この受座隔壁26によって、水平方向のゲート開口
部22、24に対して垂直方向に弁体用開口部34が形
成されている。また、下方空間部30の底面および長手
側の両端内壁部分に渡って略U字状の第2シール座面4
4が形成されている。
【0020】なお、第1シール座面32のテーパ状の傾
斜面32aのテーパ角度としては、5〜20°、好まし
くは、8〜10°とするのが、後述するように剪断力が
発生してシール部材58のシール接触面積を増大させ
て、シール性を確保するためには望ましい。一方、弁体
用開口部34を介して、上下方向に移動可能な弁体46
を備えている。この弁体46は、図4に示したように、
形成されている。すなわち、SUSあるいはAlなどの
金属から形成された弁体本体57と、この弁体本体57
に装着されフッ素樹脂などから形成されるシール部材5
8とから構成されている。弁体本体57は、上方から見
て長方形状で、かつ長手方向両端部が傾斜してなる弁体
基端部50と、該弁体基端部50の下面に延出された板
状部56とから構成されている。なお、板状部56は、
図3に示した弁箱本体12の弁体用開口部34を介して
下方空間部30内に挿入される部分である。
【0021】弁体本体57の弁体基端部50の下面に
は、図2に示したように、斜め上方にに傾斜した第1当
接面25、25が形成されている。また、板状部56の
側面には、略U字状に第2当接面27が形成されてい
る。なお、これら第1当接面25および第2当接面27
は、第1シール座面32および第2シール座面44に対
応してそれぞれ内方にテーパ状状に傾斜して形成されて
いる。また、この第1当接面25は弁箱本体12の第1
シール座面32に当接し、第2当接面27は弁箱本体1
2の第2シール座面44に当接するものである。
【0022】さらに、この弁体本体57の弁体基端部5
0の下面には、環状の第1装着溝35が形成されてい
る。また、板状部56の側面に略U字状の第2装着溝3
6が形成されている。これらの装着溝35、36内にシ
ール部材58が装着される。一方、シール部材58は、
フッ素樹脂などの柔軟な素材から一体的に形成されてい
る。このシール部材58は、図4および図5に示したよ
うに、上方に2本、下方1本延びる3本の帯状シール部
分59、60、61とから構成されている。これらの帯
状シール部分は、直線状に延びる中央部aと、この中央
部aの両端部から内側にR(アール)が形成されるよう
に、湾曲して形成された裾部bとから構成されている。
また、これらは、連結部62、63により連結されてい
る。すなわち、このシール部材58は、図5(a)、
(b)に示したように、中央位置Aから第1の帯状シー
ル部分59および第2の帯状シール部分60を上方に、
第3の帯状シール部分61を下方に、それぞれ引っ張っ
たような形状であり、換言すれば中央位置Aから上下方
向に略対称形状になっている。
【0023】このように形成されたシール部材58で
は、上方の第1、2の帯状シール部分59、60と、下
方の第3の帯状シール部分61との間に、大きな空間部
Sを確保することができる。本実施例では、このように
形成されたシール部材58が弁体本体58に装着されて
いる。
【0024】また、図6に示したように、弁体46が弁
体用開口部34を下方に移動して、第1シール座面32
に第1当接面25が着座した状態で、シール部材58の
第1の帯状シール部分59と、弁体46の第1装着溝3
5の底部35aの接触点Pが、帯状シール部分59の断
面円の中心Mよりも内方に位置するように構成されてい
る。
【0025】さらに、この場合、第1シール座面32の
テーパ状の傾斜面32aに、接触点Pを中心に、第1の
帯状シール部分59の断面円の直径Rを半径とした円弧
状の凹部70が形成されている。同様に、シール部材5
8の第2の帯状シール部分60と、弁体46の第1装着
溝35の底部35aの接触点Pがそれぞれ、帯状シール
部分60の断面円の中心Mよりも内方に位置するように
構成されるとともに、第1シール座面32のテーパ状の
傾斜面32aに、接触点Pを中心に、第2の帯状シール
部分60の断面円の直径Rを半径とした円弧状の凹部7
0が形成されている。
【0026】なお、このような構成については、図7に
示したように、シール部材58の連結部62、63にお
いても同様である。すなわち、弁体46が弁体用開口部
34を下方に移動して、第1シール座面32に第1当接
面25が着座した状態で、シール部材58の連結部62
(63)と、弁体46の第1装着溝35の底部35aの
接触点Pが、帯状シール部分59の断面円の中心Mより
も内方に位置するように構成されている。
【0027】さらに、この場合、第1シール座面32の
テーパ状の傾斜面32aに、接触点Pを中心に、第1の
帯状シール部分59の断面円の直径Rを半径とした円弧
状の凹部70が形成されている。このように構成される
ことによって、シール部材58の第1の帯状シール部分
59および第2の帯状シール部分60と弁体46の第1
装着溝35の底部35aの接触点Pがそれぞれ、帯状シ
ール部分59、60の断面円の中心よりも内方に位置す
るので、弁体46が弁体用開口部34を下方に移動し
て、第1シール座面32に、弁体46に形成された第1
当接面25が当接するときに、下方への押圧方向が接触
角度θだけ外側へ偏位することになる。
【0028】しかも、第1シール座面32のテーパ状の
傾斜面32aに、接触点Pを中心に、帯状シール部分5
9、60の断面円の直径Rを半径とした円弧状の凹部7
0が形成されているので、剪断力Sが生じて、帯状シー
ル部分59、60の断面円が円弧状の凹部70内で大き
く外側に押し潰されて、接触が大きくなるので、第1シ
ール座面32へのシール性が極めて良好となる。
【0029】なお、この場合、接触点Pが、帯状シール
部分59の断面円の中心Mよりも内方に位置する距離L
としては、0.5〜5mm、好ましくは、1.0〜2.
0mmとするのが、シール性能の向上の点からすれば望
ましい。また、接触角度θとしては、5〜20°、好ま
しくは、8〜10°とするのが、シール性能の向上の点
からすれば望ましい。
【0030】一方、シール部材58は、フッ素樹脂など
の柔軟な素材から一体的に形成されている。このシール
部材58は、図4および図5に示したように、上方に2
本、下方1本延びる3本の帯状シール部分59、60、
61とから構成されている。これらの帯状シール部分
は、直線状に延びる中央部aと、この中央部aの両端部
から内側にR(アール)が形成されるように、湾曲して
形成された裾部bとから構成されている。また、これら
は、連結部62、63により連結されている。すなわ
ち、このシール部材58は、図5(a)、(b)に示し
たように、中央位置Aから第1の帯状シール部分59お
よび第2の帯状シール部分60を上方に、第3の帯状シ
ール部分61を下方に、それぞれ引っ張ったような形状
であり、換言すれば中央位置Aから上下方向に略対称形
状になっている。
【0031】このように形成されたシール部材58で
は、上方の第1、2の帯状シール部分59、60と、下
方の第3の帯状シール部分61との間に、大きな空間部
Sが構成される。従って、この真空用ゲートバルブ10
が、図15に示したように、マルチチャンバ方式の真空
加工処理装置200に用いられているとする。この真空
加工処理装置200で、図8に示したように従来例の構
造では、大径のウェハを処理しようとする場合、幅方向
にPの距離を確保しなければ、これよりも幅の狭いQの
距離で良いことになる。したがって、従来例に比べてシ
ール部材58ならびに弁体本体57を小型化することが
できる。また、これを使用する真空加工装置200の小
型化に寄与することができる。
【0032】また、シール部材58がこのような形状に
形成されていても、シール面積は従来例の場合と比べて
同様であるため、十分なシール力を発揮することができ
る。なお、上記実施例では、弁体本体57の弁体基端部
50の下面に、斜め上方にに傾斜した第1当接面25、
25を形成し、これに対応する形状の第1シール座面3
2とし、さらに、シール部材58は、図5(a)、
(b)に示したように、中央位置Aから第1の帯状シー
ル部分59および第2の帯状シール部分60を上方に、
第3の帯状シール部分61を下方に、それぞれ引っ張っ
たような形状としたが、図9〜図12に示した従来のよ
うに、このような形状とすることなく、これらの部分を
平坦な形状とすることも勿論可能である。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る真空
用ゲートバルブによれば、弁体が弁体用開口部を下方に
移動して、第1シール座面に、弁体に形成された第1当
接面が当接するときに、これらの面が相補的なテーパ状
斜面となっているので、テーパ状の斜面に案内されて着
座することになるが、この際、テーパ効果によって、当
該斜面間に剪断力が生じて、確実にシール効果を達成す
ることができる。
【0034】また、シール部材の第1の帯状シール部分
および第2の帯状シール部分と弁体の第1装着溝の底部
の接触点がそれぞれ、帯状シール部分の断面円の中心よ
りも内方に位置するので、弁体が弁体用開口部を下方に
移動して、第1シール座面に、弁体に形成された第1当
接面が当接するときに、下方への押圧方向が接触角度だ
け外側へ偏位することになる。
【0035】しかも、第1シール座面のテーパ状の傾斜
面に、前記接触点を中心に、帯状シール部分の断面円の
直径を半径とした円弧状の凹部が形成されているので、
剪断力が生じて、帯状シール部分の断面円が円弧状の凹
部内で大きく外側に押し潰されて、接触が大きくなるの
で、第1シール座面へのシール性が極めて良好となる。
【0036】従って、このような構成による本発明によ
れば、シール接触面積を十分に確保できるので、一定の
締めつけ圧力によって確実にシールすることができシー
ル性が極めて良好であり、しかも、装置全体の大きさを
コンパクトに抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明の一実施例に係る真空用ゲート
バルブの部分断面図である。
【図2】図2は、図1に示した真空用ゲートバルブの閉
弁状態を示すA−A線方向の要部概略断面図である。
【図3】図3は、図1に示した弁箱本体の要部斜視図で
ある。
【図4】図4は、弁体の分解斜視図である。
【図5】図5は、本実施例によるシール部材の三面図で
ある。
【図6】図6は、本実施例の作用を示す図2の部分拡大
断面図である。
【図7】図7は、本実施例の作用を示す別の部分拡大断
面図である。
【図8】図8は、本実施例の作用を従来例と比較して示
すシール部材の正面図である。
【図9】図9は、従来の真空用ゲートバルブの正面図で
ある。
【図10】図10は、従来の真空用ゲートバルブの部分
断面正面図である。
【図11】図11は、従来の真空用ゲートバルブの横断
面図である。
【図12】図12は、従来の弁箱本体の部分断面斜視図
である。
【図13】図13は、従来のシール部材の正面図であ
る。
【図14】図14は、従来のシール部材の上面図であ
る。
【図15】図15は、従来のマルチチャンバー方式の真
空加工処理装置を示す概略図である。
【図16】図16は、従来の真空用ゲートバルブの作用
を示す部分拡大断面図である。
【符号の説明】
11、13 長側壁 12 弁箱本体 18、20 短側壁 22、24 ゲート開口部 25 第1当接面 26 受座隔壁 27 第2当接面 28 上方空間部 30 下方空間部 32 第1シール座面 32a 傾斜面 35 第1装着溝 35a 底部 36 第2装着溝 44 第2シール座面 46 弁体 57 弁体本体 59 第1の帯状シール部分 60 第2の帯状シール部分 61 第3の帯状シール部分 70 凹部 a 中央部 b 裾部 P 接触点
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中 村 義 信 静岡県浜松市新都田一丁目2番4号 バル カーセイキ株式会社浜松事業所内 Fターム(参考) 3H066 AA03 BA17 DA02

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 長側壁と短側壁とを備えた箱形状の弁箱
    本体の長側壁を貫通するように形成されたゲート開口部
    と、 前記弁箱本体内に構成される空間部の内壁を構成する四
    側壁から内側に延設され、前記空間部を上方空間部と下
    方空間部とに区画するとともに、その上面に前記ゲート
    開口部に対して略垂直方向でかつ傾斜した第1シール座
    面を形成する受座隔壁と、 前記受座隔壁の長手側の両端内壁部分から内側下方に傾
    斜してゲート開口部の底面との間に連続して形成された
    第2シール座面と、 前記受座隔壁の内方に形成された弁体用開口部を介して
    上下移動可能であり、上方から最下方位置に至るまで移
    動することにより前記第1シール座面および前記第2シ
    ール座面に着座する一方、最下方位置から上方に移動す
    ることにより前記第1シール座面および前記第2シール
    座面から離反する弁体とを備え、 前記弁体は、前記第1シール座面に当接する第1当接面
    並びに前記第2シール座面に当接する縦方向の第2当接
    面とを備えた弁体本体と、この弁体本体の第1当接面に
    形成された略水平方向に広がる第1装着溝および第2当
    接面に形成された略縦方向に広がる第2装着溝との間に
    装着されるシール部材とから構成され、 前記シール部材は、前記第1当接面と密に当接され、両
    端部が連結された第1の帯状シール部分および第2の帯
    状シール部分と、これら第1の帯状シール部分および第
    2の帯状シール部分に連結されて前記第2当接面と密に
    当接される第3の帯状シール部分との連結体で構成され
    ており、 また前記弁体に形成された前記第1当接面は、下方に近
    づくに従って内方に傾斜してテーパ状に形成され、かつ
    この第1当接面に当接する前記第1シール座面も内方に
    傾斜したテーパ状に形成されており、 前記弁体が前記弁体用開口部を下方に移動して前記第1
    シール座面に前記第1当接面が着座した状態で、前記シ
    ール部材の第1の帯状シール部分および第2の帯状シー
    ル部分と弁体の第1装着溝の底部の接触点がそれぞれ、
    前記帯状シール部分の断面円の中心よりも内方に位置す
    るようにするとともに、 前記第1シール座面のテーパ状の傾斜面に、前記接触点
    を中心に、前記帯状シール部分の断面円の直径を半径と
    した円弧状の凹部が形成され、 前記弁体が前記弁体用開口部を下方に移動して前記第1
    シール座面に前記第1当接面が当接するときに、テーパ
    状の斜面に案内されて着座することを特徴とする真空用
    ゲートバルブ。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101865299A (zh) * 2010-07-01 2010-10-20 河南理工大学 平楔浮动式陶瓷闸阀
JP2015009276A (ja) * 2013-07-01 2015-01-19 鴻富錦精密工業(深▲セン▼)有限公司 真空成形装置及び該真空成形装置の真空容器

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101865299A (zh) * 2010-07-01 2010-10-20 河南理工大学 平楔浮动式陶瓷闸阀
JP2015009276A (ja) * 2013-07-01 2015-01-19 鴻富錦精密工業(深▲セン▼)有限公司 真空成形装置及び該真空成形装置の真空容器
US9352390B2 (en) 2013-07-01 2016-05-31 Ji Zhun Precision Industry (Hui Zhou) Co., Ltd. Vacuum container and vacuum forming device using the same

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