TWI435134B - 透鏡模組及其形成方法 - Google Patents

Description

透鏡模組及其形成方法

本揭露書是有關於透鏡模組，且特別是有關於具有圖案化基底之透鏡模組及其形成方法。

微光學構件(micro-optical components)(例如，一維及/或二維透鏡組)一般用於例如是透鏡模組之元件中。可攜式電子產品之透鏡模組之設計與製造非常具有挑戰性。一些挑戰性因素包括：高生產量、固定價錢損耗、尺寸限制、效能改變、及功能需求。

第1圖顯示習知影像透鏡模組之剖面圖。請參照第1圖，習知影像透鏡模組10包括：第一雙平行面基底(plano-plano substrate)12，其具有形成於基底12之兩側上的第一透鏡14及第二透鏡16；第二雙平行面基底22，其具有形成於基底22之兩側上的第三透鏡24及第四透鏡26；以及夾置於第一基底12與第二基底22之間的間隔物(spacer)36。可於第二透鏡16上形成黑色阻光層(black yard coating(layer))18以作為光圈(aperture)。可於第四透鏡26上形成抗反射膜(antireflection film)28。間隔物36可分離第一基底12及第二基底22，使其間隔有預定間隙(predetermined gap)。此外，分別於第一基底12之前表面上及第二基底22之背表面上形成間隔物34及38。於間隔物(34、36、38)與基底(12、22)之間使用堆疊膠(stacking glue)32。

一般而言，當堆疊與對準影像透鏡模組10時，使用封裝技術。習知封裝的透鏡模組遭遇一些問題，例如間隔物造價昂貴、所使用之基底受限、間隔物厚度不精確、透鏡模組之光學中心因間隔物製程而造成對不準。

本發明一實施例提供一種透鏡模組，包括：一第一透鏡組，包括：一第一圖案化基底；一第一凹陷，形成自該第一圖案化基底之一第一表面；一第一透鏡元件，設置於該第一凹陷之中；以及一第二透鏡元件，設置於該第一圖案化基底之上，其中該第二透鏡元件對齊於穿過該第一透鏡元件之一光軸。

本發明一實施例提供一種透鏡模組的形成方法，包括：形成一第一透鏡組，該第一透鏡組之形成包括：提供一第一基底，具有一第一表面及一第二表面；自該第一基底之該第一表面移除部分的該第一基底以形成一第一凹陷；將一第一透鏡元件設置於該第一凹陷之中；以及將一第二透鏡元件設置於該第一基底之上，其中該第二透鏡元件對齊於穿過該第一透鏡元件之一光軸。

以下將詳細說明本發明實施例之製作與使用方式。然應注意的是，本發明提供許多可供應用的發明概念，其可以多種特定型式實施。文中所舉例討論之特定實施例僅為製造與使用本發明之特定方式，非用以限制本發明之範圍。此外，在不同實施例中可能使用重複的標號或標示。這些重複僅為了簡單清楚地敘述本發明，不代表所討論之不同實施例及/或結構之間必然具有任何關連性。再者，當述及一第一材料層位於一第二材料層上或之上時，包括第一材料層與第二材料層直接接觸或間隔有一或更多其他材料層之情形。為了簡單與清楚化，許多結構可能會繪成不同的尺寸。

作為本發明之關鍵特徵之一，本發明實施例提供圖案化基底，其具有開口或凹陷陣列，其中可形成或設置透鏡元件(lens elements)。可將兩圖案化基底對齊且堆疊，並接著將之切割成透鏡模組。透鏡模組包括第一圖案化基底，其具有至少一第一凹陷。第一凹陷之底部可包括大抵平坦的中間區域，其由第一圖案化基底之第一凹陷的突起側壁所圍繞。第一透鏡元件可設置於大抵平坦的中間區域之前表面上，而第二透鏡元件可設置於大抵平坦的中間區域之背表面上。透鏡結構之製作可藉由模製法(molding)而完成。透鏡可由具有UV固化高分子化合物(UV curable polymer compounds)之材料形成。披覆層可選擇性或擇一設置於第一透鏡元件或第二透鏡元件之上。

第2A及2B圖顯示根據本發明實施例處理一基底之剖面圖。請參照第2A及2B圖，提供基底100。基底100可為玻璃基底、熔融矽石(fused silica)基底、石英基底、氟化鈣(CaF₂ )基底、或其他光學級透明基底。基底100例如藉由蝕刻而部分移除以形成圖案化開口110a或110b之陣列，其例如為溝槽(trenches)、凹陷(recesses)、或溝道(grooves)，具有大抵平坦的中間區域，其由開口之突起側壁所圍繞。開口之截面的形狀可為圓形、矩形、六角形、八角形、或其他適合的幾何形狀。基底100亦可兩側皆部分移除，如第2C及2D圖所示。第3A-3C圖顯示根據本發明實施例之圖案化基底的剖面圖。在第3A圖中，圖案化基底101a中可形成有至少一第一凹陷及至少一第二凹陷。第一及第二凹陷的組合可為一兩側凹陷，其具有兩側突起之牆105a，其圍繞大抵平坦的中間區域103a。兩側突起牆之厚度H₁ 、H₃ 及大抵平坦的中間區域之厚度H₂ 分別小於300μm。兩側突起牆與大抵平坦的中間區域之總厚度(H₁ 、H₂ 、及H₃ )可小於300μm。在第3B圖中，圖案化基底101b可形成有單側凹陷(亦稱為第一凹陷)，其形成自基底101b之頂表面(或第一表面)。單側凹陷包括向上突起之牆105b，其圍繞大抵平坦的中間區域103b。向上突起之牆及大抵平坦的中間區域之厚度分別小於300μm。向上突起之牆與大抵平坦的中間區域之總厚度可小於300μm。在第3C圖中，圖案化基底101c可形成有單側凹陷(亦稱為第一凹陷)，其形成自基底101b之底表面(或第二表面)。單側凹陷包括向上突起之牆105c，其圍繞大抵平坦的中間區域103b。擇一地或選擇性地，可於圖案化基底之一側或兩側上沉積披覆層(未顯示)，其例如是鉻塗層(Cr coating)、IR塗層、AR塗層、及/或PR塗層。披覆層之沉積可藉由濺鍍或熱蒸鍍製程而進行。

第4A-4F圖顯示根據本發明實施例而於圖案化基底上形成透鏡之剖面圖。在第4A-4C圖之實施例中，可分別於圖案化基底101a、101b、及101c之大抵平坦的中間區域之第一表面上形成第一透鏡元件122。在第4D-4F圖之實施例中，可選擇性分別於圖案化基底101a、101b、及101c之大抵平坦的中間區域之第二表面上形成第二透鏡元件124。第一透鏡元件122可為設置於平坦的中間區域之第一表面上之凸透鏡(convex lens)，而第二透鏡元件124可為設置於平坦的中間區域之第二表面上之凸透鏡。在一實施例中，第二透鏡元件124對齊於穿過第一透鏡元件122之光軸(optical axis)。第一及第二透鏡元件可藉由透鏡形成技術而形成，特別是可使用玻璃上高分子透鏡(polymer-on-glass lens)之UV光浮雕法(UV-embossing)來製作堆疊的透鏡模組。可擇一地或選擇性地於第一透鏡元件或第二透鏡元件上形成披覆層，其例如是黑色阻光層或抗反射層。

第5圖顯示一實施例，其中堆疊了兩圖案化基底，並接著切割成複數個獨立的透鏡模組。提供第二基底100b，其具有第二透鏡組之陣列(an array of second lens assemblies)形成於其中或其上。每一第二透鏡組對應至基底100a之其中一第一透鏡組。第二基底100b對齊且堆疊於第一基底100a。可於第二透鏡組與第一透鏡組之間塗佈黏著層。可進行堆疊基底之切割以將堆疊基底分離成複數個獨立的透鏡模組。

據此，可因而提供透鏡組(lens assembly)或堆疊透鏡模組(stacked lens module)。第6圖顯示根據本發明實施例之透鏡組的剖面圖。在第6圖中，透鏡組200包括具有兩側凹陷之圖案化基底。凹陷包括兩側突起之牆201，其圍繞大抵平坦的中間區域203。可於大抵平坦的中間區域203之第一表面上設置凸透鏡元件212。可於大抵平坦的中間區域203之第二表面上設置凸透鏡元件214。換言之，透鏡元件214可設置於自基底之下表面所形成之凹陷中。可於凸透鏡元件212上設置抗反射層(antireflection layer，AR layer)216。可於凸透鏡元件214上設置黑色阻光層218以作為透鏡組200之光圈(aperture)。

第7圖顯示根據本發明一實施例之堆疊透鏡模組織剖面圖。在第7圖中，堆疊透鏡模組300包括第二透鏡組，其對齊且堆疊於第6圖之第一透鏡組200之上。第二透鏡組包括圖案化基底，其具有向下突起之牆221，其圍繞大抵平坦中間區域223。可於大抵平坦中間區域223之第二表面上設置凸透鏡元件232。可擇一或選擇性地於凸透鏡元件232上設置抗反射(AR)層234。可於第二透鏡組與第一透鏡組之間夾置黏著層235。在一實施例中，透鏡元件212、214、及232對齊於穿過透鏡元件212之光軸。

第8A-8D圖顯示根據本發明一實施例之透鏡組的製程剖面圖。請參照第8A圖，提供基底400，其例如是裸玻璃基底或玻璃晶圓。於基底400之兩側上形成圖案化光阻層410以露出將被部分移除之基底400的表面。進行適當的移除製程(例如，濕式蝕刻、乾式蝕刻、或其他物理處理)以於基底400之兩側上製造開口407(或凹陷407)，如第8B圖所示。

請參照第8C圖，緊接著將圖案化光阻層410自基底移除，留下包含兩側凹陷之圖案化基底。基底包括兩側突起之牆403及405，其圍繞大抵平坦中間區域401。可於大抵平坦中間區域401之第一表面上設置凸透鏡元件412。可於大抵平坦中間區域401之第二表面上設置凸透鏡元件414。換言之，透鏡元件412可設置於形成自圖案化基底之上表面之凹陷中，而透鏡元件414可設置於形成自圖案化基底之下表面之凹陷中。可於凸透鏡元件412上設置抗反射層416。可於凸透鏡元件414上設置黑色阻光層418，如第8D圖所示。可進行附加的切割製程以將基底分離成複數個獨立的透鏡組。在一實施例中，透鏡元件412及414對齊於穿過透鏡元件412之光軸。

第9A-9E圖顯示根據本發明另一實施例之透鏡組的製程剖面圖。請參照第9A圖，提供基底400，其例如是裸玻璃基底。於基底400之前表面(或第一表面)上形成圖案化光阻層410，露出基底400之將被部分移除的表面。於基底400之背表面(或第二表面)上形成另一光阻層410’。進行適合的移除製程(例如，濕式蝕刻、乾式蝕刻、或其他物理處理製程)以於基底400之前表面上製造開口407(或凹陷)，如第9B圖所示。

請參照第9C圖，緊接著自基底大抵移除光阻層410及410’，留下圖案化基底，其包含單側凹陷，形成自圖案化基底之前表面(第一側)，且朝向圖案化基底之背表面(第二側)。凹陷包括向上突起之牆403，其圍繞大抵平坦中間區域401。可於大抵平坦中間區域401之第一表面上設置凸透鏡元件412。換言之，可將凸透鏡元件412設置於形成自前表面之凹陷中。可於大抵平坦中間區域401的第二表面上設置凸透鏡元件414。可於凸透鏡元件412上設置抗反射層416。可於凸透鏡元件414上設置黑色阻光層418，如第9D圖所示。可於圖案化基底之背表面上設置間隔物424，且間隔物424圍繞凸透鏡元件414，其中可於間隔物424與圖案化基底之背表面之間使用黏著層422，如第9E圖所示。可進行附加的切割製程以將基底分離成複數個獨立的透鏡組。在一實施例中，透鏡元件412及414對齊於穿過透鏡元件412之光軸。

第10A-10E圖顯示根據本發明又一實施例之透鏡組的製程剖面圖。請參照第10A圖，提供基底400，其例如是裸玻璃基底。於基底400之背表面(或第二表面)上形成圖案化光阻層410，露出基底400之將被部分移除的表面。於基底400之前表面(或第一表面)上形成另一光阻層410’。進行適合的移除製程(例如，濕式蝕刻、乾式蝕刻、或其他物理處理製程)以於基底400之背表面上製造開口407(或凹陷)，如第10B圖所示。

請參照第10C圖，緊接著自基底大抵移除光阻層410及410’，留下圖案化基底，其包含單側凹陷，形成自圖案化基底之背表面(第二側)。凹陷包括向下突起之牆405，其圍繞大抵平坦中間區域401。可於大抵平坦中間區域401之第一表面上設置凸透鏡元件412。可於大抵平坦中間區域401之第二表面上設置凸透鏡元件414。換言之，可於圖案化基底的前表面上設置凸透鏡元件412，而可將凸透鏡元件414設置於形成自圖案化基底之背表面的凹陷中。可於凸透鏡元件412上設置抗反射層416。可於凸透鏡元件414上設置黑色阻光層418，如第10D圖所示。可於圖案化基底之前表面上設置間隔物424，且間隔物424圍繞凸透鏡元件412，其中可於間隔物424與圖案化基底之前表面之間使用黏著層422，如第10E圖所示。可進行附加的切割製程以將基底分離成複數個獨立的透鏡組。在一實施例中，透鏡元件412及414對齊於穿過透鏡元件412之光軸。

第11A-11AA圖顯示根據本發明各種實施例之堆疊透鏡模組的剖面圖。在第11A圖中，第二透鏡組500a’對齊並堆疊於第一透鏡組500a之下，其中第一透鏡組500a與第二透鏡組500a’之間夾置有黏著層602。在一實施例中，第一透鏡組500a包括第一圖案化基底501，其具有第一凹陷及第二凹陷。第一及第二凹陷包括突起牆，圍繞大抵平坦中間區域。第一透鏡元件502設置於大抵平坦中間區域之第一表面上，而第二透鏡元件504設置於大抵平坦中間區域之第二表面上。換言之，第一透鏡元件502及第二透鏡元件504分別設置於形成自第一圖案化基底501之相反表面的凹陷中。可於第一透鏡元件502上設置抗反射層514，並可於第二透鏡元件504上設置黑色阻光層512。第二透鏡組500a’包括第二圖案化基底503，其具有第三凹陷及第四凹陷。第三及第四凹陷包括突起牆，圍繞大抵平坦中間區域。第三透鏡元件506設置於第三凹陷(其包括大抵平坦中間區域)之第一表面上，而第四透鏡元件508設置於第四凹陷(其包括大抵平坦中間區域)之第二表面上。換言之，第三透鏡元件506及第四透鏡元件508分別設置於形成自第二圖案化基底503之相反表面的凹陷中。可於第四透鏡元件508上設置抗反射層516。在一實施例中，所有的透鏡元件對齊於相同的光軸。例如，透鏡元件502、504、506、及508對齊於穿過第一透鏡元件502之光軸。

在其他實施例中，第11A圖之堆疊透鏡模組可更包括夾置於第一透鏡組500a與第二透鏡組500a’之間的間隔物604，如第11Z圖所示。

請參照第11B圖，第二透鏡組500b對齊且堆疊於第一透鏡組500a之下，其中黏著層602夾置於第一透鏡組500a與第二透鏡組500b之間。在一實施例中，第二透鏡組500b包括第二圖案化基底503b，其具有第三凹陷，形成自第二圖案化基底503b之頂表面(或第三側)。第三凹陷包括向上突起牆，其圍繞大抵平坦中間區域。第三透鏡元件506設置於第三凹陷之第一表面(或底表面)上，而第四透鏡元件508設置於第二圖案化基底相反於第三凹陷之背表面(或第四側)上。第四透鏡元件508上設置有第二抗反射層516。在第二圖案化基底503b之第二表面上設置有第一間隔物606，其圍繞第四透鏡元件508。在其他實施例中，第11B圖之堆疊透鏡模組可更包括夾置於第一透鏡組500a與第二透鏡組500b之間的第二間隔物604，如第11AA圖所示。

請參照第11C圖，第二透鏡組500c對齊且堆疊於第一透鏡組500a之下，其中黏著層602夾置於第一透鏡組500a與第二透鏡組500c之間。在一實施例中，第二透鏡組500c包括第二圖案化基底503c，其具有第四凹陷，形成自第二圖案化基底503c之底表面。第四凹陷包括向下突起牆，其圍繞大抵平坦中間區域。透鏡元件508設置於第四凹陷之大抵平坦中間區域的第二表面上。透鏡元件508上設置有第二抗反射層516。在其他實施例中，第11C圖之堆疊透鏡模組可更包括夾置於第一透鏡組500a與第二透鏡組500c之間的間隔物604，如第11D圖所示。透鏡元件506設置於第二圖案化基底之相反於第四凹陷的第二表面上。

請參照第11E圖，第二透鏡組500d對齊且堆疊於第一透鏡組500a之下，其中黏著層602夾置於第一透鏡組500a與第二透鏡組500d之間。在一實施例中，第二透鏡組500d包括雙平面基底503d。透鏡元件508設置於雙平面基底503d的第二表面(或第二側)上。透鏡元件508上設置有第二抗反射層516。第一間隔物606設置於雙平面基底503d之背側上，且圍繞透鏡元件508。在其他實施例中，第11E圖之堆疊透鏡模組可更包括夾置於第一透鏡組500a與第二透鏡組500d之間的第二間隔物604，如第11F圖所示。

請參照第11H圖，第二透鏡組500b對齊且堆疊於第一透鏡組500a之上，其中第二黏著層602夾置於第一透鏡組500a與第二透鏡組500c之間。在一實施例中，第二透鏡組500b包括第二圖案化基底503b，其具有第三凹陷，形成自第二圖案化基底503b之頂表面。第三凹陷包括向上突起牆，其圍繞大抵平坦中間區域。第三透鏡元件506設置於第三凹陷之大抵平坦中間區域的第一表面上，而第四透鏡元件508設置於第二圖案化基底之相反於第三凹陷之第二表面上。第四透鏡元件508上設置有黑色阻光層512，而第三透鏡元件506上設置有抗反射層516。在其他實施例中，第11H圖之堆疊透鏡模組可更包括夾置於第一透鏡組500a與第二透鏡組500b之間的間隔物604，如第11G圖所示。

請參照第11M圖，第二透鏡組500c對齊且堆疊於第一透鏡組500a之上，其中黏著層602夾置於第一透鏡組500a與第二透鏡組500c之間。在一實施例中，第二透鏡組500c包括第二圖案化基底503c，其具有第四凹陷，形成自第二圖案化基底之底表面。第四凹陷包括向下突起牆，其圍繞大抵平坦中間區域。第三透鏡元件設置於第二圖案化基底之相反於第四凹陷的第一表面上，而第四透鏡元件設置於第四凹陷之第二表面上。第三透鏡元件上設置有抗反射層，而第四透鏡元件上設置有黑色阻光層。第一間隔物608設置於第二圖案化基底之第一表面上，且圍繞第三透鏡元件。在其他實施例中，第11M圖之堆疊透鏡模組可更包括夾置於第一透鏡組500a與第二透鏡組500c之間的第二間隔物604，如第11N圖所示。

請參照第11U圖，第二透鏡組500d對齊且堆疊於第一透鏡組500a之上，其中黏著層602夾置於第一透鏡組500a與第二透鏡組500d之間。在一實施例中，第二透鏡組500d包括雙平面基底503d。第三透鏡元件506設置於雙平面基底503d之第一表面上，而第四透鏡元件508設置於雙平面基底503d的第二表面上。第三透鏡元件506上設置有抗反射層514，而第四透鏡元件508上設置有黑色阻光層512。第一間隔物608設置於雙平面基底503d之前側上，且圍繞第三透鏡元件506。在其他實施例中，第11U圖之堆疊透鏡模組可更包括夾置於第一透鏡組500a與第二透鏡組500d之間的第二間隔物604，如第11V圖所示。

請參照第11I圖，第二透鏡組500b’對齊且堆疊於第一透鏡組500b之下，其中黏著層602夾置於第一透鏡組500b與第二透鏡組500b’之間。在一實施例中，第一透鏡組500b包括第一圖案化基底，其具有第一凹陷，形成自第一圖案化基底之頂表面。第一凹陷包括向上突起牆，其圍繞大抵平坦中間區域。第一透鏡元件502設置於第一凹陷之第一表面上，而第二透鏡元件504設置於第一圖案化基底相反於第一凹陷之第二表面上。第一透鏡元件502上設置有抗反射層，而第二透鏡元件上設置有黑色阻光層。第二透鏡組500b’包括第二圖案化基底，其具有第三凹陷，形成自第二圖案化基底之頂表面。第三凹陷包括向上突起牆，其圍繞大抵平坦中間區域。第三透鏡元件506設置於第二圖案化基底之第三凹陷之第一表面上，而第四透鏡元件508設置於第二圖案化基底相反於第三凹陷之第二表面上。第四透鏡元件508上設置有第二抗反射層。在第二圖案化基底之背側上設置有第一間隔物606，其圍繞第四透鏡元件508。在其他實施例中，第11I圖之堆疊透鏡模組可更包括夾置於第一透鏡組500b與第二透鏡組500b’之間的第二間隔物604，如第11J圖所示。

請參照第11K圖，第二透鏡組500c對齊且堆疊於第一透鏡組500b之下，其中黏著層602夾置於第一透鏡組500b與第二透鏡組500c之間。在一實施例中，第二透鏡組500c包括第二圖案化基底，其具有第四凹陷，形成自第二圖案化基底之底表面。第四凹陷包括向下突起牆，其圍繞大抵平坦中間區域。第三透鏡元件設置於第二圖案化基底之相反於第四凹陷的第一表面上，而第四透鏡元件設置於第二圖案化基底之第四凹陷中。第四透鏡元件上設置有抗反射層。間隔物604可夾置於第一透鏡組500b與第二透鏡組500c之間。

請參照第11L圖，第二透鏡組500d對齊且堆疊於第一透鏡組500b之下，其中黏著層602夾置於第一透鏡組500b與第二透鏡組500d之間。在一實施例中，第二透鏡組500d包括雙平面基底。第三透鏡元件設置於雙平面基底的第一表面上，而第四透鏡元件設置於雙平面基底的第二表面上。第四透鏡元件上設置有第二抗反射層。第一間隔物606設置於雙平面基底503d之背側上，且圍繞第四透鏡元件508。第二間隔物604夾置於第一透鏡組500a與第二透鏡組500d之間。

請參照第11O圖，第二透鏡組500b對齊且堆疊於第一透鏡組500c之下，其中黏著層602夾置於第一透鏡組500c與第二透鏡組500b之間。在一實施例中，第一透鏡組500c包括第一圖案化基底，其具有第二凹陷，形成自第一圖案化基底之底表面。第二凹陷包括向下突起牆，其圍繞大抵平坦中間區域。第一透鏡元件設置於第一圖案化基底之相反於第二凹槽的第一表面上，而第二透鏡元件設置於第二凹槽之第二表面上。第一透鏡元件上設置有抗反射層，而第二透鏡元件上設置有黑色阻光層。第二透鏡組500b包括第二圖案化基底，其具有第三凹陷，形成自第二圖案化基底之頂表面。第三凹陷包括向上突起牆，其圍繞大抵平坦中間區域。第三透鏡元件設置於第二圖案化基底之第三凹陷中，而第四透鏡元件設置於第二圖案化基底相反於第三凹陷之第二表面上。第四透鏡元件508上設置有第二抗反射層。在第一圖案化基底之前側上設置有第一間隔物608，其圍繞第一透鏡元件。在第二圖案化基底之背側上設置有第二間隔物606，其圍繞第四透鏡元件。在其他實施例中，第11O圖之堆疊透鏡模組可更包括夾置於第一透鏡組500c與第二透鏡組500b之間的第三間隔物604，如第11P圖所示。

請參照第11X圖，第二透鏡組500d對齊且堆疊於第一透鏡組500b之下，其中黏著層602夾置於第一透鏡組500b與第二透鏡組500d之間。在一實施例中，第二透鏡組500d包括雙平面基底。第三透鏡元件設置於雙平面基底之第一表面上，而第四透鏡元件設置於雙平面基底的第二表面上。第三透鏡元件上設置有抗反射層，而第四透鏡元件上設置有黑色阻光層。第一間隔物604設置於雙平面基底之前側上，且圍繞第三透鏡元件。第二間隔層606設置於第一圖案化基底之背側上，且圍繞第二透鏡元件。在其他實施例中，第11X圖之堆疊透鏡模組可更包括夾置於第一透鏡組500b與第二透鏡組500d之間的第三間隔物604，如第11W圖所示。

請參照第11Q圖，第二透鏡組500c’對齊且堆疊於第一透鏡組500c之下，其中黏著層602夾置於第一透鏡組500c與第二透鏡組500c’之間。在一實施例中，第二透鏡組500c’包括第二圖案化基底，其具有第四凹陷，形成自第二圖案化基底之底表面。第四凹陷包括向下突起牆，其圍繞大抵平坦中間區域。第三透鏡元件設置於第二圖案化基底相反於第四凹陷之第一表面上，而第四透鏡元件設置於第四凹陷中。第四透鏡元件上設置有第二抗反射層。在第一圖案化基底之前側上設置有第一間隔物608，其圍繞第一透鏡元件。在其他實施例中，第11Q圖之堆疊透鏡模組可更包括夾置於第一透鏡組500c與第二透鏡組500c’之間的第二間隔物604，如第11R圖所示。

請參照第11S圖，第二透鏡組500d對齊且堆疊於第一透鏡組500c之下，其中黏著層602夾置於第一透鏡組500c與第二透鏡組500d之間。在一實施例中，第二透鏡組500d包括雙平面基底。第三透鏡元件設置於雙平面基底的第一表面上，而第四透鏡元件設置於雙平面基底的第二表面上。第四透鏡元件上設置有第二抗反射層。第一間隔物608設置於第一圖案化基底之前側上，且圍繞第一透鏡元件。在其他實施例中，第11S圖之堆疊透鏡模組可更包括夾置於第一透鏡組500c與第二透鏡組500d之間的第三間隔物604，如第11T圖所示。

請參照第11Y圖，第二透鏡組500d對齊且堆疊於第一透鏡組500c之上，其中黏著層602夾置於第一透鏡組500c與第二透鏡組500d之間。在一實施例中，第二透鏡組500d包括雙平面基底。第三透鏡元件設置於雙平面基底的第一表面上，而第四透鏡元件設置於雙平面基底的第二表面上。第三透鏡元件上設置有抗反射層，而第四透鏡元件上設置有黑色阻光層。第一間隔物608設置於雙平面基底之前側上，且圍繞第三透鏡元件。第二間隔物604設置於第一透鏡組500c與第二透鏡組500d之間。

在所有上述實施例中，透鏡元件可全部或至少部分對齊於相同的光軸。

雖然本發明已以數個較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作任意之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

10．．．透鏡模組

12．．．基底

14、16．．．透鏡

18．．．黑色阻光層

22．．．基底

24、26．．．透鏡

28．．．抗反射膜

32．．．堆疊膠

34、36、38．．．間隔物

100、100a、100b、101a、101b、101c．．．基底

103a、103b．．．中間區域

105a、105b、105c．．．牆

110a、110b．．．開口

122、124．．．透鏡元件

200．．．透鏡組

201．．．牆

203．．．中間區域

212、214．．．透鏡元件

216．．．抗反射層

218．．．黑色阻光層

221．．．牆

223．．．中間區域

232．．．透鏡元件

234．．．抗反射層

235．．．黏著層

300．．．透鏡模組

400．．．基底

401．．．中間區域

403、405．．．牆

407．．．開口(或凹陷)

410、410’．．．光組層

412、414．．．透鏡元件

416．．．抗反射層

418．．．黑色阻光層

422．．．黏著層

424．．．間隔物

500a、500a’、500b、500b’、500c、500c’、500d．．．透鏡組

501．．．基底

502．．．透鏡元件

503、503b、503c、503d．．．基底

504、506、508．．．透鏡元件

512．．．黑色阻光層

514、516．．．抗反射層

602．．．黏著層

604、606、608．．．間隔物

H₁ 、H₂ 、H₃ ．．．厚度

第1圖顯示習知影像透鏡模組之剖面圖。

第2A-2D圖顯示根據本發明實施例，對基底進行處理之剖面圖。

第3A-3C圖顯示根據本發明實施例之各種圖案化基底。

第4A-4F圖顯示根據本發明實施例，於圖案化基底上形成透鏡之剖面圖。

第5圖顯示根據本發明實施例，堆疊兩圖案化基底，並接著將之切割成複數個獨立的透鏡模組之立體圖。

第6圖根據本發明一實施例之透鏡組的剖面圖。

第7圖根據本發明一實施例之堆疊透鏡模組的剖面圖。

第8A-8D圖顯示根據本發明一實施例之透鏡組的製程剖面圖。

第9A-9E圖顯示根據本發明另一實施例之透鏡組的製程剖面圖。

第10A-10E圖顯示根據本發明又一實施例之透鏡組的製程剖面圖。

第11A-11Z、11AA圖顯示根據本發明實施例之堆疊透鏡模組的剖面圖。

200．．．透鏡組

201．．．牆

203．．．中間區域

212、214．．．透鏡元件

216．．．抗反射層

218．．．黑色阻光層

Claims (9)

1. 一種透鏡模組，包括：一第一透鏡組，包括：一第一圖案化基底；一第一凹陷，形成自該第一圖案化基底之一第一表面；一第一透鏡元件，設置於該第一凹陷之中；一第二透鏡元件，設置於該第一圖案化基底之上，其中該第二透鏡元件對齊於穿過該第一透鏡元件之一光軸；以及一第二凹陷，形成自該第一圖案化基底之一第二表面，其中該第二透鏡元件設置於該第二凹陷之中。
2. 如申請專利範圍第1項所述之透鏡模組，更包括一披覆層，設置於該第二透鏡元件之上，其中該披覆層包括一黑色阻光層或一抗反射層。
3. 如申請專利範圍第1項所述之透鏡模組，其中該第一圖案化基底之一厚度小於300μm。
4. 如申請專利範圍第1項所述之透鏡模組，更包括：一第二透鏡組，對齊且堆疊於該第一透鏡組之上；一間隔物，夾置於該第二透鏡組與該第一透鏡組之間；以及一黏著層，夾置於該第二透鏡組與該第一透鏡組之間，其中該第二透鏡組包括：一第二圖案化基底；一第三凹陷，形成自該第二圖案化基底之一底表面； 以及一第三透鏡元件，設置於該第三凹陷之中，其中該第三透鏡元件對齊於穿過該第一透鏡元件之該光軸。
5. 如申請專利範圍第4項所述之透鏡模組，更包括：一第四透鏡元件，設置於該第二圖案化基底之上，其中該第四透鏡元件對齊於穿過該第一透鏡元件之該光軸，且該第四透鏡元件設置於該第二圖案化基底之一頂表面之上；一第四凹陷，形成自該第二圖案化基底之一頂表面，其中該第四透鏡元件設置於該第四凹陷之中；以及一第二披覆層，設置於該第三透鏡元件或該第四透鏡元件之上。
6. 如申請專利範圍第1項所述之透鏡模組，更包括一第二透鏡組，對齊且堆疊於該第一透鏡組之上；一第一間隔物設置於該雙平行面基底之該第一側之上；以及一第二間隔物設置於該雙平行面基底之該第二側之上，且圍繞該第四透鏡元件，其中該第二透鏡組包括：一雙平行面基底，具有一第一側及一第二側；一第三透鏡元件，設置於該雙平行面基底之該第一側之上，其中該第三透鏡元件對齊於穿過該第一透鏡元件之該光軸，且該第一間隔物圍繞該第三透鏡元件；以及一黏著層，夾置於該第二透鏡組與該第一透鏡組之間。
7. 如申請專利範圍第6項所述之透鏡模組，更包括一 第四透鏡元件，設置於該雙平行面基底之該第二側之上。
8. 一種透鏡模組的形成方法，包括：形成一第一透鏡組，該第一透鏡組之形成包括：提供一第一基底，具有一第一表面及一第二表面；自該第一基底之該第一表面移除部分的該第一基底以形成一第一凹陷；自該第一基底之該第二表面移除部分的該第一基底以形成一第二凹陷；將一第一透鏡元件設置於該第一凹陷之中；以及將一第二透鏡元件設置於該第二凹陷之中，其中該第二透鏡元件對齊於穿過該第一透鏡元件之一光軸。
9. 如申請專利範圍第8項所述之透鏡模組的形成方法，更包括：形成一第二透鏡組；將該第一透鏡組設置於該第二透鏡組之上；以及於該第一透鏡組與該第二透鏡組之間形成一黏著層。