TWI453265B - 光學薄膜用黏著劑組成物 - Google Patents
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Description
本發明係關於將偏光板、相位差薄膜等光學薄膜貼附於液晶面板等被附著體時,或將保護薄膜貼附於光學薄膜時適合使用的光學薄膜用黏著劑組成物。又,本發明係關於具有包含前述光學薄膜用黏著劑組成物之黏著劑層的黏著型光學薄膜及光學薄膜用保護薄膜,並關於具備前述黏著型光學薄膜及/或光學薄膜用保護薄膜之影像顯示裝置。
當將偏光板、相位差薄膜等光學薄膜貼附於液晶面板等,或將多數光學薄膜貼附並疊層,或將保護薄膜貼附於光學薄膜時,係使用光學薄膜用黏著劑。
當貼附光學薄膜時,若產生皺紋、氣泡、卡入異物等、或貼合位置偏離等情形時,有時會將已貼附的光學薄膜或保護薄膜剝離而再度重新再進行貼附作業,或將光學薄膜剝離後回收昂貴的液晶面板並且再回收利用。從此觀點,對於光學薄膜用黏著劑要求在顯示器等影像顯示裝置的製造步驟當中無殘膠,而且能以適當的剝離強度剝離,可以再度貼附的起始的重做性(reworkability)。
另一方面,對於光學薄膜用黏著劑當已貼附光學薄膜後到實際使用之間的期間,要求即使暴露在加熱、濕熱狀態也不會起泡,或不會從被附著體剝離的高度耐久性。
而且,光學薄膜用黏著劑,為了不損害光學薄膜的機能,也要求高度透明性或光學的等向性(無複折射)。
至今為止,已知有含有丙烯酸系三嵌段共聚物的熱熔型黏著劑(參照專利文獻1及2)。但是,此等文獻當中,針對將熱熔型黏著劑使用在光學薄膜並未具體探討,關於此等文獻中揭示的含有丙烯酸系三嵌段共聚物的溶液型黏著劑的特性完全不明確。
又,已知有包含光學薄膜、基材、含丙烯酸系嵌段共聚物之黏著劑層的構件等(參照專利文獻3)。但是,於該文獻中,雖然對於當基材為聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯等氣體釋放基材時,黏著劑層的層間剝離及起泡抑制效果有所探討,但對於光學薄膜用黏著劑為必要的起始的重做性並未探討。
於如上述狀況下,本案發明人等已開發出以特定丙烯酸系三嵌段共聚物當做主成分的非化學交聯型光學薄膜用黏著劑並已在先前提出申請(參照專利文獻4)。該非化學交聯型光學薄膜用黏著劑,並沒有因為交聯不均所致的黏著性能的不齊一的問題,顯示良好凝集力,並且起始的重做性、黏著特性、耐熱性、耐久性等優異,當做光學薄膜用黏著劑為有用。但是,即使是該非交聯型接著劑仍然有時會有起始重做性與耐久性不足的情形。
專利文獻1 日本特開平11-302617號公報
專利文獻2 日本特開平11-323072號公報
專利文獻3 日本特表2008-508394號公報
專利文獻4 WO 2008/065982
專利文獻5 日本特開平6-93060號公報
專利文獻6 日本特公平7-25859號公報
專利文獻7 日本特開平11-335432號公報
非專利文獻1 「Macromol. Chem. Phys.」,2000年,201卷,p.1108~1114
本發明的目的在於提供一種非交聯型光學薄膜用黏著劑組成物,其不需要交聯處理,且即使不進行化學交聯處理仍對於光學薄膜基材的接著性優異,而且當將光學薄膜貼附於被附著體或將保護薄膜貼附於光學薄膜時等,具有適於起始重做的接著力,能無殘膠的以適當的剝離強度予以剝離,且於貼附後長期保持其狀態時,尤其暴露於高溫狀態或濕熱狀態時,會由於接著力上升而具有優異的接著耐久性。
尤其,本發明之目的在於提供一種光學薄膜用及光學薄膜保護薄膜用之非交聯型黏著劑組成物,其即使使用在在將因為溫度或濕度等環境變化造成膨脹或收縮之光學薄膜與比起該薄膜不易因為環境變化造成膨脹或收縮的基材貼合時,仍具有高度耐久性。
再者,本發明之目的在於提供一種具有包含前述非交聯型光學薄膜用黏著劑組成物的黏著劑層的黏著型光學薄膜及光學薄膜用保護薄膜,以及具備前述黏著型光學薄膜及/或光學薄膜用保護薄膜之影像顯示裝置。
本案發明人等,發現到:若以特定比例含有特定的丙烯酸系三嵌段共聚物及特定的丙烯酸系二嵌段共聚物,則能解決以上問題,該特定丙烯酸系三嵌段共聚物,亦即「係以玻璃轉移溫度為-20℃以下之丙烯酸烷酯聚合物嵌段當做中央嵌段,且其兩端各別鍵結有玻璃轉移溫度為100℃以上之甲基丙烯酸烷酯聚合物嵌段的丙烯酸系三嵌段共聚物,而且係重量平均分子量(Mw)為30,000~300,000、分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5及中央的丙烯酸烷酯聚合物嵌段的含量為5~45質量%的丙烯酸系三嵌段共聚物」,該特定的丙烯酸系二嵌段共聚物,亦即「係各鍵結有1個甲基丙烯酸烷酯聚合物嵌段與丙烯酸烷酯聚合物嵌段,重量平均分子量(Mw)為30,000~300,000、分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5,且丙烯酸烷酯聚合物嵌段的含量為60~85質量%之二嵌段共聚物」。
亦即,本發明為:
(1)一種光學薄膜用黏著劑組成物,其係:
(α)含有具備要件(E1)、(E2)、(E3)及(E4)之下列丙烯酸系三嵌段共聚物(I),及具備要件(F1)、(F2)、(F3)及(F4)之下列丙烯酸系二嵌段共聚物(II),
(β)丙烯酸系三嵌段共聚物(I)與丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之質量比(I)/(II)為75/25~30/70,且
(γ)丙烯酸系三嵌段共聚物(I)所含之聚合物嵌段A1及聚合物嵌段A2與丙烯酸系二嵌段共聚物(II)所含之聚合物嵌段C的合計質量(X),以及丙烯酸系三嵌段共聚物(I)所含之聚合物嵌段B與丙烯酸系二嵌段共聚物(II)所含之聚合物嵌段D的合計質量(Y)之比(X)/(Y)為30/70~50/50;
丙烯酸系三嵌段共聚物(I):
(E1)以下列通式(1)表示之丙烯酸系三嵌段共聚物:
A1-B-A2 (1)
(式(1)中,A1及A2各自獨立而表示玻璃轉移溫度為100℃以上之甲基丙烯酸烷酯聚合物嵌段,B表示玻璃轉移溫度為-20℃以下之丙烯酸烷酯聚合物嵌段);
(E2)聚合物嵌段B之含量為5~45質量%;
(E3)重量平均分子量(Mw)為30,000~300,000;及
(E4)分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5;
丙烯酸系二嵌段共聚物(II):
(F1)以下列通式(2)表示之丙烯酸系二嵌段共聚物:
C-D (2)
(式(2)中,C表示甲基丙烯酸烷酯聚合物嵌段,D表示丙烯酸烷酯聚合物嵌段);
(F2)聚合物嵌段D之含量為60~85質量%;
(F3)重量平均分子量(Mw)為30,000~300,000;及
(F4)分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5。
本發明係:
(2)如前述(1)之光學薄膜用黏著劑組成物,其係具有包含硬質聚合物相與軟質聚合物相的微相分離構造,該硬質聚合物相係以丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之聚合物嵌段A1與A2及丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之聚合物嵌段C當做主體形成,該軟質聚合物相係以丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之聚合物嵌段B及丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之聚合物嵌段D當做主體而形成,而且硬質聚合物相與軟質聚合物相係一起形成連續的構造。
本發明係:
(3)如前述(1)或(2)之光學薄膜用黏著劑組成物,其中丙烯酸系三嵌段共聚物(I)與丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之質量比(I)/(II)為59/41~30/70。
本發明係:
(4)如前述(1)至(3)中任一項之光學薄膜用黏著劑組成物,其中黏著劑組成物中所含之聚合物嵌段A1、聚合物嵌段A2及聚合物嵌段C之合計質量(X),與黏著劑組成物所含之聚合物嵌段B及聚合物嵌段D之合計質量(Y)之比(X)/(Y),為33/67~45/55。
並且,本發明係:
(5)如前述(1)至(4)中任一項之光學薄膜用黏著劑組成物,其中黏著劑組成物中所含之聚合物嵌段A1、聚合物嵌段A2及聚合物嵌段C之合計質量(X),與黏著劑組成物所含之聚合物嵌段B及聚合物嵌段D之合計之質量(Y)的比(X)/(Y),為39/61~43/57。
並且,本發明係:
(6)如前述(1)至(5)中任一項之光學薄膜用黏著劑組成物,其中丙烯酸系三嵌段共聚物(I)所含之聚合物嵌段A1及聚合物嵌段A2當中,重量平均分子量小的聚合物嵌段的重量平均分子量(Mw(Alow)),與重量平均分子量大的聚合物嵌段的重量平均分子量(Mw(Ahigh)),相對於丙烯酸系二嵌段共聚物(II)所含之聚合物嵌段C之重量平均分子量(Mw(C)),滿足以下關係:
Mw(Alow)×0.5≦Mw(C)≦Mw(Ahigh)×2。
本發明係:
(7)如前述(1)至(6)項中任一項之光學薄膜用黏著劑組成物,其中丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之聚合物嵌段C之重量平均分子量(Mw(C))為9,000~30,000。
本發明係:
(8)一種黏著型光學薄膜,其具有包含如前述(1)至(7)項中任一項之光學薄膜用黏著劑組成物之黏著劑層。
(9)一種光學薄膜用保護薄膜,其具有包含如前述(1)至(7)項中任一項之光學薄膜用黏著劑組成物之黏著劑層。
(10)一種影像顯示裝置,其係具備如前述(8)之黏著型光學薄膜及/或如前述(9)之光學薄膜用保護薄膜。
本發明之光學薄膜用黏著劑組成物,當貼合光學薄膜與被附著體時,於起始期具有能重做的適當接著力,而且當貼著後長期保持此狀態時,伴隨接著力上升顯示高度耐久性,因此可有效地使用在要求重做性與耐久性兩者的黏著型光學薄膜或光學薄膜用保護薄膜的製造。
又,本發明之光學薄膜用黏著劑組成物,具有習知化學交聯型光學薄膜用黏著劑中成為問題的優異保存安定性,當黏著型光學薄膜製造時殘留在黏著劑槽內的黏著劑可以此狀態長期間保存,或可回收再利用,不會因為乾燥步驟或保存條件(溫度、風量、線速、保存期間等)而產生交聯不均而造成製品黏著性能不齊一的現象,具有均勻且高性能的黏著特性。
再者,本發明之光學薄膜用黏著劑組成物,不需要化學交聯處理且顯示高度凝集力,因此能省略交聯步驟,生產性高。
並且,本發明之光學薄膜用黏著劑組成物,當溶於有機溶劑而成為溶液型黏著劑時,即使高濃度也顯示低度的溶液黏度,因此,能於減低有機溶劑使用量的狀態,製備比起以往的固體成分濃度更高的溶液型黏著劑(固體成分濃度為35質量%以上的溶液型黏著劑),塗布時之操作性或線速提升等製程性優異。藉由減低有機溶劑的使用量,能減少有機溶劑導致的作業環境惡化或環境污染的問題,並且可減少塗布後之溶劑除去步驟所需要之時間或熱能等,並藉由製成高固體成分濃度的溶液型黏著劑,可減少輸送成本、減少對於黏著劑槽的加料次數等,因而提高生產性。
再者,具有包含前述光學薄膜用黏著劑組成物的黏著劑層的黏著型光學薄膜或光學薄膜用保護薄膜,即使當貼合的光學薄膜或光學薄膜用保護薄膜因為溫度或濕度等環境變化而膨脹或收縮時,仍可藉由黏著劑使得光學薄膜或光學構件收到的應力緩和,而抑制翹曲或應力複折射發生,能抑制顯示品質隨時間而低落。
以下詳細說明本發明。
本發明之光學薄膜用黏著劑組成物,係指將在光學薄膜單面或兩面的一部分或全部形成黏著劑層而將光學薄膜貼附於其他被附著體時使用的黏著劑組成物,以及為了保護該光學薄膜的表面而將保護薄膜貼附於光學薄膜表面所使用的黏著劑組成物的總稱。
又,上述光學薄膜係指光學用途一般使用的各種薄膜,例如:偏光薄膜、偏光板、相位差薄膜、相位差板、視野角擴大薄膜、輝度提高薄膜、抗反射薄膜、防炫光薄膜、彩色濾光片、導光板、擴散薄膜、稜鏡片、電磁波遮蔽薄膜、近紅外線吸收薄膜、近紅外線反射薄膜、複合有多數光學機能之機能性複合光學薄膜等。
又,光學薄膜用保護薄膜,係指為了保護前述各種光學薄膜的表面,而貼附於該光學薄膜的薄膜。
本發明之光學薄膜用黏著劑組成物所含之丙烯酸系三嵌段共聚物(I),具備下列(E1)~(E4)的要件。
(E1)以下列通式(1)表示之丙烯酸系三嵌段共聚物:
A1-B-A2 (1)
(式(1)中,A1及A2各自獨立而表示玻璃轉移溫度為100℃以上之甲基丙烯酸烷酯聚合物嵌段,B表示玻璃轉移溫度為-20℃以下之丙烯酸烷酯聚合物嵌段)。
(E2)聚合物嵌段B之含量為5~45質量%。
(E3)重量平均分子量(Mw)為30,000~300,000。
(E4)分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5。
丙烯酸系三嵌段共聚物(I)中,2個聚合物嵌段A1及A2,均為包含甲基丙烯酸烷酯聚合物的玻璃轉移溫度為100℃以上的聚合物嵌段。
聚合物嵌段A1及A2的玻璃轉移溫度若為100℃以上,則於本發明之光學薄膜用黏著劑組成物(以下單純稱為「黏著劑組成物」。)之通常使用溫度,黏著劑組成物中所形成之微相分離構造中,此等聚合物嵌段會以拘束相(物理性的擬似交聯點)的一成分的形式作用,並由於展現凝集力而發揮優異的黏著特性及耐久性。
由對於耐久性、耐熱性、基材變形之追隨性、及適度應力緩和性的觀點等,上述聚合物嵌段A1及A2之玻璃轉移溫度,分別為100~200℃較佳,100~150℃更佳。
上述聚合物嵌段A1及A2可藉由聚合甲基丙烯酸烷酯而獲得。該甲基丙烯酸烷酯,例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸第三丁酯、甲基丙烯酸正己酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸正辛酯、甲基丙烯酸月桂酯、甲基丙烯酸十三酯、甲基丙烯酸硬脂酯及甲基丙烯酸異莰酯等。
從價格經濟且容易取得的觀點,獲得之聚合物嵌段A1及A2具有優異耐久性與耐候性的觀點等,在上述甲基丙烯酸烷酯之中又以甲基丙烯酸甲酯較佳。
聚合物嵌段A1及A2,可僅由1種甲基丙烯酸烷酯聚合而成,也可由2種以上聚合而成。又,聚合物嵌段A1及A2,其分子量、形成聚合物嵌段之單量組成等可以相同也可不同。
又,聚合物嵌段A1及A2,與聚合物嵌段B為非互溶性時,由形成物理性擬似交聯點的觀點為較佳。又,由更能展現基於此等聚合物嵌段A1及A2的物理性擬似交聯性能的觀點,聚合物嵌段A1及A2宜不具有異氰酸酯反應性官能基等有助於化學交聯的基團較佳。
丙烯酸系三嵌段共聚物(I)中,聚合物嵌段B係玻璃轉移溫度為-20℃以下之丙烯酸烷酯聚合物嵌段。
聚合物嵌段B之玻璃轉移溫度若為-20℃以下,則於黏著劑組成物之通常使用溫度,在黏著劑組成物中所形成之以聚合物嵌段B當做其一成分的微相分離構造中,會對於黏著劑組成物賦予柔軟性與透濕性,並且展現重做性。聚合物嵌段A1及A2,宜與聚合物嵌段B為非互溶。
聚合物嵌段B之玻璃轉移溫度,宜為-30℃以下,-40~-80℃更佳。
上述聚合物嵌段B可藉由聚合丙烯酸烷酯而獲得。該丙烯酸烷酯,例如:丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸第三丁酯、丙烯酸正己酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸正辛酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸十三酯及丙烯酸硬脂酯等。
從聚合物嵌段B之玻璃轉移溫度成為-20℃以下,且黏著劑組成物於低溫的接著力及黏性成為良好,而能抑制於高速剝離時之接著力上升及剝離聲響(zipping)現象的觀點,上述丙烯酸烷酯當中又以丙烯酸丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基己酯及丙烯酸正辛酯較佳。
從獲得之以聚合物嵌段B當做至少1成分之相與含有上述聚合物嵌段A1及A2當做其成分之相的相分離明瞭,且含有聚合物嵌段A1及A2做其成分之相所得之物理性擬似交聯不會潰散,可獲得凝集力高且耐久性優異黏著劑組成物之觀點,上述丙烯酸烷酯當中又以丙烯酸正丁酯及丙烯酸2-乙基己酯尤佳。
聚合物嵌段B,可僅由1種丙烯酸烷酯聚合而成,也可由2種以上聚合而成。
構成丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之聚合物嵌段A1、A2及B中,在不損及本發明效果之範圍(例如,聚合物嵌段中10質量%以下),也可含有其他單體單位。上述其他單體,例如:(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸環氧丙酯、(甲基)丙烯酸四氫呋喃酯等(甲基)丙烯酸烷酯以外之(甲基)丙烯酸酯;苯乙烯、α-甲基苯乙烯、對甲基苯乙烯等芳香族乙烯基系單體;丁二烯、異戊二烯等共軛二烯;乙烯、丙烯等烯烴等。
丙烯酸系三嵌段共聚物(I)中,上述聚合物嵌段B之含量為5~45質量%,20~45質量%較佳,30~43質量%更佳。
聚合物嵌段B之含量若為5~45質量%,則可對於本發明之黏著劑組成物賦予起始能重做的適當接著力,且隨著長期接著力的上升會有耐久性增高的特性。聚合物嵌段B之含量若小於5質量%,則黏著劑組成物的接著力或黏性會降低。另一方面,若超過45質量%,則耐久性降低。
丙烯酸系三嵌段共聚物(I)中,聚合物嵌段A1及A2之合計含量為95~55質量%,80~55質量%較佳,70~57質量%更佳。
丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之重量平均分子量(Mw),為30,000~300,000。若Mw小於30,000,則黏著劑組成物之凝集力變得不足,當以黏著劑組成物貼附光學薄膜與被附著體時,容易剝落、耐久性差。另一方面,若Mw超過300,000,則當丙烯酸系三嵌段共聚物(I)溶於有機溶劑時,溶液黏度會變高,因此塗布高濃度之丙烯酸系三嵌段共聚物(I)的溶液會變得困難。
從兼具耐久性及重做性的觀點,丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之Mw,宜以40,000~250,000較佳,50,000~200,000更佳。
丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5。丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之分子量分布(Mw/Mn)若超過1.5,則不能忽略低分子量成分的影響,會發生凝集力降低或重做時之殘膠等。
由使黏著劑組成物於高溫之凝集力提高,且耐久性更為優異的觀點,丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之分子量分布(Mw/Mn),宜以1.0~1.4較佳,1.0~1.3更佳,1.0~1.2又更佳。
在此,本說明書中,丙烯酸系三嵌段共聚物、以下記載的丙烯酸系二嵌段共聚物的重量平均分子量(Mw)、數量平均分子量(Mn)及分子量分布(Mw/Mn),係以後述實施例記載之方法所求得之值。
本發明之黏著劑組成物中所含之丙烯酸系三嵌段共聚物(I),只要可滿足上述要件(E1)~(E4)即可,可為單獨1種也可為2種以上之混合物。
構成上述丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之聚合物嵌段A1及A2之立體規則性,無特殊限制,但以對位性為65%以上較佳,70~95%更佳。聚合物嵌段A1及A2之對位性若為65%以上,則黏著劑組成物之耐久性會有變得良好的傾向。
本發明之黏著劑組成物中使用之丙烯酸系二嵌段共聚物(II),具備下列(F1)~(F4)之要件。
(F1)以下列通式(2)表示之丙烯酸系二嵌段共聚物
C-D (2)
(式(2)中,C表示甲基丙烯酸烷酯聚合物嵌段,D表示丙烯酸烷酯聚合物嵌段)。
(F2)聚合物嵌段D之含量為60~85質量%。
(F3)重量平均分子量(Mw)為30,000~300,000。
(F4)分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5。
丙烯酸系二嵌段共聚物(II)中,聚合物嵌段C係包含甲基丙烯酸烷酯聚合物之聚合物嵌段。上述聚合物嵌段C之玻璃轉移溫度宜為50℃以上,100℃以上更佳。
上述聚合物嵌段C,係藉由聚合甲基丙烯酸烷酯而獲得。該甲基丙烯酸烷酯,例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸第三丁酯、甲基丙烯酸正己酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸正辛酯、甲基丙烯酸月桂酯、甲基丙烯酸十三酯、甲基丙烯酸硬脂酯、及甲基丙烯酸異莰酯等。
從價格經濟且容易取得的觀點,獲得之聚合物嵌段A1及A2具有優異耐久性與耐候性之觀點等,上述甲基丙烯酸烷酯當中,又以甲基丙烯酸甲酯較佳。
聚合物嵌段C,可為僅將1種該等甲基丙烯酸烷酯聚合而成者,也可為由2種以上聚合而成者。
丙烯酸系二嵌段共聚物(II)中,聚合物嵌段D係包含丙烯酸烷酯聚合物的聚合物嵌段。上述聚合物嵌段D之玻璃轉移溫度為-20℃以下較佳。
上述聚合物嵌段D,係聚合丙烯酸烷酯而獲得。該丙烯酸烷酯,例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸第三丁酯、丙烯酸正己酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸正辛酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸十三酯、及丙烯酸硬脂酯等。
從聚合物嵌段D之玻璃轉移溫度成為-20℃以下,且黏著劑組成物於低溫之接著力及黏性成為良好,而可抑制於高速剝離時之接著力上升及剝離聲響現象之觀點,上述丙烯酸烷酯當中又以丙烯酸丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、及丙烯酸正辛酯較佳。
由以獲得之聚合物嵌段D當成至少1成分之相與含有上述聚合物嵌段C之相的相分離明瞭,且含有聚合物嵌段C當做其成分之相所得之物理性擬似交聯不潰散,可獲得凝集力高且耐久性優異之黏著劑組成物的觀點等,上述丙烯酸烷酯當中又以丙烯酸正丁酯及丙烯酸2-乙基己酯尤佳。
聚合物嵌段D,可藉由1種丙烯酸烷酯聚合而成,也可由2種以上聚合而成。
構成丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之聚合物嵌段C及D中,在不損及本發明效果之範圍(例如,聚合物嵌段中10質量%以下),也可含有其他單體單位。上述其他單體,例如與前述聚合物嵌段A1、A2及B可含有的單體為同樣者。
丙烯酸系二嵌段共聚物(II)中,聚合物嵌段D之含量為60~85質量%,70~80質量%較佳。
丙烯酸系二嵌段共聚物(II)中,聚合物嵌段D之含量若為60~85質量%,則與丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之互溶性增高,黏著劑組成物的透明性優異。若聚合物嵌段D之含量小於60質量%,則黏著劑組成物的接著力降低。另一方面,若聚合物嵌段D之含量超過85質量%,則成為擬似交聯點的相的至少1成分的聚合物嵌段C的含有比例會相對減少,因此凝集力減小,黏著劑組成物的耐久性差,而且與丙烯酸系三嵌段共聚物(I)的互溶性降低,有時得不到對於黏著劑為必要的透明性。
丙烯酸系二嵌段共聚物(II)中,聚合物嵌段C的含量為40~15質量%,30~20質量%較佳。
丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之重量平均分子量(Mw),為30,000~300,000。若Mw小於30,000,則黏著劑組成物的凝集力變得不足,當以黏著劑組成物貼附光學薄膜與被附著體時,容易剝落,且耐久性差。另一方面,若Mw超過300,000,則與丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之互溶性降低,由黏著劑組成物製作溶液型黏著劑時,會分成二層而無法均勻塗布,或即使能均勻塗布也會在乾燥過程中分離而透明性差。
從與丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之互溶性的觀點,丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之Mw為40,000~200,000較佳,40,000~120,000更佳。
丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5。丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之分子量分布(Mw/Mn)若超過1.5,則無法忽略低分子量成分的影響,會發生凝集力低落或重做時之殘膠等。
從提高黏著劑組成物之凝集力,且減低被附著體污染性(殘膠、低分子量成分之附著等)之觀點,丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.4較佳,1.0~1.3更佳,1.0~1.2又更佳。
本發明之黏著劑組成物中,丙烯酸系三嵌段共聚物(I)與丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之質量比,就(I)/(II)而言,為75/25~30/70,70/30~30/70較佳,65/35~35/65更佳,59/41~40/60又更佳。
丙烯酸系三嵌段共聚物(I)與丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之質量比,就(I)/(II)而言,為75/25~30/70時,含有此等共聚物之黏著劑組成物,與被附著體貼附具有起始時能重做的適當接著力,而且於貼附後藉由保持其狀態而接著力上升,若長時間保持在貼附狀態則具有高接著力,故顯示高度耐久性。
丙烯酸系三嵌段共聚物(I)與丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之質量比,就(I)/(II)而言,若比起30/70,(I)之含量較少時,則起始的接著力過低,光學薄膜與被附著體之貼附變得困難。又,就(I)/(II)而言,若(I)之含量比起75/25為多時,黏著劑組成物之凝集力降低,耐久性降低(例如,長期維持接著狀態變得困難)。
丙烯酸系三嵌段共聚物(I)所含之聚合物嵌段A1及聚合物嵌段A2與丙烯酸系二嵌段共聚物(II)所含之聚合物嵌段C的合計質量(X),以及丙烯酸系三嵌段共聚物(I)所含之聚合物嵌段B與丙烯酸系二嵌段共聚物(II)所含之聚合物嵌段D的合計質量(Y)之比(X)/(Y),為30/70~50/50,33/67~45/55較佳,35/65~43/57更佳,39/61~43/57又更佳。於質量比(X)/(Y),若(X)之含量比起30/70為少,則耐久性變得不足,若(X)之含量比起50/50為多,則起始接著力過低,有時無法接著,或者在接著後馬上剝落。
本發明之黏著劑組成物,具有適於在貼合後一段時間重做的適當接著力,若於貼合後保持此狀態,會隨時間經過而接著力上升,顯示高度耐久性。該特性,在僅包含丙烯酸系三嵌段共聚物的黏著劑組成物並未展現,而是藉由在黏著劑組成物中含有特定比例的丙烯酸系三嵌段共聚物(I)與丙烯酸系二嵌段共聚物(II)才會展現的特性。
本發明之黏著劑組成物使用之丙烯酸系三嵌段共聚物(I),其硬質成分的比例多,其單獨無黏著特性,而顯示如塑膠的特性。藉由在該丙烯酸系三嵌段共聚物(I)中以特定比例混合丙烯酸系二嵌段共聚物(II)並使互溶,會在起始時有適於重做的接著力,且於貼附後藉由長期間保持此狀態,接著力會隨時間上升,而展現優異的耐久性。
其理由雖不明確,但是據推測原因係:由於黏著劑組成物全體係屬硬質,起始的接著力可呈現適於重做之低位準的接著力,另一方面,當於貼合後長時間保持時,尤其在高溫狀態或濕熱狀態等環境下放置時,於被附著體與黏著劑之界面,丙烯酸系二嵌段共聚物(II)會被被附著體逐漸透濕,而密合性提高。
本發明之黏著劑組成物之接著力隨時間上升的程度,可因應使用黏著型光學薄膜製造顯示器等製品之條件(例如,將黏著型光學薄膜貼合於液晶晶胞後,於檢查時發現缺點到重做光學薄膜為止的溫度與時間)等而評價。例如,可就貼合後於23℃保存24小時後之接著力當做重做時接著力、以貼合後於90℃保存24小時後之接著力當做長時間保持後之接著力而進行評價。
重做時之接著力(例如,貼合後於23℃保存24小時後之接著力),為最低限度的黏著性,且從重做容易的觀點,以300mm/分的剝離速度沿180°的方向剝離的條件,為0.03N/25mm~1.0N/25mm之範圍較佳,0.09N/25mm~0.75N/25mm更佳,0.09N/25mm~0.5N/25mm又更佳,0.12N/25mm~0.3N/25mm尤佳。
又,長時間保持後之接著力(例如,貼合後於90℃保存24小時後之接著力),從耐久性之觀點,以300mm/分的剝離速度沿180°的方向剝離的條件,為1.1N/25mm以上較佳,1.6N/25mm以上更佳。
本發明之黏著型光學薄膜及光學薄膜用保護薄膜,其將90℃、24小時後之180°剝離接著力與23℃、24小時後之180°剝離接著力比較的以下列式(i)表示之接著力的變化率,較佳為200%以上,更佳為400%以上。
[(90℃、24小時後之180°剝離接著力)-(23℃、24小時後之180°剝離接著力)]÷(23℃、24小時後之180°剝離接著力)×100[%](i)
藉由具有如此的特性,使用本發明之光學薄膜用黏著劑組成物的黏著型光學薄膜及光學薄膜用保護薄膜,能成為當貼附於被附著體後長期保持此狀態時,尤其是暴露在高溫狀態或濕熱狀態時,接著耐久性更優異者。
本發明之黏著劑組成物中,丙烯酸系三嵌段共聚物(I)與丙烯酸系二嵌段共聚物(II)為互溶者,從能均勻塗布、可獲得高透明性之黏著劑層的觀點為較佳。
丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之聚合物嵌段A1之重量平均分子量(Mw(A1))或聚合物嵌段A2之重量平均分子量(Mw(A2)),與丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之聚合物嵌段C之重量平均分子量(Mw(C))接近時,丙烯酸系三嵌段共聚物(I)與丙烯酸系二嵌段共聚物(II)的互溶性會有增高的傾向。
因此,從黏著劑溶液均勻且形成之黏著劑層變得透明的觀點,丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之聚合物嵌段A1與聚合物嵌段A2當中,重量平均分子量小的聚合物嵌段的重量平均分子量(Mw(Alow)),與重量平均分子量大的聚合物嵌段的重量平均分子量(Mw(Ahigh)),相對於丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之聚合物嵌段C的重量平均分子量(Mw(C)),較佳為滿足Mw(Alow)×0.5≦Mw(C)≦Mw(Ahigh)×2的關係,更佳為滿足Mw(Alow)×0.8≦Mw(C)≦Mw(Ahigh)×1.2的關係,滿足Mw(Alow)≦Mw(C)≦Mw(Ahigh)之關係又更佳。
在此,各聚合物嵌段的重量平均分子量,就最初之聚合物嵌段而言,可從該聚合物嵌段之合成完成的階段的取樣液所含之聚合物的重量平均分子量求得。又,就持續逐次聚合的聚合物嵌段的重量平均分子量而言,可以最初之聚合物嵌段的重量平均分子量當做基準,從各聚合物嵌段的重量比(各聚合物嵌段之形成所消耗之單體的重量比)以比例計算算得。例如,為了形成最初之聚合物嵌段(以下稱為聚合物嵌段1)而加入的原料單體的重量定為W1、該聚合物嵌段1的重量平均分子量定為Mw1,為了形成持續逐次聚合之聚合物嵌段(以下稱為聚合物嵌段2)加入的原料單體的重量定為W2、聚合物嵌段2的重量平均分子量定為Mw2,為了形成更進一步逐次聚合之聚合物嵌段(以下稱為聚合物嵌段3)加入的原料單體的重量定為W3、聚合物嵌段3的重量平均分子量定為Mw3,以下式求取Mw2、Mw3。
為了形成Mw2=Mw1×W2×聚合物嵌段2而加入的單體的轉化率/(W1×為了形成聚合物嵌段1而加入的單體的轉化率)
為了形成Mw3=Mw1×W3×聚合物嵌段3而加入的單體的轉化率/(W1×為了形成聚合物嵌段1而加入的單體的轉化率)
丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之聚合物嵌段C的重量平均分子量(Mw(C)),從與丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之互溶性優異,且透明性高的觀點,為9,000~30,000較佳,15,000~25,000更佳。聚合物嵌段C的重量平均分子量(Mw(C))若小於9,000,則黏著劑組成物的耐久性有時會不足,而且若Mw(C)超過300,000,溶解於有機溶劑的溶液型黏著劑的黏度變高,變得無法以高濃度含有丙烯酸系三嵌段共聚物(I)及丙烯酸系二嵌段共聚物(II)的條件塗布,溶劑使用量會增多。
本發明之黏著劑組成物中,丙烯酸系三嵌段共聚物(I)及丙烯酸系二嵌段共聚物(II)合計含量,依據黏著劑組成物的固體成分的質量(黏著劑組成物所含總固體成分的合計質量),為75質量%以上較佳,80質量%以上更佳。
丙烯酸系三嵌段共聚物(I)及丙烯酸系二嵌段共聚物(II)的合計含量,依據黏著劑組成物的固體成分的質量,若小於75質量%,則有凝集力降低,且黏著劑組成物的耐久性降低(例如,長期接著狀態的維持變得困難)的傾向。
本發明之黏著劑組成物,由於形成物理性擬似交聯,因此展現凝集力,而發揮優異的黏著特性及耐久性。該物理性擬似交聯,係來自於由丙烯酸系三嵌段共聚物(I)及丙烯酸系二嵌段共聚物(II)形成的微相分離構造,以丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之聚合物嵌段A1與A2、及丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之聚合物嵌段C當做主體而形成的硬質聚合物相,貢獻於此物理性擬似交聯。
又,本發明之黏著劑組成物具有優異的柔軟性與透濕性,此特性係由以丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之聚合物嵌段B、及丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之聚合物嵌段D當做主體而形成的軟質聚合物相所貢獻。
上述微相分離構造,通常因應於各聚合物嵌段之質量比、體積比率、聚合度等,而形成球構造、柱體構造、共連續構造、堆疊構造等。
又,本發明中,共連續構造係指在基質相中存在有球狀相的球構造、在基質相中存在有棒狀相的柱體構造、2種以上之相彼此重疊的的堆疊構造以外的構造,且典型上例如五角二十四面體(gyroid)構造、PL(多孔堆疊)構造等。
又,上述硬質聚合物相及軟質聚合物相的各個結構域,視各聚合物嵌段的質量比、體積比率、聚合度等,有時會以1種聚合物嵌段形成,有時會以多種聚合物嵌段形成。
硬質聚合物相若連續,則耐久性增高,而且若軟質聚合物相連續,可展現適當的起始接著力,因此,硬質聚合物相與軟質聚合物相一起形成連續構造的微相分離構造較佳。
本發明之硬質聚合物相與軟質聚合物相一起形成連續構造的微相分離構造,例如在由軟質聚合物構成的基質相中存在有由硬質聚合物構成的長而連續的棒狀相(例如,棒狀相的長度為500nm以上,更佳為1μm以上)的柱體構造、富含軟質聚合物成分的共連續構造、堆疊構造、富含硬質聚合物成分的共連續構造、在由硬質聚合物構成的基質相中存在有由軟質聚合物構成的長而連續的棒狀相(例如棒狀相之長度為500nm以上,更佳為1μm以上)的柱體構造。
其中,由接著力隨時間上升,且兼具重做性與耐久性的觀點,於由軟質聚合物構成的基質相中存在有由硬質聚合物構成的長而連續的棒狀相的柱體構造、及富含軟質聚合物成分的共連續構造較佳。
本發明之黏著劑組成物使用的丙烯酸系三嵌段共聚物(I)及丙烯酸系二嵌段共聚物(II)的製造方法,只要可獲得滿足上述各要件的共聚物,即無特殊限制,可採用依據公知的手法的方法。一般而言,獲得分子量分布窄的嵌段共聚物的方法,係採用將為構成單位之單體進行活性聚合的方法。如此的活性聚合的手法,例如:以有機稀土類金屬錯合物當做聚合起始劑進行聚合的方法(參照專利文獻5)、以有機鹼金屬化合物當做聚合起始劑,於鹼金屬或鹼土類金屬之鹽等無機酸鹽存在下進行陰離子聚合的方法(參照專利文獻6)、以有機鹼金屬化合物當做聚合起始劑並於有機鋁化合物存在下進行陰離子聚合的方法(參照專利文獻7)、原子移動自由基聚合方法(ATRP)(參照非專利文獻1)等。
上述製造方法當中,採用於有機鋁化合物存在下進行陰離子聚合之方法時,由於聚合中途的失活少,混入的失活成分均聚物少,其結果獲得之黏著劑組成物的透明性高。又,由於單體的轉化率高,故製品中的殘存單體少,當做黏著劑組成物使用時,可抑制貼合後產生氣泡。再者,甲基丙烯酸烷酯聚合物嵌段的分子構造成為高對位性,當使用於黏著劑組成物時可獲得提高耐久性的效果。並且,可於較溫和的溫度條件下進行活性聚合,因此以工業化生產時,有環境負荷低的優點(主要是用於控制聚合溫度的冷凍機所需的耗電)。由以上觀點,丙烯酸系三嵌段共聚物(I)及丙烯酸系二嵌段共聚物(II),宜以於有機鋁化合物存在下進行陰離子聚合的方法製造。
於上述有機鋁化合物存在下進行陰離子聚合的方法,例如可採用以下方法:於有機鋰化合物、及下列通式(3)
AlR1
R2
R3
(3)
(式中,R1
、R2
及R3
各自獨立而代表也可具有取代基之烷基、也可具有取代基之環烷基、也可具有取代基之芳基、也可具有取代基之芳烷基、也可具有取代基之烷氧基、也可具有取代基之芳氧基或N,N-二取代胺基,或R1
為前述任一基,R2
及R3
成為一體而形成也可具有取代基之伸芳基二氧基)。
表示之有機鋁化合物存在下,視需要於反應系內再添加二甲醚、二甲氧基乙烷、二乙氧基乙烷、12-冠-4等醚化合物;三乙胺、N,N,N’,N’-四甲基乙二胺、N,N,N’,N”,N”-五甲基二乙三胺、1,1,4,7,10,10-六甲基三乙四胺、吡啶、2,2’-聯吡啶等含氮化合物,使(甲基)丙烯酸烷酯聚合。
有機鋰化合物,例如:甲基鋰、乙基鋰、正丙基鋰、異丙基鋰、正丁基鋰、第二丁基鋰、異丁基鋰、第三丁基鋰、正戊基鋰、正己基鋰、四亞甲基二鋰、五亞甲基二鋰、六亞甲基二鋰等烷基鋰及烷基二鋰;苯基鋰、間甲苯基鋰、對甲苯基鋰、二甲苯基鋰、鋰萘等芳基鋰及芳基二鋰;苄基鋰、二苯基甲基鋰、三苯甲基鋰、1,1-二苯基-3-甲基戊基鋰、α-甲基苯乙烯基鋰、由二異丙烯基苯與丁基鋰之反應而生成之二鋰等芳烷基鋰及芳烷基二鋰;二甲基醯胺鋰、二乙基醯胺鋰、二異丙基醯胺鋰等醯胺鋰;甲氧基鋰、乙氧基鋰、正丙氧基鋰、異丙氧基鋰、正丁氧基鋰、第二丁氧基鋰、第三丁氧基鋰、戊氧基鋰、己氧基鋰、庚氧基鋰、辛氧基鋰、苄氧基鋰、4-甲基苄氧基鋰等烷氧基鋰。此等可單獨使用,也可併用2種以上。
以通式(3)表示之有機鋁化合物,例如:三甲基鋁、三乙基鋁、三正丁基鋁、三第二丁基鋁、三第三丁基鋁、三異丁基鋁、三正己基鋁、三正辛基鋁、三2-乙基己基鋁等三烷基鋁;二甲基(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯氧基)鋁、二甲基(2,6-二-第三丁基苯氧基)鋁、二乙基(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯氧基)鋁、二乙基(2,6-二-第三丁基苯氧基)鋁、二異丁基(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯氧基)鋁、二異丁基(2,6-二-第三丁基苯氧基)鋁、二正辛基(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯氧基)鋁、二正辛基(2,6-二-第三丁基苯氧基)鋁等二烷基苯氧基鋁;甲基雙(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯氧基)鋁、甲基雙(2,6-二-第三丁基苯氧基)鋁、乙基[2,2’-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯氧基)]鋁、乙基雙(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯氧基)鋁、乙基雙(2,6-二-第三丁基苯氧基)鋁、乙基[2,2’-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯氧基)]鋁、異丁基雙(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯氧基)鋁、異丁基雙(2,6-二-第三丁基苯氧基)鋁、異丁基[2,2’-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯氧基)]鋁、正辛基雙(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯氧基)鋁、正辛基雙(2,6-二-第三丁基苯氧基)鋁、正辛基[2,2’-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯氧基)]鋁等烷基二苯氧基鋁;甲氧基雙(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯氧基)鋁、甲氧基雙(2,6-二-第三丁基苯氧基)鋁、甲氧基[2,2’-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯氧基)]鋁、乙氧基雙(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯氧基)鋁、乙氧基雙(2,6-二-第三丁基苯氧基)鋁、乙氧基[2,2’-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯氧基)]鋁、異丙氧基雙(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯氧基)鋁、異丙氧基雙(2,6-二-第三丁基苯氧基)鋁、異丙氧基[2,2’-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯氧基)]鋁、第三丁氧基雙(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯氧基)鋁、第三丁氧基雙(2,6-二-第三丁基苯氧基)鋁、第三丁氧基[2,2’-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯氧基)]鋁等烷氧基二苯氧基鋁;參(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯氧基)鋁、參(2,6-二苯基苯氧基)鋁等三苯氧基鋁等。此等之中又以異丁基雙(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯氧基)鋁、異丁基雙(2,6-二-第三丁基苯氧基)鋁、異丁基[2,2’-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯氧基)]鋁等,於操作容易且可在較溫和的溫度條件下,不失活而進行(甲基)丙烯酸烷酯之聚合之觀點,為尤佳。此等可以單獨使用,也可併用2種以上。
本發明之黏著劑組成物,視需要也可含有黏著賦予樹脂、可塑劑、異氰酸酯化合物、抗靜電劑、及矽烷偶聯劑等其他成分。
本發明之黏著劑組成物中若含有黏著賦予樹脂,則調整黏性、接著力及保持力會變得容易。
上述黏著賦予樹脂,可使用黏著劑以往使用的黏著賦予樹脂當中任一者,例如松香系樹脂、萜烯系樹脂等天然樹脂;石油樹脂、香豆酮-茚系樹脂、苯酚系樹脂、二甲苯樹脂、苯乙烯系樹脂等之合成樹脂等。其中,由與黏著劑組成物之互溶性高、可成為透明黏著劑組成物的觀點,使用氫化萜烯樹脂、萜烯酚等萜烯系樹脂;氫化松香酯、不均化松香酯、聚合松香等松香系樹脂;C5/C9系石油樹脂、芳香族系石油樹脂等石油樹脂;α-甲基苯乙烯聚合物、苯乙烯/α-甲基苯乙烯共聚物等苯乙烯系樹脂等較佳。黏著賦予樹脂,可單獨使用,也可併用2種以上。
又,黏著賦予樹脂之軟化點,由可展現高度接著力的觀點,為50℃~150℃較佳。
本發明之黏著劑組成物含有黏著賦予樹脂時,其含量可因應被附著體之種類等適當選擇,但依據黏著劑組成物所含總固體成分之合計質量,為25質量%以下較佳,20質量%以下更佳,10質量%以下又更佳。黏著賦予樹脂之含量若超過25質量%,則黏著劑組成物之凝集力降低,重做時容易發生殘膠。
上述塑化劑,例如:鄰苯二甲酸二丁酯、鄰苯二甲酸正辛酯、鄰苯二甲酸雙2-乙基己酯、鄰苯二甲酸二正癸酯、鄰苯二甲酸二異癸酯等鄰苯二甲酸酯;己二酸雙2-乙基己酯、己二酸正辛酯等己二酸酯;癸二酸雙2-乙基己酯、癸二酸二正丁酯等癸二酸酯;壬二酸雙2-乙基己酯等壬二酸酯等脂肪酸酯;氯化石蠟等石蠟;環氧化大豆油、環氧化亞麻仁油等環氧系高分子塑化劑;磷酸三辛酯、磷酸三苯酯等磷酸酯;亞磷酸三苯酯等亞磷酸酯;聚(甲基)丙烯酸正丁酯、聚(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等丙烯酸系寡聚物;聚丁烯;聚異丁烯;聚異戊二烯;加工油;環烷烴系油;聚酯多元醇、聚醚多元醇等多元醇化合物;聚乙二醇、聚丙二醇等聚烯烴基二醇等。塑化劑可單獨使用,或併用2種以上亦可。
本發明之黏著劑組成物含有塑化劑時,塑化劑之含量,依據黏著劑組成物所含之總固體成分之合計質量,為25質量%以下較佳,10質量%以下更佳。塑化劑之配合量若超過25質量%,則凝集力降低,重做時容易發生殘膠等不良現象。
本發明之黏著劑組成物中若含有異氰酸酯化合物,則與光學薄膜基材等之被附著體的密合性提高,耐久性也提高。
本發明之光學薄膜用黏著劑組成物中若含有異氰酸酯化合物,則於光學薄膜基材等被附著體與黏著劑組成物的界面,被附著體側之官能基與黏著劑組成物所含之異氰酸酯化合物可形成化學鍵結,能提高對於被附著體之接著力,並展現更高的耐久性。
亦即,於光學薄膜或光學薄膜用保護薄膜之表面,存在如羧基、羥基、硫醇基、胺基、醯胺基等異氰酸酯反應性官能基,因此黏著劑組成物中的異氰酸酯化合物會與光學薄膜或光學薄膜用保護薄膜的表面反應,而具有提高光學薄膜或光學薄膜用保護薄膜與黏著劑組成物之界面接著力的作用。
異氰酸酯化合物,為分子內具有1個或2個以上異氰酸酯基之化合物,由增高光學薄膜基材等被附著體與黏著劑組成物之界面接著性的觀點,為具有2個以上異氰酸酯基之異氰酸酯化合物較佳,分子內具有3個以上異氰酸酯基之異氰酸酯化合物更佳。
上述異氰酸酯化合物,例如:脂肪族異氰酸酯化合物、脂環族異氰酸酯化合物、芳香族異氰酸酯化合物、前述異氰酸酯化合物(尤其是聚異氰酸酯化合物)對於多元醇之加成物、及異氰脲酸酯加成物等。
上述異氰酸酯化合物之具體例,例如:伸丁基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等脂肪族二異氰酸酯化合物;環伸戊基二異氰酸酯、環伸己基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯等脂環族二異氰酸酯化合物;2,4-伸甲苯二異氰酸酯、4,4’-二苯基甲烷二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯等芳香族二異氰酸酯化合物;三羥甲基丙烷/伸甲苯二異氰酸酯3聚體加成物、三羥甲基丙烷/六亞甲基二異氰酸酯3聚體加成物等在多元醇加成二異氰酸酯化合物的聚異氰酸酯化合物;六亞甲基二異氰酸酯之異氰脲酸酯體等異氰酸酯加成物等。
上述異氰酸酯化合物當中,三羥甲基丙烷/伸甲苯二異氰酸酯3聚體加成物,係以『CORONATE L』的商品名,三羥甲基丙烷/六亞甲基二異氰酸酯3聚體加成物,係以『CORONATE HL』的商品名,伸甲苯二異氰酸酯之異氰脲酸酯體,係以『CORONATE 2030』或『CORONATE 2233』的商品名,又,六亞甲基二異氰酸酯之異氰脲酸酯體,係以『CORONATE HX』的商品名,均由日本polyurethane工業股份有限公司所販賣。此等異氰酸酯化合物可以單獨使用或併用2種以上亦可。
本發明之黏著劑組成物中,含有異氰酸酯化合物時,就其含量而言,異氰酸酯化合物中之異氰酸酯基含量依據黏著劑組成物之固體成分之質量(黏著劑組成物所含之固體成分之合計質量),為0.5質量%以下較佳,0.35質量%以下更佳,0.22質量%以下又更佳。
在此,依據黏著劑組成物之固體成分之質量,異氰酸酯化合物中的異氰酸酯基含量可由以下數式<1)>得。
CNCO(質量%)=[{Wiso×n(42/Miso))/Ws]×10<1)
[式中,CNCO,代表依據黏著劑組成物之固體成分之質量的異氰酸酯化合物中的異氰酸酯基含量(質量%)、Wiso代表黏著劑組成物中之異氰酸酯化合物之量(質量)、Miso代表異氰酸酯化合物之分子量、n代表異氰酸酯化合物中的異氰酸酯基的數、Ws代表黏著劑組成物中之固體成分之含量(質量)]。
為了提高上述異氰酸酯化合物的反應性,也可進一步併用反應觸媒。上述反應觸媒,例如胺系觸媒、DBU(1,8-二氮雜雙環[5.4.0]十一烯-7)、及金屬系觸媒等。反應觸媒之具體例,例如:四甲基丁二胺、1,4-二氮雜雙環[2.2.2]辛烷、二月桂酸二丁基錫、辛酸錫、N-乙基味啉、三乙基胺、N,N,N’,N’-四甲基-1,3-丁二胺、三乙二胺、環烷酸鈷、氯化錫(II)、四正丁基錫、氯化錫(IV)、氫氧化三甲基錫、二甲基2氯化錫、及二月桂酸二正丁基錫等。此等反應觸媒可單獨使用,或併用2種以上亦可。
本發明之黏著劑組成物中若含有抗靜電劑,則可對於黏著劑組成物賦予抗靜電能力。
上述抗靜電劑,例如:包含鹼金屬鹽的離子傳導劑、離子液體、界面活性劑、導電性聚合物、金屬氧化物、碳黑、奈米碳材料等。此等抗靜電劑當中,由永久帶電性、無著色的觀點,又以包含鹼金屬鹽的離子傳導劑及離子液體較佳。此等抗靜電劑可單獨使用,也可併用2種以上。
本發明之黏著劑組成物含有抗靜電劑時,其含量由抗靜電效果等觀點,基於黏著劑組成物之固體成分之質量,為0.1~10質量%較佳,0.15~8質量%更佳,0.2~6質量%又更佳。
本發明之黏著劑組成物中若含有矽烷偶聯劑,則可提高於高濕度下時與玻璃的接著性。矽烷偶聯劑,通常具有甲氧基或乙氧基等烷氧基,將該烷氧基水解成為矽醇基,部分縮合後,吸附在玻璃表面或以氫鍵或化學鍵結固定,會提高耐久性。
上述矽烷偶聯劑,例如:3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧丙基三乙氧基矽烷、3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、3-乙醯乙酸酯丙基三甲氧基矽烷等。此等矽烷偶聯劑可單獨使用,或也可併用2種以上。
本發明之黏著劑組成物含有矽烷偶聯劑時,矽烷偶聯劑之含量由提高耐久可靠性及接著可靠性的觀點,依據黏著劑組成物之固體成分之質量,為0.01~3質量%較佳,0.1~1質量%更佳。
本發明之黏著劑組成物中可含有之其他成分,例如:用於進一步提高耐候性、耐熱性、耐氧化性的抗氧化劑或紫外線吸收劑;碳酸鈣、氧化鈦、雲母、滑石等充填劑;玻璃纖維、補強用纖維;光擴散劑、近紅外線吸收劑、著色劑等。
本發明之黏著劑組成物,含有黏著賦予樹脂、塑化劑、交聯劑、抗靜電劑、矽烷偶聯劑、其他成分時,該成分之合計含量,依據黏著劑組成物所含總固體成分之合計質量,為25質量%以下較佳,20質量%以下更佳,10質量%以下又更佳。
本發明之光學薄膜用黏著劑組成物,可當做溶液型黏著劑使用,也可當做固體黏著劑使用。溶液型黏著劑,例如可藉由使黏著劑組成物於較低溫(通常約0~70℃之溫度)溶解於甲苯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲乙酮等有機溶劑而製備。又,固體黏著劑,可藉由將黏著劑組成物使用捏合機(kneader ruder)、擠壓機、混合輥、班伯里混合機等公知的混練裝置,於通常100℃~250℃的溫度混合而製備。
本發明之黏著劑組成物,宜以溶液型黏著劑的形式使用,能不生基材或被附著體的變形或變質、配向、殘留應力等,而在基材等被附著體上不必高溫加熱而生成薄且厚度均勻的黏著劑層。
尤其,本發明之黏著劑組成物,當溶於有機溶劑時,即使固體成分濃度高(例如,35質量%以上)仍顯示低的溶液黏度。例如,當本發明之黏著劑組成物溶於甲苯而成為固體成分濃度45質量%的高濃度溶液時,以B型黏度計測定到的於25℃的溶液黏度,通常為1000~4000mPa‧s的範圍,較佳為1500~3500mPa‧s的範圍,更佳為2000~3500mPa‧s的範圍。因此,本發明之黏著劑組成物,即使減低有機溶劑的使用量,能獲得比以往的固體成分濃度更高的溶液型黏著劑(固體成分濃度為35質量%以上)。塗布時的操作性或製程性(乾燥負荷減低、塗布速度提升、省略熟成步驟等)優異。
本發明之黏著劑組成物,由於在黏著製品的製造步驟中可省略習知的交聯型丙烯酸系黏著劑所必要的化學交聯反應步驟,故生產性提高。而且,本發明之黏著劑組成物製成溶液型黏著劑時的保存安定性優異,例如當製造黏著型光學薄膜時,可以在黏著劑槽內將含黏著劑組成物的溶液型黏著劑以原狀態長期間保存,或回收再利用。
另一方面,習知的交聯型丙烯酸基黏著劑,係以主劑與交聯劑的2液系黏著劑為主流,該黏著劑於2液混合後即使在室溫也會進行交聯反應,故若混合後不迅速使用,黏著物性或塗布特性會改變。
再者,習知的交聯型丙烯酸系黏著劑,由於上述交聯反應在乾燥步驟或製品保存當中會進行,因此會因應乾燥條件(溫度、風量、線速等)或保存條件(保存期間、溫度等)發生交聯不均,造成製品的黏著性能不均勻的不良現象,但是本發明之黏著劑組成物不會發生如此的不良現象。
本發明之黏著型光學薄膜或光學薄膜保護用薄膜,可藉由在光學薄膜基材或保護薄膜基材的單面或雙面的一部分或全部,不進行化學交聯而形成由本發明之黏著劑組成物構成的至少一層黏著層而製造。上述黏著型光學薄膜或光學薄膜用保護薄膜,例如可藉由以下方法製造:(i)在上述光學薄膜基材或光學薄膜用保護薄膜基材塗布本發明之黏著劑組成物之方法、(ii)在預先經離型處理的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜等離型薄膜,塗布本發明之黏著劑組成物,並將其重疊於光學薄膜基材或光學薄膜用保護薄膜基材而將黏著層轉印在光學薄膜基材或光學薄膜用保護薄膜基材上之方法等。
光學薄膜基材一般係由塑膠材料製造,如此的塑膠材料,例如:聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、三乙醯基纖維素(TAC)、聚乙烯醇(PVA)、聚碳酸酯、環烯烴系樹脂、苯乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚合樹脂(MS樹脂)、丙烯酸樹脂、及紫外線硬化性丙烯酸樹脂等。
此等塑膠材料,可視光學薄膜的機能而區別使用。例如,當使用為偏光板時,一般使用在吸附有二色性色素(主要為碘)而配向的PVA薄膜的兩側,就提高薄膜強度且抑制於高溫.濕熱環境下的伸縮等的目的,貼合有具有保護薄膜的作用的TAC薄膜的複層薄膜等。又,當做賦予有相位差機能的偏光板使用時,係使用在保護薄膜TAC上塗覆有圓盤狀液晶的複層薄膜、替代保護薄膜TAC而使用將聚碳酸酯或環烯烴系樹脂等延伸獲得之相位差薄膜貼合在PVA薄膜而成的積層薄膜等。再者,當做稜鏡片使用時,例如,係使用在PET薄膜上以光硬化性丙烯酸樹脂等形成有稜鏡的薄膜等,當做擴散板使用時,係使用由MS樹脂或聚碳酸酯等製造的薄膜。又,當做擴散薄膜使用時,例如係使用在PET薄膜或聚碳酸酯薄膜之上塗覆有顆粒層的薄膜,或在PET薄膜或聚碳酸酯薄膜施有表面加工的薄膜、或薄膜中含有內部擴散劑的薄膜等。又,當做導光板使用時,係使用對於由丙烯酸樹脂製造的板(薄膜)表面進行特殊的加工,並視情形在該板下側疊層由PET薄膜製作的反射片而成的薄膜。
又,光學薄膜用保護薄膜基材可使用之塑膠材料,例如:聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚丙烯(PP)、高密度聚乙烯(HDPE)、低密度聚乙烯(LDPE)、直鏈低密度聚乙烯(LLDPE)等聚乙烯(PE)、聚氯乙烯(PVC)、及乙烯‧乙酸乙烯酯共聚物(EVA)等。包含此等塑膠材料的薄膜,可為單層也可為複層。
包含本發明之黏著劑組成物的具有黏著劑層的黏著型光學薄膜及光學薄膜用保護薄膜,適於用在液晶顯示裝置、電漿顯示器面板(PDP)、有機電致顯示裝置、電子紙等各種影像顯示裝置。
使用本發明之黏著劑組成物製造的黏著型光學薄膜及光學薄膜用保護薄膜,不需進行使用交聯型丙烯酸基黏著劑時所必要的退火或熟成,可以直接以液晶面板或可貼附於其他被附著體的製品的形式出貨,生產性優異。
影像顯示裝置,一般係包含前述多數光學薄膜的積層體。在將光學薄膜貼合於玻璃基板等、或貼合不同種類的光學薄膜時使用的黏著劑,理想上為能追隨光學薄膜與玻璃基板之間的熱膨脹率(伴隨溫度上升的尺寸變化)的差異、或不同種類的光學薄膜間的熱膨脹率的差異而接著。
以下,以實施例等具體說明本發明,但本發明不限於此等實施例。
首先,記載實施例及比較例使用之丙烯酸系三嵌段共聚物(I)[丙烯酸系三嵌段共聚物(I-1)~(I-2)]、及丙烯酸系三嵌段共聚物(I-3)~(I-4),以及丙烯酸系二嵌段共聚物(II)[丙烯酸系二嵌段共聚物(II-1)~(II-2)]及丙烯酸系二嵌段共聚物(II-3)~(II-5)之合成例。
以下之合成例中,係使用依常法乾燥精製的藥品製造各嵌段共聚物。
以下之合成例中合成的嵌段共聚物的分子量、分子量分布、組成、各聚合物嵌段之玻璃轉移溫度、聚合轉化率的測定,係依照以下方法進行。
(1)利用凝膠滲透層析(GPC)測定數量平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)、分子量分布(Mw/Mn):
‧裝置:東曹公司製凝膠滲透層析儀(HLC-8020)
‧管柱:將東曹公司製「TSKgel GMHXL、G4000HXL」及「G5000HXL」串接
‧ 洗提劑:四氫呋喃
‧ 洗提劑流量:1.0ml/分
‧ 管柱溫度:40℃
‧ 檢測方法:差示折射率(RI)
‧ 檢量線:使用標準聚苯乙烯製作
(2)利用質子核磁共振(1
H-NMR)分光法測定各共聚合成分的含量:
‧ 裝置:日本電子股份有限公司製核磁共振裝置(JNM-LA400)
‧ 溶劑:重氯仿
‧ 1
H-NMR波譜中,3.6ppm及4.0ppm附近的信號,係分別歸屬於甲基丙烯酸甲酯單位之酯基(-O-CH3
)及丙烯酸正丁酯單位之酯基-O-CH2
-CH2
-CH2
-CH3
),依其積分值之比值求取共聚合成分的含量。
(3)玻璃轉移溫度(Tg)之測定:
於以差示掃描熱量測定(DSC測定)獲得之曲線中,以外插開始溫度(Tgi)當做玻璃轉移溫度(Tg)。
‧ 裝置:Mettler公司製DSC-822
‧ 條件:升溫速度10℃/分
(4)以氣體層析(GC)測定加入單體的轉化率:
‧ 設備:島津製作所製氣體層析儀GC-14A
‧ 管柱:GL Sciences Inc.製「INERT CAP 1」(df=0.4μm、0.25mmI.D.×60m)
‧ 分析條件:注射口300℃、檢測器300℃、60℃(保持0分鐘)→以5℃/分升溫→100℃(保持0分鐘)→以15℃/分升溫→300℃(保持2分鐘)
(1)將2L的三口燒瓶內部以氮氣取代後,於室溫加入甲苯870g、1,2-二甲氧基乙烷44g,然後加入含有異丁基雙(2,6-二第三丁基-4-甲基苯氧基)鋁26.7mmol的甲苯溶液39.8g,再加入含有第二丁基鋰3.81mmol的環己烷與正己烷的混合溶液2.20g。然後,於該混合液中加入甲基丙烯酸甲酯36.2g。反應液起初呈黃色,但於室溫攪拌60分鐘後變成無色。此時的甲基丙烯酸甲酯的轉化率為99.9%以上。然後,將反應液的內部溫度冷卻至-30℃,花費2小時滴加丙烯酸正丁酯120.1g,滴加結束後,於-30℃攪拌5分鐘。此時的丙烯酸正丁酯的轉化率為99.9%以上。又,於其中加入甲基丙烯酸甲酯123.0g,於室溫攪拌一晚後,添加甲醇3.50g並停止聚合反應。此時的甲基丙烯酸甲酯的轉化率為99.9%以上。將獲得的反應液注入15kg的甲醇中,使白色沉澱物析出。利用過濾回收白色沉澱物,並使乾燥,藉此獲得嵌段共聚物[以下將其稱為「丙烯酸系三嵌段共聚物(I-1)」]279g。
(2)對於上述(1)獲得之丙烯酸系三嵌段共聚物(I-1),進行1
H-NMR測定與GPC測定,結果係包含聚甲基丙烯酸甲酯-聚丙烯酸正丁酯-聚甲基丙烯酸甲酯的三嵌段共聚物,重量平均分子量(Mw)為70,300、數量平均分子量(Mn)為62,600,分子量分布(Mw/Mn)為1.12。又,丙烯酸系三嵌段共聚物(I-1)中的各聚合物嵌段的含量,甲基丙烯酸甲酯聚合物嵌段(2個聚合物嵌段A的合計)為57.3質量%,丙烯酸正丁酯聚合物嵌段(聚合物嵌段B)為42.7質量%。又,進行於最初的甲基丙烯酸甲酯之聚合完成的時點取樣的反應液的GPC測定,結果甲基丙烯酸甲酯聚合物嵌段的重量平均分子量(Mw)為9,800、數量平均分子量(Mn)為9,500,分子量分布(Mw/Mn)為1.03。又,求取上述獲得之丙烯酸系三嵌段共聚物(I-1)的各聚合物嵌段之玻璃轉移溫度的結果,如表1所示。
(1)將2L三口燒瓶的內部以氮氣取代後,於室溫加入甲苯870g、1,2-二甲氧基乙烷44g,再加入含有異丁基雙(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯氧基)鋁25.5mmol的甲苯溶液38.1g,並加入含有第二丁基鋰1.70mmol的環己烷與正己烷的混合溶液0.98g。然後,於該混合液中加入甲基丙烯酸甲酯28.9g。反應液起初呈黃色,但於室溫攪拌60分鐘後變成無色。此時的甲基丙烯酸甲酯的轉化率為99.9%以上。然後,將反應液的內部溫度冷卻至-30℃,並花費2小時滴加丙烯酸正丁酯87.6g,滴下結束後,於-30℃攪拌5分鐘。此時的丙烯酸正丁酯的轉化率為99.9%以上。再者,於其中加入甲基丙烯酸甲酯78.1g,於室溫攪拌一晚後,添加甲醇3.50g而使聚合反應停止。此時的甲基丙烯酸甲酯的轉化率為99.9%以上。將獲得的反應液注入15kg的甲醇中,使白色沉澱物析出。以過濾回收白色沉澱物並使乾燥,獲得嵌段共聚物[以下將其稱為「丙烯酸系三嵌段共聚物(I-2)」]194g。
(2)對於上述(1)獲得之丙烯酸系三嵌段共聚物(I-2),進行1
H-NMR測定與GPC測定,結果係為包含聚甲基丙烯酸甲酯-聚丙烯酸正丁酯-聚甲基丙烯酸甲酯的三嵌段共聚物,重量平均分子量(Mw)為121,000、數量平均分子量(Mn)為97,700,分子量分布(Mw/Mn)為1.24。又,丙烯酸系三嵌段共聚物(I-2)中,各聚合物嵌段之含量,甲基丙烯酸甲酯聚合物嵌段(2個聚合物嵌段A的合計)為55.5質量%,丙烯酸正丁酯聚合物嵌段(聚合物嵌段B)為44.5質量%。又,於最初的甲基丙烯酸甲酯之聚合完成的時點,進行取樣的反應液的GPC測定,結果甲基丙烯酸甲酯聚合物嵌段的重量平均分子量(Mw)為18,000、數量平均分子量(Mn)為17,000,分子量分布(Mw/Mn)為1.06。又,求取上述獲得的丙烯酸系三嵌段共聚物(I-2)的各聚合物嵌段之玻璃轉移溫度的結果,如表1所示。
(1)將2L三口燒瓶的內部以氮氣取代後,於室溫加入甲苯870g、1,2-二甲氧基乙烷44g,然後加入含有異丁基雙(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯氧基)鋁29.2mmol的甲苯溶液43.5g,再加入含有第二丁基鋰4.62mmol的環己烷與正己烷的混合溶液2.67g。然後,於此混合液中加入甲基丙烯酸甲酯36.2g。反應液起初呈黃色,但於室溫攪拌60分鐘後變成無色。此時的甲基丙烯酸甲酯的轉化率為99.9%以上。然後,將反應液的內部溫度冷卻至-30℃,花費2小時滴加丙烯酸正丁酯229.1g,滴加結束後,於-30℃攪拌5分鐘。此時的丙烯酸正丁酯的轉化率為99.9%以上。再者,於其中加入甲基丙烯酸甲酯36.2g,於室溫攪拌一晚後,添加甲醇3.50g而使聚合反應停止。此時的甲基丙烯酸甲酯的轉化率為99.9%以上。將得到的反應液注入15kg的甲醇中,使白色沉澱物析出。以過濾回收白色沉澱物並使乾燥,獲得嵌段共聚物[以下將其稱為「丙烯酸系三嵌段共聚物(I-3)」]301g。
(2)針對上述(1)獲得之丙烯酸系三嵌段共聚物(I-3),進行1
H-NMR測定與GPC測定,結果係為包含聚甲基丙烯酸甲酯-聚丙烯酸正丁酯-聚甲基丙烯酸甲酯的三嵌段共聚物,重量平均分子量(Mw)為80,000、數量平均分子量(Mn)為65,300,分子量分布(Mw/Mn)為1.23。又,丙烯酸系三嵌段共聚物(I-3)中的各聚合物嵌段的含量,甲基丙烯酸甲酯聚合物嵌段(2個聚合物嵌段A的合計)為23.5質量%,丙烯酸正丁酯聚合物嵌段(聚合物嵌段B)為76.5質量%。又,進行於最初的甲基丙烯酸甲酯之聚合完成的時點取樣的反應液的GPC測定,結果甲基丙烯酸甲酯聚合物嵌段的重量平均分子量(Mw)為8,800、數量平均分子量(Mn)為7,800,分子量分布(Mw/Mn)為1.13。又,求取上述獲得之丙烯酸系三嵌段共聚物(I-3)的各聚合物嵌段之玻璃轉移溫度,結果如表1所示。
(1)將2L三口燒瓶的內部以氮氣取代後,於室溫加入甲苯870g、1,2-二甲氧基乙烷44g,然後加入含有異丁基雙(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯氧基)鋁40.2mmol的甲苯溶液60.0g,再加入含有第二丁基鋰3.33mmol之環己烷與正己烷的混合溶液1.92g。然後,於此混合液中加入甲基丙烯酸甲酯49.9g。反應液起初呈黃色,但於室溫攪拌60分鐘後變成無色。此時的甲基丙烯酸甲酯的轉化率為99.9%以上。然後,將反應液的內部溫度冷卻至-30℃,花2小時滴加丙烯酸正丁酯177.4g,滴加結束後,於-30℃攪拌5分鐘。此時的丙烯酸正丁酯的轉化率為99.9%以上。又,於其中加入甲基丙烯酸甲酯49.9g,於室溫攪拌一晚後,添加甲醇3.50g而使聚合反應停止。此時的甲基丙烯酸甲酯的轉化率為99.9%以上。將獲得的反應液注入15kg的甲醇中,使白色沉澱物析出。以過濾回收白色沉澱物並使乾燥,獲得嵌段共聚物[以下將其稱為「丙烯酸系三嵌段共聚物(I-4)」]277g。
(2)針對上述(1)獲得之丙烯酸系三嵌段共聚物(I-4),進行1
H-NMR測定與GPC測定,結果係為包含聚甲基丙烯酸甲酯-聚丙烯酸正丁酯-聚甲基丙烯酸甲酯的三嵌段共聚物,重量平均分子量(Mw)為101,000、數量平均分子量(Mn)為81,500,分子量分布(Mw/Mn)為1.24。又,丙烯酸系三嵌段共聚物(I-3)中,各聚合物嵌段的含量,甲基丙烯酸甲酯聚合物嵌段(2個聚合物嵌段A的合計)為36.0質量%,丙烯酸正丁酯聚合物嵌段(聚合物嵌段B)為64.0質量%。又,進行於最初的甲基丙烯酸甲酯之聚合完成的時點取樣的反應液的GPC測定,結果甲基丙烯酸甲酯聚合物嵌段的重量平均分子量(Mw)為16,800、數量平均分子量(Mn)為15,000,分子量分布(Mw/Mn)為1.12。又,求取上述獲得之丙烯酸系三嵌段共聚物(I-4)之各聚合物嵌段之玻璃轉移溫度的結果,如表1所示。
(1)將2L三口燒瓶的內部以氮氣取代後,於室溫加入甲苯870g、1,2-二甲氧基乙烷44g,接著加入含有異丁基雙(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯氧基)鋁17.6mmol的甲苯溶液26.3g,再加入含有第二丁基鋰2.52mmol的環己烷與正己烷的混合溶液1.46g。然後,於其中加入甲基丙烯酸甲酯49.9g。反應液起初著色為黃色,但是於室溫攪拌60分鐘後變成無色。此時,甲基丙烯酸甲酯的轉化率為99.9%以上。然後,將反應液的內部溫度冷卻至-30℃,花費2小時滴加丙烯酸正丁酯187.7g,滴加結束後,於-30℃攪拌5分鐘後,添加甲醇3.5g而停止聚合反應。此時,丙烯酸正丁酯的轉化率為99.9%以上。然後,將獲得之反應液注入15kg的甲醇中,使白色沉澱物析出。以過濾回收白色沉澱物並使乾燥,藉此獲得二嵌段共聚物[以下將其稱為「丙烯酸系二嵌段共聚物(II-1)」]237g。
(2)針對上述獲得之丙烯酸系二嵌段共聚物(II-1),進行1
H-NMR測定與GPC測定,結果為包含聚甲基丙烯酸甲酯-聚丙烯酸正丁酯的二嵌段共聚物,重量平均分子量(Mw)為114,000、數量平均分子量(Mn)為98,500,分子量分布(Mw/Mn)為1.16。又,丙烯酸系二嵌段共聚物(II-1)中,各聚合物嵌段之含有比例,甲基丙烯酸甲酯聚合物嵌段(聚合物嵌段C)為20.9質量%,丙烯酸正丁酯聚合物嵌段(聚合物嵌段D)為79.1質量%。又,進行於最初的甲基丙烯酸甲酯之聚合完成的時點取樣的反應液的GPC測定,結果,甲基丙烯酸甲酯聚合物嵌段的重量平均分子量(Mw)為21,800、數量平均分子量(Mn)為19,800,分子量分布(Mw/Mn)為1.10。又,求取上述獲得之丙烯酸系二嵌段共聚物(II-1)之各聚合物嵌段之玻璃轉移溫度,結果如表1所示。
(1)將2L三口燒瓶的內部以氮氣取代後,於室溫加入甲苯870g、1,2-二甲氧基乙烷44g,然後加入含有異丁基雙(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯氧基)鋁36.8mmol的甲苯溶液54.9g,再加入含有第二丁基鋰5.25mmol之環己烷與正己烷的混合溶液3.03g。然後,於此混合液中加入甲基丙烯酸甲酯49.9g。反應液起初著色為黃色,但於室溫攪拌60分鐘後變成無色。此時,甲基丙烯酸甲酯的轉化率為99.9%以上。然後,將反應液的內部溫度冷卻至-30℃,花費2小時滴加丙烯酸正丁酯167.1g,並於滴加結束後於-30℃攪拌5分鐘,之後添加甲醇3.5g而停止聚合反應。此時,丙烯酸正丁酯的轉化率為99.9%以上。然後,將獲得的反應注入15kg的甲醇中,使白色沉澱物析出。以過濾回收白色沉澱物並使乾燥,獲得二嵌段共聚物[以下將其稱為「丙烯酸系二嵌段共聚物(II-2)」]216g。
(2)針對上述獲得之丙烯酸系二嵌段共聚物(II-2),進行1
H-NMR測定與GPC測定,結果為包含聚甲基丙烯酸甲酯-聚丙烯酸正丁酯的二嵌段共聚物,重量平均分子量(Mw)為45,200、數量平均分子量(Mn)為40,000,分子量分布(Mw/Mn)為1.13。又,於丙烯酸系二嵌段共聚物(II-2)中,各聚合物嵌段的含有比例,甲基丙烯酸甲酯聚合物嵌段(聚合物嵌段C)為23.0質量%,丙烯酸正丁酯聚合物嵌段(聚合物嵌段D)為77.0質量%。又,進行於最初的甲基丙烯酸甲酯之聚合完成的時點取樣的反應液的GPC測定,結果甲基丙烯酸甲酯聚合物嵌段的重量平均分子量(Mw)為9,900、數量平均分子量(Mn)為9,500,分子量分布(Mw/Mn)為1.04。又,求取於上述獲得之丙烯酸系二嵌段共聚物(II-2)的各聚合物嵌段之玻璃轉移溫度,結果如表1所示。
(1)將2L三口燒瓶的內部以氮氣取代後,於室溫加入甲苯870g、1,2-二甲氧基乙烷44g,然後加入含有異丁基雙(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯氧基)鋁20.7mmol之甲苯溶液30.9g,再加入含有第二丁基鋰5.17mmol之環己烷與正己烷的混合溶液2.99g。然後,於此混合液中加入甲基丙烯酸甲酯21.7g。反應液起初著色為黃色,但於室溫攪拌60分鐘後變成無色。此時,甲基丙烯酸甲酯的轉化率為99.9%以上。然後,將反應液的內部溫度冷卻至-30℃,花費2小時滴加丙烯酸正丁酯288.4g,於滴加結束後於-30℃攪拌5分鐘後,添加甲醇3.5g而停止聚合反應。此時,丙烯酸正丁酯的轉化率為99.9%以上。然後,將獲得的反應液注入15kg的甲醇中,使油狀沉澱物析出。利用傾析回收油狀沉澱物並使乾燥,藉此獲得二嵌段共聚物[以下將其稱為「丙烯酸系二嵌段共聚物(II-3)」]310g。
(2)針對上述獲得之丙烯酸系二嵌段共聚物(II-3),進行1
H-NMR測定與GPC測定,結果為包含聚甲基丙烯酸甲酯-聚丙烯酸正丁酯的二嵌段共聚物,重量平均分子量(Mw)為67,000、數量平均分子量(Mn)為55,400,分子量分布(Mw/Mn)為1.21。又,丙烯酸系二嵌段共聚物(II-3)中,各聚合物嵌段的含有比例,甲基丙烯酸甲酯聚合物嵌段(聚合物嵌段C)為6.9質量%,丙烯酸正丁酯聚合物嵌段(聚合物嵌段D)為93.1質量%。又,進行於甲基丙烯酸甲酯之聚合完成的時點取樣的反應液的GPC測定,結果甲基丙烯酸甲酯聚合物嵌段的重量平均分子量(Mw)為4,400、數量平均分子量(Mn)為4,200,分子量分布(Mw/Mn)為1.05。又,求取上述獲得之丙烯酸系二嵌段共聚物(II-3)之各聚合物嵌段之玻璃轉移溫度,結果如表1所示。
(1)將2L三口燒瓶的內部以氮氣取代後,於室溫加入甲苯870g、1,2-二甲氧基乙烷44g,然後加入含有異丁基雙(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯氧基)鋁55.2mmol之甲苯溶液82.4g,再加入含有第二丁基鋰13.8mmol之環己烷與正己烷的混合溶液8.03g。然後,於此混合液中加入甲基丙烯酸甲酯122.9g。反應液起初著色為黃色,但於室溫攪拌60分鐘後變成無色。此時,甲基丙烯酸甲酯的轉化率為99.9%以上。然後,將反應液的內部溫度冷卻至-30℃,花2小時滴加丙烯酸正丁酯192.2g,並於滴加結束後於-30℃攪拌5分鐘後,添加甲醇3.5g而停止聚合反應。此時,丙烯酸正丁酯的轉化率為99.9%以上。然後,將獲得的反應液注入15kg的甲醇中,使白色沉澱物析出。利用傾析回收白色沉澱物並使乾燥,藉此獲得二嵌段共聚物[以下將其稱為「丙烯酸系二嵌段共聚物(II-4)」]313g。
(2)針對上述獲得之丙烯酸系二嵌段共聚物(II-4),進行1
H-NMR測定與GPC測定,結果係為包含聚甲基丙烯酸甲酯-聚丙烯酸正丁酯的二嵌段共聚物,重量平均分子量(Mw)為31,000、數量平均分子量(Mn)為25,000,分子量分布(Mw/Mn)為1.24。又,丙烯酸系二嵌段共聚物(II-4)中,各聚合物嵌段的含有比例為,甲基丙烯酸甲酯聚合物嵌段(聚合物嵌段C)為39.0質量%,丙烯酸正丁酯聚合物嵌段(聚合物嵌段D)為61.0質量%。又,進行於甲基丙烯酸甲酯之聚合完成的時點取樣的反應液的GPC測定,結果甲基丙烯酸甲酯聚合物嵌段的重量平均分子量(Mw)為9,800、數量平均分子量(Mn)為9,300,分子量分布(Mw/Mn)為1.05。又,求取上述獲得之丙烯酸系二嵌段共聚物(II-4)之各聚合物嵌段之玻璃轉移溫度,結果如表1所示。
(1)將2L三口燒瓶的內部以氮氣取代後,於室溫加入甲苯870g、1,2-二甲氧基乙烷44g,然後加入含有異丁基雙(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯氧基)鋁24.1mmol的甲苯溶液36.0g,再加入含有第二丁基鋰6.02mmol之環己與正己烷的混合溶液3.50g。然後,於此反應液中加入甲基丙烯酸甲酯53.6g。反應液起初著色為黃色,但於室溫攪拌60分鐘後變成無色。此時,甲基丙烯酸甲酯的轉化率為99.9%以上。然後,將反應液的內部溫度冷卻至-30℃,花2小時滴加丙烯酸正丁酯281.5g,於滴加結束後於-30℃攪拌5分鐘後,加入甲醇3.5g而停止聚合反應。此時,丙烯酸正丁酯的轉化率為99.9%以上。然後,將獲得的反應液注入15kg的甲醇中,使白色沉澱物析出。之後,利用傾析回收白色沉澱物並使乾燥,藉此獲得二嵌段共聚物[以下將其稱為「丙烯酸系二嵌段共聚物(II-5)」]330g。
(2)針對上述獲得之丙烯酸系二嵌段共聚物(II-5),進行1
H-NMR測定與GPC測定,結果係為包含聚甲基丙烯酸甲酯-聚丙烯酸正丁酯的二嵌段共聚物,重量平均分子量(Mw)為66,000、數量平均分子量(Mn)為54,500,分子量分布(Mw/Mn)為1.21。又,丙烯酸系二嵌段共聚物(II-5)中,各聚合物嵌段的含有比例為,甲基丙烯酸甲酯聚合物嵌段(聚合物嵌段C)為16.0質量%,丙烯酸正丁酯聚合物嵌段(聚合物嵌段D)為84.0質量%。又,進行於甲基丙烯酸甲酯之聚合完成的時點取樣的反應液的GPC測定,結果甲基丙烯酸甲酯聚合物嵌段的重量平均分子量(Mw)為9,800、數量平均分子量(Mn)為9,300,分子量分布(Mw/Mn)為1.05。又,求取上述獲得之丙烯酸系二嵌段共聚物(II-5)之各聚合物嵌段之玻璃轉移溫度,結果如表1所示。
上述合成例1~9所合成之丙烯酸系三嵌段共聚物(I-1)~(I-4)及丙烯酸系二嵌段共聚物(II-1)~(II-5)的物性,整理如表1所示。
1)嵌段共聚物之構造
S1:PMMA-b-PnBA-b-PMMA
S2:PMMA-b-PnBA
2)三嵌段共聚物A1-B-A2或二嵌段共聚物C-D中的PnBA嵌段的含量
3)嵌段共聚物的重量平均分子量
4)嵌段共聚物的分子量分佈
5)以嵌段共聚物A1的重量平均分子量為基準,從各聚合物嵌段的重量比依比例計算算出而求得。
6)以嵌段共聚物C的重量平均分子量為基準,從各聚合物嵌段的重量比依比例計算算出而求得。
此外,記載本發明使用的材料。
‧聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜:東洋紡酯薄膜E5000(厚度50μm)、東洋紡績股份有限公司製以下記載實施例及比較例。各實施例及比較例獲得之黏著型光學薄膜的特性評價,如以下方式進行。
將下列實施例或比較例製作的黏著型光學薄膜,裁切成寬度25mm及長度200mm的大小,當做試驗片,將該試驗片使用2kg的橡膠輥來回2次,貼合在被附著體玻璃板的空氣面。於23℃、50%RH的條件下,於24小時、或90℃、乾燥條件下保存24小時後,以30mm/分或300mm/分的剝離速度測定180°剝離接著力。上述條件以外,依據JIS Z0237測定。
又,玻璃板係使用將含有鹼成分的市售鈉石灰玻璃板進行鹼清洗後的玻璃板。
將下列實施例或比較例製作的黏著型光學薄膜,裁切成25mm(橫方向:與負荷的方向垂直的方向)×10mm(縱方向:與負荷的方向相同的方向)的大小,當做試驗片,將該試驗片使用2kg橡膠輥來回2次貼附於被附著體玻璃板的空氣面,對該試驗片施加1kg的重量,於溫度90℃的條件下,依據JIS Z0237進行潛變試驗。試驗結果為,當落下時間小於1000分鐘時,測定其落下時間,又,為1000分鐘以上時,測定1000分鐘後之試驗片的位置偏離。
此試驗係用於檢查加熱下的黏著劑(黏著劑組成物)的耐久性,試驗片的位置偏離愈短,而且直到試驗片脫落為止的時間愈長,則代表黏著劑(黏著劑組成物)的耐久性愈優異。
將下列實施例或比較例製作的黏著型光學薄膜,以黏著劑層的面朝上放置在裝置的台座,以SPM觀察黏著劑層的面。
裝置:使用SII‧nanotechnology公司製掃描型探針顯微鏡(SPM)與環境控制單元(E-sweep)。
測定模式:DFM
使用懸臂:SI-DF20(裡面A1)(SII‧nanotechnology公司製)
測定面積:1μm×1μm
掃描頻率:1.0Hz
掃描分割數:X=數據數=512,Y=數據數=256
(1)將上述合成例1及合成例5製造的丙烯酸系三嵌段共聚物(I-1)及丙烯酸系二嵌段共聚物(II-1),以如以下表2所示,分別稱取44質量份及56質量份的比例,製備成黏著劑組成物後,以甲苯稀釋使全體的固體成分含量成為35質量%,並振盪而製備溶液型黏著劑。獲得的溶液型黏著劑的外觀為透明,未有混濁或分離成二層的現象。又,從上述溶液型黏著劑除去溶劑,獲得黏著劑組成物。
(2)將上述(1)獲得之溶液型黏著劑使用棒塗機塗布在PET薄膜(厚度50μm)上後,於60℃乾燥30分鐘,製造包含黏著劑層/PET薄膜的黏著型光學薄膜。黏著型光學薄膜中,黏著劑層的厚度如表2所示。又,黏著劑層為透明。
(3)針對上述(2)獲得的黏著型光學薄膜,對於玻璃板的接著力(剝離接著力)及潛變試驗的結果,如表2所示。
(4)並且,針對上述(2)獲得之黏著型光學薄膜之黏著劑層表面,以上述方法進行微相分離構造的觀察,結果獲得如第1圖所示之影像。第1圖中,黑色部分為包含丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之聚合物嵌段A1、A2及丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之聚合物嵌段C構成的硬質聚合物相,白色部分為包含丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之聚合物嵌段B及丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之聚合物嵌段D的軟質聚合物相。又,Mw(C)滿足Mw(Alow)×0.5(=4900)≦Mw(C)(=21800)≦Mw(Ahigh)×2(=66600)。
(1)將上述合成例1及合成例5製造的丙烯酸系三嵌段共聚物(I-1)及丙烯酸系二嵌段共聚物(II-1),如以下表2所示,分別稱取56質量份及44質量份的比例,製備成黏著劑組成物後,以甲苯稀釋成全體的固體成分含量成為35質量%,並振盪而製備溶液型黏著劑。獲得的溶液型黏著劑的外觀為透明,未有混濁或分離成二層的現象。又,從上述溶液型黏著劑去除溶劑,獲得黏著劑組成物。
(2)將上述(1)獲得之溶液型黏著劑使用棒塗機塗布在PET薄膜(厚度50μm)上後,於60℃乾燥30分鐘,製造包含黏著劑層/PET薄膜的黏著型光學薄膜。黏著型光學薄膜中,黏著劑層的厚度如表2所示。又,黏著劑層為透明。
(3)針對上述(2)獲得之黏著型光學薄膜,對於玻璃板的接著力(剝離接著力)及潛變試驗的結果,如表2所示。
Mw(C)滿足Mw(Alow)×0.5(=4900)≦Mw(C)(=21800)≦Mw(Ahigh)×2(=66600)。
(1)將上述合成例1及合成例5製造的丙烯酸系三嵌段共聚物(I-1)及丙烯酸系二嵌段共聚物(II-1),以如下表2所示,分別稱取72質量份及28質量份的比例,製備成黏著劑組成物後,以甲苯稀釋成全體的固體成分含量成為35質量%,並振盪以製備溶液型黏著劑。獲得的溶液型黏著劑的外觀為透明,未有混濁或分離成二層的現象。又,從上述溶液型黏著劑去除溶劑,獲得黏著劑組成物。
(2)將上述(1)獲得之溶液型黏著劑使用棒塗機塗布在PET薄膜(厚度50μm)上後,於60℃乾燥30分鐘,製造包含黏著劑層/PET薄膜的黏著型光學薄膜。黏著型光學薄膜中,黏著劑層的厚度如表2所示。又,黏著劑層為透明。
(3)針對上述(2)獲得之黏著型光學薄膜,對於玻璃板的接著力(剝離接著力)及潛變試驗的結果,如表2所示。Mw(C)滿足Mw(Alow)×0.5(=4900)≦Mw(C)(=21800)≦Mw(Ahigh)×2(=66600)。
(1)將上述合成例1及合成例6製造的丙烯酸系三嵌段共聚物(I-1)及丙烯酸系二嵌段共聚物(II-2),如以下表2所示,分別稱取40質量份及60質量份的比例並製備成黏著劑組成物後,以甲苯稀釋使全體的固體成分含量成為35質量%,並振盪而製備溶液型黏著劑。獲得的溶液型黏著劑的外觀為透明,未有混濁或分離成二層的現象。又,從上述溶液型黏著劑去除溶劑,獲得黏著劑組成物。
(2)將上述(1)獲得之溶液型黏著劑使用棒塗機塗布在PET薄膜(厚度50μm)上後,於60℃乾燥30分鐘,製造包含黏著劑層/PET薄膜的黏著型光學薄膜。黏著型光學薄膜中,黏著劑層的厚度如表2所示。又,黏著劑層為透明。
(3)針對上述(2)獲得之黏著型光學薄膜,對於玻璃板的接著力(剝離接著力)及潛變試驗的結果如表2所示。Mw(C)滿足Mw(Alow)×0.5(=4900)≦Mw(C)(=9900)≦Mw(Ahigh)×2(=66600)。
(1)將上述合成例2及合成例5製造的丙烯酸系三嵌段共聚物(I-2)及丙烯酸系二嵌段共聚物(II-1),如以下表2所示,分別稱取40質量份及60質量份的比例,製備成黏著劑組成物後,以甲苯稀釋成全體的固體成分含量成為35質量%,並振盪而製備溶液型黏著劑。獲得的溶液型黏著劑的外觀為透明,未有混濁或分離成二層的現象。又,從上述溶液型黏著劑去除溶劑,獲得黏著劑組成物。
(2)將上述(1)獲得之溶液型黏著劑使用棒塗機塗布在PET薄膜(厚度50μm)上後,於60℃乾燥30分鐘,製造包含黏著劑層/PET薄膜的黏著型光學薄膜。黏著型光學薄膜中,黏著劑層的厚度如表2所示。又,黏著劑層為透明。
(3)針對上述(2)獲得之黏著型光學薄膜,對於玻璃板之接著力(剝離接著力)及潛變試驗的結果如表2所示。Mw(C)滿足Mw(Alow)×0.5(=9000)≦Mw(C)(=21800)≦Mw(Ahigh)×2(=97200)。
(1)將上述合成例3製造的丙烯酸系三嵌段共聚物(I-3),依以下表2所示,製備成100質量份的黏著劑組成物後,以甲苯稀釋使全體的固體成分含量成為35質量%並振盪,製備成溶液型黏著劑。獲得的溶液型黏著劑的外觀為透明,未有混濁或分離成二層的現象。
(2)將上述(1)獲得之溶液型黏著劑以棒塗機塗布在PET薄膜(厚度50μm)上後,於60℃乾燥30分鐘,製造包含黏著劑層/PET薄膜的黏著型光學薄膜。黏著型光學薄膜中,黏著劑層的厚度如表2所示。又,黏著劑層為透明。
(3)針對上述(2)獲得的黏著型光學薄膜,對於玻璃板的接著力(剝離接著力)及潛變試驗的結果如表2所示。
(1)將上述合成例4製造之丙烯酸系三嵌段共聚物(I-4),如以下表2所示,製備成100質量份的黏著劑組成物後,以甲苯稀釋使全體的固體成分含量成為35質量%,並振盪而製備成溶液型黏著劑。獲得的溶液型黏著劑的外觀為透明,未有混濁或分離成二層的現象。
(2)將上述(1)獲得的溶液型黏著劑使用棒塗機塗布在PET薄膜(厚度50μm)上後,於60℃乾燥30分鐘,製造包含黏著劑層/PET薄膜的黏著型光學薄膜。黏著型光學薄膜中,黏著劑層的厚度如表2所示。又,黏著劑層為透明。
(3)針對上述(2)獲得之黏著型光學薄膜,對玻璃板的接著力(剝離接著力)及潛變試驗的結果如表2所示。
(1)將上述合成例1及合成例5製造的丙烯酸系三嵌段共聚物(I-1)及丙烯酸系二嵌段共聚物(II-1),如以下表2所示,分別稱取23質量份及77質量份的比例,並製備成黏著劑組成物後,以甲苯稀釋使全體的固體成分含量成為35質量%,並振盪而製備溶液型黏著劑。獲得的溶液型黏著劑的外觀為透明,未有混濁或分離成二層的現象。又,從上述溶液型黏著劑去除溶劑,而獲得黏著劑組成物。
(2)將上述(1)獲得之溶液型黏著劑使用棒塗機塗布在PET薄膜(厚度50μm)上後,於60℃乾燥30分鐘,製造包含黏著劑層/PET薄膜的黏著型光學薄膜。黏著型光學薄膜中,黏著劑層的厚度如表2所示。又,黏著劑層為透明。
(3)針對上述(2)獲得之黏著型光學薄膜,對於玻璃板的接著力(剝離接著力)及潛變試驗的結果如表2所示。Mw(C)滿足Mw(Alow)×0.5(=4900)≦Mw(C)(=21800)≦Mw(Ahigh)×2(=66600)。
(1)將上述合成例1及合成例5製造的丙烯酸系三嵌段共聚物(I-1)及丙烯酸系二嵌段共聚物(II-1),依以下表2所示,分別稱取77質量份及23質量份的比例,製備成黏著劑組成物後,以甲苯稀釋使全體的固體成分含量成為35質量%,並振盪而製備成溶液型黏著劑。獲得的溶液型黏著劑的外觀為透明,未有混濁或分離成二層的現象。又,從上述溶液型黏著劑去除溶劑,獲得黏著劑組成物。
(2)將上述(1)獲得之溶液型黏著劑以棒塗機塗布在PET薄膜(厚度50μm)上後,於60℃乾燥30分鐘,製造包含黏著劑層/PET薄膜的黏著型光學薄膜。黏著型光學薄膜中,黏著劑層的厚度如表2所示。又,黏著劑層為透明。
(3)針對上述(2)獲得之黏著型光學薄膜,以上述方法測定對於玻璃板的接著力(剝離接著力),結果對於玻璃的接著力過低,無法測定接著力。
(4)又,針對上述(2)獲得之黏著型光學薄膜,以上述方法實施潛變試驗,但對於玻璃的接著力過低,無法實施潛變試驗。Mw(C)滿足Mw(Alow)×0.5(=4900)≦Mw(C)(=21800)≦Mw(Ahigh)×2(=66600)。
(1)將上述合成例1及合成例7製造的丙烯酸系三嵌段共聚物(I-1)及丙烯酸系二嵌段共聚物(II-3),依以下表2所示,分別稱取55質量份及45質量份的比例,製備成黏著劑組成物後,以甲苯稀釋使全體的固體成分含量成為35質量%,並振盪而製備溶液型黏著劑。獲得的溶液型黏著劑的外觀為混濁,若靜置則會分離成二層。又,從上述溶液型黏著劑去除溶劑而獲得黏著劑組成物。
(2)將上述(1)獲得之溶液型黏著劑使用棒塗機塗布在PET薄膜(厚度50μm)上後,於60℃乾燥30分鐘,製造包含黏著劑層/PET薄膜的黏著型光學薄膜。黏著型光學薄膜中,黏著劑層的厚度如表2所示,黏著劑層於微觀為相分離而不透明,黏著型光學薄膜的透明性低。
Mw(Alow)×0.5=4900、Mw(C)=4400,Mw(C)不滿足Mw(Alow)×0.5≦Mw(C)≦Mw(Ahigh)×2。
(1)將上述合成例1及合成例8製造的丙烯酸系三嵌段共聚物(I-1)及丙烯酸系二嵌段共聚物(II-4),依以下表2所示,分別稱取72質量份及28質量份的比例,製備成黏著劑組成物後,以甲苯稀釋使全體的固體成分含量成為35質量%,並振盪而製備成溶液型黏著劑。獲得的溶液型黏著劑的外觀為透明,未有混濁或分離成二層的現象。又,從上述溶液型黏著劑去除溶劑,獲得黏著劑組成物。
(2)將上述(1)獲得之溶液型黏著劑使用棒塗機塗布在PET薄膜(厚度50μm)上後,於60℃乾燥30分鐘,製造包含黏著劑層/PET薄膜的黏著型光學薄膜。黏著型光學薄膜中,黏著劑層的厚度如表2所示,黏著劑層為透明。
(3)針對上述(2)獲得之黏著型光學薄膜,以上述方法測定對於玻璃板的接著力(剝離接著力),結果對於玻璃的接著力過低,無法測定接著力。
(4)又,針對上述(2)獲得之黏著型光學薄膜,以上述方法進行潛變試驗,但對於玻璃的接著力過低,無法實施潛變試驗。
Mw(C)滿足Mw(Alow)×0.5(=4900)≦Mw(C)(=9800)≦Mw(Ahigh)×2(=66600)。
(1)將上述合成例1及合成例9製造之丙烯酸系三嵌段共聚物(I-1)及丙烯酸系二嵌段共聚物(II-5),如以下表2所示,分別稱取31質量份及69質量份的比例,製備成黏著劑組成物後,以甲苯稀釋使全體的固體成分含量成為35質量%,並振盪而製備成溶液型黏著劑。獲得的溶液型黏著劑的外觀為透明,未有混濁或分離成二層的現象。又,從上述溶液型黏著劑去除溶劑,獲得黏著劑組成物。
(2)將上述(1)獲得之溶液型黏著劑使用棒塗機塗布在PET薄膜(厚度50μm)上後,於60℃乾燥30分鐘,製造包含黏著劑層/PET薄膜的黏著型光學薄膜。黏著型光學薄膜中,黏著劑層的厚度如表2所示。又,黏著劑層為透明。
(3)針對上述(2)獲得之黏著型光學薄膜,對於玻璃板的接著力(剝離接著力)及潛變試驗的結果如表2所示。Mw(C)滿足Mw(Alow)×0.5(=4900)≦Mw(C)(=9800)≦Mw(Ahigh)×2(=66600)。
(1)將上述合成例4及合成例5製造的丙烯酸系三嵌段共聚物(I-4)及丙烯酸系二嵌段共聚物(II-1),如以下表2所示,分別稱取72質量份及28質量份的比例,製備成黏著劑組成物後,以甲苯稀釋使全體的固體成分含量成為35質量%,並振盪而製備成溶液型黏著劑。獲得的溶液型黏著劑的外觀為透明,未有混濁或分離成二層的現象。又,從上述溶液型黏著劑去除溶劑,獲得黏著劑組成物。
(2)將上述(1)獲得之溶液型黏著劑使用棒塗機塗布在PET薄膜(厚度50μm)上後,於60℃乾燥30分鐘,製造包含黏著劑層/PET薄膜的黏著型光學薄膜。黏著型光學薄膜中,黏著劑層的厚度如表2所示。又,黏著劑層為透明。
(3)針對上述(2)獲得之黏著型光學薄膜,對於玻璃板之接著力(剝離接著力)及潛變試驗的結果如表2所示。Mw(C)滿足Mw(Alow)×0.5(=8400)≦Mw(C)(=9800)≦Mw(Ahigh)×2(=33600)。
1)(X)/(Y):丙烯酸系三嵌段共聚物(I)所含之聚合物嵌段A1與聚合物嵌段A2及丙烯酸系二嵌段共聚物(II)所含之聚合物嵌段C之合計質量(X),與丙烯酸系三嵌段共聚物(I)所含之聚合物嵌段B與丙烯酸系二嵌段共聚物(II)所含之聚合物嵌段D的合計質量(Y)之比
2)互溶性:丙烯酸系三嵌段共聚物(I)與丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之互溶性以甲苯為溶劑之固體成分35%的黏著劑組成物溶液未分液而均勻,塗布後的黏著型光學薄膜的黏著劑組成物層的外觀無混濁時判定為「互溶」
以甲苯為溶劑之固體成分35%的黏著劑組成物溶液會分液,或塗布後的黏著型光學薄膜的黏著劑組成物層的外觀有混濁時判定為「不互溶」
3)ss:有發生黏滑(Stick-Slip)現象
4)接著力變化率:[(90℃、24小時後的接著力)-(23℃、24小時後的接著力)]/((23℃、24小時後的接著力)╳100[%]
由表2可知,使用含有本發明規定之範圍內的量的具備本發明規定之要件(E1)、(E2)、(E3)及(E4)的丙烯酸系三嵌段共聚物(I)[丙烯酸系三嵌段共聚物(I-1)及(I-2)],與具備本發明規定之上述要件(F1)、(F2)、(F3)及(F4)的丙烯酸系二嵌段共聚物(II)[丙烯酸系二嵌段共聚物(II-1)及(II-2)]的實施例1~5的黏著劑組成物製造的黏著型光學薄膜,比起使用僅包含丙烯酸系三嵌段共聚物的黏著劑組成物製造的比較例1及比較例2的黏著型光學薄膜,加熱處理前接著力低,而具有適於重做的接著力,沒有殘膠,而能以適當剝離強度剝離,另一方面,加熱處理後的接著力上升,而可牢固地接著,而且於潛變試驗的耐久性優異。
又,使用丙烯酸系三嵌段共聚物(I)與丙烯酸系二嵌段共聚物(II)的質量比(I)/(II)係落於本發明規定的範圍外往丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之含量較少的一方的黏著劑組成物製造的比較例3的黏著型光學薄膜,於潛變試驗的耐久性低。又,使用丙烯酸系三嵌段共聚物(I)與丙烯酸系二嵌段共聚物(II)的質量比(I)/(II)係落於本發明規定的範圍外往丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之含量較多的一方的黏著劑組成物製造的比較例4的黏著型光學薄膜,黏著性低,無法貼附在液晶面板等,或無法貼附多數光學薄膜並積層。
再者,含有本發明規定之要件(F1)、(F2)、(F3)及(F4)當中,不具備(F2)的丙烯酸系二嵌段共聚物(II-3)的比較例5的黏著劑組成物,丙烯酸系三嵌段共聚物(I-1)與丙烯酸系二嵌段共聚物(II-3)的互溶性低,當製成溶液型黏著劑時,外觀混濁,靜置即會分成二層,無法均勻地塗布黏著劑。又,黏著型光學薄膜的黏著劑層在微觀上相分離而為不透明,黏著型光學薄膜的透明性低。
使用丙烯酸系三嵌段共聚物(I)所含之聚合物嵌段A1、聚合物嵌段A2及丙烯酸系二嵌段共聚物(II)所含之聚合物嵌段C之合計質量(X),與丙烯酸系三嵌段共聚物(I)所含之聚合物嵌段B與丙烯酸系二嵌段共聚物(II)所含之聚合物嵌段D之合計質量(Y)的比(X)/(Y),係落於本發明規定之範圍外往(X)較多之一方的黏著劑組成物製造的比較例6的黏著型光學薄膜,黏著性低,無法貼附在液晶面板等,或無法貼附多數光學薄膜並積層。又,使用(X)/(Y)係落於本發明規定之範圍外往(X)較少之一方的黏著劑組成物製造的比較例7的黏著型光學薄膜,於潛變試驗的耐久性低。
再者,使用含有本發明規定之要件(E1)、(E2)、(E3)及(E4)當中不具備(E2)的丙烯酸系三嵌段共聚物(I-4)的黏著劑組成物而製造的比較例8的黏著型光學薄膜,加熱處理前的接著力較高,重做性有點差,潛變試驗中有耐久性差的傾向。
本發明之光學薄膜用黏著劑組成物,係含有丙烯酸系三嵌段共聚物(I)與丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之非化學交聯型光學薄膜用黏著劑,初期能以適於重做的接著力接著,並於進行重做時不會有殘膠而能以適當剝離強度剝離,貼附後長期保持此狀態時,尤其暴露在高溫狀態或濕熱狀態時,接著力上升而耐久性優異,因此可有效使用在黏著型光學薄膜及光學薄膜用保護薄膜的製造。
第1圖顯示實施例1獲得之黏著型光學薄膜之黏著劑層之微相分離構造(以DFM測定之相位像)。
第2圖顯示比較例1獲得之黏著型光學薄膜之黏著劑層之微相分離構造(以DFM測定之相位像)。
Claims (12)
- 一種光學薄膜用黏著劑組成物,其係(α)含有具備要件(E1)、(E2)、(E3)及(E4)之下列丙烯酸系三嵌段共聚物(I),以及具備要件(F1)、(F2)、(F3)及(F4)之下列丙烯酸系二嵌段共聚物(II),(β)丙烯酸系三嵌段共聚物(I)與丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之質量比(I)/(II)為75/25~30/70,且(γ)丙烯酸系三嵌段共聚物(I)所含之聚合物嵌段A1及聚合物嵌段A2與丙烯酸系二嵌段共聚物(II)所含之聚合物嵌段C的合計質量(X),與丙烯酸系三嵌段共聚物(I)所含之聚合物嵌段B與丙烯酸系二嵌段共聚物(II)所含之聚合物嵌段D的合計質量(Y)之比(X)/(Y)為30/70~50/50;丙烯酸系三嵌段共聚物(I):(E1)以下列通式(1)表示之丙烯酸系三嵌段共聚物A1-B-A2 (1)(式(1)中,A1及A2各自獨立而代表玻璃轉移溫度為100℃以上之甲基丙烯酸烷酯聚合物嵌段,B代表玻璃轉移溫度為-20℃以下之丙烯酸烷酯聚合物嵌段);(E2)聚合物嵌段B之含量為5~45質量%;(E3)重量平均分子量(Mw)為30,000~300,000;及(E4)分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5;丙烯酸系二嵌段共聚物(II):(F1)以下列通式(2)表示之丙烯酸系二嵌段共聚物C-D (2) (式(2)中,C代表甲基丙烯酸烷酯聚合物嵌段,D代表丙烯酸烷酯聚合物嵌段);(F2)聚合物嵌段D之含量為60~85質量%;(F3)重量平均分子量(Mw)為30,000~300,000;及(F4)分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5。
- 如申請專利範圍第1項之光學薄膜用黏著劑組成物,其係具有包含硬質聚合物相與軟質聚合物相之微分離構造,該硬質聚合物相係以丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之聚合物嵌段A1與A2及丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之聚合物嵌段C當做主體而形成,該軟質聚合物相係以丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之聚合物嵌段B及丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之聚合物嵌段D當做主體形成,且硬質聚合物相與軟質聚合物相一起形成連續的構造。
- 如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜用黏著劑組成物,其中丙烯酸系三嵌段共聚物(I)與丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之質量比(I)/(II)為59/41~30/70。
- 如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜用黏著劑組成物,其中聚合物嵌段A1、聚合物嵌段A2及聚合物嵌段C之合計質量(X),與聚合物嵌段B及聚合物嵌段D之合計之質量(Y)的比(X)/(Y),為33/67~45/55。
- 如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜用黏著劑組成物,其中聚合物嵌段A1、聚合物嵌段A2及聚合物嵌段C之合計質量(X),與聚合物嵌段B及聚合物嵌段D之合計之質量(Y)的比(X)/(Y),為39/61~43/57。
- 如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜用黏著劑組成物,其中丙烯酸系三嵌段共聚物(I)所含之聚合物嵌段 A1及聚合物嵌段A2當中,重量平均分子量小的聚合物嵌段的重量平均分子量(Mw(Alow))與重量平均分子量大的聚合物嵌段的重量平均分子量(Mw(Ahigh)),相對於丙烯酸系二嵌段共聚物(II)所含之聚合物嵌段C的重量平均分子量(Mw(C)),滿足:Mw(Alow)×0.5≦Mw(C)≦Mw(Ahigh)×2的關係。
- 如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜用黏著劑組成物,其中丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之聚合物嵌段C的重量平均分子量(Mw(C))為9,000~30,000。
- 一種黏著型光學薄膜,其係具有包含如申請專利範圍第1至7項中任一項之光學薄膜用黏著劑組成物的黏著劑層。
- 如申請專利範圍第8項之黏著型光學薄膜,其係用於影像顯示裝置。
- 一種光學薄膜用保護薄膜,其係具有包含如申請專利範圍第1至7項中任一項之光學薄膜用黏著劑組成物的黏著劑層。
- 如申請專利範圍第10項之光學薄膜用保護薄膜,其係用於影像顯示裝置。
- 如申請專利範圍第11項之光學薄膜用保護薄膜,其中該影像顯示裝置進一步具備如申請專利範圍第8項之黏著型光學薄膜。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010128931 | 2010-06-04 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201209120A TW201209120A (en) | 2012-03-01 |
TWI453265B true TWI453265B (zh) | 2014-09-21 |
Family
ID=45066866
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW100119493A TWI453265B (zh) | 2010-06-04 | 2011-06-03 | 光學薄膜用黏著劑組成物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5836943B2 (zh) |
TW (1) | TWI453265B (zh) |
WO (1) | WO2011152511A1 (zh) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013136653A (ja) * | 2011-12-28 | 2013-07-11 | Sekisui Chem Co Ltd | 表面保護粘着シート |
JP6056434B2 (ja) * | 2012-12-07 | 2017-01-11 | 大日本印刷株式会社 | 粘着剤組成物および表面保護フィルム |
KR101991974B1 (ko) * | 2013-04-02 | 2019-06-21 | 동우 화인켐 주식회사 | 점착제 조성물 |
JP6161505B2 (ja) * | 2013-10-16 | 2017-07-12 | 株式会社クラレ | 粘着剤組成物、及びこれを用いた粘着剤、粘着加工品 |
WO2015080244A1 (ja) | 2013-11-29 | 2015-06-04 | 三菱レイヨン株式会社 | (メタ)アクリル系共重合体、それを含む粘着剤組成物および粘着シート |
JP6850175B2 (ja) * | 2017-03-28 | 2021-03-31 | 綜研化学株式会社 | 粘着剤組成物、粘着剤、粘着シート、及び光学部材 |
EP3670623A1 (en) * | 2018-12-20 | 2020-06-24 | Nitto Belgium N.V | Pressure-sensitive adhesive tape for protection of coated glass and related methods and uses |
EP4169994A1 (en) | 2021-10-25 | 2023-04-26 | Nitto Belgium NV | Pressure-sensitive adhesive composition and surface protection sheets comprising the same |
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CN101548204A (zh) * | 2006-12-01 | 2009-09-30 | 可乐丽股份有限公司 | 光学膜用粘合剂 |
JP2010018796A (ja) * | 2008-06-11 | 2010-01-28 | Sekisui Chem Co Ltd | 表面保護接着シート |
JP2010106230A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-05-13 | Sekisui Chem Co Ltd | 粘着剤組成物 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3972693B2 (ja) * | 2002-03-15 | 2007-09-05 | 東洋インキ製造株式会社 | ガスバリア性積層体用基材、およびそれを用いたガスバリア性積層体 |
-
2011
- 2011-06-03 WO PCT/JP2011/062757 patent/WO2011152511A1/ja active Application Filing
- 2011-06-03 JP JP2012518459A patent/JP5836943B2/ja active Active
- 2011-06-03 TW TW100119493A patent/TWI453265B/zh active
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201209120A (en) | 2012-03-01 |
WO2011152511A1 (ja) | 2011-12-08 |
JPWO2011152511A1 (ja) | 2013-08-01 |
JP5836943B2 (ja) | 2015-12-24 |
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