TWI527627B - 表面處理裝置 - Google Patents

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TWI527627B
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塔帕尼 阿拉撒瑞拉
派克 索尼寧
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班尼克公司
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Description

表面處理裝置
本發明係有關於一種裝置,使一撓性基底之一表面受至少一第一前驅物及一第二前驅物之連續表面反應而對基底之表面進行處理,特別是根據申請專利範圍第1項之前言之一表面處理裝置。
於習知技術之數種裝置類型中,根據原子層沈積(atomic layer deposition method,ALD)之原理是利用這些裝置及噴嘴頭使一基底之一表面受至少一第一前驅物及一第二前驅物之連續表面反應而對基底之表面進行處理。在ALD應用中,一般是經由分開階段將兩氣體前驅物引入ALD反應器中。氣體前驅物有效地與基底之表面進行反應下形成一單一原子層之沈積。一般而言,前驅物階段是緊接於一清除階段之後或與清除階段分開的方式進行,在引入其它不同前驅物之前是需藉由前驅物階段去除基底表面上之過量前驅物。因此,一ALD製程需要依序交替方式將複數前驅物流動至基底表面。此重覆的交替表面反應順序及介於其間之清除階段即為一般ALD沈積循環。
習知技術中之ALD裝置通常包括一噴嘴頭,此噴嘴頭具有使基底之表面受第一前驅物之作用之一或多個第一前驅物區域、具有使基底之表面受第二前驅物之作用之一或多個第二前驅物區域,以及具有使基底之表面受一清除氣體之作用之一或多個清除氣體區域或具有使基底之表面受一清除氣體之作用且設置於第一前驅物區域及第二前驅物區域之間之一或多個清除氣體區域。於噴嘴頭中之複數區域是以交錯連續方式設置:第一前驅物區域、清除氣體區域、第二前驅物區域、清除氣體區域、第一前驅物區域、清除氣體區域、第二前驅物區域等等。因此,當噴嘴頭於基底之表面上移動時,依照ALD方法可於基底之表面上製作生長層。噴嘴頭亦可包括排放通道,這些排放通道可設置於第一前驅物區域及第二前驅物區域之間或於一第一前驅物區域及一清除氣體區域之間或於一第二前驅物區域及一清除氣體區域之間。在基底之表面受前驅物作用之後,利用排放通道對於前驅物及清除氣體進行排放。可替代地,於各習知技術中之前驅物區域及清除氣體區域包括用於供應前驅物或清除氣體之至少一入口埠及用於排放前驅物或清除氣體之至少一出口埠。因此,在基底之表面受前驅物之作用後,利用各前驅物區域及各清除氣體區域所提供之吸取作用對於前驅物或清除氣體進行排放。
由於一次ALD循環期間僅能於基底之表面上製作單一原子層,在藉由具有複數第一區域及第二區域之噴嘴頭的作用下,於噴嘴頭對基底之表面進行單次掃描下便可在基底之表面上形成複數原子層,並且噴嘴頭之單次掃描是可經由噴嘴頭或基底之移動而達成。於習知技術中,利用一移動機構對於噴嘴頭進行一快速前後線性移動下是可增加噴嘴頭之掃描次數,如此以達到對於基底之表面之多次掃描。
然而,此用於製作複數原子層之習知技術的缺點在於其移動機構之前後移動過程中產生大的機械力且噴嘴頭必須抵抗此機械力,當移動機構對已停止於結束位置之噴嘴頭再次加速移動時所產生機械力更是特別的大。因此,利用一馬達對於噴嘴頭進行加、減速作業時容易造成裝置及噴嘴頭之損壞。再者,於結束位置之間之噴嘴頭的前後振盪方式是需要一再地對於噴嘴頭進行加速,如此將耗費相當多的能量。
本發明之目的在於提供一種裝置,藉此以解決上述習知技術的問題。依照申請專利範圍第1項之表面處理裝置的特徵部分以達成本發明之目的,其特徵在利用一移動機構對於噴嘴頭於振盪搖擺所釋放之至少部分動能進行儲存。
附屬項中對於本發明之較佳實施例進行說明。
本發明之構想在於提供具有一噴嘴之一種表面處理裝置,藉由噴嘴使一基底之一表面受至少一第一前驅物及一第二前驅物之表面反應。本發明之表面處理裝置更包括一移動機構,藉此可於一第一結束位置及一第二結束位置之間以一振盪對噴嘴頭進行移動。此表示噴嘴頭朝一第一方向移動,直到噴嘴頭抵達第一結束位置為止;隨後,噴嘴頭朝一第二方向移動,直到噴嘴頭抵達第二結束位置為 止。在一正常情況下,當噴嘴頭遠離第一結束位置時是以加速方式進行,隨後當噴嘴頭接近第二結束位置時是以減速方式進行,並且在噴嘴頭再次加速朝向第一結束位置之前,噴嘴頭停止於第二結束位置。在減速期間,噴嘴頭之動能降低,能量便由噴嘴頭而釋放。本發明之表面處理裝置所包括之移動機構可於第一結束位置及第二結束位置之間以振盪對噴嘴頭進行移動。根據本發明之移動機構用以對噴嘴頭之振盪中所釋放至少部分動能進行儲存,此表示移動機構對於當噴嘴頭接近第一結束位置及第二結束位置時之減速過程中所釋放之噴嘴頭之至少部分動能進行儲存。於本發明之某些應用中,當噴嘴頭接近一結束位置時之減速過程中所釋放之動能是以另一能量型式進行儲存或轉換。換言之,藉由儲存或轉換噴嘴頭之動能而對於噴嘴頭進行減速。
噴嘴頭之動能可儲存為位能,例如:重力位能、彈簧位能或壓力介質之位能。可替代地,噴嘴頭之動能可儲存為電能或磁能。噴嘴頭之動能亦可儲存至一動力能元件,例如:一飛輪。所儲存或轉換之噴嘴頭之動能可對於同一噴嘴頭或其它噴嘴頭進行加速。可替代地,所儲存或轉換之噴嘴頭之動能可有其它使用目的或甚至供應至電氣網路。
本發明所提供之一表面處理裝置的優點在於其具有低能量消耗之一移動噴嘴頭。再者,因噴嘴頭之移動而作用在本發明之裝置的應力及力量可被減少。藉由將噴嘴頭之 動能儲存或轉換為另一型式能量的方式對於噴嘴頭進行減速時,噴嘴頭進行減速作業可在一平順方式下進行。因此,在噴嘴頭進行減速過程中不會形成應力峰值。
第1圖係表示本發明之裝置之一實施例之示意圖。本發明之裝置包括具有一圓形或圓柱形外表面46之一輸送圓柱24。本發明之裝置包括亦可僅包括一或二以上之輸送圓柱24。輸送圓柱24可為靜止的,或是這些輸送圓柱24可交錯地繞著其中心軸42進行迴轉。如第1圖所示,一基底6沿著一輸送路徑進行輸送,如此使基底6沿著輸送圓柱24之至少部分的外表面46進行輸送。於第1圖中,基底6係自一第一基底滾輪20供應至輸送圓柱24且更可供應至一第二基底滾輪22。第一基底滾輪20、第二基底滾輪22亦可由用於對長條形基底6進行供應、接收及儲存之其它某些種類的容器所取代。
撓性基底6可為任何長條形及撓性基底。雖然本發明已以較佳實施例揭露如上,然其並非用以限制本發明為任何型態之基底,基底及移動噴嘴頭可為任何的類型。在本說明書中,基底是表示其本身或安裝在一長條形且撓性基底載具或其它基底載具之上之像粉末、像粒子或分離件或物件。所使用的前驅物可包括任何適用於原子層沈積之任何前驅物,例如:臭氧(ozone)、三甲鋁(trimethylaluminium,TMA)、水、四氯化鈦(TiCl4)、二 乙基鋅(diethylzinc,DEZ),或前驅物亦可為電漿,例如:氨(NH3)、氬(Ar)、氧(O2)、氮(N2)、氫(H2)或二氧化碳(CO2)電漿。於噴嘴頭2之圓柱內所使用之清除氣體可包括鈍氣,例如:氮氣、乾空氣或適用於在原子層沈積中做為清除氣體之其它氣體。電漿亦可用於進行清除作業,例如:氮或氬電漿。於本說明書中,清除氣體及前驅物亦可為電漿。
如第1圖所示,於輸送圓柱24之外表面46上大約是以180度對於基底6進行輸送。然而,應注意的是,亦可採45度或大於45度對於基底進行輸送,較佳為90度或甚至是以至少270度或大於270度之一扇形下沿著輸送圓柱24之外表面46對於基底進行輸送。藉由相同於基底6之輸送速度對於輸送圓柱24進行轉動下,基底6係可沿著輸送圓柱24之外表面46進行輸送。可替代地,於輸送圓柱24之外表面46具有一滑動表面,基底6以滑動方式沿著輸送圓柱24之外表面46進行輸送。於一可替代實施例中,輸送圓柱24之外表面46具有一或多個輸送元件(未圖示),利用輸送元件導引基底6沿著輸送圓柱24之外表面46移動且增加基底6於輸送圓柱24之外表面46之移動速度。輸送元件可形成為輸送滾輪,這些輸送滾輪實質沿著輸送圓柱24之中心軸進行延伸,並且這些輸送滾輪可為自由轉動滾輪或被動滾輪。舉例而言,輸送元件可為轉動繞於輸送圓柱24之外表面46之一輸送帶。應注意的是,於本說明書中之圓柱形圓柱或圓柱形表面亦可為略呈錐圓 柱。換言之,例如圓柱亦可在其中間處具有可對於基底6進行導引之一窄部。
本發明之裝置更具有一噴嘴頭40,此噴嘴頭40係以與輸送圓柱24有關的方式進行設置。然而,利用與輸送圓柱24有關之二或二以上之噴嘴頭40亦是可行的,此二或二以上之噴嘴頭40以彼此平行或串列方式進行設置,換言之即二或二以上之噴嘴頭40彼此相鄰或連續。噴嘴頭40包括一輸出面5,處理氣體經由噴嘴頭40之輸出面5進行供給及排放。於本說明書中之輸出面5表示噴嘴頭40之朝向於基底6之一表面。輸出面5亦表示朝向於基底6之包括處理氣體噴嘴及排放通道之部分表面,並且經由流體連接而將前驅物及清除氣體供給至噴嘴頭40。可替代地,噴嘴頭40具有一或多個前驅物及/或清除氣體容器、瓶或類似物,使前驅物及/或清除氣體可與噴嘴頭40同時移動,藉此配置可減少連接至移動中之噴嘴頭40之需高度技術流體連接件之數量。
如第1圖所示,所形成之噴嘴頭40之輸出面5係符合於一圓柱形表面之一部分,也就是說噴嘴頭40之輸出面5形成為圓柱形表面所切割之一凹面或一弧面。此外,所形成之噴嘴頭40之輸出面5更可定位於輸送圓柱24之輸送表面46之上方或於輸送圓柱24之輸送表面46之上。因此,所形成之噴嘴頭40之輸出面5實質符合於輸送圓柱24之輸送表面46。此表示較佳地方式是使噴嘴頭40之輸出面5及輸送圓柱24之輸送表面46具有實質相同的形 狀。經定位之噴嘴頭40使得在噴嘴頭40之輸出面5及輸送圓柱24之輸送表面46之間具有一間隙,長條形基底6經由噴嘴頭40之輸出面5及輸送圓柱24之輸送表面46之間所形成之間隙中進行輸送。因此,當基底6於輸送圓柱24之輸送表面46之上進行輸送時,於基底6及噴嘴頭40之輸出面5之間係共同形成一表面空間。於一較佳實施例中,經定位之噴嘴頭40之輸出面5沿著輸送圓柱24之輸送表面46之長度而與輸送圓柱24之輸送表面46之間保持以一實質定距。如此一來,於輸送圓柱24具有一第一半徑,並且於噴嘴頭40之輸出面5具有一第二半徑,其中,第二半徑大於第一半徑。因此,噴嘴頭40之輸出面5與輸送圓柱24之輸送表面46採同軸設置,藉此於輸送圓柱24之輸送表面46及噴嘴頭40之輸出面5之間具有一實質等距。如第1圖所示,噴嘴頭40之輸出面5係用以對沿著輸送圓柱24之輸送表面46之實質整個扇形上所輸送之基底6進行處理。於一可替代實施例中,噴嘴頭40之輸出面5僅對沿著輸送圓柱24之輸送表面46之部分扇形上所輸送之基底6進行處理。
本發明之裝置包括一移動機構,此移動機構係相對於輸送圓柱24而對至少一噴嘴頭進行移動。如第1圖所示,移動機構係於一第一結束位置及一第二結束位置之間,繞著輸送圓柱24之中心軸42對於噴嘴頭2進行一振盪搖擺之移動。噴嘴頭40設置於一桿件44之一端部,如此移動機構形成一擺錘,藉此可於第一結束位置及第二結束位置 之間對噴嘴頭40進行搖擺。如第1圖所示,當噴嘴頭40以振盪方式進行移動時,噴嘴頭40位在最低點時是具有最大動能。當噴嘴頭40移動朝向第一結束位置及第二結束位置時,噴嘴頭40之動能會降低;當噴嘴頭40經由第1圖所示位置而沿著輸送圓柱24之輸送表面46向上移動時,噴嘴頭40之重力位能會增加。因此,噴嘴頭40之至少部分動能儲成重力位能。當噴嘴頭40抵達第一結束位置及第二結束位置且停止時,此時噴嘴頭40之動能為零,但噴嘴頭40之重力位能具最大值。隨後,噴嘴頭40自第一結束位置及第二結束位置開始移動,噴嘴頭40之重力位能降低且其動能增加,直到噴嘴頭40再次抵達第1圖所示位置為止。因此,在第一結束位置及第二結束位置之噴嘴頭2之搖擺作用下,擺錘將噴嘴頭2之至少部分動能儲存為重力位能。如第1圖所示,噴嘴頭40形成擺錘之重量。於一可替代實施例中,噴嘴頭40係連接一分離重量,藉由分離重量提供噴嘴頭40之搖擺。因此,藉由擺錘運動對於以一實質定距於輸送圓柱46之外表面的噴嘴頭40進行移動。一馬達可連接於噴嘴頭40或移動機構,藉由馬達維持噴嘴頭40之擺錘運動的進行。
根據上述說明可知,移動機構用以對噴嘴頭40之振盪中所釋放至少部分動能進行儲存,並且特別地是移動機構對於當噴嘴頭40接近第一結束位置及第二結束位置時之減速過程中所釋放之噴嘴頭40之至少部分動能進行儲存。移動機構更利用其所儲存動能對於噴嘴頭40或另一噴 嘴進行移動。可替代地,所儲存動能是運用於本發明之裝置中或本發明之裝置外之其它目的。再者,需注意的是噴嘴頭40之部分動能亦可儲存為或轉換成彈性位能,例如一彈簧或一壓力介質之位能。舉例而言,壓力介質可為一氣體空間,當噴嘴頭40接近第一結束位置及第二結束位置時之氣體空間是處於被壓縮狀態。噴嘴頭之部分動能亦可儲存為或轉換成電位能或磁位能。舉例而言,磁位能可提供噴嘴頭40及噴嘴頭移動之第一結束位置及第二結束位置具有相同極性之磁極。
第2圖係表示本發明之裝置之一實施例之示意圖。用於處理至少部分圓柱狀表面之本發明之裝置包括一噴嘴頭2。於第2圖中,噴嘴頭2係為具有一中心軸且實質圓周邊壁之一中空圓柱,並且周邊壁具有一內表面及一外表面。於第2圖之實施例中,噴嘴頭2之周邊壁的內表面係為噴嘴頭2之一輸出面,經由噴嘴頭2之輸出面對於前驅物進行供應,使一基底之一表面受前驅物所作用。如第2圖所示,噴嘴頭2用於處理一圓柱狀基底6之一外表面4,使圓柱狀基底6可被移動通過中空噴嘴頭2。一第一前驅物及一第二前驅物係可為應用在原子層沉積之任何氣態前驅物。再者,電漿亦可用以做為前驅物。一清除氣體係可為某些鈍氣(例如:氮氣、電漿或類似物)。前驅物、清除氣體係可經由流體連接件而供給至噴嘴頭2。可替代地,噴嘴頭2具有一或多個前驅物及/或清除氣體容器、瓶或類似物,使前驅物及/或清除氣體可與噴嘴頭2同時移動,藉此 配置可減少連接至一移動噴嘴頭2之需高度技術流體連接件之數量。
圓柱狀噴嘴頭2之輸出面具有一或多個第一前驅物區域14及一或多個第二前驅物區域16,藉由第一前驅物區域14使圓柱狀基底6之外表面4受第一前驅物所作用,並且藉由第二前驅物區域16使圓柱狀基底6之外表面4受第二前驅物所作用。如第2圖所示,噴嘴頭2包括二第一前驅物區域14及二第二前驅物區域16,二第一前驅物區域14及二第二前驅物區域16沿著噴嘴頭2之周邊壁且沿著輸出面而交替連續設置。當圓柱狀基底6沿著第2圖中所示之箭頭12而繞著縱軸進行迴轉時,如此使基底6之外表面4可受第一前驅物區域14及第二前驅物區域16中之第一前驅物及第二前驅物所作用。噴嘴頭2亦可繞著圓柱形噴嘴頭2之中心軸進行轉動。第2圖之本實施例之裝置包括一移動機構,移動機構用於在一第一結束位置及一第二結束位置之間使噴嘴頭2以振盪方式繞著中心軸進行轉動。移動機構包括一或多個彈簧,當噴嘴頭2移動接近第一結束位置及第二結束位置時,彈簧產生壓縮;當噴嘴頭2移動遠離第一結束位置及第二結束位置時,彈簧產生解壓縮。於第2圖中之噴嘴頭2可進行45度或大於45度之迴轉,較佳為180度或大於180度或甚至是超過360度。
如上所述,於第2圖之實施例之噴嘴頭2的動能亦可替代地儲存成位能。再者,噴嘴頭2之動能可儲存為一動力能元件(未圖示)之動能。動力能元件可為一飛輪或某些 其它迴轉元件或移動元件。
於一可替代實施例中,移動機構係以一傳統線性振盪於第一結束位置及第二結束位置之間對噴嘴頭進行移動。噴嘴頭包括一平面狀輸出面,平面狀輸出面用於使基底之一表面受至少第一前驅物及第二前驅物所作用。移動機構藉由前後振盪對噴嘴頭進行移動且將噴嘴頭之線性移動之至少部分動能轉換成一彈簧或一壓力介質之位能或將噴嘴頭之動能儲存至一迴轉元件或一飛輪之動能。
上述噴嘴頭之輸出面上連續包括以下順序:可選擇地重覆複數次之一清除氣體區域、一前驅物區域及一排放區域。清除氣體區域、前驅物區域及排放區域沿著噴嘴頭2之周邊進行交錯連續設置。噴嘴頭之輸出面上連續包括以下順序:可選擇地重覆複數次之一第一前驅物區域、一排放區域、一清除氣體區域、一第二前驅物區域、一排放區域及一清除氣體區域。前驅物經由前驅物區域進行供給,藉由前驅物對一表面進行表面反應。清除氣體供應至清除氣體區域,並且前驅物利用吸取或真空方式經由排放區域進行排放。前驅物區域可形成為實質相同方向延伸之複數通道。
上述配置提供一均勻氣體沿著前驅物區域及清除氣體區域之全長流動且沿著排放區域進行氣體的均勻排放。因此,前驅物區域14、16可提供做為前驅物噴嘴,藉由前驅物噴嘴沿著前驅物區域之全長進行前驅物之供給。清除氣體區域亦可提供做為一清除氣體噴嘴,藉由清除氣體噴嘴 沿著清除氣體區域之全長進行清除氣體之供給,並且排放區域用於沿著排放區域之全長進行前驅物及清除氣體之排放。
於一可替代實施例中,連續沿著噴嘴頭之周邊所提供之輸出面包括以下順序:可選擇地重覆複數次之一第一前驅物區域、一清除區域、一第二前驅物區域及一清除氣體區域。於本實施例中,第一前驅物區域具有用於供應第一前驅物之至少一第一入口埠及用於排放第一前驅物之至少一第一出口埠,第二前驅物區域具有用於供應第二前驅物之至少一第二入口埠及用於排放第二前驅物之至少一第二出口埠,並且清除區域具有用於供應清除氣體之至少一第三入口埠。清除氣體區域亦可包括一或多個第三出口埠或可替代地將清除氣體經由前驅物區域之出口埠進行排放。舉例而言,入口埠可位於一縱長前驅物通道及清除氣體通道之一端部,並且出口埠可位於前驅物通道或清除氣體通道之另一端部,如此使前驅物及清除氣體可沿著通道流動。可替代地,入口埠可位於一通道之中間,並且出口埠可位於一通道之相對端部。
因為本發明之技術優點,本發明之概念可經由各種方式加以實施,對於熟習此項技藝者是顯而易見的。雖然較佳實施例揭露如上,然其並非用以限制本發明及其實施例,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可做更動與潤飾。
12‧‧‧箭頭
14‧‧‧第一前驅物區域
16‧‧‧第二前驅物區域
2‧‧‧噴嘴頭
20‧‧‧第一基底滾輪
22‧‧‧第二基底滾輪
24‧‧‧輸送圓柱
4‧‧‧表面
40‧‧‧噴嘴頭
42‧‧‧中心軸
44‧‧‧桿件
46‧‧‧外表面
5‧‧‧輸出面
6‧‧‧基底
以下將配合所附圖式針對本發明之相關的較佳實施例進行詳述如下:第1圖係根據本發明之裝置之一實施例之示意圖;以及第2圖係根據本發明之裝置之另一實施例之示意圖。
20...第一基底滾輪
22...第二基底滾輪
24...輸送圓柱
40...噴嘴頭
42...中心軸
44...桿件
46...外表面
5...輸出面
6...基底

Claims (22)

  1. 一種表面處理裝置,使一基底(6)之一表面(4)受至少一第一前驅物及一第二前驅物之連續表面反應而對該基底(6)之該表面(4)進行處理,該表面處理裝置包括:至少一噴嘴頭(2,40),包括二或二以上或多個前驅物區域(14,16),該等前驅物區域(14,16)用於使該基底(6)之該表面(4)受至少該第一前驅物及該第二前驅物所作用;以及一移動機構(42,44),於一第一結束位置及一第二結束位置之間以振盪對該噴嘴頭(2,40)進行移動;其特徵在於:該噴嘴頭(2,40)之振盪中所釋放之該噴嘴頭(2,40)之至少部分動能係由該移動機構(42,44)所儲存。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之表面處理裝置,其中當該噴嘴頭(2,40)接近該第一結束位置及該第二結束位置時,於該噴嘴頭(2,40)減速時,該噴嘴頭(2,40)之至少部分動能係由至少部分該移動機構(42,44)所儲存。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之表面處理裝置,其中該噴嘴頭(2)之至少部分動能儲存為位能。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之表面處理裝置,其中該第一結束位置及該第二結束位置中之至少一者之該噴嘴頭(2)之至少部分動能儲存為重力位能。
  5. 如申請專利範圍第3項所述之表面處理裝置,其中該第一結束位置及該第二結束位置中之至少一者之該噴嘴 頭(2)之至少部分動能儲存為彈性位能。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之表面處理裝置,其中該噴嘴頭(2)之至少部分動能儲存為一彈簧或一壓力介質之位能。
  7. 如申請專利範圍第3項所述之表面處理裝置,其中該第一結束位置及該第二結束位置中之至少一者之該噴嘴頭(2)之至少部分動能儲存為電位能。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之表面處理裝置,其中該噴嘴頭(2)之動能儲存為磁位能。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之表面處理裝置,其中該噴嘴頭(2)之至少部分動能儲存至一動力能元件之動能。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之表面處理裝置,其中該動力能元件係為一飛輪或一迴轉元件。
  11. 如申請專利範圍第1項所述之表面處理裝置,其中該移動機構包括一擺錘(40,42,44),該擺錘(40,42,44)對於該噴嘴頭(40)進行該第一結束位置及該第二結束位置之間之搖擺。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之表面處理裝置,其中該第一結束位置及該第二結束位置上之該噴嘴頭(2)之搖擺作用下,該擺錘將該噴嘴頭(2)之至少部分動能儲存為重力位能。
  13. 如申請專利範圍第11項所述之表面處理裝置,其中該噴嘴頭(40)形成該擺錘(42,44)之重量,或一分離重量連接於該噴嘴頭(40)以提供該噴嘴頭(40)之搖擺。
  14. 如申請專利範圍第11項所述之表面處理裝置,其中該表面處理裝置包括具有一外表面之一輸送圓柱(46),一撓性長條形基底(6)沿著該輸送圓柱(46)之該外表面進行輸送,藉由擺錘運動對於一實質定距於該輸送圓柱(46)之該外表面之該噴嘴頭(40)進行移動。
  15. 如申請專利範圍第1項所述之表面處理裝置,其中該移動機構藉由該第一結束位置及該第二結束位置之間之一振盪轉動使該噴嘴頭(2)繞著一迴轉軸進行轉動。
  16. 如申請專利範圍第15項所述之表面處理裝置,其中該噴嘴頭(2)在一實質定距中心軸處形成具有一中心軸及一實質圓周邊之一圓柱形噴嘴頭,並且該移動機構藉由該第一結束位置及該第二結束位置之間之一振盪轉動使該噴嘴頭(2)繞著該迴轉軸進行轉動。
  17. 如申請專利範圍第15項所述之表面處理裝置,其中在該第一結束位置及該第二結束位置上之該噴嘴頭(2)之搖擺作用下,該移動機構將該噴嘴頭(2)之至少部分迴轉動能存入一彈簧或一壓力介質之位能中。
  18. 如申請專利範圍第15項所述之表面處理裝置,其中該移動機構將該噴嘴頭(2)之至少部分迴轉動能存入一迴轉元件或一飛輪之動能中。
  19. 如申請專利範圍第1項所述之表面處理裝置,其中該移動機構藉由該第一結束位置及該第二結束位置之間之一線性振盪對該噴嘴頭(2)進行移動。
  20. 如申請專利範圍第19項所述之表面處理裝置,其 中該噴嘴頭(2)包括一平面狀輸出面,該平面狀輸出面用於使該基底(6)之該表面(4)受至少該第一前驅物及該第二前驅物所作用,並且該移動機構藉由前後振盪對該噴嘴頭(2)進行移動。
  21. 如申請專利範圍第19項所述之表面處理裝置,其中該移動機構將該噴嘴頭(2)之該線性移動之至少部分動能轉換成一彈簧或一壓力介質之位能或一迴轉元件或一飛輪之動能。
  22. 如申請專利範圍第1項所述之表面處理裝置,其中該移動機構(42,44)利用該儲存動能更對一或多個噴嘴頭(2,40)進行移動。
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