TWI462824B - 液壓精密下料裝置 - Google Patents

Description

液壓精密下料裝置

本案係關於一種精密下料裝置，特別是一種可提升下料成品光亮面長度之液壓精密下料裝置。

於日常生活中，從家用品至交通或國防等工業中，許多零組件、日常用品或刀具類等產品，都藉由沖壓加工(Stamping or press working)的加工方法所製成。值得一提的是，現代汽車工業中，板材沖壓件的生產總值約占59%，由此可見，沖壓加工的重要性。

沖壓加工係利用沖壓設備所產生之一外力施加於一胚料，而使胚料產生相對應的塑性變形，因而形成剪切、彎曲及壓延等效應，藉以沖壓製出各式下料成品。

一般傳統下料模具構造簡單，由沖頭(Punch)、壓料板(Blank Holder)、下模(Die)所組成下料加工系統，其針對自胚料(Stock)處所沖出之下料成品的光亮面長度比例較低，約佔總厚度的三到五成，並不符合廠商的需求。其中，一般下料之沖頭與下模間隙較大，係為導致下料成品精度較低的主要原因。此外，落下後的胚料(即，下料成品)也因為沒有背壓頂住，因此可能導致胚料的有明顯的毛邊、撕裂區以及模輥區產生，故下料成品之光亮面長度較短。因此，若對品質稍有要求，則必須再對下料成品再施以額外的加工方法，以去除毛邊、撕裂區以及模輥區等，提升光亮 面長度，如此，即會增加工序與成本。

為了改善上述問題，有廠商發展出精密下料模具，相較於一般傳統下料的模具9所包括的沖頭91、壓料板92、下模93、固定模塊95外，更包括一逆壓板94(Counter Punch)，如圖1至圖3所示，逆壓板94為沖頭91向下沖壓胚料7時，以一個低於沖頭91的力量向上頂，目的為防止胚料7於沖出時會過於翹曲。其中，圖1為胚料尚未被夾持時的剖面示意圖；圖2為精密下料模具夾持胚料時的剖面示意圖；圖3為精密下料模具夾持胚料並以沖頭與逆壓板抵頂胚料時的剖面示意圖。如圖1所示，壓料板92上必須要有一個相對的V型凸環92a，其係用以擠壓沖入胚料7，即用以咬入胚料7原本平整之上表面，以先對胚料7的待沖壓下料區域產生一靜水壓(Hydraulic Pressure)，以供於後續對胚料7的待沖壓下料區域進行沖壓時，減少下料成品的撕裂面且增加剪切面的長度，藉以提高沖壓之精確度。

不過，由於胚料7在沖壓的過程中會逐漸的變形，但V型凸環92a的外形結構卻仍是保持不變，故此將使得由V型凸環92a擠壓胚料7而所形成之V型凹槽70，其受力隨著時間變化而會越趨不均勻，因此，將使得針對待下料區域所形成的上述靜水壓也會同步發生不均勻變動，如此一來，待下料區域的毛邊、撕裂區以及模輥區的缺失仍然無法被大幅改善，且對於下料成品的光亮面長度仍舊無法有大幅的突破。

且，由於傳統的精密下料模具9之V型凸環92a必須不斷地承受與胚料7的相互擠壓撞擊，在結構上較為脆弱，故相對地 十分容易損毀，其壽命大約只能供沖壓數千次最多至萬次不等，如此一來，也將大幅增加模具的更新替換成本。

此外，由於V型凸環92a結構上的關係，目前僅較適用於咬合於厚度1公分以下之薄型胚料，厚型胚料則不適合；另外，對於要製作大型(例如，直徑超過3公分)的大型胚料，傳統的精密下料模具9也是不適合使用，因為若要對胚料沖出較大的面積，則胚料的厚度就必須要薄，但因此下料成品的彎曲變形將會更明顯。是以，對於胚料7應用於傳統的精密下料模具，是有著許多限制的。

再者，藉由上述習知精密下料方式，雖然能依此提高下料成品的光亮面長度，但當下料成品的外形較複雜時(如齒輪)，其光亮面就無法保持一致的長度。簡單說，傳統的精密下料對稍微複雜的下料成品，就無法滿足廠商在品質上的要求。並且，藉由V型凸環92a雖然能提高下料成品的光亮面長度，但也大幅提高了必須花費在精密下料模具9的高昂成本。

有鑑於此，若能提供一種精密下料裝置，其除了能減少成品翹曲，且能應用於厚型或大型胚料之外，在毋須大幅提高成本的支出下，更能適用於各種複雜外形成品(例如，精密齒輪等)之下料，此乃為業界亟待解決的問題。

本案之主要目的，在於提供一種可藉由液體流道搭配形成於 胚料上之輪廓鏡射線凹槽，即能施以一液體壓力於胚料，產生靜水壓(Hydraulic Pressure)，以增加剪切面的光亮面之長度，並可適用於複雜外形之沖壓下料成品之液壓精密下料裝置。

本案之一較佳實施概念，在於提供一種液壓精密下料裝置，用以對一胚料執行沖壓，該液壓精密下料裝置包括：一夾持模組，夾持該胚料，該夾持模組具有至少一模穴以及穿經該夾持模組內部之至少一液體流道；以及一沖頭模組，該沖頭模組自該至少一模穴穿入該夾持模組，並抵接於該胚料；其中，該胚料上形成有至少一非V型凹槽，且該液體流道與該非V型凹槽相接合，以供該液體流道內之一液體流進該非V型凹槽後，提供一液體壓力予該胚料。

於一較佳實施例中，該至少一非V型凹槽形成於該胚料之頂部，並與該夾持模組之該至少一液體流道接合；抑或，該至少一非V型凹槽形成於該胚料之底部，並與該至少一液體流道接合；抑或，該至少一非V型凹槽為兩非V型凹槽，該至少一液體流道為兩液體流道，該兩非V型凹槽分別相對應形成於該胚料之頂部以及底部，並與該兩液體流道接合。

於一較佳實施例中，更包括一密封手段，設置於該胚料與該夾持模組之間；及/或該密封手段設置於該夾持模組與該沖頭模組之間。

於一較佳實施例中，該沖頭模組包括一沖頭，該沖頭穿入該模穴，且直接抵接於該胚料。

於一較佳實施例中，該液體流道與該模穴連通，該液體流道內之該液體流進該模穴，並與該胚料之底部接觸；抑或，該沖頭模組更包括一逆壓板，該逆壓板直接抵接於該胚料；抑或，該沖頭模組更包括一逆壓板，且該液體流道與該模穴連通，該液體流道內之該液體流進該模穴，並與該胚料之底部接觸，該逆壓板透過擠壓該液體推頂該胚料。

於一較佳實施例中，該非V型凹槽係為一U型環槽以及梯型環槽中之至少一者。

本案之再一較佳實施概念，在於提供一種液壓精密下料裝置，用以對一胚料執行沖壓，該液壓精密下料裝置包括：一夾持模組，夾持該胚料，該夾持模組具有至少一模穴以及穿經該夾持模組內部之至少一液體流道；一沖頭模組，該沖頭模組自該至少一模穴穿入該夾持模組，並抵接於該胚料；以及一密封手段，設置於該胚料與該夾持模組之一相接處；其中，該胚料上形成有至少一凹槽，且該液體流道與該凹槽相接合，以供該液體流道內之一液體流進該凹槽後，提供一液壓壓力予該胚料。

於一較佳實施例中，該至少一凹槽形成於該胚料之頂部，並與該夾持模組之該至少一液體流道接合；抑或，該至少一凹槽形成於該胚料之底部，並與該至少一液體流道接合；抑或，該至少一凹槽為兩凹槽，該至少一液體流道為兩液體流道，該兩凹槽分別相對應形成於該胚料之頂部以及底部，並與該兩液體流道接合。

於一較佳實施例中，該密封手段亦設置於該夾持模組與該沖 頭模組之一相接處。

於一較佳實施例中，該沖頭模組包括一沖頭，該沖頭穿入該模穴，且直接抵接於該胚料。

於一較佳實施例中，該液體流道與該模穴連通，該液體流道內之該液體流進該模穴，並與該胚料之底部接觸；抑或，該沖頭模組更包括一逆壓板，該逆壓板直接抵接於該胚料；抑或，該沖頭模組更包括一逆壓板，且該液體流道與該模穴連通，該液體流道內之該液體流進該模穴，並與該胚料之底部接觸，該逆壓板透過擠壓該液體推頂該胚料。

於一較佳實施例中，該凹槽係為一V型環槽、一U型環槽以及梯型環槽中之至少一者。

本案之又一較佳實施概念，在於提供一種液壓精密下料裝置，用以對一胚料執行沖壓，該液壓精密下料裝置包括：一夾持模組，夾持該胚料，該夾持模組具有至少一模穴以及穿經該夾持模組內部之至少一液體流道；以及一沖頭模組，該沖頭模組自該至少一模穴穿入該夾持模組，並抵接於該胚料；其中，該胚料上形成有至少一凹槽，該至少一凹槽之橫截面輪廓線相應於該沖頭模組之橫截面輪廓線形成，且該至少一凹槽之橫截面輪廓線大於該沖頭模組之橫截面輪廓線，該液體流道與該凹槽相接合，以供該液體流道內之一液體流進該凹槽後，提供一液體壓力予該胚料。

於一較佳實施例中，該至少一凹槽形成於該胚料之頂部，並 與該夾持模組之該至少一液體流道接合；抑或，該至少一凹槽形成於該胚料之底部，並與該至少一液體流道接合；抑或，該至少一凹槽為兩凹槽，該至少一液體流道為兩液體流道，該兩凹槽分別相對應形成於該胚料之頂部以及底部，並與該兩液體流道接合。

於一較佳實施例中，更包括一密封手段，設置於該胚料與該夾持模組之間；及/或該密封手段設置於該夾持模組與該沖頭模組之間。

於一較佳實施例中，該沖頭模組包括一沖頭，該沖頭穿入該模穴，且直接抵接於該胚料。

於一較佳實施例中，該液體流道與該模穴連通，該液體流道內之該液體流進該模穴，並與該胚料之底部接觸；抑或，該沖頭模組更包括一逆壓板，該逆壓板直接抵接於該胚料；抑或，該沖頭模組更包括一逆壓板，且該液體流道與該模穴連通，該液體流道內之該液體流進該模穴，並與該胚料之底部接觸，該逆壓板透過擠壓該液體推頂該胚料。

於一較佳實施例中，該凹槽係為一V型環槽、一U型環槽以及梯型環槽中之至少一者。

本案之再一較佳實施概念，在於提供一種液壓精密下料裝置，用以對一胚料執行沖壓，該液壓精密下料裝置包括：一夾持模組，夾持該胚料，該夾持模組具有至少一模穴以及穿經該夾持模組內部之至少一液體流道；以及一沖頭模組，該沖頭模組自該 至少一模穴穿入該夾持模組，並抵接於該胚料；其中，該胚料上形成有至少一凹槽，且該液體流道與該凹槽相接合，以供該液體流道內之一液體流進該凹槽後，提供一液體壓力予該胚料。

於一較佳實施例中，該至少一凹槽形成於該胚料之頂部，並與該夾持模組之該至少一液體流道接合；抑或，該至少一凹槽形成於該胚料之底部，並與該至少一液體流道接合；抑或，該至少一凹槽為兩凹槽，該至少一液體流道為兩液體流道，該兩凹槽分別相對應形成於該胚料之頂部以及底部，並與該兩液體流道接合。

於一較佳實施例中，更包括一密封手段，設置於該胚料與該夾持模組之間；及/或該密封手段設置於該夾持模組與該沖頭模組之間。

於一較佳實施例中，該沖頭模組包括一沖頭，該沖頭穿入該模穴，且直接抵接於該胚料。

於一較佳實施例中，該液體流道與該模穴連通，該液體流道內之該液體流進該模穴，並與該胚料之底部接觸；抑或，該沖頭模組更包括一逆壓板，該逆壓板直接抵接於該胚料；抑或，該沖頭模組更包括一逆壓板，且該液體流道與該模穴連通，該液體流道內之該液體流進該模穴，並與該胚料之底部接觸，該逆壓板透過擠壓該液體推頂該胚料。

於一較佳實施例中，該凹槽係為一V型環槽、一U型環槽以及梯型環槽中之至少一者。

於一較佳實施例中，該胚料上之該至少一凹槽之橫截面輪廓線相應於該沖頭模組之橫截面輪廓線形成，且該至少一凹槽之橫截面輪廓線大於該沖頭模組之橫截面輪廓線。

以下之實施例係用以舉例說明本案內容，並非用以限制本案。需說明者，以下實施例及圖式中，與本案無關之元件已省略而未繪示；且為求容易了解起見，各元件間之尺寸比例以誇大繪之，與實際產品有所出入。

本案提出一種液壓精密下料裝置，不同於傳統的精密下料裝置，本案是利用容納有液體之液體流道之設置，與直接於一胚料上形成凹槽，以取代習知需於精密下料模具的結構處額外形成一V型凸環的功用，並藉由施加一液體壓力(靜水壓力)於胚料的凹槽上，以加深下料成品的光亮面長度。至於沖壓原理，則僅為一種常見的物件製造製程，於此不再贅述。

圖4係為本案液壓精密下料裝置之第一實施例之U形凹槽設置於胚料頂部之立體示意圖；圖5係為本案液壓精密下料裝置之第一實施例之U形凹槽設置於胚料頂部之標示A範圍部分的立體示意圖。

於此須先說明者為，本案的特徵之一，係在於可事先以各種簡便的機械加工方式(例如，銑刀)，直接於胚料頂部開設凹槽；其中，依凹槽之縱剖面形狀，可以分為V型凹槽和非V型凹槽，而非V型凹槽則至少包括有U形或梯形或為其他各種不同的形 狀。於第一實施例中之凹槽係為U形凹槽僅為一方便說明之例舉，其亦可改為V形凹槽或梯形凹槽或為其他各種不同的形狀，於此並不對其作一限制。

請繼續合併參閱圖4至圖5，本案之液壓精密下料裝置1包括一夾持模組10以及一沖頭模組14，夾持模組10包括一壓料板102、一下模104以及一固定模塊105，而胚料6被壓料板102以及下模104所夾持，且胚料6與下模104係容置於由兩疊置固定模塊105所界定而成之容置空間內。並且，夾持模組10具有至少一模穴10a以及穿經夾持模組10內部之至少一液體流道10b。於本實施例中，胚料6之頂部上形成有至少一凹槽6a，夾持模組10之液體流道10b與胚料之凹槽6a接合；藉此設置，原本液體流道10b內之液體可進一步流至胚料6之凹槽6a內，並對凹槽6a表面施以一液體壓力(又稱為一靜水壓力)。

進一步而言，沖頭模組14包括一沖頭148，沖頭148穿入夾持模組10之模穴10a，並直接抵接於胚料6。於本實施例中，夾持模組10具有兩液體流道10b、10c，液體流道10b，係位於壓料板102中，並與凹槽6a接合，而液體流道10c，係位於下模104中，並與胚料6之底部直接接觸。其中，液體流道10c內之液體朝向胚料6之底部提供均勻的一液體壓力，藉此設置，於沖壓時即可減輕一下料成品的彎曲程度。

於此需說明者為，胚料6上之凹槽6a，係可被於沖壓前先以簡單與方便的加工方式(例如，以銑削方式)所形成，且不再被受限於習知V型凸環的單一深度；更進一步地，胚料6(或稱為 待生產的下料成品)的厚度或面積或外形，也將不再被設限。舉例而言，若利用本案之液壓精密下料裝置作沖壓，胚料6之厚度範圍可輕易適用於至少1公分以上，胚料6之面積，例如直徑範圍，則可適用於至少3公分以上。

但於此需注意者為，前述厚度與面積範圍僅為一例舉，並非作一限制，胚料6(或稱為待生產的下料成品)的厚度或面積也可以是更大或更厚。當然，如要以本案的概念應用於實施面積更小，抑或厚度更薄的下料成品時，也是毫無問題，且會較知習知技術所產生的效果為佳。

圖6係為本案液壓精密下料裝置之第一實施例之U形凹槽設置於胚料頂部之剖面示意圖；圖7係為本案液壓精密下料裝置之第一實施例之U形凹槽設置於胚料底部之剖面示意圖；圖8係為本案液壓精密下料裝置之第一實施例之兩U形凹槽分別相對應形成於該胚料之頂部以及底部之剖面示意圖；並請合併參閱圖6至圖8。

於執行沖壓時，使用者操縱沖頭148下壓，而使沖頭148朝胚料6移動且沖頭148接觸胚料6後，仍繼續下壓前進，藉以沖壓胚料6並使一下料成品(圖中標示61處)自原始的胚料6上分離；其中，由於該下料成品61係被沖頭148自胚料6向下頂出，故該下料成品61之側邊剪切面輪廓，係因應於沖頭148之橫截面輪廓形成。於本實施例中，使用者可藉由退出沖頭148的同時調高模穴10a內之液壓，以使該下料成品自模穴10a被向上推出。

胚料6之凹槽6a之形成位置除了可以形成於胚料6之頂部 外，亦可以對其位置稍作變化，舉例而言，凹槽6a可以形成於胚料6之底部，並與液體流道10b接合；如圖7所示。抑或，兩凹槽6a同時形成於胚料6之頂部以及胚料6之底部，並與兩液體流道10b接合，如圖8所示。承上所述，皆是本案液壓精密下料裝置11、12、13可能之施行態樣。當然，為了使凹槽6a與液體流道10b接合，夾持模組10之液體流道10b會隨各種凹槽6a的實施態樣的不同來作相應的位置變化設置，亦已繪示於圖7以及圖8中。

本案液壓精密下料裝置11、12、13更包括一密封手段16，密封手段16係設置於胚料6與夾持模組10之間；抑或，密封手段16設置於夾持模組10與沖頭模組14之間。藉此設置，可以防止容納於液體流道10b與凹槽6a之間的液體，自胚料6與夾持模組10之間之縫隙或夾持模組10與沖頭模組14之間之縫隙洩漏至外界。

較佳者，密封手段16可以是O型環、相互咬合之齒輪、膠合或油封等其它各種密封手段，但此僅為方便說明之一列舉，於此不作一限制。

請參閱圖9至圖11，圖9係為本案液壓精密下料裝置之第二實施例之梯形凹槽設置於胚料頂部之剖面示意圖；圖10係為本案液壓精密下料裝置之第二實施例之梯形凹槽設置於胚料底部之剖面示意圖；圖11係為本案液壓精密下料裝置之第二實施例之兩梯形凹槽分別相對應形成於該胚料之頂部以及底部之剖面示意圖。

第二實施例相似於第一實施例者為，液壓精密下料裝置21、22、23包括一夾持模組20以及一沖頭模組24，夾持模組20用以夾持胚料6，且夾持模組20具有至少一模穴20a以及穿經夾持模組20內部之至少一液體流道20b。胚料6上形成有至少一凹槽6a，夾持模組20之液體流道20b與胚料6之凹槽6a接合。夾持模組20具有兩液體流道20b、20c，液體流道20b係位於夾持模組20之一壓料板202中，並與凹槽6a接合，而液體流道20c係與模穴20a連通，而液體流道20c內之該液體流進模穴20a，並與胚料6之底部接觸。其中，凹槽6a可以形成於胚料6之頂部、底部或其它任意位置上，且不對其形成數量作限制。至於本案液壓精密下料裝置21、22、23所更包括之一密封手段26與其它細部構造，則是皆相同於前一實施例中之各種實施態樣，於此不再贅述。

至於第二實施例異於第一實施例為，沖頭模組24更包括一逆壓板249，而逆壓板249係穿設於模穴20a，且向上頂持容置於模穴20a內之液體，藉此設置，逆壓板249可透過擠壓液體將下料成品推出。此外，本實施例中形成於胚料6上之凹槽6a為一梯形凹槽。

請參閱圖12至圖14，圖12係為本案液壓精密下料裝置之第三實施例之V形凹槽設置於胚料之頂部之剖面示意圖；圖13係為本案液壓精密下料裝置之第三實施例之V形凹槽設置於胚料之底部之剖面示意圖；圖14係為本案液壓精密下料裝置之第三實施例之兩V形凹槽分別相對應形成於該胚料之頂部以及底 部之剖面示意圖。

第三實施例相似於前兩實施例者為，液壓精密下料裝置31、32、33包括一夾持模組30以及一沖頭模組34，夾持模組30用以夾持胚料6，且夾持模組30具有至少一模穴30a以及穿經夾持模組30內部之至少一液體流道30b。胚料6上形成有至少一凹槽6a，夾持模組30之液體流道30b與胚料6之凹槽6a接合。至於本案液壓精密下料裝置31、32、33所更包括之一密封手段36與其它細部構造，亦相同於前兩實施例，故於此不再贅述。

至於第三實施例異於前兩實施例者為，夾持模組30僅具有與凹槽6a接合之液體流道30b，即本實施例中並未具有如前兩實施例中，與模穴30a連通之液體流道。取而代之的設置為，沖頭模組34更包括一逆壓板349，而逆壓板349係穿設於模穴30a，且直接向上抵頂胚料6，藉此設置，使用者可藉由操縱逆壓板349移動，以將該下料成品推出。此外，穿設有逆壓板349之模穴30a之直徑，朝遠離胚料6之方向而漸寬，並且，本實施例中形成於胚料6上之凹槽為一V形凹槽。

圖15係為本案液壓精密下料裝置之第四實施例之夾持模組尚未夾持胚料時之剖面示意圖；圖16係為本案液壓精密下料裝置之第四實施例之夾持模組夾持胚料時之剖面示意圖；圖17係為本案液壓精密下料裝置之第四實施例之夾持模組夾持胚料且沖頭與逆壓板抵頂於胚料時之剖面示意圖。如圖15至圖17所示之具有沖頭模組44之液壓精密下料裝置4，本實施例係揭露了一種利用本案所揭露之液體壓力技術，結合傳統以V型凸環40a 對胚料6作擠壓而形成出靜水壓之做法；亦即，由V型凸環40a擠壓胚料6之頂面而形成V型凹槽60，以及藉由事先以簡易加工方式於胚料6之底面上形成另一凹槽6a，並改以液體壓力注入前述凹槽6a而施予靜水壓於胚料6之作法，亦為一種可能之實施例。

至於本案液壓精密下料裝置4所更包括之一密封手段46，亦相同於前兩實施例，故於此不再贅述。

請參閱圖18，其係為本案待沖壓之胚料之俯面示意圖。其中，胚料6上之凹槽6a之橫截面輪廓線，係以包圍環繞方式形成於沖頭模組54之橫截面輪廓線的外圍處，是以，本案確實能藉由環形凹槽6a，而施以一液體壓力予胚料6中待沖壓下料生產出來的下料成品(圖未示，且其係位於沖頭模組54下方之胚料6部分區域)。

當然，上述凹槽6a之橫截面輪廓線也可為各種規則或不規則的幾何輪廓線，在此並不設限。

另一較佳的做法，請參閱圖19，其係為本案待沖壓之胚料之另一種實施態樣之俯面示意圖。於本較佳的實施例中，胚料6上之凹槽6a’之橫截面輪廓線，則係相應於沖頭模組54之橫截面輪廓線形成，但凹槽6a’之橫截面輪廓線稍大於沖頭模組54之橫截面輪廓線，如此一來，藉由呈現輪廓鏡射線的凹槽6a’，即能均勻地施以一液體壓力予胚料6中待沖壓下料生產出來的下料成品(圖未示，且其係位於沖頭模組54下方之胚料6部分區域)的外圍輪廓，以於執行沖壓時，使下料成品之塑形變形區的靜水 壓力分佈均勻，因而有助於加長該下料成品之剪切面的光亮面長度。

再一較佳之做法，請參閱圖20，圖20係為本案待沖壓之胚料之再一種實施態樣的俯面示意圖。於本較佳的實施例中，胚料6上之凹槽6a”之橫截面輪廓線，則係為大致相應於沖頭模組54’之橫截面輪廓線的凹槽形狀而形成。如此一來，可使下料成品下料時其齒形四周之塑形變形區的靜水壓力分佈均勻，將可讓下料成品四周之光亮面長度皆可保持均勻之等長。因此，除可有助於加長該下料成品之剪切面的光亮面長度外，亦可改良下料成品的品質。當然，由於在胚料6上形成前述呈現輪廓鏡射線的凹槽6a’之方式(例如，以銑削方式形成)，係十分的簡單與方便，如此一來，本案即可以低成本之方式適用於生產具有各種複雜外型的下料成品。

綜上所述，本案所揭露之液壓精密下料裝置，藉由液體流道搭配形成於胚料上之凹槽，即能施以一液體壓力於胚料，此方式除了能十分適合用以生產厚度較厚(例如，1公分以上)的下料成品，與用以生產面積較大(例如，直徑3公分以上)的下料成品之外，還能以低成本與簡單方式應用生產具有各種複雜外形的下料成品。甚且，由於是利用液體壓力的施力方式，液壓精密下料裝置本身也不易損耗，故能大幅降低在採購器材上之花費。

惟以上所述僅為本案之較佳實施例，非意欲侷限本案的專利保護範圍，故舉凡運用本案說明書及圖式內容所為的等效變化，均同理皆包括於本案的權利保護範圍內，合予陳明。

11‧‧‧液壓精密下料裝置

12‧‧‧液壓精密下料裝置

13‧‧‧液壓精密下料裝置

10‧‧‧夾持模組

10a‧‧‧模穴

10b‧‧‧液體流道

102‧‧‧壓料板

104‧‧‧下模

105‧‧‧固定模塊

14‧‧‧沖頭模組

148‧‧‧沖頭

16‧‧‧密封手段

21‧‧‧液壓精密下料裝置

22‧‧‧液壓精密下料裝置

23‧‧‧液壓精密下料裝置

20‧‧‧夾持模組

20a‧‧‧模穴

20b‧‧‧液體流道

24‧‧‧沖頭模組

248‧‧‧沖頭

249‧‧‧逆壓板

26‧‧‧密封手段

31‧‧‧液壓精密下料裝置

32‧‧‧液壓精密下料裝置

33‧‧‧液壓精密下料裝置

30‧‧‧夾持模組

30a‧‧‧模穴

30b‧‧‧液體流道

34‧‧‧沖頭模組

348‧‧‧沖頭

349‧‧‧逆壓板

36‧‧‧密封手段

40a‧‧‧V型凸環

46‧‧‧密封手段

54‧‧‧沖頭模組

54’‧‧‧沖頭模組

6‧‧‧胚料

60‧‧‧凹槽

61‧‧‧工作成品

6a‧‧‧凹槽

6a’‧‧‧凹槽

6a”‧‧‧凹槽

7‧‧‧胚料

9‧‧‧傳統下料的模具

91‧‧‧沖頭

92‧‧‧壓料板

92a‧‧‧V型凸環

93‧‧‧下模

94‧‧‧逆壓板

95‧‧‧固定模塊

圖1係為習知之精密下料裝置之壓料板與下模尚未夾持胚料時之剖面示意圖。

圖2係為習知之精密下料裝置之壓料板與下模夾持胚料時之剖面示意圖。

圖3係為習知之精密下料裝置之壓料板與下模夾持胚料且沖頭與逆壓板抵頂於胚料時之剖面示意圖。

圖4係為本案液壓精密下料裝置之第一實施例之U形凹槽設置於胚料頂部之立體示意圖。

圖5係為本案液壓精密下料裝置之第一實施例之U形凹槽設置於胚料頂部之標示A範圍部分之立體示意圖。

圖6係為本案液壓精密下料裝置之第一實施例之U形凹槽設置於胚料頂部之剖面示意圖。

圖7係為本案液壓精密下料裝置之第一實施例之U形凹槽設置於胚料底部之剖面示意圖。

圖8係為本案液壓精密下料裝置之第一實施例之兩U形凹槽分別相對應形成於該胚料之頂部以及底部之剖面示意圖。

圖9係為本案液壓精密下料裝置之第二實施例之梯形凹槽設置於胚料頂部之剖面示意圖。

圖10係為本案液壓精密下料裝置之第二實施例之梯形凹槽設置於 胚料底部之剖面示意圖。

圖11係為本案液壓精密下料裝置之第二實施例之兩梯形凹槽分別相對應形成於該胚料之頂部以及底部之剖面示意圖。

圖12係為本案液壓精密下料裝置之第三實施例之V形凹槽設置於胚料頂部之剖面示意圖。

圖13係為本案液壓精密下料裝置第三實施例之V形凹槽設置於胚料底部之剖面示意圖。

圖14係為本案液壓精密下料裝置第三實施例之兩V形凹槽分別相對應形成於該胚料之頂部以及底部之剖面示意圖。

圖15係為本案液壓精密下料裝置之第四實施例之夾持模組尚未夾持胚料時之剖面示意圖。

圖16係為本案液壓精密下料裝置之第四實施例之夾持模組夾持胚料時之剖面示意圖。

圖17係為本案液壓精密下料裝置之第四實施例之夾持模組夾持胚料且沖頭與逆壓板抵頂於胚料時剖面示意圖。

圖18係為本案待沖壓之胚料之俯面示意圖。

圖19係為本案待沖壓之胚料之另一種實施態樣的俯面示意圖。

圖20係為本案待沖壓之胚料之再一種實施態樣的俯面示意圖。

1‧‧‧液壓精密下料裝置

10‧‧‧夾持模組

10a‧‧‧模穴

10b‧‧‧液體流道

10c‧‧‧液體流道

102‧‧‧壓料板

104‧‧‧下模

105‧‧‧固定模塊

14‧‧‧沖頭模組

148‧‧‧沖頭

6‧‧‧胚料

6a‧‧‧凹槽

Claims (25)

1. 一種液壓精密下料裝置，用以對一胚料執行沖壓，該液壓精密下料裝置包括：一夾持模組，夾持該胚料，該夾持模組具有至少一模穴以及穿經該夾持模組內部之至少一液體流道；以及一沖頭模組，該沖頭模組自該至少一模穴穿入該夾持模組，並抵接於該胚料；其中，該胚料上形成有至少一非V型凹槽，且該液體流道與該非V型凹槽相接合，以供該液體流道內之一液體流進該非V型凹槽後，提供一液體壓力予該胚料。
2. 如申請專利範圍第1項所述之液壓精密下料裝置，其中該至少一非V型凹槽形成於該胚料之頂部，並與該夾持模組之該至少一液體流道接合；抑或，該至少一非V型凹槽形成於該胚料之底部，並與該至少一液體流道接合；抑或，該至少一非V型凹槽為兩非V型凹槽，該至少一液體流道為兩液體流道，該兩非V型凹槽分別相對應形成於該胚料之頂部以及底部，並與該兩液體流道接合。
3. 如申請專利範圍第2項所述之液壓精密下料裝置，更包括一密封手段，設置於該胚料與該夾持模組之間；及/或該密封手段設置於該夾持模組與該沖頭模組之間。
4. 如申請專利範圍第3項所述之液壓精密下料裝置，其中該沖頭模組包括一沖頭，該沖頭穿入該模穴，且直接抵接於該胚料。
5. 如申請專利範圍第4項所述之液壓精密下料裝置，其中該液體流道與該模穴連通，該液體流道內之該液體流進該模穴，並與 該胚料之底部接觸；抑或，該沖頭模組更包括一逆壓板，該逆壓板直接抵接於該胚料；抑或，該沖頭模組更包括一逆壓板，且該液體流道與該模穴連通，該液體流道內之該液體流進該模穴，並與該胚料之底部接觸，該逆壓板透過擠壓該液體推頂該胚料。
6. 如申請專利範圍第1項所述之液壓精密下料裝置，其中該非V型凹槽係為一U型環槽以及梯型環槽中之至少一者。
7. 一種液壓精密下料裝置，用以對一胚料執行沖壓，該液壓精密下料裝置包括：一夾持模組，夾持該胚料，該夾持模組具有至少一模穴以及穿經該夾持模組內部之至少一液體流道；一沖頭模組，該沖頭模組自該至少一模穴穿入該夾持模組，並抵接於該胚料；以及一密封手段，設置於該胚料與該夾持模組之一相接處；其中，該胚料上形成有至少一凹槽，且該液體流道與該凹槽相接合，以供該液體流道內之一液體流進該凹槽後，提供一液壓壓力予該胚料。
8. 如申請專利範圍第7項所述之液壓精密下料裝置，其中該至少一凹槽形成於該胚料之頂部，並與該夾持模組之該至少一液體流道接合；抑或，該至少一凹槽形成於該胚料之底部，並與該至少一液體流道接合；抑或，該至少一凹槽為兩凹槽，該至少一液體流道為兩液體流道，該兩凹槽分別相對應形成於該胚料之頂部以及底部，並與該兩液體流道接合。
9. 如申請專利範圍第8項所述之液壓精密下料裝置，其中該密封手段亦設置於該夾持模組與該沖頭模組之一相接處。
10. 如申請專利範圍第9項所述之液壓精密下料裝置，其中該沖頭模組包括一沖頭，該沖頭穿入該模穴，且直接抵接於該胚料。
11. 如申請專利範圍第10項所述之液壓精密下料裝置，其中該液體流道與該模穴連通，該液體流道內之該液體流進該模穴，並與該胚料之底部接觸；抑或，該沖頭模組更包括一逆壓板，該逆壓板直接抵接於該胚料；抑或，該沖頭模組更包括一逆壓板，且該液體流道與該模穴連通，該液體流道內之該液體流進該模穴，並與該胚料之底部接觸，該逆壓板透過擠壓該液體推頂該胚料。
12. 如申請專利範圍第7項所述之液壓精密下料裝置，其中該凹槽係為一V型環槽、一U型環槽以及梯型環槽中之至少一者。
13. 一種液壓精密下料裝置，用以對一胚料執行沖壓，該液壓精密下料裝置包括：一夾持模組，夾持該胚料，該夾持模組具有至少一模穴以及穿經該夾持模組內部之至少一液體流道；以及一沖頭模組，該沖頭模組自該至少一模穴穿入該夾持模組，並抵接於該胚料；其中，該胚料上形成有至少一凹槽，該至少一凹槽之橫截面輪廓線相應於該沖頭模組之橫截面輪廓線形成，且該至少一凹槽之橫截面輪廓線大於該沖頭模組之橫截面輪廓線，該液體流道與該凹槽相接合，以供該液體流道內之一液體流進該凹槽後，提供一液體壓力予該胚料。
14. 如申請專利範圍第13項所述之液壓精密下料裝置，其中該至少一凹槽形成於該胚料之頂部，並與該夾持模組之該至少一液體流道接合；抑或，該至少一凹槽形成於該胚料之底部，並與該至 少一液體流道接合；抑或，該至少一凹槽為兩凹槽，該至少一液體流道為兩液體流道，該兩凹槽分別相對應形成於該胚料之頂部以及底部，並與該兩液體流道接合。
15. 如申請專利範圍第14項所述之液壓精密下料裝置，更包括一密封手段，設置於該胚料與該夾持模組之間；及/或該密封手段設置於該夾持模組與該沖頭模組之間。
16. 如申請專利範圍第15項所述之液壓精密下料裝置，其中該沖頭模組包括一沖頭，該沖頭穿入該模穴，且直接抵接於該胚料。
17. 如申請專利範圍第16項所述之液壓精密下料裝置，其中該液體流道與該模穴連通，該液體流道內之該液體流進該模穴，並與該胚料之底部接觸；抑或，該沖頭模組更包括一逆壓板，該逆壓板直接抵接於該胚料；抑或，該沖頭模組更包括一逆壓板，且該液體流道與該模穴連通，該液體流道內之該液體流進該模穴，並與該胚料之底部接觸，該逆壓板透過擠壓該液體推頂該胚料。
18. 如申請專利範圍第13項所述之液壓精密下料裝置，其中該凹槽係為一V型環槽、一U型環槽以及梯型環槽中之至少一者。
19. 一種液壓精密下料裝置，用以對一胚料執行沖壓，該液壓精密下料裝置包括：一夾持模組，夾持該胚料，該夾持模組具有至少一模穴以及穿經該夾持模組內部之至少一液體流道；以及一沖頭模組，該沖頭模組自該至少一模穴穿入該夾持模組，並抵接於該胚料；其中，該胚料上形成有至少一凹槽，且該液體流道與該凹槽相接合，以供該液體流道內之一液體流進該凹槽後，提供一液體 壓力予該胚料。
20. 如申請專利範圍第19項所述之液壓精密下料裝置，其中該至少一凹槽形成於該胚料之頂部，並與該夾持模組之該至少一液體流道接合；抑或，該至少一凹槽形成於該胚料之底部，並與該至少一液體流道接合；抑或，該至少一凹槽為兩凹槽，該至少一液體流道為兩液體流道，該兩凹槽分別相對應形成於該胚料之頂部以及底部，並與該兩液體流道接合。
21. 如申請專利範圍第20項所述之液壓精密下料裝置，更包括一密封手段，設置於該胚料與該夾持模組之間；及/或該密封手段設置於夾持模組與該沖頭模組之間。
22. 如申請專利範圍第21項所述之液壓精密下料裝置，其中該沖頭模組包括一沖頭，該沖頭穿入該模穴，且直接抵接於該胚料。
23. 如申請專利範圍第22項所述之液壓精密下料裝置，其中該液體流道與該模穴連通，該液體流道內之該液體流進該模穴，並與該胚料之底部接觸；抑或，該沖頭模組更包括一逆壓板，該逆壓板直接抵接於該胚料；抑或，該沖頭模組更包括一逆壓板，且該液體流道與該模穴連通，該液體流道內之該液體流進該模穴，並與該胚料之底部接觸，該逆壓板透過擠壓該液體推頂該胚料。
24. 如申請專利範圍第19項所述之液壓精密下料裝置，其中該凹槽係為一V型環槽、一U型環槽以及梯型環槽中之至少一者。
25. 如申請專利範圍第19項所述之液壓精密下料裝置，其中該胚料上之該至少一凹槽之橫截面輪廓線相應於該沖頭模組之橫截面輪廓線形成，且該至少一凹槽之橫截面輪廓線大於該沖頭模組之橫截面輪廓線。