KR100867520B1 - 결상 렌즈 및 그 제조 방법 - Google Patents
결상 렌즈 및 그 제조 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100867520B1 KR100867520B1 KR1020070039391A KR20070039391A KR100867520B1 KR 100867520 B1 KR100867520 B1 KR 100867520B1 KR 1020070039391 A KR1020070039391 A KR 1020070039391A KR 20070039391 A KR20070039391 A KR 20070039391A KR 100867520 B1 KR100867520 B1 KR 100867520B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- lens
- lens member
- transparent substrate
- forming
- substrate
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 94
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims abstract description 62
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 58
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 40
- 230000003362 replicative effect Effects 0.000 claims abstract description 13
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 63
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 12
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 12
- -1 SiNO Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910000980 Aluminium gallium arsenide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910016006 MoSi Inorganic materials 0.000 claims description 8
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 8
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 claims 3
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 claims 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 16
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 12
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 9
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000010076 replication Effects 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 4
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 4
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 4
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
- B29D11/00009—Production of simple or compound lenses
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0012—Arrays characterised by the manufacturing method
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S359/00—Optical: systems and elements
- Y10S359/90—Methods
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Ophthalmology & Optometry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Lens Barrels (AREA)
Abstract
본 발명은 투명 기판; 상기 투명 기판의 상측에 구비된 상부 렌즈 부재; 및 상기 투명 기판의 아래측에 상기 상부 렌즈 부재에 대응하여 구비된 하부 렌즈 부재를 포함하고, 상기 상부 렌즈 부재 또는 하부 렌즈 부재는 각각의 렌즈 요소를 둘러싸고 상기 렌즈 요소의 높이보다 높은 격벽을 구비하는 것을 특징으로 하는 결상 렌즈 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명은 투명 기판의 한쪽 면 또는 양쪽 면에 렌즈 요소의 높이보다 높고 상부면이 평평한 격벽을 렌즈 요소와 함께 복제 형성함으로써, 투명 기판의 반대면에 추가의 렌즈 요소를 복제할 때 먼저 복제된 렌즈 요소의 변형을 방지하는 격벽을 구비한 결상 렌즈를 제공할 수 있다.
결상 렌즈, 다이싱(dicing) 공정, 격벽
Description
도 1a는 종래의 레플리카 렌즈를 구비한 카메라 모듈을 도시한 단면도.
도 1b는 종래의 레플리카 렌즈를 다이싱하는 과정을 설명하기 위한 예시도.
도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 일실시예에 따라 결상 렌즈를 제조하는 방법에 따른 공정 단면도.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따라 결상 렌즈를 제조하는 방법에 의해 제작된 결상 렌즈의 단면도.
도 4a 내지 도 4e는 본 발명의 다른 실시예에 따른 결상 렌즈의 제조 방법에 따른 공정 단면도.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 결상 렌즈의 제조 방법에 의해 제작된 결상 렌즈의 단면도.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
500: 베이스 510: 마스터 몰드
511: 격벽 600: 폴리머
700: 제 1 기판 800: 투명 기판
810: IR 차단 필터 820: 스탑
830: 렌즈용 투명 폴리머 831: 상부 렌즈 부재
832: 상부 격벽 833: 렌즈 요소
841: 하부 렌즈 부재 842: 하부 격벽
850: 다이싱 테이프
본 발명은 결상 렌즈 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 특히 다이싱 공정의 문제점을 해소하고 렌즈 요소의 변형을 방지하여 제조된 결상 렌즈 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
최근 사용되고 있는 이미지 센서(image sensor)의 화소(pixel) 크기가 점점 작아지면서 이러한 이미지 센서를 이용하는 광학 장치에 장착되는 광 소자 역시 소형화되고 있으며, 광 소자들의 소형화로 인하여 각각의 광학 장치를 조립하는데 큰 어려움이 있다. 이러한 문제점을 해결하기 위해 대량 생산이 가능하고 웨이퍼 규모(wafer scale)로 제작이 용이한 핫 엠보싱(Hot embossing), UV 엠보싱과 같은 레플리케이션(replication) 방법에 의한 광 소자의 제작이 이루어지고 있다.
레플리카 방법은 CD나 DVD와 같은 정보 저장 장치 또는 마이크로 렌즈를 제조하기 위해 공지된 기술로서, 보통 유리나 플라스틱을 기판으로 사용하여 기판 상에 여러 가지 형태의 복제층을 형성한다.
종래에는 도 1a에 도시된 바와 같이, 이미지 센서(103), 상기 이미지 센 서(103)에 부착된 제 1 스페이서(105), 상기 스페이서(105)에 부착된 커버 플레이트(107), 레플리카 방법에 의해 형성된 제 1 렌즈 요소(111)를 구비하는 제 1 렌즈 기판(109), 상기 제 1 렌즈 기판(109)에 부착되는 제 2 스페이서(123) 및 레플리카 방법에 의해 형성된 제 2 렌즈 요소(127)를 구비하는 제 2 렌즈 기판(125)을 구비하는 방식처럼, 렌즈의 광학적 특성을 확보하기 위하여 기판의 한쪽면에 렌즈 요소를 복제한 후 여러 개의 기판을 적층하는 방식을 적용하였다.
그러나, 이러한 방식은 여러 장의 기판을 적층함으로 인해 렌즈 요소의 높이가 높아지는 문제점이 발생한다.
이러한 문제점을 해결하기 위해서 도 1b에 도시된 바와 같이 기판(200)의 양면에 레플리카 방법을 이용하여 형성된 렌즈 요소를 구비하여 제작하지만, 이런 경우 한쪽 면에 복제층(210)을 형성한 후 반대면에 복제층(220)을 형성할 때 복제 공정에 따라 렌즈 요소가 손상되는 문제점이 있다.
또한, 복제 공정을 수행한 후, 선(300)을 따라 다이싱하여 각각의 렌즈 유닛으로 분리해 낼 때 다이싱 테이프(도시하지 않음)와의 접착면 확보를 위해서, 양면 중 한면의 렌즈 요소가 음의 굴절율을 가지는 형태로 제작되거나 또는 복제층이 형성된 기판에 다이싱을 위한 별도의 구조물을 구비해야 한다는 문제점이 있다.
본 발명은 다이싱 테이프에 대한 접착이 용이하여 다이싱 공정의 문제점을 해소하여, 복제 공정시 렌즈 요소의 변형을 방지할 수 있는 결상 렌즈의 제조 방법을 제공하는데 목적이 있다.
본 발명의 다른 목적은 복제 공정시 렌즈 요소의 변형을 방지할 수 있는 제조방법에 따라 제조된 결상 렌즈를 제공하는데 있다.
이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 투명 기판; 상기 투명 기판의 상측에 구비된 상부 렌즈 부재; 및 상기 투명 기판의 아래측에 상기 상부 렌즈 부재에 대응하여 구비된 하부 렌즈 부재를 포함하고, 상기 상부 렌즈 부재 또는 하부 렌즈 부재는 각각 렌즈 요소를 둘러싸고 상기 렌즈 요소의 높이보다 높은 격벽을 구비하는 것을 특징으로 하는 결상 렌즈에 관한 것이다.
본 발명에서 상기 투명 기판은 IR 차단막을 더 포함하는 것을 특징으로 하고, 상기 투명 기판은 스탑(stop)을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에서 상기 상부 렌즈 부재는 Ti, TiN, MoSi, SiNO, SiC, MoO3, Si3N4, AlGaAs, GaAs, CdSe 및 Inp의 일군에서 선택된 어느 하나의 금속성 재질, 또는 비정질 카본(amorphous carbon) 계열의 유기성 반사 방지막(organic bottom ARC)으로 이루어진 반사 방지막을 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에서 상기 상부 렌즈 부재 또는 하부 렌즈 부재에 구비된 렌즈 요소는 양 또는 음의 굴절능을 가지는 비구면 형태, 또는 상기 상부 렌즈 부재 또는 하부 렌즈 부재에 구비된 렌즈 요소는 양 또는 음의 굴절능을 가지는 회절면 형태를 가지는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 상부 렌즈 요소를 둘러싸고 상기 상부 렌즈 요소보다 높은 상부 격벽을 가지는 복수의 상부 렌즈 부재를 제 2 투명 기판상에 형성하는 단계; 상기 상부 렌즈 부재와 대응하는 하부 렌즈 부재를 상기 제 2 투명 기판의 하부면에 복수개로 복제 형성하는 단계; 및 상기 상부 격벽을 지나는 절단선을 따라 상기 제 2 투명 기판을 절단(dicing)하는 단계를 포함하는 결상 렌즈의 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명에서 상기 복수의 상부 렌즈 부재를 제 2 투명 기판 상에 형성하는 단계는 복수의 상부 렌즈 부재를 복제(replication)하기 위해 제 1 기판상에 스탬프를 형성하는 단계를 포함하고, 상기 스탬프를 이용하여 상기 복수의 상부 렌즈 부재를 제 2 투명 기판 상에 형성하는 것을 특징으로 한다.
본 발명은 상기 하부 렌즈 부재를 복제 형성하는 단계에서 상기 하부 렌즈 부재는 상기 상부 렌즈 부재의 상부 격벽에 대응하는 하부 격벽을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에서 상기 제 2 투명 기판을 절단하는 단계는 상기 상부 격벽 또는 하부 격벽에 대해 다이싱 테이프를 접착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에서 상기 복수의 상부 렌즈 부재를 제 2 투명 기판상에 형성하는 단계는 상기 상부 렌즈 부재에 대해 Ti, TiN, MoSi, SiNO, SiC, MoO3, Si3N4, AlGaAs, GaAs, CdSe 및 Inp의 일군에서 선택된 어느 하나의 금속성 재질, 또는 비정질 카본(amorphous carbon) 계열의 유기성 반사 방지막(organic bottom ARC)으로 이루어진 반사 방지막을 코팅하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명한다.
도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 일실시예에 따라 결상 렌즈를 제조하는 방법에 따른 공정 단면도이고, 도 3은 본 발명의 일실시예에 따라 제조된 결상 렌즈를 나타내는 단면도로서, 본 발명의 실시예에 따라 결상 렌즈를 제조하는 방법은 각각의 결상 렌즈 요소를 둘러싸는 격벽을 구비하여 다이싱 공정을 수행하는 방법을 설명하며, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에 그 상세한 설명은 생략한다.
도 2a에 도시된 바와 같이 본 발명의 실시예에 따른 결상 렌즈의 제조 방법은 베이스(400)의 일측면, 예를 들어 베이스(400)의 하측면에 결상 렌즈를 복제(replication)하기 위해 결상 렌즈와 동일한 형태로 이루어진 렌즈 몰드(402)와 격벽 몰드(401)로 구성된 마스터 몰드를 다수 접착 장착하여 마스터를 형성한다.
마스터 몰드의 격벽 몰드(401)는 렌즈 몰드(402)를 둘러싸고 렌즈 몰드(402)의 높이보다 높은 높이로 돌출되고 평탄한 상부면을 가지는 형태로 형성되며, 최종적으로 형성하고자 하는 결상 렌즈의 크기에 따라 렌즈 몰드(402)에 대해 격벽 몰드(401)는 "D"의 거리만큼 이격되어 형성될 수 있다. 여기서, 마스터 몰드의 렌즈 몰드(402)의 형태는 반구형 볼록 렌즈의 형태를 가지지만, 이에 한정되지 않고 오목 렌즈의 형태, 양 또는 음의 굴절능을 가지는 비구면 형태, 회절면 형태로 형성될 수도 있다.
이후, 도 2b에 도시된 바와 같이, 격벽 몰드(401)을 가지는 마스터 몰드를 다수 구비한 마스터를 상하 반전시키고, 격벽 몰드(401)을 포함한 마스터 몰드를 덮도록 폴리머(403)를 도포한다. 여기서, 폴리머(403)는 UV 경화성 폴리머 또는 포토폴리머 에폭시, 폴리카보네이트, PDMS(Polydimethylsiloane) 또는 PMMA(Polymethly Methacrylate) 수지 등과 같은 폴리머를 이용할 수 있다.
격벽 몰드(401)가 구성된 마스터 몰드를 덮도록 폴리머(403)를 도포한 후, 베이스(400)에 대응하여 상측에서 제 1 기판(410)으로 폴리머(403)를 압착하고 경화시켜, 폴리머(403)가 제 1 기판(410)의 하부면에 접착하게 한다. 여기서, 사용 되는 폴리머의 종류에 따라 UV를 조사하여 폴리머(403)를 경화시키는 UV 엠보싱 처리, 또는 열을 가하여 폴리머(403)를 경화시키는 핫 엠보싱(hot embossing) 처리가 수행될 수 있다.
특히, 도 2b에 도시된 제 1 기판(410)이 투명 기판인 경우에는 유리(glass), 실리카(fused silica), 석영(quartz), PDMS (Polydimethylsiloane), PMMA(Polymethly Methacrylate) 또는 PET (Polyethylene Terephthalate) 등의 재질로 이루어지고, UV 엠보싱 처리가 수행되어 폴리머(403)를 경화시킬 수 있다.
폴리머(403)를 경화시킨 후에 격벽 몰드(401)와 렌즈 몰드(402)가 구비된 마스터를 분리하면, 도 2c에 도시된 바와 같이 제 1 기판(410)의 하측면에 폴리머(403)로 형성된 스탬프 몰드(403-1)가 형성된다.
이와 같이 스탬프 몰드(403-1)를 형성하는 것과 별개로, 제 2 기판(420) 상에 알루미늄(Al)이나 크롬(Cr)과 같은 금속막 또는 감광성 폴리머막을 이용하여 스탑(stop: 430)을 형성하고, 제 2 기판(420)의 하측면에 IR 차단 필터(440)를 선택적으로 구비할 수 있다.
구체적으로, 알루미늄(Al)이나 크롬(Cr)과 같은 금속막으로 스탑(430)을 형성하는 경우에는 금속막의 높은 소수성으로 인해서 이후 스탑(430) 상에 도포되는 폴리머(450)와의 접착력이 떨어지므로, 금속막 위에 별도의 접착층을 형성하는 것이 필요하다.
반면에, 감광성 폴리머로 스탑(430)을 형성하는 경우에는 감광성 폴리머의 높은 친수성으로 인해서 폴리머(450)와의 접착력이 우수하므로, 추가로 감광성 수지층 위에 접착층을 형성할 필요가 없어지므로 공정상의 잇점이 있다.
또한, 금속막으로 스탑(430)을 형성하는 경우에는 노광, 금속막 증착, 금속막 제거의 순차적인 공정이 필요하나, 감광성 폴리머로 스탑(430)을 형성하는 경우에는 감광성 폴리머의 특성상 노광 공정만으로도 스탑(430)을 형성할 수 있어 제작 비용 및 시간을 단축할 수 있다.
한편, 알루미늄(Al)이나 크롬(Cr)과 같은 금속막은 높은 반사율을 가지므로 스탑(430)을 통과한 광이 제 2 기판(420) 이나 다른 렌즈 요소들에 대해 다시 반사되어 결과적으로 화상 저하를 가져오는 문제가 있는 반면에, 가시광 영역에서 높은 광 흡수율을 가지는 감광성 수지층을 사용할 경우, 상기와 같은 내부 전반사로 인한 화상 저하의 문제점을 해결할 수 있다. 여기서, 스탑(430)을 이루는 감광성 폴리머는 가시광 영역에서의 광 흡수율이 90% 이상인 것이 바람직하다.
이와 같이 상부면에 스탑(430)을 형성하고 하측면에 IR 차단 필터(440)를 구비한 제 2 기판(420)에 대해, 도 2c에 도시된 바와 같이 스탑(430)을 포함한 제 2 기판(420) 상에 렌즈용 투명 폴리머(450)를 도포한다.
제 2 기판(420) 상에 렌즈용 투명 폴리머(450)를 도포한 후, 스탬프 몰드(403-1)를 구비한 제 1 기판(410)을 이용하여 상측에서 제 2 기판(420) 상의 렌즈용 투명 폴리머(450)를 압착하고 경화시킨다. 여기서, 제 1 기판(410)의 스탬프 몰드(403-1)를 이용하여 제 2 기판(420) 상의 렌즈용 투명 폴리머(450)를 압착하는 경우, 스탬프 몰드(403-1)와 렌즈용 투명 폴리머(450)가 서로 접촉하지 않도록 선택적으로 스탬프 몰드(403-1)의 내면에 이형제(Release agent)를 충분히 발라 렌즈용 투명 폴리머(450)에 대해 스탬프 몰드(403-1)를 용이하게 분리할 수 있다. 따라서, 스탬프 몰드(403-1)를 이용하여 렌즈용 투명 폴리머(450)를 압착 경화한 후 분리하면, 도 2d에 도시된 바와 같이 스탬프 몰드(403-1)의 내측 형상을 그대로 제 2 기판(420) 상에 각각의 렌즈 요소(452)와 각 렌즈 요소(452)를 둘러싸고 렌즈 요소(452)의 높이보다 높고 상부면이 평평한 상부 격벽(451)을 포함한 상부 렌즈 부재가 복제 형성될 수 있다.
이어서, 선택적으로 제 2 기판(420)의 IR 차단 필터(440) 하측면에 대해 스탬프 몰드(403-1)와 유사한 다른 스탬프 몰드(도시하지 않음)를 이용하여 IR 차단 필터(440) 하측면에 도포된 다른 렌즈용 투명 폴리머를 압착 분리하여, 도 2d에 도시된 바와 같이 각각의 하부 렌즈 요소(453)를 상부 렌즈 부재의 렌즈 요소(452)에 대응하도록 복제 형성된다.
이때, 하부 렌즈 요소(453)가 상부 렌즈 부재의 상부 렌즈 요소(452)에 대응하도록 복제 형성될 때, 압착 과정에서 상부 렌즈 요소(452)가 손상되는 것을 상부 렌즈 부재의 상부 격벽(451)에 의해 방지할 수 있다.
또한, 하부 렌즈 요소(453)와 상부 렌즈 요소(452)에 대해 선택적으로 반사 방지막을 구비할 수 있고, 반사 방지막은 예컨대, Ti, TiN, MoSi, SiNO, SiC, MoO3, Si3N4, AlGaAs, GaAs, CdSe 및 Inp의 일군에서 선택된 어느 하나의 금속성 재질, 또는 비정질 카본(amorphous carbon) 계열의 유기성 반사 방지막(organic bottom ARC)을 사용할 수 있다.
이와 같이 제 2 기판(420)을 기준으로 상부면에 상부 격벽(451)과 상부 렌즈 요소(452)를 형성하고 하부면에 하부 렌즈 요소(453)를 형성한 후, 도 2e에 도시된 바와 같이 상부 격벽(451)에 대해 다이싱 테이프(460)를 접착할 수 있다.
도 2e에 도시된 바와 같이, 상부 렌즈 부재의 상부 격벽(451)은 각각 상부 렌즈 요소(452)의 높이보다 높고 평평한 상부면을 구비한 형태이므로, 다이싱 공정을 수행하기 위한 다이싱 테이프(460)를 접착하는데 용이하다.
이어서, 상부 격벽(451)에 대해 다이싱 테이프(460)를 접착한 상태에서, 도 2e에 도시된 바와 같이 각각의 상부 렌즈 요소(452)와 하부 렌즈 요소(453)를 일체로 각각 분리하기 위해 상부 격벽(451)을 관통하도록 설정된 절단선(470)을 따라 절단하는 다이싱(dicing) 공정을 수행한다.
여기서, 절단선(470)을 따라 절단하는 다이싱(dicing) 공정을 수행함에 있어서, 다이싱 공정을 수행하는 과정에서 이용되는 블레이드(blade)에 의한 상부 렌즈 요소(452)의 손상을 방지하기 위해 블레이드의 폭보다 상부 격벽(451)의 상부면 폭이 더 넓어야 한다.
따라서, 절단선(470)을 따라 다이싱(dicing) 공정을 수행하면, 도 3에 도시된 바와 같이 제 2 기판(420)을 기준으로 상부면의 스탑(430), 상부 격벽(451) 및 상부 렌즈 요소(452)를 구비하고, 하부면으로 IR 차단 필터(440) 및 하부 렌즈 요소(453)를 순차적으로 구비한 결상 렌즈가 제조된다.
이하, 본 발명의 다른 실시예에 따라 결상 렌즈를 제조하는 방법을 도면을 참조하여 설명한다.
도 4a 내지 도 4e는 본 발명의 다른 실시예에 따라 결상 렌즈를 제조하는 방법에 따른 공정 단면도이고, 도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따라 제조된 결상 렌즈를 나타내는 단면도이다.
먼저, 도 4a에 도시된 바와 같이 본 발명의 다른 실시예에 따른 결상 렌즈의 제조 방법은 베이스(500)의 일측면, 예를 들어 베이스(500)의 하측면에 결상 렌즈를 복제(replication)하기 위해 결상 렌즈와 동일한 형태로 이루어진 마스터 몰드(510)를 다수 접착 장착하여 마스터를 구비한다.
마스터 몰드(510)는 이후 형성될 렌즈 요소와 동일한 형태를 가지며, 각 렌즈 요소를 둘러싸고 렌즈 요소보다 높은 높이로 돌출되고 평탄한 상부면을 가지는 격벽(511)을 가진다. 여기서, 마스터 몰드(510)의 렌즈 요소의 형태는 반구형 볼록 렌즈의 형태를 가지지만, 이에 한정되지 않고 오목 렌즈의 형태, 양 또는 음의 굴절능을 가지는 비구면 형태, 회절면 형태로 형성될 수도 있다.
이후, 도 4b에 도시된 바와 같이, 격벽(511)을 가지는 마스터 몰드(510)를 다수 구비한 마스터를 상하 반전시키고, 격벽(511)을 포함한 마스터 몰드(510)를 덮도록 폴리머(600)를 도포한다. 여기서, 폴리머(600)는 UV 경화성 폴리머 또는 포토폴리머 에폭시, 폴리카보네이트, PMMA(Polymethly Methacrylate) 수지 또는 PDMS (Polydimethylsiloane) 등과 같은 폴리머를 이용할 수 있다.
격벽(511)이 구비된 마스터 몰드(510)를 덮도록 폴리머(600)를 도포한 후, 베이스(500)에 대응하여 상측에서 제 1 기판(700)으로 폴리머(600)를 압착하여, 폴리머(600)가 제 1 기판(700)의 하부면에 접착하고 제 1 기판(700)의 상부측에서 UV를 조사하여 폴리머(600)를 경화시키는 UV 엠보싱 처리를 수행한다. 물론, 사용되는 폴리머의 특성에 따라 UV를 조사하여 폴리머(600)를 경화시키는 UV 엠보싱 처리, 또는 열을 가하여 폴리머(600)를 경화시키는 핫 엠보싱(hot embossing) 처리가 수행될 수도 있다.
도 4b에 도시된 제 1 기판(700)은 유리(glass), 실리카(fused silica), 석영(quartz), PDMS (Polydimethylsiloane), PMMA(Polymethly Methacrylate) 또는 PET (Polyethylene Terephthalate) 등의 재질로 이루어지는 투명 기판일 수 있고, 제 1 기판(700)이 이러한 투명 기판인 경우 UV 엠보싱 처리가 수행되어 폴리머(600)를 경화시킬 수 있다.
폴리머(600)를 경화시킨 후에 격벽(511)이 구비된 마스터 몰드(510)를 분리하면, 도 4c에 도시된 바와 같이 제 1 기판(700)의 하측면에 폴리머(600)로 형성된 스탬프 몰드(610)가 형성된다.
이와 같이 스탬프 몰드(610)를 형성하는 것과 별개로, 제 2 투명 기판(800) 상에 알루미늄(Al)이나 크롬(Cr)과 같은 금속막 또는 감광성 폴리머막을 이용하여 스탑(stop: 820)을 형성하고, 제 2 투명 기판(800)의 하측면에 IR 차단 필터(810)를 구비한다.
구체적으로, 알루미늄(Al)이나 크롬(Cr)과 같은 금속막으로 스탑(820)을 형성하는 경우에는 금속막의 높은 소수성으로 인해서 이후 스탑(820) 상에 도포되는 폴리머(830)와의 접착력이 떨어지므로, 금속막 위에 별도의 접착층을 형성하는 것이 필요하다.
반면에, 감광성 폴리머로 스탑(820)을 형성하는 경우에는 감광성 폴리머의 높은 친수성으로 인해서 폴리머(830)와의 접착력이 우수하므로, 추가로 감광성 수지층 위에 접착층을 형성할 필요가 없어지므로 공정상의 잇점이 있다.
또한, 금속막으로 스탑(820)을 형성하는 경우에는 노광, 금속막 증착, 금속막 제거의 순차적인 공정이 필요하나, 감광성 폴리머로 스탑(820)을 형성하는 경우에는 감광성 폴리머의 특성상 노광 공정만으로도 스탑(820)을 형성할 수 있어 제작 비용 및 시간을 단축할 수 있다.
한편, 알루미늄(Al)이나 크롬(Cr)과 같은 금속막은 높은 반사율을 가지므로 스탑(820)을 통과한 광이 제 2 투명 기판(800) 이나 다른 렌즈 요소들에 대해 다시 반사되어 결과적으로 화상 저하를 가져오는 문제가 있는 반면에, 가시광 영역에서 높은 광 흡수율을 가지는 감광성 수지층을 사용할 경우, 상기와 같은 내부 전반사로 인한 화상 저하의 문제점을 해결할 수 있다. 여기서, 스탑(820)을 이루는 감광성 폴리머는 가시광 영역에서의 광 흡수율이 90% 이상인 것이 바람직하다.
이와 같이 상부면에 스탑(820)을 형성하고 하측면에 IR 차단 필터(810)를 구 비한 제 2 투명 기판(800)에 대해, 도 4d에 도시된 바와 같이 스탑(820)을 포함한 제 2 투명 기판(800) 상에 렌즈용 투명 폴리머(830)를 도포한다.
제 2 투명 기판(800) 상에 렌즈용 투명 폴리머(830)를 도포한 후, 스탬프 몰드(610)를 구비한 제 1 기판(700)을 이용하여 상측에서 제 2 투명 기판(800) 상의 렌즈용 투명 폴리머(830)를 압착하고, 제 2 투명 기판(800)의 상부측에서 UV를 조사하여 렌즈용 투명 폴리머(830)를 경화시키는 UV 엠보싱 처리를 수행한다. 여기서, 제 1 기판(700)의 스탬프 몰드(610)를 이용하여 제 2 투명 기판(800) 상의 렌즈용 투명 폴리머(830)를 압착하고 경화하는 경우, 스탬프 몰드(610)와 렌즈용 투명 폴리머(830)가 서로 접촉되지 않도록 선택적으로 스탬프 몰드(610)의 내면에 이형막을 형성하여 렌즈용 투명 폴리머(830)에 대해 스탬프 몰드(610)를 용이하게 분리할 수 있다.
따라서, 스탬프 몰드(610)를 이용하여 렌즈용 투명 폴리머(830)를 압착 경화하고 분리하면, 도 4e에 도시된 바와 같이 스탬프 몰드(610)의 내측 형태를 그대로 제 2 투명 기판(800) 상에 각각의 렌즈 요소(833)를 둘러싸고 렌즈 요소(833)의 높이보다 높고 상부면이 평평한 상부 격벽(832)을 포함한 상부 렌즈 부재(831)가 복제 형성될 수 있다.
또한, 선택적으로 제 2 투명 기판(800)의 IR 차단 필터(810) 하측면에 대해 상부 렌즈 부재(831)의 제조 과정과 동일하게, 스탬프 몰드(610)와 동일한 다른 스탬프 몰드(도시하지 않음)를 이용하여 IR 차단 필터(810) 하측면에 도포된 다른 렌즈용 투명 폴리머를 압착 경화하고 분리하여, 도 4e에 도시된 바와 같이 각각의 렌 즈 요소를 둘러싸고 렌즈요소의 높이보다 높고 상부면이 편평한 하부 격벽(842)을 포함한 하부 렌즈 부재(841)가 상부 렌즈 부재(831)에 대응하도록 복제 형성될 수 있다.
따라서, 하부 렌즈 부재(841)가 상부 렌즈 부재(831)에 대응하도록 복제 형성될 때, 압착 과정에서 상부 렌즈 부재(831)의 렌즈 요소가 손상되는 것을 상부 렌즈 부재(831)의 상부 격벽(832)에 의해 방지할 수 있다.
또한, 상부 렌즈 부재(831)와 하부 렌즈 부재(841)에 대해 선택적으로 반사 방지막(도시하지 않음)을 구비할 수 있고, 반사 방지막은 예컨대, Ti, TiN, MoSi, SiNO, SiC, MoO3, Si3N4, AlGaAs, GaAs, CdSe 및 Inp의 일군에서 선택된 어느 하나의 금속성 재질, 또는 비정질 카본(amorphous carbon) 계열의 유기성 반사 방지막(organic bottom ARC)을 사용할 수 있다.
이와 같이 제 2 투명 기판(800)을 기준으로 상부면과 하부면에 각각 상부 렌즈 부재(831)와 하부 렌즈 부재(841)를 형성한 후, 상부 렌즈 부재(831)와 하부 렌즈 부재(841)중 어느 하나의 격벽(832, 842)에 대해 다이싱 테이프를 접착하여, 도 4f에 도시된 바와 같이 하부 렌즈 부재(841)의 하부 격벽(842)에 대해 다이싱 테이프(850)를 접착할 수 있다.
도 4f에 도시된 바와 같이, 상부 렌즈 부재(831)의 상부 격벽(832)과 하부 렌즈 부재(841)의 하부 격벽(842)은 각각 렌즈 요소의 높이보다 높고 평평한 상부면을 구비한 형태이므로, 다이싱 공정을 수행하기 위한 다이싱 테이프(850)를 접착 하는데 용이하다.
이어서, 하부 렌즈 부재(841)의 하부 격벽(842)에 대해 다이싱 테이프(850)를 접착한 상태에서, 도 4f에 도시된 바와 같이 각각의 렌즈 요소를 구비한 상부 렌즈 부재(831)와 하부 렌즈 부재(841)를 일체로 각각 분리하기 위해 상부 격벽(832)과 하부 격벽(842)을 관통하여 설정된 다수의 절단선(900)을 따라 절단하는 다이싱(dicing) 공정을 수행한다.
여기서, 절단선(900)을 따라 절단하는 다이싱 공정을 수행함에 있어서, 다이싱 공정을 수행하는 과정에서 이용되는 블레이드(blade)에 의한 렌즈 요소의 손상을 방지하기 위해 블레이드의 폭보다 상부 격벽(832)과 하부 격벽(842)의 각 상부면 폭이 더 넓어야 한다.
따라서, 절단선(900)을 따라 다이싱(dicing) 공정을 수행하면, 도 5에 도시된 바와 같이 제 2 투명 기판(800)을 기준으로 상부면의 스탑(820)과 상부 격벽(832)을 가지는 상부 렌즈 부재(831)를 구비하고, 하부면으로 IR 차단 필터(810) 및 하부 격벽(842)을 가지는 하부 렌즈 부재(841)를 순차적으로 구비한 결상 렌즈가 제조된다.
이와 같이 본 발명의 실시예에 따른 결상 렌즈의 제조 방법에 따라 투명 기판의 한쪽 면 또는 양쪽 면에 렌즈 요소의 높이보다 높고 상부면이 평평한 격벽을 렌즈 요소와 함께 복제 형성함으로써, 투명 기판의 반대면에 추가의 렌즈 요소를 복제할 때 먼저 복제된 렌즈 요소의 변형을 격벽에 의해 방지하고, 렌즈 요소의 형상과 무관하게 다이싱 공정을 수행하기 위한 다이싱 테이프에 대한 접착면을 확보 하여 다이싱 공정의 편의를 도모할 수 있다.
본 발명의 기술사상은 상기 바람직한 실시예에 따라 구체적으로 기술되었으나, 전술한 실시예들은 그 설명을 위한 것이며, 그 제한을 위한 것이 아님을 주의하여야 한다.
또한, 본 발명의 기술분야의 통상의 전문가라면 본 발명의 기술사상의 범위내에서 다양한 실시가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.
상기한 바와 같이 본 발명은 투명 기판의 한쪽 면 또는 양쪽 면에 렌즈 요소의 높이보다 높고 상부면이 평평한 격벽을 렌즈 요소와 함께 복제 형성함으로써, 투명 기판의 반대면에 추가의 렌즈 요소를 복제할 때 먼저 복제된 렌즈 요소의 변형을 방지하는 격벽을 구비한 결상 렌즈를 제공할 수 있다.
또한, 본 발명은 렌즈 요소의 형상과 무관하게 렌즈 요소를 둘러싸고 렌즈 요소의 높이보다 높으며 상부가 평평한 격벽을 이용하여, 다이싱 공정을 수행하기 위한 다이싱 테이프에 대한 접착면을 확보하여 다이싱 공정의 편의를 도모할 수 있는 결상 렌즈의 제조 방법을 제공할 수 있다.
Claims (19)
- 일 면에 IR 차단막을 포함하며, 타 면에 감광성 폴리머 재질로 형성된 스탑(stop)을 포함하는 투명 기판;상기 투명 기판의 상측에 구비된 상부 렌즈 부재; 및상기 투명 기판의 아래측에 상기 상부 렌즈 부재에 대응하여 구비된 하부 렌즈 부재를 포함하고,상기 상부 렌즈 부재 또는 하부 렌즈 부재는 각각 렌즈 요소를 둘러싸고 상기 렌즈 요소의 높이보다 높은 격벽을 구비하는 것을 특징으로 하는 결상 렌즈.
- 삭제
- 삭제
- 제 1 항에 있어서,상기 상부 렌즈 부재는Ti, TiN, MoSi, SiNO, SiC, MoO3, Si3N4, AlGaAs, GaAs, CdSe 및 Inp의 일군에서 선택된 어느 하나의 금속성 재질, 또는 비정질 카본(amorphous carbon) 계열 의 유기성 반사 방지막(organic bottom ARC)으로 이루어진 반사 방지막을 구비하는 것을 특징으로 하는 결상 렌즈.
- 제 1 항에 있어서,상기 하부 렌즈 부재는Ti, TiN, MoSi, SiNO, SiC, MoO3, Si3N4, AlGaAs, GaAs, CdSe 및 Inp의 일군에서 선택된 어느 하나의 금속성 재질, 또는 비정질 카본(amorphous carbon) 계열의 유기성 반사 방지막(organic bottom ARC)으로 이루어진 반사 방지막을 구비하는 것을 특징으로 하는 결상 렌즈.
- 제 1 항에 있어서,상기 상부 렌즈 부재 또는 하부 렌즈 부재에 구비된 렌즈 요소는 양 또는 음의 굴절능을 가지는 비구면 형태인 것을 특징으로 하는 결상 렌즈.
- 제 1 항에 있어서,상기 상부 렌즈 부재 또는 하부 렌즈 부재에 구비된 렌즈 요소는 양 또는 음의 굴절능을 가지는 회절면 형태를 가지는 것을 특징으로 하는 결상 렌즈.
- 상부 렌즈 요소를 둘러싸고 상기 상부 렌즈 요소보다 높은 상부 격벽을 가지 는 복수의 상부 렌즈 부재를 제 2 투명 기판상에 형성하는 단계;상기 상부 렌즈 부재와 대응하는 하부 렌즈 부재를 상기 제 2 투명 기판의 하부면에 복수개로 복제 형성하는 단계; 및상기 상부 격벽을 지나는 절단선을 따라 상기 제 2 투명 기판을 절단(dicing)하는 단계를 포함하는 결상 렌즈의 제조 방법.
- 제 8 항에 있어서,상기 복수의 상부 렌즈 부재를 제 2 투명 기판 상에 형성하는 단계는복수의 상부 렌즈 부재를 복제(replication)하기 위해 제 1 기판상에 스탬프를 형성하는 단계를 포함하고,상기 스탬프를 이용하여 상기 복수의 상부 렌즈 부재를 제 2 투명 기판 상에 형성하는 것을 특징으로 하는 결상 렌즈의 제조 방법.
- 제 9 항에 있어서,상기 제 1 기판 상에 상기 스탬프를 형성하는 단계는베이스의 일측면에 렌즈 요소 몰드를 둘러싸고 상기 렌즈 요소 몰드의 높이 보다 높게 돌출되고 평탄한 상부면을 가지는 격벽 몰드를 포함하는 마스터 몰드를 다수 장착하여 마스터를 형성하는 단계;상기 마스터 몰드를 덮도록 폴리머를 상기 베이스 상에 도포하는 단계; 및상기 베이스에 대응하여 상측에서 제 1 기판으로 상기 폴리머를 압착 경화하고 분리하여 상기 제 1 기판에 스탬프 몰드를 다수 구비한 스탬프를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 결상 렌즈의 제조 방법.
- 제 8 항에 있어서,상기 하부 렌즈 부재를 복제 형성하는 단계에서상기 하부 렌즈 부재는 상기 상부 렌즈 부재의 상부 격벽에 대응하는 하부 격벽을 포함하는 것을 특징으로 하는 결상 렌즈의 제조 방법.
- 제 11 항에 있어서,상기 상부 격벽과 하부 격벽은 각각 렌즈 요소를 둘러싸고 상기 렌즈 요소의 높이보다 높으며 상부면이 평평한 형태인 것을 특징으로 하는 결상 렌즈의 제조 방법.
- 제 11 항에 있어서,상기 제 2 투명 기판을 절단하는 단계는상기 상부 격벽 또는 하부 격벽에 대해 다이싱 테이프를 접착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 결상 렌즈의 제조 방법.
- 제 8 항에 있어서,상기 하부 렌즈 부재를 복제 형성하는 단계는상기 제 2 투명 기판과 상기 하부 렌즈 부재 사이에 IR(infrared ray) 차단 막을 구비하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 결상 렌즈의 제조 방법.
- 제 8 항에 있어서,상기 복수의 상부 렌즈 부재를 제 2 투명 기판상에 형성하는 단계는상기 제 2 투명 기판과 상기 상부 렌즈 부재 사이에 스탑(stop)을 구비하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 결상 렌즈의 제조 방법.
- 제 8 항에 있어서,상기 복수의 상부 렌즈 부재를 제 2 투명 기판상에 형성하는 단계는상기 상부 렌즈 부재를 형성하기 위한 렌즈용 투명 폴리머에 대해 UV를 조사하여 경화시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 결상 렌즈의 제조 방법.
- 제 8 항에 있어서,상기 하부 렌즈 부재를 복수개 형성하는 단계는상기 하부 렌즈 부재를 형성하기 위한 렌즈용 투명 폴리머에 대해 UV를 조사하여 경화시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 결상 렌즈의 제조 방법.
- 제 8 항에 있어서,상기 복수의 상부 렌즈 부재를 제 2 투명 기판상에 형성하는 단계는상기 상부 렌즈 부재에 대해 Ti, TiN, MoSi, SiNO, SiC, MoO3, Si3N4, AlGaAs, GaAs, CdSe 및 Inp의 일군에서 선택된 어느 하나의 금속성 재질, 또는 비정질 카본(amorphous carbon) 계열의 유기성 반사 방지막(organic bottom ARC)으로 이루어진 반사 방지막을 코팅하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 결상 렌즈의 제조 방법.
- 제 8 항에 있어서,상기 하부 렌즈 부재를 복수개 형성하는 단계는상기 하부 렌즈 부재에 대해 Ti, TiN, MoSi, SiNO, SiC, MoO3, Si3N4, AlGaAs, GaAs, CdSe 및 Inp의 일군에서 선택된 어느 하나의 금속성 재질, 또는 비정질 카본(amorphous carbon) 계열의 유기성 반사 방지막(organic bottom ARC)으로 이루어진 반사 방지막을 코팅하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 결상 렌즈의 제조 방법.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070039391A KR100867520B1 (ko) | 2007-04-23 | 2007-04-23 | 결상 렌즈 및 그 제조 방법 |
US12/081,860 US8154794B2 (en) | 2007-04-23 | 2008-04-22 | Imaging lens and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070039391A KR100867520B1 (ko) | 2007-04-23 | 2007-04-23 | 결상 렌즈 및 그 제조 방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20080095064A KR20080095064A (ko) | 2008-10-28 |
KR100867520B1 true KR100867520B1 (ko) | 2008-11-07 |
Family
ID=39939314
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020070039391A KR100867520B1 (ko) | 2007-04-23 | 2007-04-23 | 결상 렌즈 및 그 제조 방법 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8154794B2 (ko) |
KR (1) | KR100867520B1 (ko) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5510883B2 (ja) * | 2008-08-01 | 2014-06-04 | 日本電気硝子株式会社 | レンズアレイ |
WO2010129039A1 (en) * | 2009-05-05 | 2010-11-11 | Tessera Technologies Hungary Kft. | Folded optic, camera system including the same, and associated methods |
JP5401227B2 (ja) * | 2009-09-16 | 2014-01-29 | 富士フイルム株式会社 | ウェハレベルレンズアレイの製造方法、ウェハレベルレンズアレイ、レンズモジュール及び撮像ユニット |
US9448338B2 (en) * | 2011-01-20 | 2016-09-20 | Fivefocal Llc | Passively athermalized infrared imaging system and method of manufacturing same |
US9477061B2 (en) | 2011-01-20 | 2016-10-25 | Fivefocal Llc | Passively aligned imaging optics and method of manufacturing the same |
US9465175B2 (en) * | 2014-07-23 | 2016-10-11 | Sifotonics Technologies Co., Ltd. | Integrated lens-array-on-substrate for optical coupling system and fabrication method thereof |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07130256A (ja) * | 1993-10-28 | 1995-05-19 | Kyocera Corp | 画像装置 |
JPH09197239A (ja) * | 1997-01-13 | 1997-07-31 | Jiyuraron Kogyo Kk | プラスチックレンズの製造方法 |
KR100313902B1 (ko) | 1999-10-19 | 2001-11-15 | 구자홍 | 마이크로-렌즈 제조방법 |
JP2002072037A (ja) | 2000-09-01 | 2002-03-12 | Sony Corp | 光学系、光学系の製造方法および光ピックアップ |
Family Cites Families (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5079130A (en) * | 1990-05-25 | 1992-01-07 | At&T Bell Laboratories | Partially or fully recessed microlens fabrication |
US5225244A (en) * | 1990-12-17 | 1993-07-06 | Allied-Signal Inc. | Polymeric anti-reflection coatings and coated articles |
JP3095812B2 (ja) * | 1991-06-21 | 2000-10-10 | オリンパス光学工業株式会社 | 複合型光学素子の製造方法及び複合型光学素子 |
US6408402B1 (en) * | 1994-03-22 | 2002-06-18 | Hyperchip Inc. | Efficient direct replacement cell fault tolerant architecture |
TW313626B (ko) * | 1995-03-31 | 1997-08-21 | Lintec Corp | |
JP2000301550A (ja) | 1999-04-23 | 2000-10-31 | Mark:Kk | マイクロレンズアレイの製造方法 |
JP2002355826A (ja) * | 2001-05-31 | 2002-12-10 | Omron Corp | 光通信用レンズ部品の製造方法 |
US7785098B1 (en) * | 2001-06-05 | 2010-08-31 | Mikro Systems, Inc. | Systems for large area micro mechanical systems |
US20030115907A1 (en) * | 2001-09-07 | 2003-06-26 | Patton Edward K. | Multiple lens molding system and method |
US7187501B2 (en) * | 2001-09-28 | 2007-03-06 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Resin lens array and optical writing head |
US6700708B2 (en) * | 2002-05-30 | 2004-03-02 | Agere Systems, Inc. | Micro-lens array and method of making micro-lens array |
JP2004088713A (ja) * | 2002-06-27 | 2004-03-18 | Olympus Corp | 撮像レンズユニットおよび撮像装置 |
CN1584743A (zh) * | 2003-07-24 | 2005-02-23 | 三星电子株式会社 | 微透镜的制造方法 |
EP1542074A1 (en) | 2003-12-11 | 2005-06-15 | Heptagon OY | Manufacturing a replication tool, sub-master or replica |
US7830627B2 (en) * | 2004-04-30 | 2010-11-09 | De La Rue International Limited | Optically variable devices |
EP1626571A1 (en) * | 2004-08-13 | 2006-02-15 | STMicroelectronics Limited | Imaging assembly |
US7329856B2 (en) * | 2004-08-24 | 2008-02-12 | Micron Technology, Inc. | Image sensor having integrated infrared-filtering optical device and related method |
TWM267459U (en) * | 2004-11-19 | 2005-06-11 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Camera lens |
KR100593895B1 (ko) | 2004-12-21 | 2006-06-28 | 삼성전기주식회사 | 레플리카 렌즈를 구비하는 카메라 모듈 |
FI117728B (fi) * | 2004-12-21 | 2007-01-31 | Planar Systems Oy | Monikerrosmateriaali ja menetelmä sen valmistamiseksi |
KR100688831B1 (ko) * | 2005-02-04 | 2007-03-02 | 삼성전기주식회사 | 광픽업의 렌즈홀더조립체 및 그 제조방법 |
CN1831575B (zh) * | 2005-03-11 | 2013-02-13 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 数码相机镜头结构 |
US7502169B2 (en) * | 2005-12-07 | 2009-03-10 | Bright View Technologies, Inc. | Contrast enhancement films for direct-view displays and fabrication methods therefor |
US20070139792A1 (en) * | 2005-12-21 | 2007-06-21 | Michel Sayag | Adjustable apodized lens aperture |
US20070216046A1 (en) * | 2006-03-20 | 2007-09-20 | Heptagon Oy | Manufacturing miniature structured elements with tool incorporating spacer elements |
CN101086546A (zh) * | 2006-06-09 | 2007-12-12 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 镜头模组及相机模组 |
US7903338B1 (en) * | 2006-07-08 | 2011-03-08 | Cirrex Systems Llc | Method and system for managing light at an optical interface |
KR20080038929A (ko) * | 2006-10-31 | 2008-05-07 | 삼성전기주식회사 | 적외선 차단막 일체형 렌즈 및 이를 이용한 카메라 모듈 |
US7692256B2 (en) * | 2007-03-23 | 2010-04-06 | Heptagon Oy | Method of producing a wafer scale package |
CN101344600B (zh) * | 2007-07-13 | 2011-01-26 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 镀膜镜片的制作方法 |
US7923298B2 (en) * | 2007-09-07 | 2011-04-12 | Micron Technology, Inc. | Imager die package and methods of packaging an imager die on a temporary carrier |
TWI402979B (zh) * | 2007-12-13 | 2013-07-21 | Sharp Kk | 電子元件晶圓模組、電子元件模組、感測器晶圓模組、感測器模組、透鏡陣列盤、感測器模組之製造方法、及電子資訊裝置 |
US20090206431A1 (en) * | 2008-02-20 | 2009-08-20 | Micron Technology, Inc. | Imager wafer level module and method of fabrication and use |
JP4966931B2 (ja) * | 2008-08-26 | 2012-07-04 | シャープ株式会社 | 電子素子ウエハモジュールおよびその製造方法、電子素子モジュールおよびその製造方法、電子情報機器 |
US8000041B1 (en) * | 2010-09-20 | 2011-08-16 | Visera Technologies Company Limited | Lens modules and fabrication methods thereof |
-
2007
- 2007-04-23 KR KR1020070039391A patent/KR100867520B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2008
- 2008-04-22 US US12/081,860 patent/US8154794B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07130256A (ja) * | 1993-10-28 | 1995-05-19 | Kyocera Corp | 画像装置 |
JPH09197239A (ja) * | 1997-01-13 | 1997-07-31 | Jiyuraron Kogyo Kk | プラスチックレンズの製造方法 |
KR100313902B1 (ko) | 1999-10-19 | 2001-11-15 | 구자홍 | 마이크로-렌즈 제조방법 |
JP2002072037A (ja) | 2000-09-01 | 2002-03-12 | Sony Corp | 光学系、光学系の製造方法および光ピックアップ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20080273239A1 (en) | 2008-11-06 |
US8154794B2 (en) | 2012-04-10 |
KR20080095064A (ko) | 2008-10-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20180284534A1 (en) | Quantum dot color filter, liquid crystal panel and liquid crystal display device thereof | |
KR100867520B1 (ko) | 결상 렌즈 및 그 제조 방법 | |
JP3968545B2 (ja) | マイクロレンズアレイの製造方法 | |
EP0795139B1 (en) | Method for making surface relief profilers | |
EP2197657B1 (en) | Method of manufacturing a lens assembly, as well as a camera provided with such an assembly | |
KR101020634B1 (ko) | 기능성 나노패턴을 갖는 렌즈의 제조방법 | |
JP4778967B2 (ja) | 反射防止構造体を備えた光学機器の製造方法 | |
US20140376097A1 (en) | Microlens array and imaging element package | |
US8303866B2 (en) | Mass production of micro-optical devices, corresponding tools, and resultant structures | |
RU2017104544A (ru) | Усовершенствованный полимерный листовой материал для применения в изготовлении полимерных защищаемых документов, таких как банкноты | |
KR20200039600A (ko) | 자동차 헤드램프 광 모듈용 투영 장치, 그리고 투영 장치 제조 방법 | |
US8962079B2 (en) | Manufacturing optical elements | |
CN114994814A (zh) | 偏光散射膜及其制作方法、显示面板 | |
JP3547467B2 (ja) | マイクロレンズアレイおよびその製造方法 | |
TW201249636A (en) | Manufacturing a plurality of optical elements | |
JP2004013081A (ja) | 複合型光学素子、複合型光学素子の製造方法、及び光学装置 | |
KR100985568B1 (ko) | 스탬프를 이용한 렌즈 제조 방법 | |
TW200934649A (en) | Composite micro-lens and composite micro-lens array | |
JP4912648B2 (ja) | 光学シートの製造方法及び光学シート | |
JP4492892B2 (ja) | ホログラムの製造方法 | |
CN217932148U (zh) | 光学制品 | |
JP2006220739A (ja) | セラミックスハイブリッドレンズ | |
JPS5829630A (ja) | 光学部品製造方法 | |
KR101168362B1 (ko) | 렌즈모듈 및 그 제조방법 | |
JP2006162933A (ja) | プリズムおよびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20111010 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20121002 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |