TWI549915B - 於玻璃帶形成期間對玻璃帶之溫度控制 - Google Patents
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Description
此申請案依據專利法主張享有2011年11月29號申請之美國專利臨時申請案第61/564396號的優先權,本案仰賴該案內容且該案內容以引用方式全文併入本案。
本案說明書大體上有關用於作為顯示裝置基板之玻璃帶的製造,且更明確言之,本案說明書係有關在玻璃帶形成期間用於控制玻璃帶之溫度的方法和設備。
顯示裝置可用於各種應用中。例如,薄膜式電晶體液晶顯示器(TFT-LCD)可用於筆記型電腦、平板型桌上顯示器、LCD電視和網際網路與通訊裝置,且這些僅是其中一部分應用而已。
諸如TFT-LCD面板和有機發光二極體(OLED)面
板等諸多顯示裝置係直接在平面玻璃板(玻璃基板)上製造而成。為提高產率且降低成本,典型的面板製造製程係在單個基板或一基板的其中一部分上同時製造多個面板。在此等製程中的不同階段,沿切割線將該基板分割成多部分。
其中一種用於形成玻璃板的此種製程通常稱為融合拉引製程(fusion draw process)。該融合製程,特別是溢流下拉式融合製程包含供應管(熟知的隔離管(isopipe)),該供應管提供熔融玻璃給由耐火主體所形成的收集槽。在溢流下拉式融合製程期間,熔融玻璃從該供應管流至該槽且隨後在該槽的兩側壁頂部處溢流而出,從而形成沿著該供應管之外表面向下且隨後向內流動的兩片玻璃板。該兩片玻璃板於該供應管的底部或根部處匯合並於該處融合在一起而成為單片玻璃板。該單片玻璃板隨後進入拉引設備,該拉引設備利用將該玻璃板拉離該根部的速度而控制該玻璃板的厚度。該拉引設備位於該根部的下游處,使得該單片玻璃板在即將與該拉引設備接觸之前便已冷卻且變硬。
由於該融合拉引製程極適合用於形成高品質的玻璃板,因此期望將該製程用在除LCD以外的其他市場上。實例包括可用於光電面板的化學強化玻璃和特用玻璃。在此等玻璃片的形成過程中可能具有自身的控制冷卻方面上的疑慮。
在一實施例中提供一種冷卻玻璃帶的方法,且該玻
璃帶係利用融合拉引製程所形成。該方法包括使用該融合拉引製程形成玻璃帶,該玻璃帶一旦形成,該玻璃帶垂直通過玻璃轉化溫度區域。引導該玻璃帶通過保護氣室(protective plenum),且該保護氣室至少部分位於拉引區域的底部中。引導氣體進入該保護氣室且沿該玻璃帶之寬廣表面垂直流動。引導該氣體以不小於約100標準立方公尺/小時(Nm3/h)的流速經由至少一出口狹縫離開該保護氣室,且該至少一出口狹縫係貫穿該保護氣室之側壁而形成。
在另一實施例中提供一種冷卻玻璃帶的方法,且該玻璃帶係使用融合拉引製程所形成。該方法包括使用該融合拉引製程形成玻璃帶。該玻璃帶一旦形成,該玻璃帶垂直通過玻璃轉化溫度區域。引導該玻璃帶通過保護氣室,且該保護氣室至少部分位於拉引區域的底部內。待該玻璃帶冷卻至低於該玻璃帶的玻璃轉化溫度之後,隨後引導氣體進入該保護氣室中且沿該玻璃帶的相對寬廣表面垂直流動,藉以進一步冷卻該玻璃帶。引導該氣體經由至少一出口狹縫離開該保護氣室,且該至少一出口狹縫係貫穿該保護氣室之側壁而形成。
在另一實施例中提供一種冷卻玻璃帶的方法,且該玻璃帶係使用融合拉引製程所形成。該方法包括使用該融合拉引製程形成玻璃帶。該玻璃帶一旦形成,該玻璃帶垂直通過玻璃轉化溫度區域。引導該玻璃帶通過保護氣室,且該保護氣室至少部分位於拉引區域的底部內。待該玻璃帶冷卻至低於該玻璃帶的玻璃轉化溫度之後,隨後引導氣體經由該保
護氣室中的底部開口進入該保護氣室中,且該玻璃帶通過該保護氣室以進一步冷卻該玻璃帶。引導該氣體經由至少一對出口狹縫離開該保護氣室,該至少一對出口狹縫包含第一出口狹縫和第二出口狹縫,該第一出口狹縫係貫穿該保護氣室面向該玻璃帶之第一相對寬廣表面的側壁而形成,且該第二出口狹縫係貫穿該保護氣室面向該玻璃帶反面之第二相對寬廣表面的側壁而形成。
下述實施方式將提出本發明所請標的之附加特徵和優點,且所屬領域中熟悉該項技藝者將可部分藉由說明內容或藉由實施本發明所述實施例(包括下述實施方式、申請專利範圍和附圖)而明白或認知所請標的的部分特徵和優點。
應瞭解,以上綜述和以下實施方式描述各種實施例且意欲提供整體概述或架構以助於瞭解請所標的之本質和特性。本發明所含附圖係用於為各種實施例提供進一步瞭解,且該等附圖係併入本案說明書中且構成此說明書的一部分。該等圖式圖示本發明所述之各種實施例並配合該說明內容用於解說所請標的之原理和運作。
10‧‧‧融合製程
13‧‧‧玻璃板
15‧‧‧玻璃帶
16‧‧‧相對寬廣表面
17‧‧‧相對寬廣表面
19a‧‧‧邊緣
19b‧‧‧邊緣
21a‧‧‧珠狀部分
21b‧‧‧珠狀部分
23‧‧‧中心區域
27‧‧‧邊緣滾子
29‧‧‧牽引滾子
31‧‧‧玻璃轉化溫度區域
35‧‧‧刻線
37‧‧‧形成結構/隔離管
39‧‧‧空腔
41‧‧‧根部
50‧‧‧第一區段
60‧‧‧第二區段
70‧‧‧區段
100‧‧‧溫度控制製程
102‧‧‧保護氣室
104‧‧‧頂部開口
106‧‧‧底部開口
108‧‧‧側邊開口/側邊狹縫
110‧‧‧側壁
112‧‧‧側壁
114‧‧‧內部容積
116‧‧‧空氣
118‧‧‧側面
120‧‧‧側面
122‧‧‧出口狹縫
124‧‧‧出口狹縫
130‧‧‧出口狹縫
132‧‧‧出口狹縫
140‧‧‧入口狹縫
142‧‧‧入口狹縫
150‧‧‧排放組件
152‧‧‧狹縫接收部分
154‧‧‧熱氣體輸送部分
C‧‧‧中心線
第1圖係融合拉引製程之實施例的概要圖;第2圖圖示玻璃帶之實施例;第3圖係第1圖之融合拉引製程的概要圖,該融合拉引製程包括在玻璃轉化溫度區域下游或下方的位置處進行對流冷卻;
第4圖圖示用於在玻璃轉化溫度區域下游或下方位置處對玻璃帶進行對流冷卻之系統與製程的實施例;第5圖圖示用於在玻璃轉化溫度區域下游或下方位置處對玻璃帶進行對流冷卻之系統與製程的另一實施例;第6圖圖示用於在玻璃轉化溫度區域下游或下方位置處對玻璃帶進行對流冷卻之系統與製程的另一實施例;及第7圖圖示排放組件的實施例,該排放組件係用於在習知冷卻製程期間排出熱空氣。
本發明所述實施例大體上關於玻璃板之形成,包括形成玻璃板期間(例如,在融合拉引製程期間)對玻璃帶之控制冷卻作用。融合拉引機中可採行強制對流作用。尤其,空氣或其他流體可經由底部開口(例如,經由玻璃帶離開融合拉引機的底部開口處)進入融合拉引機中。隨後可強迫或引導熱空氣經由設置在融合拉引機中的專用開口離開融合拉引機,從而建立空氣氣流以用於冷卻玻璃帶。
以下討論內容係關於融合拉引製程(亦稱為融合製程、溢流下拉製程或溢流製程),應瞭解本案中所揭示和請求的方法與設備亦可應用於其他下拉製程。由於融合拉引製程為已知製程,故本文中省略諸多細節,以避免模糊對本發明之描述。例如在美國專利案第3,682,609號和美國專利案第3,338,696號中描述有融合下拉製程,且該等案件之細節內容以引用方式全文併入本案。
如第1圖所示,融合製程10採用形成結構(隔離管)37,該形成結構將熔融玻璃收納在空腔39中。隔離管包含根部41,來自隔離管之兩匯集側壁的熔融玻璃在根部41處匯合而形成玻璃帶15。玻璃帶15離開該根部後,玻璃帶15首先經過邊緣滾子27且隨後經過牽引滾子29。當玻璃帶15隨拉引而向下移動時,玻璃帶15通過玻璃帶15之玻璃轉化溫度區域(GTTR),玻璃轉化溫度區域係如第1圖中之元件符號31處概要所示者。當溫度高於GTTR時,玻璃帶15的行為基本上類似於黏性流體。當溫度低於GTTR時,玻璃帶15的行為基本上類似於彈性固體。當玻璃帶15從高溫逐漸冷卻而通過玻璃帶15的玻璃溫度轉化區域時,玻璃帶15不會從黏性行為突然轉變成彈性行為。取而代之的是,玻璃帶15的黏度逐漸提高並經過黏-彈性狀態,在黏-彈性狀態期間的黏性反應和彈性反應兩者皆很明顯,且最終玻璃帶15的行為表現如同彈性固體。
儘管GTTR將隨著進行處理的特定玻璃而改變,以LCD玻璃的GTTR值為例,LCD玻璃之GTTR的上限值通常小於或等於約850℃,且LCD玻璃之GTTR的下限值通常大於或等於約650℃,例如該GTTR的下限值可大於或等於約700℃。
在第1圖中,邊緣滾子27在高於GTTR的位置處接觸玻璃帶15,同時圖中顯示牽引滾子29設置在GTTR內。如有需要,牽引滾子亦可設置在該GTTR下方。在邊緣滾子27與玻璃帶15接觸之點處,該等邊緣滾子27的溫度可能低於
玻璃帶15的溫度,例如可對該等邊緣滾子27進行水冷或氣冷。由於此較低溫的作用,該等邊緣滾子27可局部降低玻璃帶15的溫度。此冷卻作用可減少玻璃帶15的變形,即該局部冷卻作用可在拉引期間(例如,藉著牽引滾子29的動作而拉引玻璃帶的期間)幫助控制玻璃帶寬度的縮小作用。牽引滾子29與玻璃帶15接觸時,牽引滾子29通常亦比玻璃帶15冷,但由於該等牽引滾子29位在拉引動作的更低處,因此在牽引滾子29處的溫差小於在邊緣滾子27處的溫差。
如第1圖所示,融合製程中所使用的設備可劃分為第一區段50(在本發明中亦稱為融合下拉機或FDM)和第二區段60(在本發明中亦稱為拉引底部(bottom of the draw)或BOD)。在第一區段50中,如上述般,玻璃帶15相對黏稠,並在高於玻璃轉化區域31的溫度下可能以相對高的速率(例如,以範圍介於約6℃/英吋至約15℃/英吋間的速率)冷卻玻璃帶15。此區域距離根部41可約10英吋至約15英吋。隨後,在玻璃轉化區域31的上部處,冷卻速率可能降到約4℃/英吋至約10℃/英吋之間的範圍。在接下來約10英吋至約15英吋的距離可能維持此較低的冷卻速率。應注意,可藉著調整施加於玻璃帶表面上的加熱/冷卻功率而控制位在根部41前後處之第一區段50內的冷卻速率。
本發明所述之溫度控制方法和設備係有關在第二區段60內對玻璃帶15的冷卻,該第二區段60係位於玻璃轉化區域31下方。BOD或第二區段60亦包括區段70(在本發明中亦稱為行進砧臺(Travelling Anvil Machine)或TAM),在區段
70中,沿著刻線35從玻璃帶15分割出個別玻璃板13。藉著提供保護氣室(protective plenum)以包圍該玻璃帶15可實現此第二區段60內的溫度控制。該保護氣室可包括多個室壁,該等室壁包含相對低熱傳導率的材料且包含電子加熱元件以用於調整玻璃的溫度分佈。至少可部分藉由從玻璃帶15傳遞輻射熱給該保護氣室的室壁、經由室壁傳導熱量和對流作用而將熱從室壁傳遞至外部環境,而從玻璃帶15中排出熱。
短暫地參閱第2圖,第2圖圖示本發明中用於描述玻璃帶15的術語。玻璃帶15具有具有相對寬廣表面16和17、相對狹窄之外邊緣19a和19b、中心線C及珠狀部分(bead portion)21a和21b,該等珠狀部分21a和21b從邊緣19a、19b朝中心線C向內延伸。該等珠狀部分21a和21b通常比中心區域23厚且通常視為無品質區(as non-quality region)而可供搬運玻璃帶15之用。
參閱第3圖,圖中圖示溫度控制製程100之概要側視圖,該溫度控制製程100係用於冷卻第二區段60中的玻璃帶15,第一區段50包含玻璃轉化區域31,而第二區段60位於第一區段50之下方。待玻璃帶15通過牽引滾子29(見第1圖)且穿越玻璃轉化區域31之後,保護氣室102至少部分地包圍玻璃帶15。保護氣室102通常呈垂直配置且具有頂部開口104和底部開口106,玻璃帶15可伸入頂部開口104中而進入該保護氣室102內,玻璃帶15經由底部開口104離開保護氣室102且之後可例如將玻璃帶引導至行進砧臺(TAM)70。可設置貫穿該保護氣室102之側壁110和側壁112的側邊開口
或側邊狹縫108以容許空氣116或其他流體離開保護氣室102的內部容積114。在某些實施例中,可在玻璃帶15的相反兩側面118和120處設置該等狹縫108。此種設置能允許空氣116進入該內部容積114中且沿垂直方向行進,該行進方向通常與玻璃帶15的縱軸呈平行。如圖所示,空氣116可經由該保護氣室102的底部開口106而進入保護氣室102中,且玻璃帶15經由底部開口106離開保護氣室102並朝向行進砧臺(TAM)70前進(見第1圖)。然而,可能具有其他實施例。例如,空氣116可經由形成在側壁110和側壁112中的開口或狹縫而進入保護氣室。
第4圖至第6圖圖示多個示例性的空氣入口和出口位置。首先參閱第4圖,圖中顯示隔離管37使用熔融玻璃形成玻璃帶15。隨後如上述般,利用位於玻璃轉化溫度區域31中的牽引滾子29接收玻璃帶15。接著將玻璃帶15引導至垂直配置之保護氣室102的頂部開口104,保護氣室102包含側壁110和側壁112,側壁110和側壁112形成保護氣室102的內部容器114。在第4圖圖示的示例性實施例中,保護氣室102包含貫穿側壁110的出口狹縫122及貫穿側壁112的出口狹縫124。該等出口狹縫122和124位在玻璃帶15的相反側上,且該等出口狹縫122和124與底部開口106垂直地隔開。在某些實施例中,該等出口狹縫122和124與底部開口106相隔約同等的垂直距離。該等出口狹縫122和124亦可較靠近頂部開口104而距離底部開口106較遠。如圖所見,保護氣室102的一部分可包含至少一部份的玻璃轉化溫度區域
31。該等出口狹縫122和124可設置在該玻璃轉化溫度區域31下方相距一段垂直距離處。
於操作期間,允許空氣116或其他氣體經由該保護氣室102的底部開口106進入該保護氣室中。隨後空氣116在玻璃帶15的兩側面118和120上垂直行進,而藉由對流冷卻該玻璃帶15。隨後熱空氣116由位於玻璃轉化溫度區域31下方(或下游)之一位置處的出口狹縫122和124離開。在某些實施例中,可設置風扇或其他種類的空氣幫浦以驅離內部容積114中的空氣116。在其他實施例中,由於內部容積114內的空氣和外部空氣之間具有溫差而導致發生煙囪效應,故可利用煙囪效應引發空氣流動。可藉由下式計算出由煙囪效應所引發之引流速率的近似值:
其中: Q =煙囪效應之引流速率,立方公尺/秒(m3/s) A =流動面積,平方公尺(m2) C =排放係數(通常介於0.65至0.70) g =重力加速度,9.81m/s2 h =高度或距離,公尺 T i =內部平均溫度,K T o =外部空氣溫度,K
參閱第5圖,保護氣室102包含側壁110和側壁112且進一步包含第一對出口狹縫122和124及第二對出口狹縫130和132。出口狹縫122和130設置成貫穿側壁110,且出口狹縫124和132設置成貫穿側壁112。該等出口狹縫122、130和出口狹縫124和132係位在玻璃帶15的相反側面118和120上,且每對出口狹縫彼此之間垂直隔開並與底部開口106垂直隔開。在某些實施例中,該第一對出口狹縫122和124與該底部開口106之間間隔的垂直距離可大約相等,且該第二對出口狹縫130和132與該底部開口106之間間隔的垂直距離亦可相等。該等出口狹縫122和124亦可較接近頂部開口104而距離底部開口106較遠,且該等出口狹縫130和132可較靠近底部開口106而距離頂部開口104較遠。
在操作期間,允許空氣116和其他氣體經由保護氣室102的底部開口106進入保護氣室中。隨後空氣116在玻璃帶15的兩側面118和120上垂直行進,並藉由對流冷卻該玻璃帶15。隨後,熱空氣116從位於玻璃轉化溫度區域31下方(或下游)之位置處的出口狹縫130、132和出口狹縫122、124離開。在某些實施例中,可設置風扇或其他種類的空氣幫浦以驅離內部容積114中的空氣116。在其他實施例中,由於內部容積114內的空氣和外部空氣之間具有溫差而導致發生煙囪效應,故可利用煙囪效應引發空氣流動。
參閱第6圖,保護氣室102包含側壁110和側壁112且進一步包含第一對出口狹縫122和124及第二對入口狹縫140和142。狹縫122和140設置成貫穿側壁110,且狹縫124
和142設置成貫穿側壁112。該等狹縫122、140和狹縫124、142位在玻璃帶15的相反側面118和120上,且每對狹縫彼此之間垂直隔開並與底部開口106垂直隔開。在某些實施例中,該第一對出口狹縫122和124與該底部開口106之間間隔的垂直距離可大約相等,且該第二對入口狹縫140和142與該底部開口106之間間隔的垂直距離亦可相等。該等出口狹縫122和124亦可較接近頂部開口104而距離底部開口106較遠,且該等入口狹縫140和142可較靠近底部開口106而距離頂部開口104較遠。
在操作期間,允許空氣116和其他氣體經由保護氣室102的底部開口106及經由該等入口狹縫140和142進入保護氣室。隨後空氣116在玻璃帶15的兩側面118和120上垂直行進,並藉由對流冷卻該玻璃帶15。隨後,熱空氣116從位於玻璃轉化溫度區域31下方(或下游)之位置處的出口狹縫122、124離開。在某些實施例中,可設置風扇或其他種類的空氣幫浦以驅離內部容積114中的空氣116。在其他實施例中,由於內部容積114內的空氣和外部空氣之間具有溫差而導致發生煙囪效應,故可利用煙囪效應引發空氣流動。在某些實施例中,可採用空氣之橫向調節(transversal modulation),例如在橫向調節中,於玻璃帶的該等側面處排出的空氣多於在玻璃帶之中心處排出的空氣或者相反,藉以調節玻璃帶上各處的空氣氣流。
參閱第7圖,示例性之排放組件(extracting assembly)150可連接至保護氣室102,且該排放組件150包含
狹縫接收部分152和熱氣體輸送部分154。該等出口狹縫之其中一者內可容納該狹縫接收部分152,且該狹縫接收部分152可用於從該保護氣室之內部容積中排出熱空氣。熱氣體輸送部分154可用於引導熱空氣離開該保護氣室,例如用於將熱空氣排放至大氣中。
舉例言之,可將兩對出口狹縫設置成貫穿小型融合拉引機的保護氣室並位在使用融合拉引製程所形成之玻璃帶的相反兩面上。該等出口狹縫設置在該保護氣室之底部開口上方約45英吋處。玻璃帶離開該保護氣室之底部開口的溫度。在14.4英吋寬的輸送系統上針對兩個玻璃流動速率進行測試:210磅/小時及375磅/小時。對於210磅/小時的玻璃流動速率而言,觀察到以每小時100標準立方公尺(100 Nm3/h)的速度排放空氣氣流時的玻璃帶溫度為約500℃,且以800 Nm3/h的速度排放空氣氣流時的玻璃帶溫度為約370℃。對於370磅/小時的玻璃流動速率而言,觀察到以100 Nm3/h的速度排放空氣氣流時的玻璃帶溫度為約640℃,且以400 Nm3/h的速度排放空氣氣流時的該溫度為約610℃。觀察到在受到空氣對流作用影響的區域中,總排熱作用明顯提高,且總排熱量作用取決於對流空氣量的不同而可提高20%至50%。
所屬技術領域中熟悉該項技藝者將瞭解可在不偏離所請標的之精神和範圍下,對本發明中所述之實施例做出各種修飾和變化。因此,本案說明書涵蓋本發明中所述之各種實施例的修飾和變化態樣,且此等修飾和變化態樣落入後附申請專利範圍及其等效物之範圍內。
15‧‧‧玻璃帶
31‧‧‧玻璃轉化溫度區域
50‧‧‧第一區段
60‧‧‧第二區段
100‧‧‧溫度控制製程
102‧‧‧保護氣室
104‧‧‧頂部開口
106‧‧‧底部開口
108‧‧‧側邊開口/側邊狹縫
110‧‧‧側壁
112‧‧‧側壁
116‧‧‧空氣
118‧‧‧側面
120‧‧‧側面
Claims (10)
- 一種冷卻一玻璃帶的方法,且該玻璃帶係利用一融合拉引製程所形成,該方法包括以下步驟:使用該融合拉引製程形成一玻璃帶,該玻璃帶一旦形成,該玻璃帶垂直通過一玻璃轉化溫度區域;引導該玻璃帶通過一保護氣室,該保護氣室至少部分位於該拉引區域的一底部中;引導一氣體進入該保護氣室且引導一氣體沿該玻璃帶之一相對寬廣表面垂直流動;以及引導該氣體以不小於約100標準立方公尺/小時的流速經由至少一個出口狹縫離開該保護氣室,且該至少一個出口狹縫係貫穿該保護氣室之一側壁而形成。
- 如請求項1所述之方法,其中在該玻璃帶冷卻至低於該玻璃帶之玻璃轉化溫度之後,進行引導該氣體進入該保護氣室的步驟。
- 如請求項1所述之方法,其中該玻璃轉化溫度區域包括該保護氣室之至少一部分。
- 如請求項3所述之方法,其中該出口狹縫所處位置低於該玻璃轉化溫度區域。
- 如請求項1所述之方法,其中該至少一個出口狹縫係一 第一出口狹縫,該第一出口狹縫係配置成面向該玻璃帶之一第一相對寬廣表面,引導該氣體離開該氣室之步驟包括引導該氣體通過一第二出口狹縫,且該第二出口狹縫係配置成面向該玻璃帶之一第二相對寬廣表面,該第二相對寬廣表面係該第一相對寬廣表面之反面。
- 如請求項1所述之方法,其中該保護氣室包含一頂部開口和一底部開口,引導該氣體進入該保護氣室之步驟包括以下步驟:使該氣體經由該底部開口進入該保護氣室。
- 如請求項6所述之方法,其中該至少一個出口狹縫係位在距離該頂部開口比距離該底部開口更近之處。
- 如請求項7所述之方法,其中該至少一個出口狹縫係位在距離該底部開口比距離該頂部開口更近之處。
- 如請求項1所述之方法,其中引導該氣體進入該保護氣室的步驟包括引導該氣體通過一入口狹縫,且該入口狹縫係貫穿該保護氣室之該側壁而形成。
- 如請求項1所述之方法,其中引導該氣體經由至少一個出口狹縫離開該保護氣室的步驟包括引導該氣體以介於約100標準立方公尺/小時至約800標準立方公尺/小時之間的流速通過該至少一個出口狹縫。
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