TWI513680B

TWI513680B - ４，４’-二甲醯基二苯基烷之製造方法

Info

Publication number: TWI513680B
Application number: TW101111440A
Authority: TW
Inventors: Mitsuharu Kitamura
Original assignee: Mitsubishi Gas Chemical Co
Priority date: 2011-03-31
Filing date: 2012-03-30
Publication date: 2015-12-21
Also published as: ES2543584T3; US8969627B2; RU2013148534A; KR101906435B1; EP2692717A4; JPWO2012133689A1; CN103459360A; KR20140027125A; EP2692717B1; JP5999371B2; US20140094627A1; EP2692717A1; CN103459360B; TW201247617A; WO2012133689A1

Description

4,4’-二甲醯基二苯基烷之製造方法

本發明係關於做為各種工業化學原料、醫藥、農藥、光學機能性材料或電子機能性材料之製造原料有用的高純度4,4’-二甲醯基二苯基烷之製造方法。

至今，就一般合成4,4’-二甲醯基二苯基烷的方法而言，已知將HF-SbF₅ 做為觸媒，藉由二苯基烷與一氧化碳進行甲醯基化之方法(參照專利文獻1、非專利文獻1)。但是，在專利文獻1中，記載著4,4’-二甲醯基體(以下，有時稱為「4,4’體」)的產率為98%。又，在非專利文獻1中，二甲醯基的產率雖為97%，但4,4’體的異構體比為92%之低的程度。

又，在非專利文獻2中記載著，SbF₅ 為黏稠且無色透明的液體，雖然無法侵蝕玻璃但腐蝕性非常強。

再者，已知將[2.2]對環芬(paracyclophane)於硝基甲烷/二氯甲烷溶劑中，以NOBF₄ (四氟硼酸亞硝(nitrosonium tetrafluoroborate))做為觸媒，藉由分子狀氧進行氧化之方法(參照非專利文獻3)。但是，大量使用對環境負荷大的氯甲烷溶劑在現實上是有困難的，加上產率為30%之低，而且原料的取得性也是問題。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利第2535742號公報

[非專利文獻]

[非專利文獻1]Tanaka,Mutsuo；Fujiwara,Masahiro；Xu,Qiang；Ando,Hisanori；Raeker,Todd J.；Journal of Organic Chemistry；vol.63；nb.13；(1998)；p.4408-4412.

[非專利文獻2]米田德彥、高橋行雄、福原彊、富田宣、鈴木章、北海道大學工學部研究報告第91號3頁(55頁)(昭和53年)

[非專利文獻3]Sankararaman,Sethuraman；Hopf,Henning；Dix,Ina；Jones,Peter G.；European Journal of Organic Chemistry；nb.15；(2000)；p.2711-2716

在專利文獻1中記載著因為HF-SbF₅ 觸媒在操作上困難，做為工業上使用之製造方法會有問題。具體而言，由於SbF₅ 具有黏稠性，該其高濃度部分會在泵引起空泡(cavitation)現象(氣泡的發生)，會有無法持續安定運轉的問題。

又雖然SbF₅ 無法侵蝕玻璃但吸濕性強，由於與水激烈反應生成氟化氫(HF)，可能容易腐蝕玻璃等。因此，要十分注意，且若並非在無水的狀態下操作，不可以使用玻璃容器。再者，因為SbF₅ 在原本狀態下並不顯示觸媒作用，通常必須與HF或硫酸一起做為超強酸使用。亦即，由於HF會侵蝕玻璃的緣故，HF-SbF₅ 觸媒會產生操作性困難的問題。

並且，基質與觸媒的錯合物分解，通常在溶劑的回流下因為該熱而引起分解，但由於SbF₅ 沸點為141℃之高，必須大量使用該沸點以上之鈍性溶劑，也會有熱源成本大幅增加的問題。

又，根據非專利文獻1中記載的方法，依照所述，雖二甲醯基體的產率為97%之良好，然而4,4’-二甲醯基體(以下，有時稱為「4,4’體」)的異構體比為約92%，反應液中為異構體雜質的2,2’-二甲醯基體(以下，有時稱為「2,2’體」)以5%、2,4’-二甲醯基體(以下，有時稱為「2,4’體」)以3%的比例存在。該等異構體雜質與目的之4,4’體物性相近，以晶析等的分離方式困難，再者做為光學機能性材料的情況之製品價值亦降低。因此，期望在4,4’體、2,2’體以及2,4’體的異構體中4,4’體的純度(異構體比)要高。

又，以4,4’-二甲醯基二苯基烷為例，期望做為光學機能性材料使用之4,4’體的純度(最終的產物中4,4’體的純度)為90%以上。但是，例如即使以高段數的晶析等將2,2’體與2,4’體從4,4’體分離出來，若無法達成該等之有效利用，則並不能算是經濟的方法。為此，希望有利用反應條件有效的選擇性合成4,4’-二甲醯基二苯基烷之方法。

由以上，需要確立使用能夠承受工業上使用之觸媒的製造方法。

本發明之目的為：提供4,4’-二甲醯基體的異構體比可達95%以上之4,4’-二甲醯基二苯基烷的工業上有利的製造方法。

本案發明人發現，有關從二苯基烷與一氧化碳製造4,4’-二甲醯基二苯基烷的方法，藉由將反應溫度定於指定的範圍，並使用氟化氫以及三氟化硼做為觸媒，且，將各自的觸媒與二苯基烷之比率定在特定的範圍，能以工業上有利的方法得到高異構體比之4,4’-二甲醯基二苯基烷，並想到本發明。亦即，本發明如以下所述。

[1]一種4,4’-二甲醯基二苯基烷之製造方法，其係於氟化氫及三氟化硼存在下，將以下式(1)表示之二苯基烷利用一氧化碳予以甲醯基化，並製造以下式(2)表示之4,4’-二甲醯基二苯基烷之方法，甲醯基化之反應溫度為-50℃以上5℃以下，且氟化氫相對於二苯基烷1莫耳為5莫耳以上30莫耳以下，三氟化硼相對於二苯基烷1莫耳為1.5莫耳以上5莫耳以下。

(式中R為碳數1~6之烷二基。)

[2]如[1]之4,4’-二甲醯基二苯基烷之製造方法，其中，該二苯基烷為二苯基乙烷，且該4,4’-二甲醯基二苯基烷為4,4’-二甲醯基二苯基乙烷。

[3]如[1]之4,4’-二甲醯基二苯基烷之製造方法，其中，該二苯基烷為1,3-二苯基丙烷，且該4,4’-二甲醯基二苯基烷為4,4’-二甲醯基-1,3-二苯基丙烷。

[4]如[1]至[3]中任一項之4,4’-二甲醯基二苯基烷之製造方法，其係於甲醯基化後進行晶析。

[5]如[1]至[4]中任一項之4,4’-二甲醯基二苯基烷之製造方法，其中，所製造之4,4’-二甲醯基二苯基烷之純度為90%以上。

根據本發明，可提供使用氟化氫以及三氟化硼觸媒，在限定甲醯基化條件下，4,4’-二甲醯基體的異構體比可達95%以上之4,4’-二甲醯基二苯基烷之工業上有利的製造方法。

再者本發明與以往使用HF-SbF₅ 觸媒的方法相比，具有如下述的效果。

亦即，SbF₅ 為熔點8.3℃、沸點141℃的無色、黏稠以及油狀之液體，吸濕性強，依照所述，與水激烈反應生成HF，容易腐蝕玻璃等。所以，以HF-SbF₅ 觸媒系實際配備裝置化，使用有實驗室實績的特殊氟樹脂製品等，成為了相當重裝備的製程。

相對於此本發明不需如此的製程，又因為BF₃ 為氣體而操作容易，在實用上為優異。

若針對該實用上優異之處加以詳述，HF-SbF₅ 觸媒與本發明之HF-BF₃ 觸媒比較之下由於酸強度高，據推測不可能使用不鏽鋼容器。換言之，在實際配備裝置時需進行材質評價等此類初期的探討，可以說朝向實用化的方向可能存在著種種的問題。

相對於此，本發明之HF-BF₃ 觸媒，(1)已有許多針對材質評價的探討且也存在實際裝置，(2)若使用HF-BF₃ 觸媒，可成為均勻液相的製程等，在實用上有其優異的方面。

並且針對觸媒回收法，本發明與HF-SbF₅ 觸媒相比也為較有利。關於HF-SbF₅ 觸媒，由於HF的沸點為20℃，將之冷卻是必要的，另一方面由於SbF₅ 的熔點為8.3℃，將之加熱是必要的。所以，考量到閉塞或系外沖淨(purge)等麻煩，本發明之HF-BF₃ 系，反應條件或觸媒回收法已在工業上確立了，於生產上亦為優異。

[實施發明之最佳形態]

本發明之4,4’-二甲醯基二苯基烷的製造方法，如下式所表示，係將氟化氫(以下有時以「HF」表示)以及三氟化硼(以有時下以「BF₃ 」表示)做為觸媒，在該等的存在下，將以下式(1)表示之二苯基烷利用一氧化碳予以甲醯基化，並製造以下式(2)表示之4,4’-二甲醯基二苯基烷之方法。

根據該製造方法，產率良好，例如可得到4,4’-二甲醯基體的異構體比為95%以上的4,4’-二甲醯基二苯基烷。又，由於做為觸媒使用之HF以及BF₃ 的揮發性高，能夠回收再利用。亦即，不需要廢棄使用過的觸媒，在經濟上非常優異且同時也能減輕對環境的負荷。

(上式(1)以及(2)中，R為碳數1~6烷二基。)

於本發明使用之二苯基烷為：二苯基甲烷、二苯基乙烷、1,3-二苯基丙烷、1,2-二苯基丙烷、1,4-二苯基丁烷、1,3-二苯基丁烷、1,2-二苯基丁烷、2,3-二苯基丁烷、1,5-二苯基戊烷、1,4-二苯基戊烷、1,3-二苯基戊烷、1,2-二苯基戊烷、2,4-二苯基戊烷、2,3-二苯基戊烷、1,6-二苯基己烷、1,5-二苯基己烷、1,4-二苯基己烷、1,3-二苯基己烷、1,2-二苯基己烷、2,5-二苯基己烷、2,4-二苯基己烷、2,3-二苯基己烷、2,3-二甲基-2,3-二苯基丁烷，該等之製造方法並無特別限定，可藉由從焦油餾分、石油餾分分離之方法、將對應之鹵化物利用鎳/銅觸媒予以偶合之方法、將對應之烯烴與烷基苯利用金屬鈉觸媒予以烷基化之方法而得。

關於本發明甲醯基化的反應溫度為-50℃以上5℃以下，-50℃以上-10℃以下為理想，而-40℃以上-10℃以下較為理想，以-35℃以上-25℃以下更為理想。若反應溫度超過5℃，會副生成聚合產物導致產率下降而不理想。又比-50℃低溫時會使甲醯基化的速度低下而不理想。

反應時間定為1~5小時為理想。藉由在此範圍，可得到足夠的二苯基烷轉化率，再者有可消除為了確保滯留時間的裝置大型化導致效率下降的顧慮的傾向。

BF₃ 相對於二苯基烷之量相對於二苯基烷1莫耳，為1.5莫耳以上5莫耳以下，2.5莫耳以上5莫耳以下為理想，2.5莫耳以上4莫耳以下的範圍較為理想，3莫耳以上4莫耳以下的範圍更為理想。

BF₃ 不足1.5莫耳時，甲醯基化反應遲緩，BF₃ 即使超過5莫耳，產率的改善效果仍小，反應器或BF₃ 回收設備增大，於生產效率的觀點並不理想。

關於本發明使用之HF，以實質上無水者為佳。HF相對於二苯基烷的量，相對於二苯基烷1莫耳為5莫耳以上30莫耳以下的範圍，10莫耳以上30莫耳以下為理想，10莫耳以上25莫耳以下的範圍較為理想，15莫耳以上25莫耳以下的範圍更為理想。

若HF不足5莫耳時，無法進行有效率的甲醯基化反應。即使HF超過30莫耳產率的改善效果仍小，反應器或HF回收設備增大，於生產效率的觀點並不理想。

於本發明中，溶解原料的二苯基烷且對於二苯基烷以及HF-BF₃ 為鈍性的反應溶劑，可使用例如己烷、庚烷、癸烷等的飽和脂肪族烴等。在該情況下雖然更進一步抑制聚合反應提升產率，但因為若使用大量的溶劑，會導致反應容積效率的下降，導致分離需要的單位消耗能量的惡化，所以要適當選擇使用與否及使用量。

關於本發明使用的一氧化碳，也可含有氮氣或甲烷等的鈍性氣體，但一氧化碳分壓定為0.5~5MPa較佳，1~3MPa更為理想。

一氧化碳分壓藉由定在0.5~5MPa，甲醯基化反應充分地進行，且可抑制單甲醯基化產物的生成量。又，可抑制異構化或聚合等的副反應之併發且可以壓抑產率的下降。並且，在反應的效率或成本的觀點也較理想。

關於本發明方法之甲醯基化反應形式，只要是液相與氣相可充分地混合之攪拌方法則無特別限制，批式、半批式以及連續式等任一種方法皆可採用。

例如，批式為在附有電磁攪拌裝置的高壓釜中，添加溶於溶劑中的二苯基烷、既定量的無水HF以及BF₃ ，攪拌內容物且液溫保持在-50℃以上5℃以下後，藉由一氧化碳升壓至0.5~5MPa，之後於維持該壓力、液溫之狀態，保持1~5小時直到一氧化碳不再被吸收為止後，以氣相層析法分析在冰之中收集反應生成液得到之油層可確認4,4’-二甲醯基二苯基烷的生成。

再者半批式為在附有電磁攪拌裝置的高壓釜中，添加既定量的無水HF以及BF₃ ，攪拌內容物且液溫設定在-50℃以上5℃以下，將溫度保持在一定的狀態後，藉由一氧化碳升壓至0.5~5MPa，保持在可供給一氧化碳使壓力保持固定的狀態。之後，供給溶於溶劑中的二苯基烷，供給後保持在該原狀態1~5小時後，以氣相層析法分析在冰之中收集反應生成液得到之油層可確認4,4’-二甲醯基二苯基烷的生成。

接著連續式為首先先在附有電磁攪拌裝置的高壓釜中，添加既定量的無水HF以及BF₃ ，攪拌內容物且液溫設定在-50℃以上5℃以下，將溫度保持在一定的狀態後，藉由一氧化碳升壓至0.5~5MPa，保持在可供給一氧化碳使壓力維持為固定的狀態。之後，供給溶於溶劑中的二苯基烷進行半批式的反應。然後接著，也開始供給無水HF以及BF₃ ，將反應生成液連續地抽出至冰水之中。反應液於高壓釜中滯留時間以1~5小時為理想。若在1小時以上則反應有充分地進行的傾向，又若在5小時以下則有可減低為了確保滯留時間的裝置大型化所導致效率惡化的傾向。

將得到之油層以氣相層析法分析，可確認4,4’-二甲醯基二苯基烷的生成。

反應終點並沒有特別限定，例如，可以將一氧化碳之吸收停止的時點做為終點。

由甲醯基化反應而得之反應生成液為4,4’-二甲醯基二苯基烷‧HF-BF₃ 錯合物的HF溶液，藉由加熱會使4,4’-二甲醯基二苯基烷與HF-BF₃ 的結合分解，可將HF以及BF₃ 氣化分離並回收、再利用。該錯合物的分解操作有必要盡可能迅速進行以避免產物的加熱變質、異構化等。為了讓錯合物的熱分解可以迅速地進行，例如宜於對HF-BF₃ 為鈍性的溶劑，例如在庚烷等的飽和脂肪族烴或苯等的芳香族烴的回流下分解為理想。

於大量的溶劑中稀釋之熱分解處理液中，因為有含有微量的HF之情況，使用0.5%氫氧化鈉水溶液進行中和水洗，之後，藉由通常的蒸餾與晶析操作，可輕易地去除原料的二苯基烷與單甲醯基二苯基烷並精製，可得到做為製品之純度90%以上的4,4’-二甲醯基二苯基烷。

又，將4,4’-二甲醯基二苯基烷‧HF-BF₃ 錯合物抽至冰水中的情況，為了把固體之4,4’-二甲醯基二苯基烷予以溶解，添加4-甲基-2-戊酮、2,4-二甲基-3-戊酮、2-乙基-1-己醇、3-甲基-3-辛醇、二丁基醚等的溶劑後，使用0.5%氫氧化鈉水溶液進行中和水洗，之後，藉由以50℃之溫水清洗將產物溶解於油層中後，冷卻至室溫並將析出之固體過濾分離出來，藉此未反應的原料與中間體之單體會留在油層，可輕易地精製，可得到做為製品之純度90%以上的4,4’-二甲醯基二苯基烷。且，反應後的異構體比不佳者，為了得到純度90%以上者需要數次的晶析精製。

[實施例]

以下，以實施例將本發明的方法更為詳細說明，但本發明並非限定於該等實施例。且，各種評價如下所述。

(1)氣相層析法分析條件

氣相層析法，使用島津製作所製GC-17A與做為毛細管柱之信和化工製HR-1(0.32mm×25m)。昇溫條件為以5℃/min.從100℃昇溫至320℃。

(2)異構體比、4,4’體的純度、以及單離產率

根據氣相層析法，求出產物的甲醯基之單體以及雙體(4,4’體、2,2’體以及2,4’體)之各自的面積比例，從該等的比例依下式計算異構體比以及4,4’體的純度。

‧ 異構體比(%)=4,4’體/(4,4’體+2,2’體+2,4’體)×100

‧ 4,4’體的純度(%)=4,4’體/(單體+4,4’體+2,2’體+2,4’體+其他成分(LE+原料+HE))×100

(在此，LE為位在比原料低沸側之成分；HE為位在比原料高沸側之產物之甲醯基之單體以及雙體以外的成分。)

‧ 單離產率(莫耳%)=(成為製品之4,4’-二甲醯基二苯基烷之取得量/4,4’-二甲醯基二苯基烷之分子量)/(為原料的二苯基烷之添加量/為原料的二苯基烷分子量)×100

<實施例1>

藉由二苯基乙烷的甲醯基化製造4,4’-二甲醯基-1,2-二苯基乙烷(參照下述式(3))

使用配備敲擊驅動式攪拌機與於上方的3個入口噴嘴、於底部的1個排出噴嘴，能藉由夾套控制內部溫度的內容積500ml之不鏽鋼製高壓釜中，添加二苯基乙烷(東京化成(股)製)50.1g(0.275mol)、正庚烷50.1g、無水HF110.0g(5.497mol)、BF₃ 65.2g(0.962mol)，攪拌內容物並保持液溫在-30℃的狀態以一氧化碳加壓至2MPa。之後，保持1小時壓力為2MPa、液溫為-30℃予以反應後，將反應生成液放入冰之中，將中和處理後得到之固體以氣相層析法分析求得反應成績，結果為：二苯基乙烷轉化率99.4%、4-甲醯基-1,2-二苯基乙烷產率23.6%、4,4’-二甲醯基-1,2-二苯基乙烷產率72.9%、4,4’-二甲醯基-1,2-二苯基乙烷異構體比96.6%。

於得到之固體中添加300g的4-甲基-2-戊酮，以100ml之0.5%氫氧化鈉水溶液進行1次的中和，再以100ml之50℃的溫水進行2次的清洗，讓產物在油層溶解後，冷卻至室溫將析出之固體過濾分離，得到純度為95.7%之4,4’-二甲醯基-1,2-二苯基乙烷的白色固體35.1g(以二苯基乙烷為基準，單離產率53.5%)。

<實施例2>

除了反應時間以3小時代替以外，其他與實施例1同樣地進行甲醯基化反應及反應生成液的處理。得到之固體以氣相層析法分析求得反應成績，結果為：二苯基乙烷轉化率99.6%、4-甲醯基-1,2-二苯基乙烷產率10.9%、4,4’-二甲醯基-1,2-二苯基乙烷產率84.2%、4,4’-二甲醯基-1,2-二苯基乙烷異構體比95.8%。又與實施例1進行同樣的晶析精製，得到純度為95.5%之4,4’-二甲醯基-1,2-二苯基乙烷的白色固體46.6g(以二苯基乙烷為基準，單離產率71.2%)。

<實施例3>

除了BF₃ 的添加量以46.6g(0.687mol)代替以外，其他與實施例1同樣地進行甲醯基化反應及反應生成液的處理。得到之固體以氣相層析法分析求得反應成績，結果為：二苯基乙烷轉化率76.1%、4-甲醯基-1,2-二苯基乙烷產率18.0%、4,4’-二甲醯基-1,2-二苯基乙烷產率55.9%、4,4’-二甲醯基-1,2-二苯基乙烷異構體比96.2%。又與實施例1進行同樣的晶析精製，得到純度為95.3%之4,4’-二甲醯基-1,2-二苯基乙烷的白色固體20.4g(以二苯基乙烷為基準，單離產率31.2%)。

<實施例4>

除了無水HF的添加量以82.5g(4.123mol)代替以外，其他與實施例3同樣地進行甲醯基化反應及反應生成液的處理。得到之固體以氣相層析法分析求得反應成績，結果為：二苯基乙烷轉化率75.4%、4-甲醯基-1,2-二苯基乙烷產率21.1%、4,4’-二甲醯基-1,2-二苯基乙烷產率52.1%、4,4’-二甲醯基-1,2-二苯基乙烷異構體比96.3%。又與實施例1進行同樣的晶析精製，得到純度為95.1%之4,4’-二甲醯基-1,2-二苯基乙烷的白色固體17.8g(以二苯基乙烷為基準，單離產率27.1%)。

<實施例5>

除了反應溫度以0℃代替以外，其他與實施例4同樣地進行甲醯基化反應及反應生成液的處理。得到之固體以氣相層析法分析求得反應成績，結果為：二苯基乙烷轉化率98.7%、4-甲醯基-1,2-二苯基乙烷產率53.1%、4,4’-二甲醯基-1,2-二苯基乙烷產率42.1%、4,4’-二甲醯基-1,2-二苯基乙烷異構體比95.5%。又與實施例1進行同樣的晶析精製，得到純度92.4%的白色固體11.8g(以二苯基乙烷為基準，單離產率18.0%)。

因為反應溫度高，結果產率下降，由於中間體的4,-甲醯基-1,2-二苯基乙烷混入製品中，未能得到純度為95%以上之4,4’-二甲醯基-1,2-二苯基乙烷。

<實施例6>

除了無水HF的添加量以41.3g(2.060mol)代替以外，其他與實施例4同樣地進行甲醯基化反應及反應生成液的處理。得到之固體以氣相層析法分析求得反應成績，結果為：二苯基乙烷轉化率65.2%、4-甲醯基-1,2-二苯基乙烷產率25.8%、4,4’-二甲醯基-1,2-二苯基乙烷產率37.8%、4,4’-二甲醯基-1,2-二苯基乙烷異構體比96.6%。

又與實施例1進行同樣的晶析精製，得到純度為94.6%之4,4’- 二甲醯基-1,2-二苯基乙烷的白色固體9.4g(以二苯基乙烷為基準，單離產率14.3%)。

由於HF使用量少，結果純度為低。

<實施例7>

除了BF₃ 的添加量以37.3g(0.549mol)代替以外，其他與實施例4同樣地進行甲醯基化反應及反應生成液的處理。得到之固體以氣相層析法分析求得反應成績，結果為：二苯基乙烷轉化率58.2%、4-甲醯基-1,2-二苯基乙烷產率15.0%、4,4’-二甲醯基-1,2-二苯基乙烷產率40.9%、4,4’-二甲醯基-1,2-二苯基乙烷異構體比96.1%。

又與實施例1進行同樣的晶析精製，得到純度94.8%的白色固體11.0g(以二苯基乙烷為基準，單離產率16.7%)。

由於BF₃ 使用量少，結果純度為低。

<實施例8>

藉由1,3-二苯基丙烷的甲醯基化製造4,4’-二甲醯基-1,3-二苯基丙烷(參照下述式(4))

除了原料以1,3-二苯基丙烷(東京化成(股)製)54.0g(0.275mol)代替以外，其他與實施例1同樣地進行甲醯基化反應及反應生成液的處理。得到之固體以氣相層析法分析求得反應成績，結果為：1,3-二苯基丙烷轉化率97.2%、4-甲醯基-1,3-二苯基丙烷產率2.7%、4,4’-二甲醯基-1,3-二苯基丙烷產率91.0%、4,4’-二甲醯基-1,3-二苯基丙烷異構體比97.4%。又與實施例1進行同樣的晶析精製，得到4,4’-二甲醯基-1,3-二苯基丙烷純度為97.3%之白色固體59.1g(以1,3-二苯基丙烷為基準，單離產率85.1%)。

以下表示為彙整後各例的反應條件、反應成績、以及最終成績資料。

[產業上利用性]

根據本發明藉由工業上有利的製造法而得之4,4’-二甲醯基二苯基烷其異構體比達95%以上，而且之後進行1次的晶析，能以高單離時純度獲得4,4’-二甲醯基體，所以做為各種的工業化學原料、醫藥、農藥、光學機能性材料或電子機能性材料的製造原料是有用的。

Claims

一種4,4’-二甲醯基二苯基烷之製造方法，其係於氟化氫及三氟化硼存在下，將以下式(1)表示之二苯基烷利用一氧化碳予以甲醯基化，並製造以下式(2)表示之4,4’-二甲醯基二苯基烷之方法，甲醯基化之反應溫度為-50℃以上5℃以下，且氟化氫相對於二苯基烷1莫耳為5莫耳以上30莫耳以下，三氟化硼相對於二苯基烷1莫耳為1.5莫耳以上5莫耳以下： (式中R為碳數1~6之烷二基) (式中R為碳數1~6之烷二基)。
如申請專利範圍第1項之4,4’-二甲醯基二苯基烷之製造方法，其中，該二苯基烷為二苯基乙烷，且該4,4’-二甲醯基二苯基烷為4,4’-二甲醯基二苯基乙烷。
如申請專利範圍第1項之4,4’-二甲醯基二苯基烷之製造方法，其中，該二苯基烷為1,3-二苯基丙烷，且該4,4’-二甲醯基二苯基烷為4,4’-二甲醯基-1,3-二苯基丙烷。
如申請專利範圍第1至3項中任一項之4,4’-二甲醯基二苯基烷之製造方法，其係於甲醯基化後進行晶析。
如申請專利範圍第1至3項中任一項之4,4’-二甲醯基二苯基烷之製造方法，其中，所製造之4,4’-二甲醯基二苯基烷之純度為90%以上。
如申請專利範圍第4項之4,4’-二甲醯基二苯基烷之製造方法，其中，所製造之4,4’-二甲醯基二苯基烷之純度為90%以上。