TWI544004B - 三嗪衍生物 - Google Patents

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Description

三嗪衍生物 相關申請的交叉引用
本申請要求於2010年12月3日提交的歐洲申請10193692.0的優先權,出於所有目的該申請的全部內容藉由引用結合在此。
本發明涉及某些(全)氟聚醚三嗪衍生物、涉及它們的製造方法並且涉及它們在潤滑中的用途,特別是用於潤滑磁記錄介質的滑動或移動部件。
眾所周知,磁性記錄裝置被劃分為使用一磁片作為在其上記錄數據的介質的那些以及使用磁帶作為此種介質的那些。因為使用磁片的前一類型的記錄裝置(以下被稱為磁碟機)係占主導的,以下說明集中于磁碟機作為該磁記錄裝置的一實例。
因為近年來已經在追求磁碟機的容量的擴大,磁頭的飛行高度已經迅速降低至低於10 nm或甚至更小,並且其結果係,對於就抗滑動摩擦而言的可靠性存在著增長的需要。
同樣,存在強烈的需要來提高具有更大的磁片容量的數據處理速度。具體地說,在一獨立磁碟容錯陣列(RAID)系統中,要求以10,000 rpm或更高的磁片旋轉速 度運轉的一磁碟機。
為了確保一磁碟機的可靠性,一般而言,在用於該磁碟機的一磁片表面上的碳的外塗層上形成一潤滑劑層。作為該潤滑劑層的主要材料,通常,廣泛使用氟聚醚,它係一化學穩定的氟化的有機化合物。
實際上,為了保證磁碟機的可靠性,必須遵守的是有效地保護在所述磁碟機表面上的適當的潤滑劑分佈以得到長的工作時間。當磁碟機運轉時,所述磁片以高速旋轉並且該潤滑劑可能由歸因於當磁片旋轉時該磁片表面上空氣流動的空氣剪力、以及直接施加在該潤滑劑上的離心力的組合作用而被拋出。其結果係,通常觀察到該磁片表面上的潤滑劑的量逐漸減小。同樣,在該磁驅動器內部該潤滑劑進入大氣的蒸發現象可能發生。
為了克服在磁片旋轉以及自然蒸發期間由被拋出帶來的潤滑劑損失這一問題,迄今為止已經提出了解決方法。因此,已經提出了用於約束潤滑劑不被拋出以及被蒸發的一方法,其中藉由增加該潤滑劑中官能端基的極性來使得該潤滑劑至磁片保護層上的黏合力更強。據信所述極性端基既改善了該潤滑劑至磁性介質表面的附著又減小了揮發性。
在該方法之中,基於既在端基又在鏈中具有極性官能團的氟聚醚的氟聚醚潤滑劑已經顯示出最好的性能。
因此,JP 2006070173(FUJITSU LTD)16/03/2006揭露了一具有氟化的聚醚結構的用於磁記錄介質的潤滑劑, 所述潤滑劑包括每個分子1至10個羥基並且包括以下該等彼此藉由一醚鍵連接的結構單元:
(1)-CF2CH2OH(端基)
(2)-CF2-(內部基團)
(3)-CF2CF2-(內部基團)
(4)-CF2CH2O-CH2-CH(OH)-CH2-OCH2CF2-(內部基團)。
類似地,US 2007060487(HITACHI GLOBAL STORAGE TECH)15/03/2007揭露了一具有非末端官能團的MRM潤滑劑;該等官能團的位置被選擇為使官能團之間的自由骨架PFPE鏈的鏈長度最小化而同時使蒸發溫度最大化並確保有效結合到被潤滑的表面上。
進一步地,US 2009023017(HOYA CORP[JP])22/01/2009揭露了藉由包括一中心磷腈環的化合物來潤滑MRM表面,所述中心部分(moiety)被一或多個包括鍵合至其上的羥基的氟聚醚鏈所取代,從而最終在該化合物中提供多個羥基,超過2個。
進一步地,此外,為了實現大的容量儲存能力,由於光學和磁性記錄技術的合併,熱輔助的記錄磁片已經日益受到關注;根據這種技術,由具有大的磁各向異性能的磁性材料製成的記錄磁片(並且因此不是那麼“可寫入的”)藉由輻射而被局部加熱,從而局部降低抗磁力並且因此使之有可能藉由磁頭來記錄資訊。因此對一適合於這種技術的磁記錄介質的潤滑劑的要求甚至更為迫切,因為磁片 的被潤滑的面被暴露,除了在磁頭的超低高度飛行和極快的旋轉速度中,也暴露在可能局部達到200℃或更高溫度的溫度中。分解和/或蒸發現象可能被加速。
在此背景下,已經發現如上詳述的傳統的全氟聚醚潤滑劑經受了顯著的熱氧化降解現象,因此使它們有可能不適合用於此類熱輔助的磁記錄技術中。
另一方面,包括氟化的部分的三嗪衍生物係本領域中已知的。
例如,EP 1033368 A(AUSIMONT SPA)6/09/2000揭露了具有以下化學式之一的氟化的三嗪化合物:
其中Z=T-Y,T=-(CH2)q-、-SO2-、-CO-,q=一從1至20的整數;Y=O-、O(C2H4O)p-、O(CH2)n-NR-、O(CH2)n-O-、O(C3H6O)p-、NR-、S-、S(C2H4O)p-、S(C3H6O)p-;其中R=H、1至10個C原子的烷基;n係一從1至20的整數;p係一從1至5的整數;Rf代表一直鏈或支鏈的氟烷基鏈或一(全)氟聚醚鏈,X選自Cl、Rf-CF2-Z、CF3-Z,據傳授它們適合於製造用於處理天然或合成纖維紡織品的配製品。
EP 1712580 A(SOLVAY SOLEXIS SPA)18/10/2006揭露了具有以下化學式的化合物:
其中,除其他之外,Q1和Q2中的至少一個係苯環並且T2係一具有以下化學式的基團:
其中Q1和Q2如以上所定義,或者係一有可能是氟化的中性基團。
US 6156937(AUSIMONT SPA)5/12/2000揭露了(除其他之外)具有以下化學式的三嗪化合物:
其中Rf係ClC3F6O(C3F6O)1.27(CF2O)0.05-CF2O-。
US 5942598(NIPPON MEKTRON LIMITED)24/08/1999涉及一油組合物,該組合物包含約80至約95重量份的一具有確定黏度值的全氟聚醚以及約20至約5重量份的一種其中的非官能全氟聚醚鏈連接在三嗪環上的全氟伸烷基 三嗪低聚物。
而且,EP 1978077 A(FUJIFILM CORP)8/10/2008揭露了(除其他之外)某些三嗪衍生物,它們包含被醚的氧所阻斷、藉由一適當的間隔基團而結合在三嗪部分上的氟化的鏈,它們可以值得注意地用作潤滑劑,例如用於磁性材料膜,如類金剛石碳的那些。
因此在習知技術中仍然短缺那些具有改進的熱氧化穩定性、結合有高的與待潤滑的支撐層的內聚性以及出色的潤滑行為的潤滑劑化合物,該等化合物將滿足對新的MRM技術、包括熱輔助的磁記錄技術的越來越高的要求。
本申請人現在發現某些三嗪衍生物,如以下詳述的,可以有利地在MRM領域提供改進的潤滑行為,特別是在被塗覆到硬碟的類金剛石碳層或其他活性層上時,這係藉由確保改進的熱氧化穩定性、結合高的與待潤滑的支撐層的內聚性而實現的。
因此本發明的一第一目的係一種包括至少一個三嗪基團和至少一個氟聚氧伸烷基鏈(鏈Rf)的三嗪衍生物,該鏈在主鏈中包括具有多個醚鍵的一氟碳片段,所述鏈Rf包括至少一個羥基基團。
本申請人已經出乎意料地發現在本發明的三嗪衍生物中同時存在三嗪部分、氟聚氧伸烷基鏈以及一或多個羥基 基團使得能夠實現出色的潤滑行為、結合了熱氧化穩定性以及與MRM型支撐物的強的相互作用,這使得該等衍生物適合用於潤滑磁記錄介質,包括用於熱輔助的磁記錄。
該三嗪衍生物的一或多個三嗪基團可以是1,2,3-三嗪、1,2,4-三嗪和1,3,5-三嗪中的任何一個,後者係較佳的。
也普遍理解鏈Rf一般會結合到三嗪衍生物的任何一個碳原子上。
雖然在多個實施方式中三嗪環的所述碳原子中僅僅一個藉由一適當的間隔基團而共價結合到一如以上詳述的包括一個或多於一個羥基基團的鏈Rf上,但較佳的是該三嗪環的每個碳原子都藉由所述間隔基團結合到一如以上詳述的包括一個或多於一個羥基基團的鏈Rf上。
本發明的衍生物的氟聚氧伸烷基鏈(Rf)較佳的是包括重複單元Ro的一鏈,所述重複單元係選自由以下各項組成之群組:(i)-CFXO-,其中X係F或CF3,(ii)-CFXCFXO-,其中X在每次出現時相同或不同,是F或CF3,條件係至少一個X係-F,(iii)-CF2CF2CW2O-,其中每個W彼此相同或不同,是F、Cl、H,(iv)-CF2CF2CF2CF2O-,(v)-(CF2)j-CFZ-O-,其中j係從0至3的整數,並且Z係具有通式-ORf’T3的基團,其中Rf’係包括多個從 0至10個的重複單元的氟聚氧伸烷基鏈,所述重複單元係選自以下各項:-CFXO-、-CF2CFXO-、-CF2CF2CF2O-、-CF2CF2CF2CF2O-,其中每個X獨立地是F或CF3;並且T3係C1-C3全氟烷基基團。
此外有可能的是,鏈Rf可以可隨意地包括由含有至少一個羥基基團的部分所衍生的重複單元;在Rf鏈中可能包含的重複單元之中,值得注意地可以提及具有以下化學式的單元:(vi)-CF2CH2O-CH2-CH(OH)-CH2-OCH2CF2-;(vii)-CH2CH(OH)-;(viii)-CH(CH3)-CH(OH)-。
根據較佳的實施方式,本發明的三嗪衍生物符合以下化學式(T-1)和(T-2)中的任一者:
其中:-Y、Y’、Y”、Yo、Yo’、Yo”、Yo”’、Yo””中的每一 者彼此相同或不同,獨立地係有可能是氟化的烴基,其條件係化學式(T-1)中的Y、Y’、Y”中的至少一者以及化學式(T-2)中的Yo、Yo’、Yo”、Yo”’、Yo””中的至少一者包括至少一個羥基基團;較佳的是如以上詳述的Y、Y’、Y”、Yo、Yo’、Yo”、Yo”’、Yo””中的每一者都包括至少一個羥基基團;-RF、R’F、R”F、Ro F、RoF、RoF、Ro”’F、Ro””F、Ro*F、Ro**F中的每一者彼此相同或不同,獨立地是如以上詳述的二價的氟聚氧伸烷基鏈(Rf);-E、E'、E"、Eo、Eo’、Eo”、Eo”’、Eo””、Eo*、Eo**、Eo***、Eo****中的每一者彼此相同或不同,獨立地係鍵或C1-C20二價橋聯基團,其可隨意地包括多個有可能是氟化的雜原子、有可能進一步包括一個或多於一個的羥基基團;-化學式(T-2)中的n係零或從1至5的整數;較佳的是n是零。
化學式(T-1)和(T-2)中的RF、R’F、R”F、Ro F、RoF、RoF、Ro”’F、Ro””F、Ro*F、Ro**F中的每一者較佳的是獨立地選自具有以下化學式的鏈:-O-(CFX1O)g1(CFX2CFX3O)g2(CF2CF2CF2O)g3(CF2CF2CF2CF2O)g4-化學式(I)
其中-X1、X2、X3彼此相同或不同並且在每次出現時獨立地是-F、-CF3; -g1、g2、g3和g4彼此相等或不同,獨立地是0的整數,使得g1+g2+g3+g4在5至10000的範圍內、較佳的是在10與5000之間;如果g1、g2、g3和g4中至少兩個不同於零,則該等不同的重複單元總體上沿該鏈統計性地分佈。
化學式(T-1)和(T-2)中的RF、R’F、R”F、Ro F、RoF、RoF、Ro”’F、Ro””F、Ro*F、Ro**F中的每一者更佳的是獨立地選自具有以下化學式的鏈:(A)-O-(CF2CF2O)a1(CF2O)a2-化學式(II-A)
其中-a1和a2獨立地是0的整數使得數均分子量在400與150,000之間、較佳的是在500與80 000之間;a1和a2均較佳的是不同於零,其中比率a1/a2較佳的是包括在0.1與10之間。
(B)-O-(CF2CF2O)b1(CF2O)b2(CF(CF3)O)b3(CF2CF(CF3)O)b4-化學式(II-B)
其中:b1、b2、b3、b4獨立地是0的整數使得數均分子量在500與150,000之間、較佳的是在500與80 000之間;較佳的是b1、b2、b3、b4都>0,其中比率b4/(b1+b2+b3)係<1。
(C)-O-(CF2CF2O)c1(CF2O)c2(CF2(CF2)cwCF2O)c3-化學式(II-C)
其中:cw=1或2;c1、c2和c3係0的整數,被選擇為使得數均分子量在500與150,000之間;較佳的是c1、c2和c3都>0,其中比率c3/(c1+c2)一般小於0.05。
(D)-O-(CF2CF(CF3)O)d-化學式(II-D)
其中:d係>0的整數,使得數均分子量在500與150,000之間;(E)-O-(CF2CF2C(Hal)2O)E1-(CF2CF2CH2O)e2-(CF2CF2CH(Hal)O)e3-化學式(II-E)
其中:-Hal在每次出現時相同或不同,是一鹵素,該鹵素選自氟以及氯原子,較佳的是一氟原子;-e1、e2和e3彼此相同或不同,獨立地是0的整數,使得(e1+e2+e3)之和被包括在5與10000之間。
化學式(T-1)和(T-2)中的RF、R’F、R”F、Ro F、RoF、RoF、Ro”’F、Ro””F、Ro*F、Ro**F中的每一者最佳的是獨立地選自具有以下化學式(III)的鏈:-O-(CF2CF2O)a1(CF2O)a2-化學式(III)
其中:-a1和a2係>0的整數使得數均分子量在400與 150,000之間、較佳的是在500與80,000之間,其中比率a2/a1一般是包括在0.1與10之間、更佳的是在0.2與5之間。
如以上提到的,化學式(T-1)中的Y、Y’、Y”中的至少一個以及化學式(T-2)中的Yo、Yo’、Yo”、Yo”’、Yo””中的至少一者包括一羥基基團,所述含羥基的基團的選擇不是特別關鍵的。
化學式(T-1)中的Y、Y’、Y”中的至少一者以及化學式(T-2)中的Yo、Yo’、Yo”、Yo”’、Yo””中的至少一個較佳的是選自由以下各項組成之群組:-具有化學式-CF2CH2O(CH2CH2O)s’H的基團以及具有化學式-CF2CF2CH2O(CH2CH2O)s”H的基團,其中s’和s”彼此相同或不同並且在每次出現時是從0至5的整數;以及-具有化學式-CF2CH2O(CH2CH2O)w’J’(OH)e’和-CF2CF2CH2O(CH2CH2O)w”J”(OH)e”的基團,其中w’和w”彼此相同或不同並且在每次出現時是從0至5的整數;J’和J”係C1÷C12烴橋聯基團,其可隨意地包括醚鍵;e’和e”係從2至4的整數。
在具有如以上詳述的化學式-CF2CH2O(CH2CH2O)w’J’(OH)e’和-CF2CF2CH2O(CH2CH2O)w”J”(OH)e”的結構之中,可以值得注意地提及具有化學式(NG-1)和(NG-2)的基團:
其中w’彼此相同或不同並且在每次出現時係一從0至5的整數,m1係一從1至3的整數並且n1係一從0至2的整數。
進一步理解的是在化學式(T-1)中的Y、Y’、Y”中的至少一個以及化學式(T-2)中的Yo、Yo’、Yo”、Yo”’、Yo””中的至少一者符合如以上詳述的化學式(NG-1)或(NG-2)的實施方式中,那些不符合所述化學式、即不包括一羥基的其他端基一般符合以下該等:
其中n1’係從0到3的一整數。
化學式(T-1)中的Y、Y’、Y”中的至少一個以及化學式(T-2)中的Yo、Yo’、Yo”、Yo”’、Yo””中的至少一者更佳的是選自由以下各項組成之群組:-具有化學式-CF2CH2OH和-CF2CF2CH2OH的基團;以及-具有化學式-CF2CH2O(CH2CHOHCH2O)d’H和-CF2CF2CH2O(CH2CHOHCH2O)d”H的基團,其中d’和d”彼此相同或不同並且在每次出現時是從1至3的整數。
化學式(T-1)和(T-2)中二價橋聯基團E、E'、E"、Eo、Eo’、Eo”、Eo”’、Eo*、Eo**中的每一者可以包括一 伸烷基鏈、一(伸烷基)脂環族的C1-C20基團、一(伸烷基)芳香族的C1-C20基團、一C1-C20聚氧伸烷基基團。進一步,此外所述橋聯基團可以藉由一碳碳鍵、或藉由適當官能團(值得注意地包括胺、醯胺、酯、醚、硫化物、亞胺基團)而提供與三嗪碳原子的連接。
根據本發明的一實施方式,化學式(T-1)和(T-2)中的二價橋聯基團E、E'、E"、Eo、Eo’、Eo”、Eo”’、Eo””、Eo*、Eo**、Eo***、Eo****中的每一者獨立地選自由以下各項組成之群組:-具有化學式-CF2CH2O(CH2CH2O)z’-和具有化學式-CF2CF2CH2O(CH2CH2O)z”-的基團,其中z’和z”彼此相同或不同、是從0至5的整數,要理解的是該氧原子一般會結合到三嗪環的碳原子上並且-CF2-基團結合到該氟聚氧伸烷基鏈上;以及具有化學式-CF2CH2O(CH2CH2O)r’(CH2CHOHCH2O)t’-和-CF2CF2CH2O(CH2CH2O)r”(CH2CHOHCH2O)t”-的基團,其中r’、r”、t’和t”彼此相同或不同並且在每次出現時獨立地是從0至5的整數,要理解的是該氧原子一般會結合到三嗪環的碳原子上並且-CF2-基團結合到該氟聚氧伸烷基鏈上。
根據這個實施方式的三嗪衍生物較佳的是符合以下化學式(T-1a)和(T-2a):
其中:-n1、n2、n1'、n2'、n1"、n2"、n1#、n2#、n1*、n2*、n1'*、n2'*、n1"*、n2"*、n1”'*、n2’”*中的每一者彼此相同或不同,獨立地是從0至5的整數、較佳的是0;-f1、f2、f1'、f2'、f1”、f2”、f1*、f2*、f1'*、f2'*、f1”*、f2”*、f1”’*、f2”’*、f1#、f2#中的每一者彼此相同或不同,獨立地是從1至2的整數;-每個RF彼此相同或不同並且在每次出現時獨立地係一如以上詳述的二價的氟聚氧伸烷基鏈(Rf);-G、G’、G”、G*、G’*、G”*、G”’*中的每一者彼此相同或不同,獨立地係一含羥基的基團、較佳的是選自由以下化學式組成之群組:(g1)、(g2)和(g3)
較佳的是一具有化學式(g1)的含羥基的基團。
根據本發明的另一實施方式,化學式(T-1)和(T-2)中的二價橋聯基團E、E'、E"、Eo、Eo’、Eo”、Eo”’、Eo””、Eo*、Eo**、Eo***、Eo****中的每一者獨立地選自具有化學式-CF2C(O)-NRH-的基團組成之群組,其中RH係一氫原子、一C1-C6烴基或較佳的是一具有化學式(鏈Rf)-C(O)的基團,其中鏈Rf係一如以上所定義的氟聚氧伸烷基鏈,所述鏈Rf包含至少一個羥基基團。應理解的是-CF2C(O)-NRH-基團中的氮原子一般會結合到三嗪環的碳原子上並且-CF2-結合到該氟聚氧伸烷基鏈上。
根據這個第二實施方式的三嗪衍生物較佳的是符合以下化學式(T-1b)和(T-2b):
其中:-n2、n2'、n2"、n2#、n2*、n2'*、n2"*、n2’”*中的每一者彼此相同或不同,獨立地是從0至5的整數、較佳 的是0;-f1、f2、f1'、f2'、f1”、f2”、f1*、f2*、f1'*、f2'*、f1”*、f2”*、f1”’*、f2”’*、f1#、f2#中的每一者彼此相同或不同,獨立地是從1至2的整數;-每個RF彼此相同或不同並且在每次出現時獨立地係一如以上詳述的二價的氟聚氧伸烷基鏈(Rf);-每個RH彼此相同或不同並且在每次出現時獨立地係氫原子、C1-C6烷基基團或較佳的是具有化學式(鏈Rf)-C(O)-的基團,其中鏈Rf係如上所定義之氟聚氧伸烷基鏈,所述鏈Rf包含至少一個羥基基團;-G、G’、G”、G*、G’*、G”*、G”’*中的每一者彼此相同或不同,獨立地係一含羥基的基團、較佳的是選自由以下化學式組成之群組:(g1)、(g2)和(g3)
較佳的是一具有化學式(g1)的含羥基的基團。
在上述三嗪(T-1b)和(T-2b)中,一個或多個RH係具有化學式(鏈Rf)-C(O)-的基團,所述基團較佳的是符合化學式-C(O)-(CF2)f1 a-RF a-(CF2)f2 a-CH2-(OCH2CH2)n2 a-Ga,其中n2a係一從0至5的整數、較佳的是0;f1a和f2a中的每個獨立地是整數1或2;RF a係一如上所定義的二價的二氟聚氧伸烷基鏈Rf並且Ga係含羥基的基團,較佳的是選自以下由如上所定義的化學式組成之群組(g1)、(g2)和(g3)。較佳的是,每個鏈RF a是獨立地選 自具有如上所定義的化學式(I)的鏈、更佳的是選自如上所定義的鏈(II-A)-(II-B)、最佳的是選自具有如上所定義的化學式(III)的鏈。
再根據本發明的又一實施方式,化學式(T-1)和(T-2)中的二價橋聯基團E、E'、E"、Eo、Eo’、Eo”、Eo”’、Eo””、Eo*、Eo**、Eo***、Eo****中的每一者獨立地選自由以下各項組成之群組:-具有化學式-CF2(CH2O)uCH2NRH-的基團以及-具有化學式-CF2CF2(CH2O)uCH2NRH-的基團,其中u係0或1並且每個RH彼此相同或不同並且在每次出現時獨立地係一氫原子、一C1-C6烴基或較佳的是一具有化學式(鏈Rf)-CF2(CH2O)uCH2-或具有化學式(鏈Rf)-CF2CF2(CH2O)uCH2-的基團,其中鏈Rf係一如上所定義的氟聚氧伸烷基鏈,所述鏈Rf包含至少一個羥基基團,並且u係如上所定義的。應理解的是在基團-CF2(CH2O)uCH2NRH-和-CF2CF2(CH2O)uCH2NRH-中,該氮原子一般會結合到三嗪環的碳原子上並且-CF2-結合到該氟聚氧伸烷基鏈上。
根據這個第三實施方式的三嗪衍生物較佳的是符合以下化學式(T-1c)和(T-2c):
其中:-n2、n2'、n2"、n2#、n2*、n2'*、n2"*、n2’”*中的每一者彼此相同或不同,獨立地是從0至5的整數,較佳的是0;-f1、f2、f1'、f2'、f1”、f2”、f1*、f2*、f1'*、f2'*、f1”*、f2”*、f1”’*、f2”’*、f1#、f2#中的每一者彼此相同或不同,獨立地是從1至2的整數;-u係0或1;-每個RF彼此相同或不同並且在每次出現時獨立地係如以上詳述的二價的氟聚氧伸烷基鏈Rf;-每個RH彼此相同或不同並且在每次出現時獨立地係氫、C1-C6烴基或較佳的是具有化學式(鏈Rf)-CF2(CH2O)uCH2-或具有化學式(鏈Rf)-CF2CF2(CH2O)uCH2-的基團,其中鏈Rf係如上所定義之氟聚氧伸烷基鏈,所述鏈Rf包含至少一個羥基基團;-G、G’、G”、G*、G’*、G”*、G”’*中的每一者彼此相同或不同,獨立地係一含羥基的基團、較佳的是選自由以下化學式組成之群組:(g1)、(g2)和(g3)
較佳的是一具有化學式(g1)的含羥基的基團。
在上述三嗪(T-1c)和(T-2c)中,一個或多個RH係一具有化學式(鏈Rf)-CF2(CH2O)uCH2-或具有化學式(鏈Rf)-CF2CF2(CH2O)uCH2-的基團,所述基團較佳的是符合化學式-CH2(OCH2)u-(CF2)f1 a-RF a-(CF2)f2 a-CH2-(OCH2CH2)n2 a-Ga,其中n2a係一從0至5的整數、較佳的是0;f1a和f2a中的每一者獨立地是整數1或2;RF a係一如上所定義的二價的二氟聚氧伸烷基鏈Rf並且Ga係一含羥基的基團,較佳的是選自由以下如上所定義的化學式組成之群組:(g1)、(g2)和(g3)。較佳的是,每個鏈RF a係獨立地選自具有如上所定義的化學式(I)的鏈,更佳的是選自如上所定義的鏈(II-A)-(II-B)、最佳的是選自具有如上所定義的化學式(III)的鏈。
進一步,此外根據本發明的另一實施方式,化學式(T-1)和(T-2)中的二價橋聯基團E、E'、E"、Eo、Eo’、Eo”、Eo”’、Eo””、Eo*、Eo**、Eo***、Eo****中的每一者獨立地選自由以下各項組成之群組:-具有化學式-CF2-的基團和-具有化學式-CF2CF2-的基團。
根據這個第四實施方式的三嗪衍生物較佳的是符合以下化學式(T-1d)和(T-2d):
其中:-n2、n2'、n2"、n2#、n2*、n2'*、n2"*、n2’”*中的每一者彼此相同或不同,獨立地是從0至5的整數、較佳的是0;-f1、f2、f1'、f2'、f1”、f2”、f1*、f2*、f1'*、f2'*、f1”*、f2”*、f1”’*、f2”’*、f1#、f2#中的每一者彼此相同或不同,獨立地是從1至2的整數;-每個RF彼此相同或不同並且在每次出現時獨立地係一如以上詳述的二價的氟聚氧伸烷基鏈(Rf);-G、G’、G”、G*、G’*、G”*、G”’*中的每一者彼此相同或不同,獨立地係一含羥基的基團、較佳的是選自由以下化學式組成之群組:(g1)、(g2)和(g3)
較佳的是一具有化學式(g1)的含羥基的基團。
熟習該項技術者將根據要合成的實際結構來選擇用於製造本發明的三嗪化合物的方法。更具體地說,將三嗪部分連接到聚氧伸烷基鏈上的橋聯基團的化學性係所選擇的先質和合成路徑的結果。
如果本發明的三嗪化合物係具有如以上詳述的化學式 (T1-a)和(T2-a)的化合物,該等化合物值得注意地可以藉由該三嗪的一種三鹵代衍生物(典型地是三氯代衍生物)與一種在鏈的一端具有一羥基基團並且在另一端具有另一含羥基基團的適當的(全)氟聚醚之間的堿催化的縮合反應而製造。
如果本發明的三嗪化合物係具有如以上詳述的化學式(T1-b)和(T2-b)的化合物,該等化合物可以藉由三聚氰胺或三聚氰胺衍生物與一種在鏈的一端具有一醯鹵並且在另一端具有一含羥基基團(一般是受保護的,例如處於酯(例如乙酸酯)的形式))的適當的(全)氟聚醚之間的反應、以及(若適用的話)所述受保護的含羥基的基團的脫保護而製造。
如果本發明的三嗪化合物係具有如以上詳述的化學式(T1-c)和(T2-c)的化合物,該等化合物可以藉由三聚氰胺或三聚氰胺衍生物與一種在鏈的一端具有一針對親核取代進行活化的基團(如全氟丁基甲磺酸酯或三氟甲磺酸酯衍生物)並且在另一端具有另一含羥基基團的適當的(全)氟聚醚的反應、或者藉由與一適當的含羥基基團的(全)氟聚醚的醚交換反應而製造。一適當的三聚氰胺衍生物係例如六甲氧基伸甲基三聚氰胺(HMMM),它可以與例如Fomblin® Z DOL PFPE進行反應而提供三嗪化合物(T1-c)和(T2-c),其中u係1,n2、n2'、n2"、n2#、n2*、n2'*、n2"*、n2’”*中每一個係0,f1、f2、f1'、f2'、f1”、f2”、f1*、f2*、f1'*、f2'*、f1”*、f2”*、f1”’*、 f2”’*、f1#、f2#中每一個係1,G、G’、G”、G*、G’*、G”*、G”’*中每一個係一具有化學式(g1)的含羥基的基團,並且每個RH係具有化學式-CH2(OCH2)-(CF2)-RF-(CF2)-CH2-OH的基團。
如果本發明的三嗪化合物係具有如以上詳述的化學式(T1-d)和(T2-d)的化合物,該等化合物可以藉由在一鏈端具有一腈基團並且具有一含羥基基團(總體上受保護的,例如,處於酯(例如乙酸酯)的形式)的適當的(全)氟聚醚衍生物的環三聚作用、以及(若適用的話)所述受保護的含羥基的基團的脫保護而製造。
本發明的再一目的係一包含本發明的三嗪衍生物以及至少一種潤滑劑的潤滑劑組合物。
較佳的是,如以上詳述的潤滑劑組合物包含至少一種(即一種或多於一種的一混合物)全氟聚醚(PFPE)潤滑劑,即一種包含一條全氟氧化伸烷基鏈,也就是說包括具有至少一個醚鍵以及至少一個氟碳部分的重複單元的一條鏈的潤滑劑,該潤滑劑不同于本發明的三嗪衍生物。
PFPE潤滑劑可以分類為油類和脂膏類,一般理解為油類係在20℃下具有從30到30 000 cSt的運動黏度(ASTM D445)的化合物;脂膏類係藉由加入合適的增稠劑而衍生於此類油,該增稠劑值得注意地是例如聚四氟乙烯(PTFE)或無機化合物(例如滑石)。
所述PTPE潤滑劑可以可隨意地包括官能團,特別是官能端基,值得注意地像羥基端基。在可以與本發明的三 嗪衍生物結合適用的官能PFPE潤滑劑製造中,值得注意地可以提及以從Solvay Solexis SpA商品名FOMBLIN® ZDOL和FOMBLIN® Z Tetraol GT可商購的PFPE。
如果該潤滑劑組合物包括一非官能的PFPE潤滑劑,所述組合物典型地包括一含至少一種選自由以下各項下組成之群組的油的潤滑劑:(1)B-O-[CF(CF3)CF2O]b1'(CFXO)b2'-B'
其中:-X等於-F或-CF3;-B和B',彼此相等或不同,是選自-CF3、-C2F5或-C3F7;-b1'和b2',彼此相等或不同,獨立地是0的整數,選擇該等整數以使得b1'/b2'之比包含在20與1,000之間並且b1’+b2’在5到250的範圍內;如果b1’和b2’均不同於零,則該等不同的重複單元總體上沿該鏈統計性分佈;(2)C3F7O-[CF(CF3)CF2O]o'-D
其中-D等於-C2F5或-C3F7;-o'係從5到250的一整數。
(3){C3F7O-[CF(CF3)CF2O]dd’-CF(CF3)-}2
其中-dd’係在2和250之間的一整數;(4)C’-O-[CF(CF3)CF2O]c1'(C2F4O)c2’(CFX)c3’-C”
其中-X等於-F或-CF3;-C’和CC”彼此相同或不同,是選自-CF3、-C2F5或-C3F7;-c1’、c2’和c3’,彼此相等或不同,獨立地是0的整數,從而使c1’+c2’+c3’在5到250的範圍內,如果c1’、c2’和c3’中至少兩個不同於零,則該等不同的重複單元總體上沿該鏈統計性分佈;(5)D-O-(C2F4O)d1'(CF2O)d2'-D'
其中-D和D',彼此相等或不同,是選自-CF3、-C2F5或-C3F7;-d1’和d2’,彼此相等或不同,獨立地是0的整數,從而使d1'/d2'之比包含在0.1與5之間並且使d1’+d2’在5到250的範圍內,如果d1’和d2’均不同於零,則該等不同的重複單元總體上沿該鏈統計性分佈;(6)G-O-(CF2CF2C(Hal’)2O)g1'-(CF2CF2CH2O)g2'-(CF2CF2CH(Hal’)O)g3'-G'
其中-G和G',彼此相等或不同,是選自-CF3、-C2F5或-C3F7;-Hal’,每次出現時相等或不同,是一鹵素,選自F和Cl,較佳的是F;-g1'、g2’和g’3,彼此相等或不同,獨立地是0的整數,從而使g1’+g2’+g3’在5到250的範圍內;如果 g1'、g2’和g3’中至少兩個不同於零,則該等不同的重複單元總體上沿該鏈統計性分佈;(7)L-O-(CF2CF2O)l'-L'
其中-L和L',彼此相等或不同,是選自-C2F5或-C3F7;-l'係一在5到250的範圍內的整數。
(8)R1 f-{D(CF3)2-O-[D(R2 f)2]kk1’D(R2 f)2-O}kk2’-R1 f
其中-R1 f係具有從1到6個碳原子的一全氟烷基基團;-R2 f等於-F或具有從1到6個碳原子的全氟烷基基團;-kk1’係從1到2的整數;-kk2'表示在5到250的範圍內的數。
本發明的又一目的係如以上詳述的三嗪衍生物和/或如以上詳述的潤滑劑組合物用於潤滑磁記錄介質的用途。
因此,本發明涉及一用於潤滑磁記錄介質的方法,包括在其至少一個表面上塗覆一包括如以上詳述的三嗪衍生物的組合物。
該磁記錄介質值得注意地可以係一硬碟。在某些實施方式中,硬碟有利地包括在該磁活性層上的一類金剛石碳層。在此情況下,如以上詳述的塗層一般塗覆在所述類金剛石層上。
現在將參考以下實例更詳細地描述本發明,該等實例的目的僅是用作說明而非限制本發明的範圍。
若任何藉由引用結合在此的專利案、專利申請案以及公開物中的揭露內容與本申請案的說明相衝突的程度至它可能使一術語不清楚,則本說明應該優先。
實例 實例1 包括三個羥基的三嗪衍生物的合成 步驟1.1:FOMBLIN® ZDOL PFPE與2,4,6-三氯-1,3,5-三嗪的反應
將600 g的具有化學式HO-CH2CF2O(CF2CF2O)p(CF2O)qCF2CH2-OH的FOMBLIN® ZDOL PFPE(EW 491 g/eq;Mn約1000;1.22當量;多分散性指數1.09,p/q=0.98)、200 g的乙腈以及3.60 g(58.57 meq)的2,4,6-三氯-1,3,5-三嗪裝入一個1升圓底燒瓶中,該燒瓶裝配有一溫度計、一磁攪拌器、一水冷的冷凝器、以及含有可力丁(三甲基吡啶)在乙腈中的16.2 g的48.15 % w/w溶液的滴液漏斗。在冰浴中於0℃冷卻後,滴加5.4 g的這個溶液。將該反應混合物在攪拌下在0℃下維持2小時。然後將溫度升高至20℃並滴加另一量值的相同溶液(5.4 g)。將該反應混合物在攪拌下在20℃維持4小時。滴加剩餘的5.4 g溶液。將溫度升高至80℃並在攪拌下將該反應混合物在這個溫度下維 持7小時(完全轉化)。然後將反應混合物冷卻至室溫並藉由用5×180 g蒸餾水洗滌而回收一粗產物。藉由減壓蒸餾來去除溶劑而給出599.39 g粗產物,這係未反應的FOMBLIN® ZDOL PFPE、所希望的產物及其低聚物,即它的具有以下化學式的二聚形式的一混合物:
其中p和q具有如上詳述的含義。
步驟1.2a:去除未反應的FOMBLIN® ZDOL PFPE
分別在100℃、105℃和107℃下三次藉由3×10-3毫巴的減壓下的分子蒸餾來去除大部分未反應的FOMBLIN® ZDOL PFPE。所有情況下的進料流速設定為約100 g/h。因此去除了僅僅FOMBLIN® ZDOL PFPE(藉由19F-NMR分析驗證)的三個低黏性的分量(分別是按重量計49.9%、24.9%和10.7%),留下了一高沸點、低揮發性的殘餘物,將其藉由19F-NMR來表徵。
步驟1.2b:scCO2分餾(fractionation)
作為以上詳述的分子蒸餾的替代方案,將該粗殘餘物裝入一個300 ml SFT-150超臨界CO2萃取系統中並在100 ℃加熱。藉由逐步的壓力增大(從150至300巴)成功地分離了帶有三個羥基並符合以下化學式的三嗪衍生物:
其中p和q具有如上詳述的含義。
在scCO2低壓下容易地去除了未反應的殘餘物FOMBLIN® ZDOL PFPE而在高壓下選擇性地收集某些高MW副產的低聚物。
對比實例1 單官能的醇與三氯三嗪的反應
將294.58 g的具有化學式HOCH2CF2O(CF2CF2O)p(CF2O)qCF3的單官能醇PFPE(CF2O)qCF3(p/q=1;p和q被選擇為得到Mn 1000,EW 1030 g/eq.;286 meq.)、148 g乙腈、600 g六氟二甲苯(HFX)、56.32 g碳酸鉀(407.55 meq.)以及16.70 g(271.70 meq.)的2,4,6-三氯-1,3,5-三嗪裝入一個1I圓底燒瓶中,該燒瓶裝備有一溫度計、一磁力攪拌計、以及一水冷的冷凝器。將溫度緩慢升高至80℃並在攪拌下將該反應混合物在這個溫度下維持16小時(藉由19F-NMR為98%的轉化)。在冷卻至室溫並加入590 g脫礦質水後,滴加HCl 37%直到達到酸性pH。將有機相分離出並用異丁醇的5% w/w水醇溶液洗滌三次。將溶劑和未反應的單官能醇藉由100℃和減壓下 10-2 mbar)的蒸餾去除從而給出272.48 g具有以下化學式的粗產物:
如藉由19F-NMR、13C-NMR和FTIR分析確認的。將最終產物藉由一個0.2 μm PTFE膜過濾。
對無水樣品或矽石吸附的樣品的TGA分析
對無水樣品或在矽膠上吸附的樣品在空氣氣氛中用一台Perkin Elmer TGA 7儀器在25-800℃的溫度範圍內以10℃/min的加熱速率進行熱重量分析(TGA)。
將來自矽石吸附的樣品的結果用於表徵清除了揮發性的貢獻之後的熱氧化穩定性;而無水樣品的TGA與被吸附的樣品的TGA對比使之有可能闡明揮發性對總重量損失的貢獻。
在矽石上吸附的樣品的製備如下:將1 g矽膠、0.5 g三嗪衍生物以及10 g A113裝入一裝備有磁力攪拌器的圓底燒瓶中。在攪拌下將反應混合物在室溫下維持8小時然後藉由減壓蒸餾來去除溶劑。
為了與實例1的本發明的化合物進行對比,在類似條件下測試了以下PFPE衍生物:-對比實例2的PFPE三嗪衍生物,不含羥基基團(對比實例2); -一可商購的二醇衍生物,即,具有約3000的Mn的FOMBLIN® ZDOL(對比實例3);以及-一可商購的四醇衍生物,即,具有約3000的Mn的FOMBLIN® Z Tetraol 3200GT(對比實例4)。
如此得到的矽石吸附的樣品的TGA痕跡(traces)展示在圖1中。
在該等TGA痕跡的初始平臺區域後,除了唯一例外的不具有-OH端基的產品顯示了連續的重量減小(由於其更高的揮發性)之外,在所有情況下觀察到了由於熱氧化降解造成的質量的陡降。結果顯示本發明(實例1)的包括三個羥基的三嗪衍生物具有比其他衍生物更高的熱氧化穩定性。
確切地說,對於所研究的化合物鑒定了對應於10%(對於無水的和矽石吸附的樣品二者)以及50%(對於矽石吸附的樣品)重量損失的降解所在的溫度並且將其概述在下表1和2中,溫度值越高,在與支撐物的相互作用以及熱氧化穩定性的意義上的行為就越好。具體地,表1概述了在矽石吸附的樣品和無水樣品中記錄10%的重量損失時所處的溫度的差別:這個參數被認為是代表了對該潤滑劑衍生物與基底相互作用並接著抑制負面的揮發性行為的能力的一良好指示。表1中的對於基本上具有類似Mn的化合物所記錄的值顯示了更高的△T,因此顯示了含羥基的三嗪相對於對比實例2的對應的無羥基的中性三嗪衍生物而言的與基底的較大的相互作用。
表2中提供的數據正好證實了本發明的化合物的熱氧化行為大大超過了所有對比材料(見表2),包括含三嗪的但不含-OH端基的(對比實例2)以及不含三嗪的(對比實例3和4涉及常規的含羥基的潤滑劑)全氟聚醚衍生物。
圖1示出了根據本發明的實例1的化合物與對比實例2-4的化合物的熱重量分析之間的對比。

Claims (33)

  1. 一種三嗪衍生物,其包括至少一個三嗪基團和至少一個氟聚氧伸烷基鏈,鏈Rf,該鏈在主鏈中包括具有多個醚鍵的一氟碳片段,該鏈Rf包括至少一個羥基基團。
  2. 如申請專利範圍第1項之三嗪衍生物,其中該鏈Rf係一包含重複單元Ro的鏈,該重複單元係選自由以下各項組成之群組:(i)-CFXO-,其中X係F或CF3,(ii)-CFXCFXO-,其中X在每次出現時相同或不同,是F或CF3,條件係至少一個X係-F,(iii)-CF2CF2CW2O-,其中每個W彼此相同或不同,是F、Cl、H,(iv)-CF2CF2CF2CF2O-,(v)-(CF2)j-CFZ-O-,其中j係從0至3的整數,並且Z係具有通式-ORf’T3的基團,其中Rf’係包括多個從0至10個之重複單元的氟聚氧伸烷基鏈,該重複單元係選自以下各項:-CFXO-、-CF2CFXO-、-CF2CF2CF2O-、-CF2CF2CF2CF2O-,其中每個X獨立地是F或CF3;並且T3係C1-C3全氟烷基基團。
  3. 如申請專利範圍第2項之三嗪衍生物,該三嗪衍生物符合以下化學式(T-1)和(T-2)中的任一式: 其中:- Y、Y’、Y”、Yo、Yo’、Yo”、Yo”’、Yo””中的每一者彼此相同或不同,獨立地係一有可能是氟化的烴基,其條件係化學式(T-1)中的Y、Y’、Y”中的至少一者以及化學式(T-2)中的Yo、Yo’、Yo”、Yo”’、Yo””中的至少一者包括至少一個羥基基團;- RF、R’F、R”F、Ro F、RoF、RoF、Ro”’F、Ro””F、Ro*F、Ro**F中的每一者彼此相同或不同,獨立地是如申請專利範圍2中所定義的二價的鏈Rf;- E、E'、E"、Eo、Eo’、Eo”、Eo”’、Eo””、Eo*、Eo**、Eo***、Eo****中的每一者彼此相同或不同,獨立地係鍵或C1-C20二價橋聯基團,可隨意地包括有可能是氟化的雜原子、可隨意地包括一個或多於一個的羥基基團;- 化學式(T-2)中的n係零或從1至5的整數。
  4. 如申請專利範圍第3項之三嗪衍生物,其中如以上 詳述的Y、Y’、Y”、Yo、Yo’、Yo”、Yo”’、Yo””中的每一者都包括至少一個羥基基團。
  5. 如申請專利範圍第3項之三嗪衍生物,其中n係零。
  6. 如申請專利範圍第3項之三嗪衍生物,其中化學式(T-1)中的Y、Y’、Y”中的至少一者以及化學式(T-2)中的Yo、Yo’、Yo”、Yo”’、Yo””中的至少一者係選自由以下各項組成之群組:- 具有化學式的-CF2CH2O(CH2CH2O)s’H和具有化學式-CF2CF2CH2O(CH2CH2O)s”H的基團,其中s’和s”彼此相同或不同並且在每次出現時是從0至5的整數;以及- 具有化學式-CF2CH2O(CH2CH2O)w’J’(OH)e’和-CF2CF2CH2O(CH2CH2O)w”J”(OH)e”的基團,其中w’和w”彼此相同或不同並且在每次出現時是從0至5的整數;J’和J”係C1~C12烴橋聯基團,可隨意地包括醚鍵;e’和e”係從2至4的整數。
  7. 如申請專利範圍第6項之三嗪衍生物,其中化學式(T-1)中的Y、Y’、Y”中的至少一者以及化學式(T-2)中的Yo、Yo’、Yo”、Yo”’、Yo””中的至少一者是選自由以下各項組成之群組:- 化學式-CF2CH2OH和-CF2CF2CH2OH的基團;以及- 具有化學式-CF2CH2O(CH2CHOHCH2O)d’H和-CF2CF2CH2O(CH2CHOHCH2O)d”H的基團,其中d’和d”彼此相同或不同並且在每次出現時是從1至3的整數。
  8. 如申請專利範圍第7項之三嗪衍生物,其符合以下化學式(T-1a)和(T-2a)中的任一者: 其中:- n1、n2、n1'、n2'、n1"、n2"、n1#、n2#、n1*、n2*、n1'*、n2'*、n1"*、n2"*、n1”'*、n2’”*中的每一者彼此相同或不同,獨立地是從0至5的整數;- f1、f2、f1'、f2'、f1”、f2”、f1*、f2*、f1'*、f2'*、f1”*、f2”*、f1”’*、f2”’*、f1#、f2#中的每一者彼此相同或不同,獨立地是從1至2的整數;- 每個RF彼此相同或不同並且在每次出現時獨立地係一如申請專利範圍2所定義的二價的鏈Rf;- G、G’、G”、G*、G’*、G”*、G”’*中的每一者彼此相同或不同,獨立地係含羥基的基團。
  9. 如申請專利範圍第8項之三嗪衍生物,其中n1、n2、n1'、n2'、n1"、n2"、n1#、n2#、n1*、n2*、n1'*、n2'*、n1"*、n2"*、n1”'*、n2’”*中的每一者獨立地是0。
  10. 如申請專利範圍第8項之三嗪衍生物,其中G、G’、G”、G*、G’*、G”*、G”’*中的每一者獨立地選自由以下化學式組成之群組:(g1)、(g2)和(g3)
  11. 如申請專利範圍第8項之三嗪衍生物,其中G、G’、G”、G*、G’*、G”*、G”’*中的每一者獨立地的是一具有化學式(g1)之含羥基的基團。
  12. 如申請專利範圍第7項之三嗪衍生物,其符合以下化學式(T-1b)和(T-2b)中的任一者: 其中:- n2、n2'、n2"、n2#、n2*、n2'*、n2"*、n2’”*中的每一者彼此相同或不同,獨立地是從0至5的整數;- f1、f2、f1'、f2'、f1”、f2”、f1*、f2*、f1'*、f2'*、f1”*、f2”*、f1”’*、f2”’*、f1#、f2#中的每一者彼此相同或不同,獨立地是從1至2的整數; - 每個RF彼此相同或不同並且在每次出現時獨立地係一如申請專利範圍2所定義的二價的鏈Rf;- 每個RH彼此相同或不同並且在每次出現時獨立地係一氫原子、一C1-C6烷基基團或一(鏈Rf)-C(O)-基團,其中鏈Rf係包含至少一個羥基基團之氟聚氧伸烷基鏈;- G、G’、G”、G*、G’*、G”*、G”’*中的每一者彼此相同或不同,獨立地係含羥基的基團。
  13. 如申請專利範圍第12項之三嗪衍生物,其中n2、n2'、n2"、n2#、n2*、n2'*、n2"*、n2’”*中的每一者獨立地是0。
  14. 如申請專利範圍第12項之三嗪衍生物,其中G、G’、G”、G*、G’*、G”*、G”’*中的每一者獨立地選自由以下化學式組成之群組:(g1)、(g2)和(g3)
  15. 如申請專利範圍第12項之三嗪衍生物,其中G、G’、G”、G*、G’*、G”*、G”’*中的每一者獨立地是一具有化學式(g1)之含羥基的基團。
  16. 如申請專利範圍第12項之三嗪衍生物,其中每個RH彼此相同或不同並且在每次出現時獨立地係一符合化學式-CO-(CF2)f1 a-RF a-(CF2)f2 a-CH2-(OCH2CH2)n2 a-Ga的基團,其中n2a係從0至5的整數;f1a和f2a中的每一者獨立地是整數1或2;RF a係如申請專利範圍第2項中所定 義的二價的鏈Rf,並且Ga係含羥基的基團。
  17. 如申請專利範圍第16項之三嗪衍生物,其中n2a是0。
  18. 如申請專利範圍第16項之三嗪衍生物,其中Ga是選自以下由申請專利範圍14中所定義的化學式組成之群組:(g1)、(g2)和(g3)。
  19. 如申請專利範圍第7項之三嗪衍生物,其符合以下化學式(T-1c)和(T-2c)中的任一者: 其中:- n2、n2'、n2"、n2#、n2*、n2'*、n2"*、n2’”*中的每一者彼此相同或不同,獨立地是從0至5的整數;- f1、f2、f1'、f2'、f1”、f2”、f1*、f2*、f1'*、f2'*、f1”*、f2”*、f1”’*、f2”’*、f1#、f2#中的每一者彼此相同或不同,獨立地是從1至2的整數;- u係0或1;- 每個RF彼此相同或不同並且在每次出現時獨立地是一如申請專利範圍第2項所定義的二價的鏈Rf;- 每個RH彼此相同或不同並且在每次出現時獨立地 是氫原子、C1-C6烷基基團或具有化學式(鏈Rf)-CF2(CH2O)uCH2-或具有化學式(鏈Rf)-CF2CF2(CH2O)uCH2-的基團,其中鏈Rf係包含至少一個羥基基團之氟聚氧伸烷基鏈;- G、G’、G”、G*、G’*、G”*、G”’*中的每一者彼此相同或不同,獨立地是含羥基的基團。
  20. 如申請專利範圍第19項之三嗪衍生物,其中n2、n2'、n2"、n2#、n2*、n2'*、n2"*、n2’”*中的每一者獨立地是0。
  21. 如申請專利範圍第19項之三嗪衍生物,其中G、G’、G”、G*、G’*、G”*、G”’*中的每一者獨立地是選自以下化學式組成之群組:(g1)、(g2)和(g3)
  22. 如申請專利範圍第19項之三嗪衍生物,其中G、G’、G”、G*、G’*、G”*、G”’*中的每一者獨立地是一具有化學式(g1)之含羥基的基團。
  23. 如申請專利範圍第19項之三嗪衍生物,其中每個RH彼此相同或不同並且在每次出現時係具有化學式-CH2-(OCH2)u-(CF2)f1 a-RF a-(CF2)f2 a-CH2-(OCH2CH2)n2 a-Ga的基團,其中u係0或1,n2a係從0至5的整數;f1a和f2a中的每一者獨立地是整數1或2;RF a係如申請專利範圍第2項中所定義的二價的鏈Rf並且Ga係含羥基的基團。
  24. 如申請專利範圍第23項之三嗪衍生物,其中n2a是0。
  25. 如申請專利範圍第23項之三嗪衍生物,其中Ga是選自以下由如上所定義的化學式組成之群組:(g1)、(g2)和(g3)。
  26. 如申請專利範圍第7項之三嗪衍生物,其符合以下化學式(T-1d)和(T-2d)中的任一者: 其中:- n2、n2'、n2"、n2#、n2*、n2'*、n2"*、n2’”*中的每一者彼此相同或不同,獨立地是從0至5的整數;- f1、f2、f1'、f2'、f1”、f2”、f1*、f2*、f1'*、f2'*、f1”*、f2”*、f1”’*、f2”’*、f1#、f2#中的每一者彼此相同或不同,獨立地是從1至2的整數;- 每個RF彼此相同或不同並且在每次出現時獨立地是如申請專利範圍第2項所定義的二價的鏈Rf;- G、G’、G”、G*、G’*、G”*、G”’*中的每一者彼 此相同或不同,獨立地是含羥基的基團。
  27. 如申請專利範圍第26項之三嗪衍生物,其中n2、n2'、n2"、n2#、n2*、n2'*、n2"*、n2’”*中的每一者獨立地是0。
  28. 如申請專利範圍第26項之三嗪衍生物,其中G、G’、G”、G*、G’*、G”*、G”’*中的每一者獨立地選自由以下化學式組成之群組:(g1)、(g2)和(g3)
  29. 如申請專利範圍第26項之三嗪衍生物,其中G、G’、G”、G*、G’*、G”*、G”’*中的每一者獨立地是一具有化學式(g1)的含羥基的基團。
  30. 一種潤滑劑組合物,其包含如申請專利範圍第1至29項中任一項之三嗪衍生物以及至少一種潤滑劑。
  31. 如申請專利範圍第30項之潤滑劑組合物,其中,其包含至少一種(即一種或多於一種的混合物)全氟聚醚(PFPE)潤滑劑,即一種包含一全氟氧化伸烷基鏈,也就是說包括具有至少一個醚鍵以及至少一個氟碳部分的重複單元之鏈的潤滑劑,該潤滑劑不同於本發明的三嗪衍生物。
  32. 一種用於潤滑磁記錄介質之方法,其包括在其至少一個表面上塗覆包括如申請專利範圍第1至29項中任一項之三嗪衍生物的組合物或者如申請專利範圍第30至31項中任一項之潤滑劑組合物。
  33. 如申請專利範圍第32項之方法,其中該磁記錄介質係硬碟。
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