TWI518403B - 製造輕薄液晶顯示裝置的方法 - Google Patents

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Description

製造輕薄液晶顯示裝置的方法
本公開涉及一種用於製造液晶顯示(LCD)裝置的方法，並且特別地，涉及一種用於製造輕薄LCD裝置的方法。
在近來資訊化社會中，用於處理及顯示大量資訊的顯示器領域顯著地發展。當今，具有輕重量、薄厚度和低功率消耗的薄膜電晶體(TFT)-液晶顯示(LCD)裝置已被開發以代替傳統的陰極射線管(CRT)。
LCD裝置主要包括一彩色濾光片基板、一陣列基板以及一液晶層，其中該液晶層形成在該彩色濾光片基板和該陣列基板之間。
該彩色濾光片基板包括一彩色濾光片，該彩色濾光片包括紅色、綠色和藍色(RGB)子彩色濾光片；一黑色矩陣，配置以將該等子彩色濾光片彼此分開，並且配置以阻擋傳輸至該LC層的光；以及一透明公共電極，配置以載入一電壓至該LC層。
閘線和資料線形成在該陣列基板上，通過在水平和垂直方向上排列來定義像素區域。一薄膜電晶體(TFT)、一開關裝置形成在該等閘線和資料線的每個交叉處。一像素電極形成在每個像素區域中。
該彩色濾光片基板和該陣列基板通過影像顯示區域的外邊緣處形成的密封劑彼此連接以彼此面對，從而實現一LC面板。該彩色濾光片基板和該陣列基板通過在該彩色濾光片基板或該陣列基板處形成的連接鍵彼此連接。
主要用於可擕式電子裝置的LCD裝置應具有減小的尺寸和重量，用於增強電子裝置的便攜性。此外，由於當今製造較大的LCD裝置，從而對於輕薄LCD裝置的需求增加。
存在各種方法以減小LCD裝置的厚度或重量。然而，在減小LCD裝 置的核心元件的重量上存在限制。此外，通過減小該等核心元件的重量來減小LCD裝置的重量或厚度上是非常困難的，因為核心元件的重量非常小。
因此，正積極研究一種用於通過減小LC面板的彩色濾光片基板和陣列基板來減小LCD裝置的厚度和重量的方法。然而，在這種情況下，該等基板由於其較薄的厚度在進行複數個單元處理時可能被彎曲或被破壞。
因此，詳細說明書的一方面在於提供一種用於製造輕薄液晶顯示(LCD)裝置的方法，該方法藉由將一輔助基板連接至薄玻璃基板，能夠防止該薄玻璃基板損壞。
詳細說明書的另一方面在於提供一種用於製造輕薄液晶顯示(LCD)裝置的方法，該方法能夠從處於連接單元狀態下之完整的液晶面板上容易地分離一輔助基板。
為了實現這些目標和其他優點並依據本發明的目的，此處具體並大體描述，提供一種用於製造輕薄液晶顯示裝置的方法，該方法包含：提供一第一輔助基板、一第二輔助基板、一薄第一母基板以及一薄第二母基板；噴射氣體至該第一輔助基板和該薄第一母基板的至少一表面上，並從而從該表面移除OH基團；噴射氣體至該第二輔助基板和該薄第二母基板的至少一表面上，並從而從該表面移除OH基團；將該第一輔助基板和該第二輔助基板分別連接至該薄第一母基板和該薄第二母基板；對已經連接該第一輔助基板的該第一母基板執行一陣列製程；對已經連接該第二輔助基板的該第二母基板執行一彩色濾光片製程；將已進行該陣列製程的該第一母基板連接至已進行該彩色濾光片製程的該第二母基板；以及從該第一母基和該第二母基板上分別分離該第一輔助基板和該第二輔助基板。
即將噴射的氣體可包括包含氦(He)、氖(Ne)、氬(Ar)和氮(N2)的惰性氣體、氧氣(O2)、乾淨乾燥氣體(CDA)以及空氣。
該氣體通過複數個設置在該薄母基板或該輔助基板之上的噴嘴噴射，或者通過複數個設置在該薄母基板或該輔助基板之上和之下的噴嘴噴射。
該氣體在被加熱至室溫~55℃的範圍內的溫度之後被噴射。
該氣體噴射2.5分鐘~20分鐘。該噴射時間取決於該陣列製程和該彩色濾光片製程的處理溫度。隨著處理溫度越高，噴射時間越長。
已經噴射氣體於其上的該薄母基板和該輔助基板的其中之一被上下倒轉。然後，該輔助基板可連接至該薄母基板。
根據本發明的另一方面，提供一種用於製造輕薄液晶顯示裝置的方法，使用一輔助基板用於處理一薄玻璃基板，其中連接該薄玻璃基板至該輔助基板的步驟包含：將該薄玻璃基板和該輔助基板引入一基板引入線；將引入該基板引入線的該薄玻璃基板和該輔助基板傳送至一基板清洗線，從而進行一規定的清洗製程；將已清洗的該薄玻璃基板和該輔助基板傳送至一基板表面處理線，並且噴射氣體至該薄玻璃基板和該輔助基板的至少一表面上，從而從該表面上移除OH基團；將該薄玻璃基板和該輔助基板傳送至一基板連接線，從而將該薄玻璃基板和該輔助基板彼此連接；以及將彼此連接的該薄玻璃基板和該輔助基板傳送至一檢測線，從而進行一檢測製程。
該基板引入線、該基板清洗線、該基板表面處理線、該基板連接線以及該檢測線形成一單獨連接線，並且通過一傳送帶的一傳送裝置彼此連接以進行線上製程。
該基板表面處理線可配置為一多級緩衝器，用於同時容納複數個薄玻璃基板和輔助基板。容納在該多級緩衝器中的該等基板被裝載在一平板的銷或輥上。
該平板可形成為板狀外形，或者其中具有一開口的框架形狀。在該平板形成為框架形狀的情況中，從下側噴射的氣體被噴射至裝載在該平板上的該等基板的下表面上。
如果從該等基板的下側和上側噴射氣體，上和下噴嘴排列在自該裝載的基板具有相同間隔的相同位置上。
即將噴射的氣體可包括包含氦(He)、氖(Ne)、氬(Ar)和氮(N2)的惰性氣體、氧氣(O2)、乾淨乾燥氣體(CDA)以及空氣。
該氣體在被加熱至室溫~55℃的範圍內的溫度之後被噴射。
該氣體噴射2.5分鐘~20分鐘。該噴射時間取決於該陣列製程和該彩色濾光片製程的處理溫度。隨著處理溫度越高，噴射時間越長。
本發明可具有以下優勢。
首先，輕薄LCD裝置可利用薄玻璃基板實施。這可減小電視、監測模型和可擕式電子裝置的厚度或重量。
此外，在該薄玻璃基板和該輔助基板彼此黏合之前通過噴射惰性氣體至該基板，OH基團可從該薄玻璃基板的表面或該輔助基板的表面移除。結果，該輔助基板可從處於連接單元狀態下之完整的LC面板容易地分離而沒有任何損壞。結果，整個製程可被穩定化，並因此可增強產品的價格競爭力。
本申請的應用的進一步範圍將從以下詳細描述中變得更顯而易見。然而，應理解的是，本發明較佳實施例所表示之詳細地描述以及具體實例僅為說明性的，本發明的精神和範圍內的各種變更和修飾從詳細的描述中對於本領域的技術人員來說是顯而易見的。
100‧‧‧薄玻璃基板
101‧‧‧薄玻璃基板的表面
110‧‧‧輔助基板
111‧‧‧輔助基板的表面
120a‧‧‧噴嘴
120b‧‧‧噴嘴
125‧‧‧管
126‧‧‧槽
130‧‧‧多級緩衝器
131‧‧‧板
132‧‧‧銷
210‧‧‧基板引入線
220‧‧‧基板清洗線
230‧‧‧基板表面處理線
240‧‧‧基板連接線
250‧‧‧檢測線
所附圖式其中提供關於本發明實施例的進一步理解並且結合與構成本說明書的一部份，說明本發明的實施例並且與描述一同提供對於本發明實施例之原則的解釋。
圖式中：第1圖是示意性說明根據本發明用於製造輕薄液晶顯示(LCD)裝置的方法的流程圖；第2A圖和第2B圖是用於解釋當薄母基板和輔助基板彼此連接時控制附著力的方法的示例圖；第3A圖至第3D圖是示意性說明根據本發明製造輕薄LCD裝置的方法的部分的示例圖；第4圖是示意性說明根據本發明之連接線的結構的圖式；第5圖是說明根據本發明在薄玻璃基板與輔助基板之間的連接製程的流程圖；第6A圖和第6B圖是示意性說明根據本發明之多級緩衝器的結構的剖視圖；第7圖是說明根據本發明之輔助基板的分離製程的流程圖；以及 第8A圖至第8D圖是示意性說明根據本發明製造輕薄LCD裝置的方法的部分的示例圖。
參見所附圖式將詳細描述示例性實施例。為了參考圖式描述方便，使用相同的附圖標記表示相同或相等的元件，並且其描述將不再重複。
隨著液晶顯示(LCD)裝置在近年來被積極用於各種用途，輕薄LCD裝置備受關注。此外，正在進行研究以減小基板的厚度，對LC面板的厚度最有影響的因素。由於具有觸控功能的延遲器或保護基板被加至3D面板或觸控板中，從而更需要薄厚度的基板。然而，處理薄基板可能具有限制，因為薄基板的物理性質例如彎曲特性和強度減弱。
為了解決該等問題，在本發明中，一輔助基板連接在一薄玻璃基板上，並且然後在完成製造輕薄LCD裝置過程之後，將該輔助基板從該薄玻璃基板上分離。
以下，參見所附圖式，將詳細解釋根據本發明較佳實施例之用於製造輕薄液晶顯示(LCD)裝置的方法。
第1圖是示意性說明根據本發明之用於製造輕薄液晶顯示(LCD)裝置的方法的流程圖。
第1圖說明瞭用於製造LCD裝置的方法，其中通過LC滴製法形成液晶(LC)層。然而，本發明不限於此。即，本發明還可應用通過LC注射法形成LC層之用於製造LCD裝置的方法。
用於製造LCD裝置的製程可以主要分為在下陣列基板上形成驅動裝置的驅動裝置陣列製程、在上彩色濾光片基板上形成彩色濾光片的彩色濾光片製程、以及單元製程。
如上所述，存在許多因素影響LCD裝置的重量或厚度。在該等各種因素中，玻璃彩色濾光片基板或玻璃陣列基板的厚度或重量是最有影響的。因此，該玻璃基板的厚度或重量應被減小，用以減小LCD裝置的厚度或重量。
用於減小該玻璃基板的厚度或重量的方法包括以蝕刻方式減小玻璃基板的厚度的方法，以及利用薄玻璃基板的方法。根據第一種方法，在完成 單元之後，進一步進行玻璃蝕刻製程。然而，第一種方法的缺點在於在玻璃蝕刻製程期間可能產生劣質玻璃基板，從而增加製造成本。
為了解決該等問題，在本發明中，使用具有大約0.1t~0.4t厚度的薄玻璃基板進行陣列製程、彩色濾光片製程以及單位製程。由於該薄玻璃基板連接在輔助基板上，該薄玻璃基板的彎曲度減小，從而移動時該薄玻璃基板未被破壞。這裏，“t”表示毫米。因此，0.1t表示0.1mm的厚度，以及0.4意思是0.4mm的厚度。以下，為了方便，“mm”將稱為“t”。
即，當引入一般LCD生產線時，具有大約0.1t~0.4t厚度的薄玻璃基板被極大地彎曲。這可能導致該薄玻璃基板嚴重向下變形，並因此在使用例如卡匣之傳送裝置傳送該薄玻璃基板時產生問題。此外，當裝載和卸載至/自單元處理設備時，甚至被很小的碰撞也可使該薄玻璃基板大幅彎曲，從而由於碰撞等增加損壞。因此，基本上不可能執行該等製程。
為了解決該等問題，在本發明中，在薄玻璃基板被引入生產線之前，將一輔助基板連接至具有0.1t~0.4t厚度的薄玻璃基板。因此，該薄玻璃基板具有與LCD裝置的一般玻璃基板相同的厚度(大約0.7t)，或者具有比一般玻璃基板更強的彎曲特徵。結果，可防止移動玻璃基板或進行單位製程時發生之例如玻璃基板的向下變形的問題。
在將具有0.1t~0.4t厚度的薄玻璃基板引入陣列製程和彩色濾光片製程的生產線之前，將具有大約0.3t~0.7t厚度的輔助基板連接至該薄玻璃基板上(S101)。然而，本發明不限制該薄玻璃基板和該輔助基板的厚度。
該薄玻璃基板和該輔助基板可通過真空狀態接觸而不需黏合劑來彼此連接。該兩個基板之間的黏合力可為真空力、范德華(van der Waals)力、靜電力、分子結合力等。
在該薄玻璃基板和該輔助基板之間的連接狀態中，完成TFT-LCD製程。然後，將該輔助基板從該薄玻璃基板上分離，從而製造輕薄LC面板。
對於上述TFT-LCD製程，需要大附著力。然而，如果附著力太大，當將該輔助基板從該薄玻璃基板上分離時，可能破壞該等基板。因此，本發明提供一種用於控制附著力的方法，例如，一種用於將附著力減弱至從該薄玻璃基板上分離該輔助基板而無損壞的水準的方法。
第2A圖和第2B圖是用於解釋當薄玻璃基板和輔助基板彼此連接時控 制附著力的方法的示例圖。
第2A圖是用於解釋薄玻璃基板和輔助基板在真空狀態下彼此連接的原理的示例圖。第2B圖是用於解釋當薄玻璃基板和輔助基板處於連接狀態時減弱附著力的示例圖。
參見第2A圖，在初始連接狀態中，薄玻璃基板100和輔助基板110之間的介面存在大量OH基團。然後，在TFT-LCD製程期間通過加熱OH基團參與共價鍵，接觸角減小，同時附著力增加。如果在附著力增加的狀態下，從薄玻璃基板100分離輔助基板110，薄玻璃基板100的中心部分或邊緣可能被裁剪，並且具有大附著力的基板的部分可能損壞。
供您參考，在薄玻璃基板100和輔助基板110之間的附著力較大的情況中，當將輔助基板110從薄玻璃基板100分離時，該等基板被嚴重損壞。此外，在薄玻璃基板100和輔助基板110之間的介面處，OH基團數增加，接觸角減小，同時附著力增加。
參見第2B圖，在通過乾燥製程、氣體噴射製程等從薄玻璃基板100和輔助基板110之間的介面部分移除OH基團的情況中，該兩個基板之間的附著力減小，因為分子結合力減小。在這種情況下，沒有觀察到由於剩餘OH基團而導致的接觸角變化。例如，如果在60℃~70℃的溫度下進行熱空氣乾燥製程30秒，使用附著力(拉力計)從薄玻璃基板100上分離輔助基板110時測量的壓力從0.7kgf下降至0.65kgf。這意味著輔助基板110從薄玻璃基板100上分離而無任何損壞。
在本發明中，在薄玻璃基板和輔助基板彼此連接之前，進行乾燥製程或氣體噴射製程(例如，噴射惰性氣體至該基板的表面上)。結果，該等OH基團被部分移除。因此，輔助基板可以從薄玻璃基板上容易地分離。以下將解釋其詳細描述。
在表面已處理的薄玻璃基板和輔助基板彼此連接之後，用於陣列基板之其上已連接有輔助基板的上述薄玻璃基板(以下，將稱為“陣列基板”)進行陣列製程。通過該陣列製程，複數個閘線和資料線形成在該陣列基板上，該等閘線和資料線定義像素區域，並且薄膜電晶體形成在像素區域中(S102)。該等TFT為連接至該等閘線和資料線的驅動裝置。此外，一像素電極形成在該陣列基板上，該像素電極連接至該TFT並且驅動LC層作為 一信號載入至該TFT。
用於彩色濾光片基板之其上連接有輔助基板的上述薄玻璃基板(以下，將稱為“彩色濾光片基板”)進行彩色濾光片製程。通過該彩色濾光片製程，形成一彩色濾光片層和一公共電極(S103)。該彩色濾光片層由紅色、綠色和藍色(RGB)子彩色濾光片組成。在製造IPS(面內切換)類型的LCD裝置的情況中，該公共電極形成在該陣列基板上，其中在該陣列基板上通過陣列製程已經形成像素電極。
然後，一配向層印至該彩色濾光片基板和該陣列基板的每一個上。然後，摩擦該配向層，從而可提供預傾角或配向方向至即將形成在該彩色濾光片基板與該陣列基板之間的LC層的LC分子(S104，S105)。
將一密封劑施加至該已摩擦的彩色濾光片基板上以從而形成一規定的密封圖案(S106)，並且液晶滴至該陣列基板上以從而形成該LC層(S107)。
該彩色濾光片基板和該陣列基板的每一個形成在大面積的母基板上。即，複數個面板區域形成在大面積的母基板上，並且薄膜電晶體(驅動裝置)或彩色濾光片層形成在每個面板區域中。
該滴製法是一種通過滴加和分散液晶形成LC層的方法。更具體地，液晶滴在已經排列複數個陣列基板之大面積的第一母基板的影像顯示區域上，或者已經排列複數個彩色濾光片基板之大面積的第二母基板上。然後，分散該等液晶。然後，使用施加以將該第一母基板和該第二母基板彼此連接的壓力，該等液晶均勻分佈在整個影像顯示區域上。
在LC層通過滴製法形成在LC面板上的情況中，一密封圖案應實施為一封閉圖案以封閉該影像顯示區域，從而防止液晶洩漏至影像顯示區域的外部。
該滴製法與真空注射法相比，優點在於液晶可以在短時間內滴加，並且LC層可以快速形成，即使在LC面板較大的情況中。此外，由於僅需要量的液晶滴在該第一母基板上，可防止由於丟棄昂貴的液晶而導致的LC面板的成本增加。這可增加產品的價格競爭力。
然後，在已經滴加液晶並且施加密封劑的第一母基板和第二母基板的對齊狀態中，一壓力施加至該兩個基板。結果，該第一母基板和該第二母基板通過該密封劑彼此連接，並且通過壓力滴加的液晶均勻分散在LC面板 的整個區域上(S108)。在該等製程中，複數個LC面板，其中已經排列LC層，形成在較大的第一母基板和第二母基板上。然後，該等較大的第一母基板和第二母基板，其中已經形成複數個LC面板，與該輔助基板分離(S109)。然後，該等較大的第一母基板和第二母基板被加工及切割以分成複數個LC面板。然後，檢查每個LC面板以製造LCD裝置(S110)。
如上所述，在薄玻璃基板和輔助基板彼此連接之前，進行乾燥製程或氣體噴射製程(例如，噴射惰性氣體至該基板的表面上)。結果，OH基團被部分地移除。因此，該輔助基板可以從該薄玻璃基板上容易地分離。參見所附圖式將詳細解釋其具體描述。
第3A圖至第3D圖是示意性說明根據本發明之製造輕薄LCD裝置的方法的部分的示例圖。第3A圖至第3D圖說明瞭將表面已處理的薄玻璃基板和輔助基板彼此連接以及將兩個基板彼此分離的製程。
參見第3A圖至第3D圖，惰性氣體被噴射至薄玻璃基板和輔助基板的整個表面上，從而該兩個基板之間的附著力減小，並因此輔助基板可以從薄玻璃基板上容易地分離。
如第3A圖所示，製備具有大約0.1t~0.4t厚度的薄玻璃基板100以及具有大約0.3t~0.7t厚度的輔助基板110。
薄玻璃基板100可為其中已排列有用於彩色濾光片製程的複數個彩色濾光片基板的大母基板，或者其中已排列有用於陣列製程的複數個陣列基板排列的大母基板。
然後，將惰性氣體噴射至薄玻璃基板100的整個表面101以及輔助基板110的整個表面111上，便於分離輔助基板110。然而，本發明不限於此。即，惰性氣體可噴射至薄玻璃基板100的部分表面以及輔助基板110的部分表面上。或者，惰性氣體可噴射至薄玻璃基板100和輔助基板110的其中之一的整個表面101或111上，或者部分表面上。
更具體地，在薄玻璃基板100與輔助基板110之間的附著力較大的情況中，當從薄玻璃基板100上分離輔助基板110時，薄玻璃基板100可能完全或者被撕掉。在這種情況下，通過改進該等基板的表面，可以減小薄玻璃基板100與輔助基板110之間的附著力。即，如果執行乾燥製程或將氣體噴射至薄玻璃基板100的整個表面101或輔助基板110的整個表面111 上以部分移除OH基團，附著力減小。結果，輔助基板110可以從薄玻璃基板100上容易地分離。
即將噴射的氣體可包括包含氦(He)、氖(Ne)、氬(Ar)和氮(N2)的惰性氣體、氧氣(O2)、乾淨乾燥氣體(CDA)以及空氣。該等氣體適用於簡單開關(關和開)設備，因為他們對人體無害。
該等惰性氣體可通過噴嘴120a噴射至薄玻璃基板100的表面101上，並且可通過噴嘴120b噴射至輔助基板110的表面111上。在這種情況下，在薄玻璃基板100和輔助基板110上可分別提供噴嘴120a和噴嘴120b。
該惰性氣體可被加熱至室溫~55℃，較佳大約40℃的範圍內的溫度。然後，該惰性氣體可通過一管(未顯示)被提供至噴嘴120a和120b，從而噴射至薄玻璃基板100的表面101以及輔助基板110的表面111上。
如果噴射惰性氣體至薄玻璃基板100的表面101以及輔助基板110的表面111，可從薄玻璃基板100與輔助基板110之間的介面部分移除OH基團。結果，分子結合力減小，並因此該兩個基板之間的附著力減小。
如第3B圖和第3C圖所示，已經噴射該惰性氣體的薄玻璃基板100和輔助基板110的其中之一(例如，該薄玻璃基板100)上下倒轉。然後，輔助基板110連接至薄玻璃基板100上。如果輔助基板110由玻璃材料形成，薄玻璃基板100和輔助基板110通過以真空狀態接觸來彼此連接而無需黏合劑。該兩個基板100和110之間的附著力可為真空力、范德華力、靜電力、分子結合力等。
形成作為薄玻璃基板100之具有0.1t~0.4t厚度的處理面板以及具有0.3t~0.7t厚度的輔助基板110彼此連接，根據溫度變化具有相同的膨脹率，因為薄玻璃基板100和輔助基板110由相同的玻璃材料形成。結果，沒有單元製程期間由於不同的膨脹率而導致的基板彎曲的問題發生。
隨著具有0.1t~0.4t厚度的薄玻璃基板100連接至輔助基板110以形成一處理面板，出現基板彎曲明顯減小。在這種情況下，彎曲度降至等於或小於具有0.7t之一般玻璃基板的彎曲度。結果，當進行製造LCD裝置的單元製程時，沒有出現問題。
以下，參考其他圖式將詳細解釋用於連接薄玻璃基板和輔助基板的製程。
第4圖是示意性說明根據本發明之連接線的結構的圖式，以及第5圖是說明根據本發明之薄玻璃基板與輔助基板之間的連接製程的流程圖。
參見第4圖，根據本發明的連接線由基板引入線210、基板清洗線220、基板表面處理線230、基板連接線240以及檢測線250組成。該等處理線通過傳送裝置例如傳送帶彼此連接以進行線上製程。
例如，製備具有大約0.1t~0.4t厚度的薄玻璃基板以及具有0.3t~0.7t厚度的輔助基板，並然後引入至基板引入線210(S101-1)。
如上所述，該薄玻璃基板可為已排列有用於彩色濾光片製程的複數個彩色濾光片基板的大母基板，或者已排列有用於陣列製程的複數個陣列基板的大母基板。
接著，將已引入基板引入線210的薄玻璃基板和輔助基板傳送至基板清洗線220，從而進行規定的清洗製程(S101-2)。
將已清洗的薄玻璃基板和輔助基板傳送至基板表面處理線230，從而進行表面處理(S101-3)。
即，在TFT-LCD製程之後，將惰性氣體噴射至薄玻璃基板和輔助基板的整個表面上，從而輔助基板可以從薄玻璃基板上容易地拆卸。然而，本發明不限於此。即，惰性氣體可噴射至薄玻璃基板的部分表面以及輔助基板的部分表面上。或者，惰性氣體可噴射至薄玻璃基板和輔助基板的其中之一的部分表面或全部表面上。
即將噴射的氣體可包括包含氦(He)、氖(Ne)、氬(Ar)和氮(N2)的惰性氣體、氧氣(O2)、乾淨乾燥氣體(CDA)以及空氣。該等氣體適用於簡單開關(關和開)設備，因為他們對人體無害。
第6A圖和第6B圖是示意性說明根據本發明之多級緩衝器的結構的剖視圖。
第6A圖說明氣體從容納在多級緩衝器中的基板的上側噴射，以及第6B圖說明氣體從容納在多級緩衝器中的基板的上側和下側噴射。
參見第6A圖和第6B圖，根據本發明的多級緩衝器130形成以具有用於容納複數個基板100和110(例如，薄玻璃基板100和輔助基板110)的多級。容納在該多級中的基板100和110裝載於平板131的銷132或輥上。
平板131可形成為板狀外形，或者其中具有一開口的框架形狀。在該 平板形成為框架形狀的情況中，從下側噴射的氣體可噴射至裝載於平板131上的基板100和110的下表面上。
在從裝載於平板131上的基板100和110的上側和下側噴射氣體的情況中，上和下噴嘴120可設置在自裝載的基板100和110具有相同間隔的相同位置上。
上述惰性氣體通過複數個噴嘴120噴射至裝載於平板131上的基板100和110的上表面或上表面和下表面上。該等噴嘴120可提供在裝載的基板100和110之上或者之上和之下。
該惰性氣體可被加熱至室溫~55℃，較佳大約40℃的範圍內的溫度。儲存在槽126中的惰性氣體可通過管125被提供至該等噴嘴120，從而噴射至該等基板100和111的表面上。
在噴射惰性氣體至薄玻璃基板和輔助基板的表面的情況中，可從薄玻璃基板與輔助基板之間的介面部分移除OH基團。結果，分子結合力減小，並因此該等兩個基板之間的附著力減小。
以供參考，在噴射乾淨乾燥空氣(CDA)至該等基板2分鐘的情況中，當從薄玻璃基板分離輔助基板時，發生基板的損壞。然而，在噴射CDA5分鐘、7分鐘或10分鐘的情況中，輔助基板可以從薄玻璃基板容易地分離而無基板的損壞。在噴射CDA5分鐘和7分鐘的情況中，薄玻璃基板與輔助基板之間的附著力為0.61kgf和0.53kgf。
惰性氣體的噴射時間可取決於陣列製程或彩色濾光片製程的處理問題。處理溫度越高，噴射時間越長。例如，惰性氣體等可噴射2.5分鐘~20分鐘。
O基團以及上述OH基團可導致該等兩個基板之間的附著力增加。因此，可適當維持連接線的濕度至40%或更小的值。
已表面處理的薄玻璃基板和輔助基板的其中之一(例如，已經噴射惰性氣體的薄玻璃基板)被上下倒轉。然後，輔助基板連接至薄玻璃基板(S101-4)。然而，本發明不限於此。在惰性氣體噴射至該等基板的上表面和下表面的情況中，薄玻璃基板和輔助基板可彼此連接而無需倒轉製程。
薄玻璃基板和輔助基板在基板連接線240中彼此連接。在使用玻璃基板作為輔助基板的情況中，該兩個基板通過以真空狀態接觸來彼此連接而 無需黏合劑。該等兩個基板之間的附著力可為真空力、范德華力、靜電力、分子結合力等。
然後，彼此連接的薄玻璃基板和輔助基板在檢測線250中進行檢測製程，檢測是否發生與連接有關的劣勢。
然後，連接輔助基板110的薄玻璃基板100進行彩色濾光片製程或陣列製程，從而在每個面板區域上形成薄膜電晶體(驅動裝置)或彩色濾光片層。
然後，如第3D圖所示，在完成規定製程之後，輔助基板110應從薄玻璃基板100上分離。如上所述，在通過乾燥製程、氣體噴射製程等從薄玻璃基板100與輔助基板110之間的介面部分移除OH基團的情況中，分子結合力減小，並因此輔助基板110可從薄玻璃基板100容易地拆卸。
從薄玻璃基板100拆卸的輔助基板110可連接至新的玻璃基板，從而循環用於新的製程。
根據該可拆卸安裝方法，在薄玻璃基板或輔助基板在其上部分通過真空墊保持的狀態中可被提升。在這種情況下，可從薄玻璃基板和輔助基板之間的介面部分移除OH基團。結果，該兩個基板之間的附著力較小，並因此該輔助基板從該薄玻璃基板上容易地分離。
以下，參見所附圖式將詳細解釋用於從處於連接單元狀態下之完整LC面板上分離輔助基板的製程。
第7圖是說明根據本發明之輔助基板的分離製程的流程圖。
首先，在完成規定的製程之後，第一輔助基板和第二輔助基板應從彼此連接的第一母基板和第二母基板上分離。為此，彼此連接的第一母基板和第二母基板被裝載在拆卸設備的平臺上(S109-1)。
該等第一母基板和第二母基板可在具有彩色濾光片基板的第二母基板層壓在具有薄膜電晶體陣列基板的第一母基板上的狀態下彼此連接。然而，本發明不限於此。即，該等第一母基板和第二母基板可在具有薄膜電晶體陣列基板的第一母基板層壓在具有彩色濾光片基板的第二母基板上的狀態下彼此連接。
具有薄膜電晶體陣列基板的第一母基板以及具有彩色濾光片基板的第二母基板的每一個可由具有大約0.1t~0.4t厚度的薄玻璃母體形成。在這種 情況下，具有大約0.3t~0.7t厚度的第一輔助基板可連接至第一母基板，以及具有大約0.3t~0.7t厚度的第二輔助基板可連接至第二母基板。然而，本發明不限制該等薄第一母基板和第二母基板以及該等第一輔助基板和第二輔助基板的厚度。
該等薄第一母基板和第二母基板以及該等第一輔助基板和第二輔助基板可通過以真空狀態接觸彼此連接。該兩個基板100和110之間的附著力可為真空力、范德華力、靜電力、分子結合力等。
該等第一母基板和第二母基板被裝載在一平臺上，使得即將從第二母基板分離的第二輔助基板朝向上側。複數個真空墊安裝在已裝載的第一母基板和第二母基板之上。
裝載於拆卸設備的平臺上的第一母基板和第二母基板通過一對準單元與該等真空墊對準(S109-2)。
然後，使用該等真空墊將第二輔助基板從第二母基板上完全拆卸下來(S109-3)。
然後，已經分離第二輔助基板的第一母基板和第二母基板上下倒轉，並然後被裝載在拆卸設備的平臺上(S109-4)。
更具體地，將第一母基板和第二母基板裝載在該平臺上，使得即將從第一母基板分離的第一輔助基板朝向上側。上述真空墊安裝在已裝載的第一母基板和第二母基板之上。
裝載於拆卸設備的平臺上的第一母基板和第二母基板通過一對準單元與該等真空墊對準(S109-5)。
然後，使用該等真空墊將第一輔助基板從第一母基板上完全拆卸下來(S109-6)。
如上所述，在本發明中，在薄玻璃基板和輔助基板彼此連接之前，惰性氣體可被施加至薄玻璃基板和輔助基板的其中之一的部分表面的整個表面上。這將參見所附圖式詳細解釋。
第8A圖至第8D圖是示意性說明根據本發明製造輕薄LCD裝置的方法的部分的示例圖。
第8A圖至第8D圖說明惰性氣體被施加至輔助基板的整個表面上，從而輔助基板可從薄玻璃基板上容易地拆卸，因為該兩個基板之間的附著力 減小。
如第8A圖所示，製備具有大約0.1t~0.4t厚度的薄玻璃基板100以及具有大約0.3t~0.7t厚度的輔助基板110。
薄玻璃基板100可為已排列有複數個用於彩色濾光片製程的彩色濾光片基板的大母基板，或者已排列有複數個用於陣列製程的陣列基板的大母基板。
然後，僅將惰性氣體噴射至輔助基板110的整個表面111上，便於分離輔助基板110。然而，本發明不限於此。即，惰性氣體可噴射至輔助基板110的部分表面上。或者，惰性氣體可噴射至薄玻璃基板100的整個表面或者部分表面上。
如上所述，即將噴射的氣體可包括包含氦(He)、氖(Ne)、氬(Ar)和氮(N2)的惰性氣體、氧氣(O2)、乾淨乾燥氣體(CDA)以及空氣。該等氣體適用於簡單開關(關和開)設備，例如多級緩衝器，因為他們對人體無害。
該些惰性氣體可通過噴嘴120噴射至輔助基板110的表面111上。在這種情況下，在輔助基板110上可提供複數個噴嘴120。
惰性氣體可被加熱至室溫~55℃，較佳大約40℃的範圍內的溫度。然後，惰性氣體可通過一管(未顯示)被提供至噴嘴120，從而噴射至輔助基板110的表面111上。
如果噴射惰性氣體至輔助基板110的表面111，可從薄玻璃基板100與輔助基板110之間的介面部分移除OH基團。結果，分子結合力減小，並因此該兩個基板之間的附著力減小。在這種情況下，噴射時間應長於惰性氣體噴嘴至薄玻璃基板100和輔助基板110的兩個表面的情況。例如，噴射時間可在10分鐘~20分鐘的範圍內。
然後，如第8B圖和第8C圖所示，已經噴射惰性氣體的輔助基板110連接至薄玻璃基板100。如果輔助基板110由玻璃材料形成，薄玻璃基板100和輔助基板110通過以真空狀態接觸來彼此連接而無需黏合劑。該兩個基板100和110之間的附著力可為真空力、范德華力、靜電力、分子結合力等。
然後，在已連接有輔助基板的薄玻璃基板100上進行上述彩色濾光片 製程或陣列製程，從而一薄膜電晶體(驅動裝置)或一彩色濾光片層形成在每個面板區域。
然後，如第8D圖所示，在完成規定的製程之後，輔助基板110應從薄玻璃基板100上分離。如上所述，在通過乾燥製程、氣體噴射製程等從薄玻璃基板100和輔助基板110之間的介面部分移除OH基團的情況中，分子結合力減小，並因此輔助基板110可從薄玻璃基板100容易地拆卸。
從薄玻璃基板100拆卸的輔助基板110可連接至新的玻璃基板，從而循環用於新的製程。
上述實施例和優勢僅為示例性的且並不能理解為限制本公開。現有技術已易於應用其他類型的裝置。上述說明旨在說明，並不限於申請專利範圍的範圍。各種選擇，修飾和變更對於熟悉本領域的人員是顯而易見的。本文所述的示例實施例的特徵、結構、方法和其他特性可以各種方式結合以獲得額外的和/或可選的示例實施例。
本特徵在不脫離其特性的範圍內可以多種形式實施，還應理解的是，上述實施例不受上述描述的任何細節限制，除非另有說明，而是應被廣泛地理解在所附申請專利範圍所定義的範圍內，並且因此落入申請專利範圍的界定和範圍內的所有變化和修飾，或者該等界定和範圍的等量旨在包括在所附申請專利範圍中。
210‧‧‧基板引入線
220‧‧‧基板清洗線
230‧‧‧基板表面處理線
240‧‧‧基板連接線
250‧‧‧檢測線

Claims (14)

  1. 一種用於製造輕薄液晶顯示裝置的方法，該方法包含：在一多級緩衝器中提供一第一輔助基板、一第二輔助基板、一薄第一母基板以及一薄第二母基板；通過設置在該第一輔助基板或該第一母基板上方的複數個噴嘴，噴射氣體至該第一輔助基板和該薄第一母基板的至少其中之一的整個表面上，並從而從該表面部分移除OH基團；通過設置在該第二輔助基板或該第二母基板上方的複數個噴嘴，噴射氣體至該第二輔助基板和該薄第二母基板的至少其中之一的整個表面上，並從而從該表面部分移除OH基團；將該第一輔助基板和該第二輔助基板分別連接至該薄第一母基板和該薄第二母基板；對已經連接該第一輔助基板的該第一母基板執行一陣列製程；對已經連接該第二輔助基板的該第二母基板執行一彩色濾光片製程；將已進行該陣列製程的該第一母基板連接至已進行該彩色濾光片製程的該第二母基板；以及在由複數個真空墊保持該第一輔助基板或該第二輔助基板的上部分之狀態下，通過提升，從彼此連接的該第一母基板和該第二母基板上分離該第一輔助基板和該第二輔助基板。
  2. 依據申請專利範圍第1項所述之用於製造輕薄液晶顯示裝置的方法，其中，即將噴射的氣體可包括包含氦(He)、氖(Ne)、氬(Ar)和氮(N2)的惰性氣體、氧氣(O2)、乾淨乾燥氣體(CDA)以及空氣其中之任一者。
  3. 依據申請專利範圍第1項所述之用於製造輕薄液晶顯示裝置的方法，其中，該氣體通過該複數個設置在該薄母基板或該輔助基板之上及之下的噴嘴噴射。
  4. 依據申請專利範圍第1項所述之用於製造輕薄液晶顯示裝置的方法，其中，該氣體在被加熱至室溫~55℃的範圍內的溫度之後被噴射。
  5. 依據申請專利範圍第4項所述之用於製造輕薄液晶顯示裝置的方法，其中，該氣體噴射2.5分鐘~20分鐘，其中噴射時間取決於該陣列製程和該彩色濾光片製程的處理溫度，以及其中隨著該處理溫度越高，該噴射時間越長。
  6. 依據申請專利範圍第1項所述之用於製造輕薄液晶顯示裝置的方法，其中，已經噴射氣體於其上的該薄母基板和該輔助基板的其中之一被上下倒轉，並然後將該輔助基板連接至該薄母基板。
  7. 一種用於製造輕薄液晶顯示裝置的方法，使用一輔助基板用於處理一薄玻璃基板，其中連接該薄玻璃基板至該輔助基板的步驟包含：在一多級緩衝器中將該薄玻璃基板和該輔助基板引入一基板引入線；將引入該基板引入線的該薄玻璃基板和該輔助基板傳送至一基板清洗線，從而進行一規定的清洗製程；將該已清洗的薄玻璃基板和輔助基板傳送至一基板表面處理線，並且通過設置在該薄玻璃基板或該輔助基板上方的複數個噴嘴，噴射氣體至該薄玻璃基板和該輔助基板的至少其中之一的整個表面上，從而從該表面上部分移除OH基團；將該薄玻璃基板和該輔助基板傳送至一基板連接線，從而將該薄玻璃基板和該輔助基板彼此連接；將彼此連接的該薄玻璃基板和該輔助基板傳送至一檢測線，從而進行一檢測製程；以及 在由複數個真空墊保持該輔助基板的上部分之狀態下，通過提升，從彼此連接的該薄玻璃基板上分離該輔助基板。
  8. 依據申請專利範圍第7項所述之用於製造輕薄液晶顯示裝置的方法，其中，該基板引入線、該基板清洗線、該基板表面處理線、該基板連接線以及該檢測線形成一單獨連接線，並且通過一傳送帶的一傳送裝置彼此連接以進行線上製程。
  9. 依據申請專利範圍第7項所述之用於製造輕薄液晶顯示裝置的方法，其中容納在該多級緩衝器中的該等基板被裝載在一平板的銷或輥上。
  10. 依據申請專利範圍第9項所述之用於製造輕薄液晶顯示裝置的方法，其中，該平板形成為板狀外形，或者其中具有一開口的框架形狀，以及其中在該平板形成為框架形狀的情況中，從下側噴射的氣體被噴射至裝載在該平板上的該等基板的下表面上。
  11. 依據申請專利範圍第9項所述之用於製造輕薄液晶顯示裝置的方法，其中，如果從該等基板的下側和上側噴射氣體，上和下噴嘴排列在自該等裝載的基板具有相同間隔的相同位置上。
  12. 依據申請專利範圍第7項所述之用於製造輕薄液晶顯示裝置的方法，其中，即將噴射的氣體可包括包含氦(He)、氖(Ne)、氬(Ar)和氮(N2)的惰性氣體、氧氣(O2)、乾淨乾燥氣體(CDA)以及空氣。
  13. 依據申請專利範圍第12項所述之用於製造輕薄液晶顯示裝置的方法，其中，該氣體在被加熱至室溫~55℃的範圍內的溫度之後被噴射。
  14. 依據申請專利範圍第13項所述之用於製造輕薄液晶顯示裝置的方法，其中，該氣體噴射2.5分鐘~20分鐘，其中噴射時間取決於陣列製程和彩色濾光片製程的處理溫度，以及其中隨著該處理溫度越高，該噴射時間越長。
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