TWI460569B - 用於監測和控制增強性能的材料至起皺圓筒的運用之方法 - Google Patents
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Description
本發明是關於監測及控制一種起皺(creping)圓筒/洋基乾燥機塗層(Yankee dryer coating)之領域。
洋基塗層與起皺運用可說是最為重要而且最為困難以控制於薄紙(tissue)製作過程之單元操作。針對於起皺的薄紙產品,此步驟定義薄紙與紙巾(towel)產品之吸收性、體積、強度與柔軟度的基本性質。同樣重要的是,起皺步驟之效率與執行能力控制整個薄紙機器之效率與執行能力。
關於薄紙製作過程之常見的困難度是於起皺圓筒塗層特性於橫向的非均勻性。該塗層由黏著物、修飾劑與自噴灑吊桿(boom)所施加的釋放劑、以及自織物(web)或紙張(sheet)所拉出的纖維、自蒸發過程用水的有機與無機材料、及稍早加入至薄紙製造過程的濕端之其他化學製品所構成。於塗層特性的非同質性經常為關於跨於乾燥機端面之溫度、濕氣與區域化學成分的變化。該變化經常相當顯著且將造成可變的紙張黏著性、不同特性的沉積物及/或於圓筒的材料之缺乏,其可造成過量的洋基/起皺圓筒與起皺刀片磨損。最終的紙張性質(諸如:吸收性、體積、強度與柔軟度)之降級亦可由此變化及/或降級所造成。由於此等缺陷,因此期望針對於起皺圓筒表面的塗層之監測和控制方法。
本發明提出一種監測和隨意地控制一塗層之施加於起皺圓筒表面之方法,該塗層含有一增強性能的材料(Performance Enhancing Material,PEM),該種方法包含:(a)施加一塗層至一起皺圓筒的表面;(b)藉由一種差動方法以測量於起皺圓筒的表面之塗層的厚度,其中,該種差動方法利用未實際接觸該塗層之複數個裝置;(c)響應於該塗層的厚度,隨意地調整於該起皺圓筒的一或多個界定區域上的該塗層之施加,藉以提供於該起皺圓筒的表面上的一均勻厚度的塗層;及(d)隨意地運用附加裝置,以監測和隨意地控制於起皺圓筒上之除了塗層的厚度之外的塗層的其他方面。
本發明亦提出一種監測和隨意地控制一塗層之施加於起皺圓筒表面之方法,該塗層含有一增強性能的材料(Performance Enhancing Material,PEM),該種方法包含:(a)施加一塗層至一起皺圓筒的表面;(b)備有一源波長之一干涉計探針(probe),提供透過於起皺圓筒表面的一塗層之適當傳輸;(c)運用該干涉計探針以測量自該起皺圓筒的一塗層空氣表面與一塗層圓筒表面之反射光,確定於起皺圓筒上的塗層之厚度;(d)響應於該塗層之厚度,隨意地調整於該起皺圓筒的一或多個定義區域中的該塗層之施加,藉以提供於該起皺圓筒的表面上的一均勻厚度的塗層;及(e)隨意地運用附加裝置,以監測和隨意地控制於起皺圓筒上之除了塗層的厚度之外的塗層的其他方面。
此揭露內容之方法與控制策略是針對於起皺圓筒表面之塗層。種種型式的化學物質是構成於起皺圓筒表面之塗層。此等化學物質給予性質至塗層,其作用以改良該種薄紙製作過程。此等化學物質將集體稱作為增強性能的材料(Performance Enhancing Material,PEM)。此等化學品及控制其運用的一種方法之範例說明是論述於美國專利第7,048,826號與美國專利公告第2007/0208115號,其以參照方式而納入於本文。
於一個實施例,所利用的該複數個裝置之一者是一渦流感測器。
該種差動方法可涉及一渦流感測器與一光學位移感測器。
於一個實施例,該種差動方法包含以下步驟:運用渦流感測器以測量自該感測器至起皺圓筒的一表面之距離,且運用光學位移感測器以測量自塗層表面至感測器之距離。
於再一個實施例,光學位移感測器是一雷射三角測量(triangulation)感測器或一色彩式的共焦感測器。
圖1描繪一渦流感測器與一光學位移感測器所組成之感測器組合的例圖。渦流(eddy current,EC)感測器是操作於測量電氣阻抗變化之原理。EC藉由施加一交流(alternating current,AC)至一線圈而產生一磁場。當EC緊鄰於一導電目標,電流產生於該目標。此等電流是於該線圈的彼等者之相反方向。此等電流產生自身的磁場,其影響該感測器線圈之整體的阻抗。EC之輸出電壓隨著於EC感測器與目標之間的間隙的改變而改變,因而提供於距離與電壓之間的相關性。於此運用,EC感測器建立於該感測器外殼與起皺圓筒表面之間的關聯性。
安裝於外殼之第二感測器是光學式測量,其相關於薄膜表面之該感測器的位移。光學位移感測器可為諸如Micro-Epsilon(美國北卡羅萊納州洛利)型號1700-2之一三角測量型式或諸如Micro-Epsilon optoNCDT 2401共焦感測器之一色彩型式。此等感測器運作於自薄膜表面以反射光線之原理。當於塗層光學性質的變化是歸因於過程操作條件、感測器監測位置、或PEM本身的性質而存在,則諸如Keyence LKG-15(Keyence為位在美國紐澤西州Woodcliff Lake)之一種高性能三角測量感測器可以為擔保。該種Keyence三角測量感測器提供具有內建的演算法之較高準確度的測量,用於測量透明與半透明的薄膜。於橫向(cross direction,CD)與機器方向(machine direction,MD)之傳輸特性的變化可擔保其可適用於不同塗層光學特性之一種感測器且較高性能的三角測量感測器可切換於不同測量模式之間。概括而言,大多數的商用三角測量感測器將產生於透明或半透明之材料的測量誤差。若薄膜特性是固定,將三角測量感測器轉向可降低此誤差。然而,針對於具有於薄膜特性的高變化度之過程的測量之感測器旋轉非為一個選項。光學與EC感測器均提供所需要的解析度以監測具有大於50微米的預期厚度之PEM薄膜。薄膜厚度藉由取得於自EC與光學位移感測器的測量距離之間的差異而得到。
該等感測器容納於一淨化後的外殼之中,如於圖1所示。沖洗氣體(空氣或N2
)用於感測器冷卻、清洗及維持一無塵的光學路徑。冷卻是需要,由於外殼定位於自蒸氣加熱式起皺圓筒的10至35毫米之間。若必要時,可使用附加的冷卻,藉由使用一種旋渦(vortex)或帕耳帖(Peltier)冷卻器。退出該外殼的沖洗氣體形成於測量區域周圍的一屏蔽氣體,使得微粒物質與濕氣為最小化。微粒物質可由於衰減發射與反射光線強度而影響光學測量。而,凝結於外殼之光線入口與出口窗的濕氣將引起衰減與散射。EC感測器免於微粒物質與濕氣之存在。
為了於一種起皺圓筒(亦習稱為一洋基乾燥機)之產業監測,於圖1所示之感測器模組將安裝於一平移台,如於圖2所示。在裝設之前,該等感測器之定位必須校準於一平坦基板以得到一零測量讀數。此是必要,由於EC與光學位移感測器之定位可相對於基板表面為不同偏移。校準步驟是必要以調整各個感測器之位置,確保當無薄膜為存在時之一零讀數。於產業製程之感測器模組的裝設涉及:安裝該模組在針對於操作之二種感測器的正確範圍之一距離處。藉由隨著圓筒旋轉而平移該模組於橫向(CD),薄膜厚度與品質之一輪廓(profile)可處理且顯示。然後處理的結果用於反饋控制以致動適當區域,用於PEM、其他的化學品之加入,或改變運用條件,例如:流量率、動量、或微滴尺寸。此外,若薄膜品質(厚度或均勻性)是無法恢復,則警報可致動以警示操作者一嚴重問題,例如:圓筒彎曲、刮刀片損壞或顫動、劇烈的塗層增長、等等。最後,三個測量位置識別於圖2。於薄膜厚度與品質的測量可作成於刮刀片與清洗刀片之間(1)、在清洗刀片之後(2)、或將織物按壓至圓筒之前(3)。可監測單一個位置或多個位置。
使用EC與光學位移(三角測量)感測器組合之實驗結果顯示於圖3。於此情形,動態測量作成於旋轉於~16至20RPM(每分鐘轉數)之一95毫米直徑的鑄鐵圓筒。該圓筒之一半者是塗覆具有PEM。於圓筒之PEM塗覆區域,一裸斑點(spot)(約20毫米直徑)作成以模擬一缺陷區域。圖3顯示起始於裸金屬區域之修正訊號(渦流-三角測量)。將該感測器組合平移至塗覆區域是顯示歸因於塗層之約27微米的一平均偏移。在此,訊號是負,其代表於感測器與圓筒之間的27微米的距離減小,歸因於塗層之厚度。在300秒,感測器組合平移回到裸金屬區域。初始,訊號是呈現為較高,(約5微米)需要進一步調整以定位該等感測器為較接近於原始測量位置。此異常情形很可能為實驗室系統之人為因素,因為該等感測器並未測量確實相同面積及具有小規模設置的小曲度半徑。於14至18英尺直徑圓筒之產業監測應使得此等效應為最小化,由於該等感測器本質將該圓筒視為一平板。最後,偵測塗層缺陷之一實例示範作成,藉著在約375秒為平移該等感測器至含有裸斑點之區域。在此,測量的平均塗層厚度是約30微米。此自於200至300秒間的區域之結果的3微米內。於接近10微米之訊號的一尖峰之出現是識別一個塗層缺陷之存在。隨著裸斑點為旋轉通過測量區域,訊號是接近於0微米。測量的10微米偏移是歸因於缺陷區域之剩餘的塗層。
圖3之結果是針對於修正資料以及原始的三角測量與EC資料而總結於表1。
自EC與三角測量感測器之記錄的測量顯示於圖4,針對於監測裸金屬區域。於測量所觀察之40-50微米的振盪反映於圓筒旋轉之顫動。藉由運用修正(EC-三角測量),顫動降低至約10微米,如於圖5所示。針對於產業監測,此變化隨著EC感測器之空間的位置為接近光學位移測量斑點且降低曲度效應而將可能為降低。
同理,圖6與7顯示針對於監測塗覆區域之結果。於此情形,於圖7所示的修正資料具有於15至20微米之間的變化。於資料之此較大變化可能歸因於薄膜之表面非同質性。訊號之頻率與振幅分析均可提供於該塗層之品質的資訊。三角測量感測器之測量斑點尺寸約30微米。因此,三角測量感測器是容易解析於表面的非均勻性。
自具有缺陷之塗覆區域的監測結果顯示於圖8與9。於圖8之渦流訊號未顯示缺陷之跡象。然而,三角測量藉著尖窄峰以指出一缺陷之存在。於圖9所顯示的修正訊號,自塗層缺陷之尖峰是易於解析。
顯示非均勻性的偵測之另一個實例顯示於圖12。於此情形,同步資料收集藉著旋轉於59RPM之一塗覆圓筒而實行。左手側(LHS)圖顯示相對於圓筒表面之塗層的一輪廓。於塗層厚度之非均勻性是明顯,但該平面是相當平滑。右手側(RHS)圖顯示同一個塗層受到透過一刮刀片(doctor blade)與塗層之相互作用的顫動狀況。比較該二個情形明確顯示該感測器系統的能力以捕捉於塗層表面品質的降級。偵測顫動事件於洋基過程為重要以實行修正維護,使得於產品品質與資產保護的衝擊為最小化。
可能影響差動計算之濕氣亦可作考量;明確而言,濕氣可自一電容測量所導出的介電常數而計算。此資料可利用以判定於厚度的任何變化是否為濕氣之結果或一塗層之缺乏。考慮電容之另一個方式是在於:其為針對於由已述的差動方法所得到的測量之一種保護措施;其提供該塗層本身之較為深度的分析,例如:諸如玻璃過渡溫度與模量之塗層的行為,於監測和控制於該起皺圓筒表面的塗層是有用。
考量於塗層的濕氣含量之一種方法是藉由考慮電容,而另一個方式是利用一種濕氣感測器。其他技術可為由熟悉此技術人士所利用。
於一個實施例,該種方法納入一種專用的濕氣感測器,諸如:於專利WO 2006118619所述者,其基於1300奈米區域之H2
O的光學吸收,其中,該參考文獻是以參照方式而納入於本文。此將提供於薄膜的濕氣位準之一種直接測量而不具有電容監測器可能經歷的干擾,其歸因於相依於塗層與濕氣二者的介電常數。
於另一個實施例,該種方法另外包含:運用一電容探針以測量該塗層的濕氣含量;比較該電容測量與該差動方法測量以確定於該塗層厚度之濕氣的效應;及,響應於濕氣具有如差動方法所確定之於厚度上的效應而隨意地調整於該起皺圓筒表面之塗層的量與分佈及/或調整該塗層的量。
該種方法可使用容納多個感測器之一種模組,如於圖10所示。該種模組類似於圖1所呈現者,但是具有另外的感測器元件。於圖10之模組包括一電容探針與一隨意地紅外線溫度探針。諸如美國明尼蘇達州聖保羅Lion Precision之電容探針廣泛使用於一種導電目標之位置或位置變化的高解析度測量。於位置感測之常見的應用是於機器人與精密零件之組裝、旋轉式零件與工具之動態動作分析、振動測量、厚度測量及於組件測試,其中,偵測金屬零件之存在與否。電容亦可用以測量諸如塗層、薄膜、與液體之非導電材料的某些特性。
電容感測器利用存在於彼此緊鄰的二個導體之間的電容之電氣性質。若一電壓施加至彼此為分離的二個導體,一電場將形成於其間,歸因於儲存於導體表面的電荷之間的差異。於其間的空間之電容將影響該場,俾使一較高的電容將保持較多的電荷而一較低的電容將保持較少的電荷。電容愈大,愈多電流耗費以改變於導體的電壓。
一電容感測器之金屬感測表面是作為一個導體。目標(洋基鼓(drum)表面)是另一個導體。驅動電子器件感應一連續改變的電壓至探針,例如:一10千赫茲方波,且測量所需的造成電流。此電流測量是關於探針與目標之間的距離,若於其間的電容是固定。
運用以下的關係式:
其中,C是電容(法拉(farad,F)),是於導體之間的間隙之材料的介電性質,A是探針感測面積,且d是間隙距離。介電性質是正比於材料的介電常數,如同,其中,是介電常數且是真空介電係數常數。針對於空氣,,而針對於水,。
視哪二個參數為保持固定而定,第三個參數可由該感測器的輸出而決定。於位置之情形,d是測量,其中,空氣通常為介質。針對於洋基系統之本案的運用,於整個間隙體積之的變化性是測量的參數。於此情形,間隙是由三個主要構件所構成,即:空氣、薄膜或塗層,其亦可含有纖維材料、與濕氣。一混合物介電常數可表示為:
其中,Φ是體積分率(volume fraction)且具有涉及構件材料的下標與上標符號(a=空氣,w=水,f=薄膜)。運用式(1)與(2),歸因於濕氣存在之於電容的變化已知為:
其中,Cfw
是針對於其含有濕氣之薄膜的電容,且Cf
是針對於乾燥薄膜的電容。取其對數且將式(3)重新安排,針對於濕氣的體積分率之一表示式已知為:
為了監測洋基薄膜,混合物電容Cfw
是藉著電容探針而直接測量。針對於水之溫度相依的介電常數得自文獻值。濕氣的體積分率接著藉由知道乾燥薄膜電容而得到,乾燥薄膜電容可由使用光學感測器之薄膜厚度測量且知道薄膜的介電常數而決定。
針對於間隙體積的平均介電常數由針對於空氣與塗層者所比例構成。於間隙的塗層愈多,平均介電常數愈大。藉由控制d與A,可得到任何的靈敏度與範圍。
因為電容是靈敏於塗層的濕氣含量,可能為難以分出於塗層厚度的變化與於濕氣含量的變化。藉由納入該組的感測器(EC、光學位移與電容)於圖10所顯示之模組,此資訊提供一種方式以交叉檢查薄膜厚度與於塗層的濕氣含量之資訊。EC感測器提供針對於用於光學位移與電容的即時修正之一基準參考距離。相較於光學探針,電容平均於一較大許多的面積。舉例而言,使用0.005公尺的一間隙距離之一種電容探針將使用一19毫米直徑的感測探頭。測量面積相較於探頭為較大30%。鑒於光學位移探針測量20微米至850微米之一區域,視所用的探針而定。自光學探針之較高的解析度測量將顯示靈敏度至於塗層表面的較小變化。然而,於一較大面積之自光學探針的平均測量將提供如同電容之類似結果。於電容與光學探針讀數之間的差異可歸因於薄膜的濕氣含量,假設該塗層的介電常數已知。
諸如OMEGA(美國康乃迪克州史丹佛)型號OS36-3-T-240F之一紅外線(infrared,IR)溫度探針可提供於起皺圓筒的溫度輪廓之有用資訊。由於PEM將視溫度而定為不同響應,溫度資訊可用以調整運用至該圓筒的PEM之化學組成與位準。
於一個實施例,該種方法是更包含:(a)運用一IR溫度探針以測量起皺圓筒的溫度輪廓;(b)運用一IR溫度探針以測量該塗層溫度,其需要以修正溫度相依的濕氣介電常數;及(c)運用該修正的濕氣介電常數至電容測量以確定正確的塗層濕氣濃度。
IR溫度探針之附加於感測器模組提供於起皺圓筒的溫度輪廓之資訊。此有用於識別於起皺圓筒的溫度非均勻性。此外,溫度可用以修正塗層的介電常數。舉例而言,針對於水的介電常數可自80.1(攝氏20度)變化至55.3(攝氏100度)。
一種超音波感測器可納入於監測方法。
於一個實施例,該種方法更包含:運用一種超音波感測器以測量該塗層的模量,且選用而言,其中,該模量值用以測量該塗層的硬度。
超音波感測器用以偵測塗層的黏著伸縮性質。透過薄膜之音波的傳播(反射與衰減)將視該薄膜品質(例如:硬對軟)而定。於薄膜品質的資訊可使用於反饋至一噴灑系統以供控制噴灑位準或調整噴灑化學性質,例如:稀釋位準,使得黏著伸縮薄膜性質為最佳化。
如上所述,一種干涉計可利用於測量厚度。諸如於此揭露內容所述者之其他的分析技術可協同於一種干涉方法而利用。此外,差動方法可協同於利用一干涉計以測量塗層厚度之一種方法而使用。
於一個實施例,該種方法使用干涉法以監測塗層厚度。若塗層具有充分的透射,則多個感測器之使用可降低至單一個探測頭,如於圖11所示。於此情形,光線由光纖電纜所輸送至探針。自薄膜的二個表面之反射光是收集回到光纖探針,用於處理以取出塗層厚度資訊。數種不同的M技術可用於處理所收集的光線。諸如純量(Scalar)技術有限公司(英國西洛錫安Livingston)之產業儀器使用基於測量波長相依的條紋圖案之一種光譜干涉技術。條紋的數目是相依於薄膜厚度。替代而言,基於一種修正式邁克生(Michelson)干涉計之Lumetrics公司(美國紐約州West Henrietta)儀器是基於各個表面所造成的測量峰值之差異以確定厚度。藉著一干涉術探針以監測於起皺圓筒的塗層可作成於圖2所示的任何位置。主要的必要條件是在於:薄膜具有針對於光線的充分透射以反射離開內表面,即:靠近基板。干涉術測量之一個獨特的特徵能夠測量塗覆諸層。此能力可利用在監測於圖2所示的位置(3)。在此位置,塗層是非完全乾燥且為無過程干擾,諸如:來自其施加薄紙張至起皺圓筒之壓力滾筒,直接接觸於織物、刮刀片、與清洗刀片。在此位置之一種干涉術感測器提供最新施加的塗層之厚度。此有助於知道在任何干擾前的塗層之空間分佈。舉例而言,知道在過程干擾前後的塗層厚度可識別於噴灑系統的無效率、遭受過量磨損的區域、或其他的動態變化。
如上所述,本揭露內容之方法是提供隨意地調整於該起皺圓筒的一或多個定義區域之該塗層的施加率,響應於塗層之厚度,以提供一均勻厚度的塗層。種種型式的裝置可實施此任務。
於一個實施例,該種方法基於正常操作條件期間所收集的測量以控制噴灑區域。舉例而言,使用自上述的感測器之測量以建立於起皺圓筒之一基準輪廓。基準資料接著使用以追蹤過程變化。建立於基準輪廓資料(薄膜厚度、薄膜品質、濕氣位準、黏著伸縮性、溫度、等等)之上與下控制極限用以追蹤過程偏差為何時發生。若過程監測參數之任一者成為在該等極限之外,則修正動作是藉著區域控制噴灑施加系統而採取。
於另一個實施例,該複數個裝置平移跨過洋基乾燥機/起皺圓筒,以提供厚度及/或濕氣含量及/或溫度、及/或模量之輪廓。
於另一個實施例,該複數個裝置位於一起皺刀片與一清洗刀片之間、在清洗刀片之後、或將一薄紙織物按壓至塗層之前、或是上述者之任何組合。
於另一個實施例,該複數個裝置藉著一清洗氣體所沖洗以防止髒污、霧氣干擾、塵土干擾、過熱、或其組合。
圖1顯示安裝於一共同模組的一渦流與光學位移感測器之一種組合的示意圖。
圖2是一種安裝於一平移台之感測器模組的示意圖,用於洋基乾燥機塗層(Yankee dryer coating)之橫向監測。
圖3使用一種渦流加上三角測量感測器組態的動態資料收集。
圖4是關於動態裸金屬監測的資料。
圖5是關於修正動態裸金屬監測的資料。
圖6是關於塗覆區域之動態位移監測的資料。
圖7是關於塗覆區域之動態薄膜厚度監測的資料。
圖8是關於塗覆區域之動態位移監測的資料,該塗覆區域含有於塗層(裸斑點)中之一缺陷。
圖9是關於塗覆區段之動態薄膜厚度監測的資料,該塗覆區段含有於塗層(裸斑點)中之一缺陷,接近-10微米之尖峰是識別於該塗層中之一缺陷的存在。
圖10顯示安裝於一共同模組之渦流、光學位移、電容與IR溫度組合的示意圖。
圖11說明用於該起皺圓筒的塗層厚度監測之干涉計的一般使用的示意圖。
圖12是關於一選擇周邊區域之動態薄膜厚度輪廓的資料。左手側(left handed side,LHS)顯示於塗層厚度的非均勻性。右手側(right handed side,RHS)顯示具有一顫痕的同一個塗層,該顫痕為與一刮刀片的相互作用。
Claims (12)
- 一種監測和隨意地控制一塗層施加於一起皺圓筒表面之方法,該塗層含有一增強性能的材料(Performance Enhancing Material,PEM),其中一起皺刀片係接合於該圓筒,該方法包含:(a)施加一塗層至一起皺圓筒的表面;(b)利用差動方法藉由測量在起皺圓筒上該塗層的厚度以決定厚度是否足夠地不均勻以造成顫動,其中該差動方法利用未實際接觸該塗層之複數個裝置;(c)當該測量到的厚度係足夠地不均勻以造成顫動時,響應於該塗層的厚度,調整於該起皺圓筒的一或多個界定區域中的該塗層之施加,藉以提供於該起皺圓筒的表面上的一均勻厚度的塗層;及(d)隨意地運用附加裝置,以監測和隨意地控制於一起皺圓筒上之除了該塗層的厚度之外的該塗層的其他方面。
- 如申請專利範圍第1項之方法,其中,所利用的該複數個裝置之一者是一渦流感測器。
- 如申請專利範圍第2項之方法,其中,該種差動方法包含以下步驟:運用該渦流感測器以測量自該感測器至該起皺圓筒的一表面之距離,且運用一光學位移感測器以測量自該塗層表面至該感測器之距離。
- 如申請專利範圍第3項之方法,其中,該光學位移感測器是一雷射三角測量感測器或一色彩式的共焦感測器。
- 如申請專利範圍第3項之方法,更包含:運用一濕氣感測器以測量該塗層的濕氣含量;比較該濕氣感測器測量與差動方法測量以確定於該塗層厚度之濕氣的效應;及,響應於濕氣具有如差動方法所確定之於厚度上的效應而隨意地調整於該起皺圓筒表面之塗層的量與分佈及/或調整該塗層的量,其中,該濕氣感測器隨意地測量接近紅外線波長處之該塗層的一成分。
- 如申請專利範圍第3項之方法,更包含:運用一電容探針以測量該塗層的濕氣含量;比較該電容測量與該差動方法測量以確定於該塗層厚度上之濕氣的效應;及,響應於濕氣具有如差動方法所確定之於厚度上的效應而隨意地調整於該起皺圓筒表面之塗層的量與分佈及/或調整該塗層的量。
- 如申請專利範圍第6項之方法,更包含:a.運用一IR溫度探針以測量該起皺圓筒的溫度輪廓;b.運用一IR溫度探針以測量該塗層溫度,其需要修正溫度相依的濕氣介電常數;及c.運用該修正的濕氣介電常數至該電容測量以確定正確的塗層濕氣濃度。
- 如申請專利範圍第1項之方法,其中,該種方法更包含:運用一超音波感測器以測量該塗層的模量,且就隨意而言,其中,該模量值用以測量該塗層的硬度。
- 如申請專利範圍第1項之方法,其中,該複數個裝置平移跨過該起皺圓筒以提供厚度及隨意地濕氣含量、及/或 溫度、及/或模量之輪廓。
- 如申請專利範圍第1項之方法,其中,該複數個裝置位於一起皺刀片與一清洗刀片之間、在該清洗刀片之後、或在一薄紙織物按壓至該塗層之前、或上述者之任何組合。
- 如申請專利範圍第1項之方法,其中,該複數個裝置是藉著一清洗氣體所沖洗以防止髒污、霧氣干擾、塵土干擾、過熱、或其組合。
- 一種監測和隨意地控制一塗層施加於一起皺圓筒表面之方法,該塗層含有一增強性能的材料(Performance Enhancing Material,PEM),該種方法包含:(a)施加一塗層至一起皺圓筒的表面;(b)備有一源波長之一干涉計探針,提供透過於該起皺圓筒表面的一塗層之適當傳輸;(c)運用該干涉計探針以測量自該起皺圓筒的一塗層空氣表面與一塗層圓筒表面之反射光,確定於該起皺圓筒上的塗層之厚度;(d)響應於該塗層之厚度,隨意地調整於該起皺圓筒的一或多個定義區域中的該塗層之施加,藉以提供於該起皺圓筒的表面上的一均勻厚度的塗層;及(e)隨意地運用附加裝置,以監測和隨意地控制於一起皺圓筒上之除了塗層的厚度之外的該塗層的其他方面。
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