CN102177294A - 用于监视和控制向起皱烘缸涂敷性能增强材料的方法 - Google Patents

Abstract

揭示了一种方法，用于监视和控制在起皱烘缸上的涂层的厚度。该方法包括一些装置的协调方案，这些装置的作用是监视起皱烘缸涂层的各个方面，使得可以确定该涂层的厚度。

Description

用于监视和控制向起皱烘缸涂敷性能增强材料的方法

技术领域

本发明属于监视和控制起皱烘缸/扬基(Yankee)烘缸涂层的领域。

背景技术

在纸巾制造过程中，扬基涂层和起皱应用是最重要的，控制单元操作可以说是最困难的。对于起皱的纸巾产品，这个步骤确定了纸巾和毛巾产品的吸收度、体积、强度和柔软度等基本特性。作为一个整体，同等地重要的是起皱步骤的效率和运行性能控制了纸巾机器的效率和运行性能。

纸巾制造过程常见的困难是在交叉方向上起皱烘缸上的涂层特性不均匀。由从喷杆施加的粘合剂、改性剂、脱模剂以及从网或板拉出的纤维、来自水蒸发过程的有机和无机材料以及在纸巾制造过程的湿部之前添加的其它化学物质构成涂层。涂层特性中的不均匀性通常涉及烘缸表面上的温度、潮气和区域化学成分的变化。变化通常是十分重要的，并且可以导致可变的板粘合、不同特性的沉积和/或导致缸上缺少材料，这可能导致过度的扬基/起皱烘缸和起皱刀片磨损。也可能因这种变化和/或劣化而使诸如吸收度、体积、强度和柔软度之类的最终的板特性变差。作为这些缺点的结果，因此需要对在起皱烘缸表面上的涂层进行监视和控制的方法。

发明内容

本发明提供一种方法，用于监视和任选地控制在起皱烘缸表面上涂敷含性能增强材料(PEM)的涂层，该方法包括：(a)把涂层涂敷到起皱烘缸表面上；(b)通过微分法测量起皱烘缸表面上涂层的厚度，其中所述微分法利用不与涂层物理接触的多个装置；(c)响应于所述涂层的厚度而任选地调节所述起皱烘缸的一个或多个确定区域中涂敷所述涂层，为的是在起皱烘缸表面上提供均匀厚度的涂层；以及(d)除了涂层的厚度之外，任选地应用附加的设备以监视和任选地控制起皱烘缸上涂层的其它方面。

本发明还提供一种方法，用于监视和任选地控制在起皱烘缸表面上涂敷含性能增强材料(PEM)的涂层，该方法包括：(a)把涂层涂敷到起皱烘缸表面上；(b)提供具有源波长的干涉仪探测器，所述源波长给出通过起皱烘缸表面上涂层的足够大的透射；(c)应用干涉仪探测器以测量来自涂层空气表面和起皱烘缸的涂层缸表面的反射光以确定起皱烘缸上涂层的厚度；(d)响应于所述涂层的厚度任选地调节在所述起皱烘缸的一个或多个确定区域中涂敷所述涂层，为的是在起皱烘缸表面上提供均匀厚度的涂层；以及(e)除了涂层的厚度之外，任选地应用附加的设备以监视和任选地控制起皱烘缸上涂层的其它方面。

附图说明

图1：示意性地示出安装在共用模块上的涡电流和光学位移传感器的组合。

图2：示意性地示出安装在平移台上的传感器模块，用于在交叉方向上监视扬基烘缸涂层。

图3：使用涡电流加上三角测量传感器配置的动态数据收集。

图4：关于动态裸金属监视的数据。

图5：关于校正的动态裸金属监视的数据。

图6：关于在经涂布的区域中的动态位移监视的数据。

图7：关于在经涂布的区域中的动态薄膜厚度监视的数据。

图8：关于在涂层中含缺陷(裸点)的经涂布的区域中的动态位移监视的数据。

图9：关于在涂层中含缺陷(裸点)的涂布分段中的动态薄膜厚度监视的数据。靠近-10μm的尖峰确定了涂层中缺陷的存在。

图10：示意地示出了安装在共用模块上的涡电流、光学位移、电容和IR温度的组合。

图11：示意地示出了用于起皱烘缸上涂层厚度监视的一般的干涉用途。

图12：关于围绕选中的周长区域的动态薄膜厚度分布的数据。LHS(左手侧)示出涂层厚度的不均匀。RHS(右手侧)示出同一涂层，其中具有与刮刀交互作用的振纹。

具体实施方式

本发明的方法和控制策略针对起皱烘缸表面上的涂层。各种类型的化学物质构成起皱烘缸表面上的涂层。这些化学物质使涂层的特性具有改善纸巾制造过程的功能。把这些化学物质统称为性能增强材料(PEM)。在美国专利7,048,826和美国专利公报2007/0208115中讨论了这些化学物质的示例性描述以及控制其涂敷过程的方法，这里结合这两个专利作为参考。

在一个实施例中，所利用的多个装置中的一个装置是涡电流传感器。

微分法可以包括涡电流和光学位移传感器。

在一个实施例中，微分法包括下列步骤：应用涡电流传感器以测量从传感器到起皱烘缸表面的距离，并且应用光学位移传感器以测量从涂层表面到传感器的距离。

在又一个实施例中，光学位移传感器是激光三角测量传感器或有色共焦传感器。

图1描绘由涡电流传感器和光学位移传感器构成的传感器组合的示意图。涡电流(EC)传感器根据测量电阻抗变化的原理而工作。通过把交流电(AC)施加于线圈使EC产生了磁场。当EC靠近导电目标时，在目标中产生电流。这些电流的方向与线圈中电流方向相反，称之为涡电流。这些电流产生它们自己的磁场，它们自己的磁场影响传感器线圈的总阻抗。当EC传感器和目标之间的间隙改变时，EC的输出电压改变，从而提供距离和电压之间的相关性。在这个应用中，EC传感器建立了传感器外壳和起皱烘缸表面之间的基准。

安装在外壳中的第二传感器通过光学方式测量传感器相对于薄膜表面的位移。光学位移传感器可以是像Micro-Epsilon(北卡罗来纳洲的Raleigh市)型号1700-2之类的三角测量型传感器或像Micro-Epsilons optoNCDT 2401共焦传感器之类的有色型传感器。这些传感器根据从薄膜表面反射光的原理而工作。当由于过程工作条件引起涂层光学性质的变化时，传感器监视位置或PEM本身的性质，然后可以保证高性能三角测量传感器，诸如Keyence LKG-15(新泽西州的Woodcliff湖的Keyence)。这种Keyence三角测量传感器具有用于测量透明和半透明薄膜的内置算法而提供准确度更高的测量。在交叉方向(CD)和机器方向(MD)上的透射特性的变化可以保证传感器适用于不同的涂层光学特性，并且更高性能的三角测量传感器可以在不同测量模式之间切换。通常，大多数商用三角测量传感器对于透明或不透明材料会产生测量误差。如果薄膜特性是恒定的，则调整三角测量传感器的角度可以减小这个误差。然而，对于薄膜特性高度变化的过程中的测量，传感器旋转并非任选的。光学和EC传感器两者提供所需的分辨率，以便监视具有＞50微米的期望厚度的PEM薄膜。通过取得从EC和光学位移传感器测量到的距离之间的差而得到薄膜厚度。

把传感器置于清除外壳中，如图1所示。使用清除气体(清洁的空气或N2)进行传感器冷却、清洁以及保持无尘的光路。需要冷却，因为外壳的位置离开蒸汽加热的起皱烘缸10-35毫米之间。如果需要的话，可以通过使用涡旋或Peltier冷却器而使用附加的冷却。从外壳中出来的清除气体形成测量区域周围的屏蔽气体，以使颗粒物和潮气最少。颗粒物会通过使发射的和反射的光强度衰减而影响光学测量。而凝结在该外壳的光入射窗口和光出射窗口上的潮气会导致衰减和散射。对于存在颗粒物和潮气的情况，EC传感器不受影响。

对于起皱烘缸(也被称为扬基烘缸)上的工业监视，可以把图1所示的传感器模块安装在图如2所示的平移台上。在安装之前，必须在平坦基板上校正传感器的定位以得到零测量读数。这是必需的，因为EC和光学位移传感器的定位可能相对于基板表面不同地偏移。校正步骤必须调节每个传感器的位置以保证没有薄膜存在时的零读数。工业过程中的传感器模块的安装包括把模块安装在两个传感器能工作的准确范围的一个距离处。当缸旋转时通过平移交叉方向上的模块，可以处理和显示薄膜厚度和质量的分布。然后使用处理结果进行反馈控制以激励用于PEM、其它化学物质的添加的适当的区域，或改变应用条件，例如，流速、动量或雾滴大小。此外，如果不能够恢复薄膜质量(厚度或均匀性)，则可以激励报警而向操作者警告严重问题，例如，缸弯曲、刮刀损坏或振动、严重的涂层建立等。最后，在图2中确定三个测量位置。可以在刮刀和清洁刀片之间(1)、在清洁刀片之后(2)或在压到缸上的网之前(3)，进行薄膜厚度和质量的测量。可以监视单个位置或多个位置。

图3中示出使用EC和光学位移(三角测量)传感器的组合的实验室结果。既然是这样，在以～16-20转/分钟(每分钟转数)旋转的95毫米直径铸铁缸上进行动态测量。缸的一半涂布了PEM。在缸的涂布PEM的部分上，作出一个裸点(～20毫米直径)以模拟缺陷区域。图3示出在裸金属区域中开始的经校正的信号(涡电流-三角测量)。把传感器组合平移到经涂布的区域示出由于涂布引起的～27微米的平均偏移。这里，信号是负的，这表示由于涂层的厚度而使传感器和缸之间减少27微米的距离。在300秒处，传感器组合平移回裸金属区域。起初，信号表现出较高(～5微米)，要求进一步调节，使传感器的位置更接近原始测量位置。这个异常情况可能是由于传感器没有测量确切相同的区域以及具有小比例设置的小曲率半径引起的实验室系统的人为现象。14-18英尺直径缸的工业监视可以减小这些影响，由于传感器基本上把缸视为平板。最后，通过在～375秒处把传感器平移到含裸点的区域而作出检测涂层缺陷的展示。这里，测量到的平均涂层厚度是～30微米。这在200-300秒之间的区域得到的结果的3微米之内。该信号中靠近-10微米处出现的尖峰确定了涂层缺陷的存在。当裸点通过测量区域旋转时，该信号靠近0微米。测量到的10微米的偏移要归因于缺陷区域中的剩余的涂层。

表1中概括了从图3得到的结果，用于经校正的数据以及原始三角测量以及EC数据。

表1：不同传感器和测量位置的经处理的平均值以及标准偏差。经校正的传感器是从涡电流和三角测量之间的差得到的薄膜厚度测量值。

图4中示出从EC和三角测量传感器得到的经记录的测量值，用于监视裸金属区域。测量中观察到的40-50微米振荡反映了缸旋转中的摇晃。通过施加校正(EC-三角测量)，使摇晃减小到～10微米，如图5所示。对于工业监视，当EC传感器的空间位置接近光学位移测量点以及减小曲率影响时，可能减小这个变化。

相似地，图6和7示出监视经涂布的区域得到的结果。既然是这样，图7中示出的经校正的数据具有15-20微米之间的变化。较大的数据变化可能是由于薄膜表面的不均匀性引起的。信号的频率和幅度分析两者可以提供关于涂层质量的信息。三角测量传感器的测量点大小是～30微米。因此，三角测量传感器容易地解决了表面的不均匀性。

图8和9中示出从具有缺陷的经涂布的区域得到的监视结果。图8中的涡电流信号没有示出缺陷的证据。而三角测量通过窄尖峰表示了缺陷的存在。在图9所示的经校正的信号中，容易地解决了来自涂层缺陷的尖峰。

图12中示出检测均匀性的另一个例子。既然是这样，用以59转/分钟旋转的经涂布的缸执行同步数据收集。左手侧的图示出涂层相对于缸表面的分布。涂层厚度的不均匀性很明显，但是表面是相当平滑的。右手侧的图示出经受通过刮刀和涂层的交互作用的抖振条件的同一涂层。比较两种情况，清楚地示出传感器系统捕获涂层表面质量降低的能力。在扬基过程中检测抖振事件是严格的，以便执行校正式维护从而减小对产品质量和资产保护的影响。

还可以考虑可能影响微分计算的潮气；具体地，可以从通过电容测量得到的介电常数来计算潮气。可以利用这个数据来确定厚度的任何变化是否是潮气或缺少涂层的结果。考虑电容的另一个方式是这对于通过所描述的微分法得到的测量值是一个保障；它提供涂层本身更深层的分析，例如，诸如玻璃转变温度和模数之类的涂层的性能，这对于监视和控制起皱烘缸表面上的涂层是有用的。

考虑潮气含量的一个方法是检查电容，另一个方式是利用潮气传感器。本技术领域中熟知普通技术的人员可以利用其它技术。

在一个实施例中，该方法结合专用的潮气传感器，诸如基于1300纳米范围中H₂O的光学吸收的、WO2006118619中描述的一个潮气传感器，这里结合所述参考资料作为参考。这给出了薄膜中潮气水平的直接测量而无电容监视器由于其与涂层和潮气两者的介电常数的相关性而经受的干扰。

在另一个实施例中，该方法任选地包括：应用电容探测器以测量涂层的潮气含量；对电容测量值与微分法测量值进行比较以确定涂层厚度上潮气的影响；以及响应于通过微分法确定的厚度上的潮气影响任选地调节起皱烘缸表面上涂层的量和分布和/或调节涂层的量。

该方法可以使用容纳多个传感器的一个模块，如图10所示。该模块与图1中所示的模块相似，但是具有附加的传感器元件。图10中的模块包括电容探测器和光学红外温度探测器。在导电目标的位置或位置变化的高分辨率测量中广泛地使用电容探测器(诸如MN州St.Paul市的Lion Precision公司)。在机器人和精确部件的装配、旋转部件和工具的动态运动分析、振动测量、厚度测量以及在检测金属部件存在或不存在的组件测试中，都存在位置检测的普通应用。也可以使用电容来测量诸如涂层、薄膜以及液体之类非导电材料的某些特性。

电容传感器利用存在于相互接近的任何两个导体之间的电容的电特性。如果把电压施加于相互分开的两个导体上，则由于存储在导体表面上的电荷之间的差而会在它们之间形成电场。它们之间的空间的电容会影响场以致电容越高会保持更多电荷，而电容越低会保持更少电荷。电容越大，使导体上的电压改变的电流要更多。

电容传感器的金属检测表面的作用如同导体中之一。目标(扬基滚筒表面)是另一个导体。驱动电子线路感应出到探测器的连续变化的电压，例如，10kHz的方波，并且测量所要求的产生的电流。如果探测器和目标之间的电容是恒定的，则这个电流测量值与探测器和目标之间的距离有关。

应用下列关系式：

$C=\frac{\mathrm{\ϵA}}{d}---\left(1\right)$

其中C是电容(F，法拉)，ε是导体之间间隙中的材料的介电特性，A是探测器检测区域以及d是间隙距离。介电特性与材料的介电常数成正比，为ε＝ε_rε₀，其中是ε_r是介电常数，而ε₀是真空介电常数。对于空气，ε_r＝1.006，而对于水，ε_r＝78。

根据哪两个参数保持恒定，就可以从传感器的输出确定第三个参数。在位置的情况中，测量d，其中空气通常是介质。对于在扬基系统中的应用，在总间隙体积中的ε_r的变化是测量的参数。既然是这样，间隙由还可以包含纤维材料和潮气的三个主要成分空气、薄膜或涂层构成。可以表达混合的介电常数为

${\mathrm{\ϵ}}_r={\mathrm{\ϵ}}_f^{{\mathrm{\Φ}}_f}{\mathrm{\ϵ}}_w^{{\mathrm{\Φ}}_w}{\mathrm{\ϵ}}_a^{{\mathrm{\Φ}}_a}---\left(2\right)$

其中φ是具有参考成分材料的下标和上标(a＝空气、w＝水、f＝薄膜)的体积部分。使用公式1和2，给出由于存在潮气而引起的电容变化为

$C_{\mathrm{fw}}-C_f=\frac{{\mathrm{\ϵ}}_0{\mathrm{\ϵ}}_f^{{\mathrm{\Φ}}_f}{\mathrm{\ϵ}}_w^{{\mathrm{\Φ}}_w}{\mathrm{\ϵ}}_a^{{\mathrm{\Φ}}_a}A}{d}-\frac{{\mathrm{\ϵ}}_0{\mathrm{\ϵ}}_f^{{\mathrm{\Φ}}_f}{\mathrm{\ϵ}}_a^{{\mathrm{\Φ}}_a}A}{d}---\left(3\right)$

其中C_fw是含潮气的薄膜的电容而C_f是干燥的薄膜的电容。取对数，并且重新排列公式3，给出关于潮气的体积部分的表达式

${\mathrm{\Φ}}_w=\frac{\mathrm{Log}\left(\frac{C_{\mathrm{fw}}}{C_f}\right)}{\mathrm{Log}\left({\mathrm{\ϵ}}_w\right)}---\left(4\right)$

为了监视扬基薄膜，直接用电容探测器测量混合电容C_fw。从文献值中得到水的与温度有关的介电常数。然后通过已知干燥薄膜电容(从使用光学传感器的薄膜厚度测量值以及已知的薄膜介电常数可以确定干薄膜电容)来得到潮气的体积部分。

由空气和涂层的介电常数成正比地构成间隙体积的平均介电常数。间隙中的涂层越多，平均介电常数越大。通过控制d和A，可以得到任何灵敏度和范围。因为电容对于涂层的潮气含量是敏感的，所以从潮气含量的变化中区分出涂层厚度的变化是很困难的。通过结合图10所示的模块中的传感器组(EC、光学位移传感器以及电容)，这个信息提供交叉检查薄膜厚度以及关于涂层的潮气含量的信息的手段。EC传感器提供光学位移和电容两者中使用的实时校正的基线参考距离。在比光学探测器大得多的区域上对电容值进行平均。例如，使用.005米间隙距离的电容探测器将使用19毫米直径检测探测器头。测量区域比探测器头大30％。而根据所使用的探测器，光学位移探测器测量20微米到850微米的一个区域。来自光学探测器的较高分辨率的测量值示出了对于涂层表面上较小变化的灵敏度。然而，来自较大区域上的光学探测器的平均测量值将给出与电容相似的结果。如果已知涂层的介电常数，则电容和光学探测器读数之间的差可以归因于薄膜中的潮气含量。

诸如OMEGA(康涅狄格州的Stamford市)OS36-3-T-240F型之类的红外(IR)温度探测器可以提供关于起皱烘缸温度分布的有用的信息。由于PEM根据温度而不同地响应，所以可以使用温度信息来调节化学组成和施加于缸的PEM水平。

在一个实施例中，该方法还包括：(a)应用IR温度探测器以测量起皱烘缸的温度分布；(b)应用IR温度探测器以测量用于校正与温度有关的潮气介电常数所需要的涂层温度；以及(c)把经校正的潮气介电常数应用于电容测量值以确定正确的涂层潮气浓度。

在传感器模块中添加IR温度探测器可提供关于起皱烘缸温度分布的信息。这在确定起皱烘缸的温度不均匀性中是有用的。此外，可以使用温度来校正涂层的介电常数。例如，水的介电常数可以从80.1(20℃)变化到55.3(100℃)。

可以把超声波传感器结合到监视方法中。

在一个实施例中，该方法还包括应用超声波传感器来测量涂层的模数，并且任选地，使用模数值来测量涂层的硬度。

使用超声波传感器来检测涂层的粘弹性特性。声波在薄膜中的传播(反射和衰减)将取决于薄膜质量，例如，硬与软。可以使用关于薄膜特性的信息使之反馈到喷涂系统以便控制喷涂水平或调节喷涂化学物质，例如，稀释水平，以便使粘弹性薄膜特性最优化。

如上所述，可以利用干涉仪来测量厚度。可以与干涉测量方法一起利用诸如本发明中描述的其它分析技术。此外，可以与利用干涉仪来测量涂层厚度的方法一起使用微分法。

在一个实施例中，该方法使用干涉测量来监视涂层厚度。如果涂层具有足够的透射性，则可以从多个传感器的使用减少到单个探测器头，如图11所示。既然是这样，通过光纤光缆把光传送到探测器。把从薄膜的两个表面反射的光收集回光纤探测器以便处理而获取涂层厚度信息。可以使用数个不同的技术来处理收集的光。诸如Scalar Technologies有限公司(Livingston，West Lothian，UK)之类的工业仪器使用基于测量与波长有关的条纹图案的光谱干涉技术。条纹的数量与薄膜厚度有关。另一方面，基于修改的Michelson干涉仪的Lumetrics公司(纽约州的West Henrietta市)仪器根据测量到的从每个表面产生的峰值的差来确定厚度。可以在图2所示的任何位置处用干涉探测器进行起皱烘缸上涂层的监视。主要的要求是薄膜具有足够的透射性，以便光从内部表面(即，接近基板处)反射。干涉测量的一个唯一的特征是测量多个涂层层的能力。在图2所示的监视位置3处可以利用这个能力。在该位置处，涂层没有充分干燥，并且无过程干扰，诸如来自把纸巾片施加于起皱烘缸的压力滚筒，与网、刮刀和清洁刀片直接接触的干扰。在该位置处的干涉传感器提供新涂敷的涂层的厚度，这有助于在任何干扰之前知道涂层的空间分布。例如，在过程干扰之前和之后知道涂层厚度可以确定喷涂系统的无效性、经受过度磨损的区域、或其它动态变化。

如上所述，本发明的方法提供任选地调节所述起皱烘缸的一个或多个确定区域中所述涂层的涂敷速率，以响应于所述涂层的厚度而提供厚度均匀的涂层。各种类型的装置都可以执行这个任务。

在一个实施例中，该方法根据在正常操作条件期间收集的测量值来控制喷涂区域。例如，使用来自上面讨论的一个或多个传感器的测量值来建立起皱烘缸上的基线分布。然后使用基线数据来跟踪过程变动。使用围绕基线分布数据(薄膜厚度、薄膜质量、潮气水平、粘弹性、温度等)而建立的上和下控制极限，以跟踪何时发生过程偏差。如果任何过程监视参数落在极限之外，则用区域控制喷涂施加系统采取校正行动。

在另一个实施例中，在扬基烘缸/起皱烘缸上平移多个装置以提供厚度和/或潮气含量和/或温度和/或模数的分布。

在另一个实施例中，在起皱刀片和清洁刀片之间、在清洁刀片之后、或在纸巾网被压入到涂层中之前、或上述的任何组合的情况下，设置多个装置。

在另一个实施例中，用清洁气体清理多个装置以防止污垢、薄雾干扰、灰尘干扰、过热或它们的组合。

Claims (12)

1.一种用于监视和任选地控制在起皱烘缸的表面上涂敷含性能增强材料(PEM)的涂层的方法，包括：

(a)把涂层涂敷到起皱烘缸的表面上；

(b)通过微分法来测量起皱烘缸的表面上的涂层的厚度，其中所述微分法利用不与所述涂层物理接触的多个装置；

(c)响应于所述涂层的厚度，任选地调节所述起皱烘缸的一个或多个确定区域中的所述涂层的涂敷，以便在起皱烘缸的表面上提供厚度均匀的涂层；以及

(d)任选地应用附加的设备，以监视和任选地控制除了起皱烘缸上的涂层的厚度之外所述涂层的其它方面。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所利用的所述多个装置之一是涡电流传感器。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述微分法包括下列步骤：应用涡电流传感器以测量从传感器到起皱烘缸的表面的距离；以及应用光学位移传感器以测量从涂层表面到传感器的距离。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述光学位移传感器是激光三角测量传感器或有色型共焦传感器。

5.如权利要求3所述的方法，其特征在于，还包括：应用电容探测器以测量所述涂层的潮气含量；将电容测量值与微分法测量值进行比较以确定潮气对涂层厚度的影响；以及响应于通过微分法所确定的潮气对厚度的影响任选地调节起皱烘缸表面上的涂层的量和分布和/或调节所述涂层的量。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，还包括：

a.应用IR温度探测器以测量起皱烘缸的温度分布；

b.应用IR温度探测器以测量用于校正与温度有关的潮气介电常数所需要的涂层温度；以及

c.把经校正的潮气介电常数应用于电容测量值以确定正确的涂层潮气浓度。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括应用超声波传感器来测量所述涂层的模数，并且任选地其中，使用模数值来测量所述涂层的硬度。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，使所述多个装置在起皱烘缸上平移以提供厚度的分布且任选地提供潮气含量和/或温度和/或模数的分布。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，使所述多个装置位于起皱刀片和清洁刀片之间、在清洁刀片之后、或在纸巾网被压入到涂层中之前、或上述的任何组合。

10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，用清洁气体清理所述多个装置以防止污垢、薄雾干扰、灰尘干扰、过热或它们的组合。

11.一种用于监视和任选地控制在起皱烘缸的表面上涂敷含性能增强材料(PEM)的涂层的方法，包括：

(a)把涂层涂敷到起皱烘缸表面上；

(b)提供具有源波长的干涉仪探测器，所述源波长给出穿过起皱烘缸表面上涂层的足够大的透射；

(c)应用干涉仪探测器以测量来自涂层空气表面和起皱烘缸的涂层缸表面的反射光以确定起皱烘缸上的涂层的厚度；

(d)响应于所述涂层的厚度任选地调节在所述起皱烘缸的一个或多个确定区域中的所述涂层的涂敷以便在起皱烘缸的表面上提供厚度均匀的涂层；以及

(e)任选地应用附加的设备以监视和任选地控制除了起皱烘缸上的涂层的厚度之外该涂层的其它方面。

12.如权利要求3所述的方法，其特征在于，还包括：应用潮气传感器来测量所述涂层的潮气含量；将潮气传感器测量值与微分法测量值进行比较以确定潮气对涂层厚度的影响；以及响应于通过微分法所确定的潮气对厚度的影响任选地调节起皱烘缸表面上的涂层的量和分布和/或调节所述涂层的量，其中所述潮气传感器任选地在近红外波长处测量所述涂层的组分。

Images