TWI424579B - 薄膜太陽電池製造裝置 - Google Patents

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TWI424579B
TWI424579B TW098118851A TW98118851A TWI424579B TW I424579 B TWI424579 B TW I424579B TW 098118851 A TW098118851 A TW 098118851A TW 98118851 A TW98118851 A TW 98118851A TW I424579 B TWI424579 B TW I424579B
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Yasuo Shimizu
Hideyuki Ogata
Koichi Matsumoto
Takafumi Noguchi
Jouji Wakamori
Satohiro Okayama
Yawara Morioka
Noriyasu Sugiyama
Takashi Shigeta
Hiroyuki Kurihara
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Ulvac Inc
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Description

薄膜太陽電池製造裝置
本發明係關於薄膜太陽電池製造裝置。
本申請案根據2008年6月6日在日本申請的日本特願2008-149936號而主張優先權，於此引用其內容。
現在的太陽電池係以單結晶Si型及多結晶Si型佔大半數，但憂慮Si之材料不足等。因此，近年來形成有製造成本低、材料不足之風險小的薄膜Si層之薄膜太陽電池之需要高漲。進一步而言，除僅有a-Si(非晶矽)層之以往型的薄膜太陽電池以外，最近藉由疊層a-Si層與μc-Si(微晶矽)層而謀求提升轉換效率之堆疊型薄膜太陽電池之需要高漲。
該薄膜太陽電池之薄膜Si層(半導體層)之成膜多半使用電漿CVD裝置。作為該種電漿CVD裝置存在有單片式PE-CVD(電漿CVD)裝置、線上連續型PE-CVD裝置、批次式PE-CVD裝置等。
若考慮到作為薄膜太陽電池之轉換效率，上述堆疊型太陽電池之μc-Si層係與a-Si層相比較，必須將約5倍程度之膜厚(1.5μm程度)進行成膜。而且，由於μc-Si層必須均勻地形成優質的微晶膜，因此在加快成膜速度方面亦有其限度。因此，為了彌補此而要求藉由批次處理數之增加等以使生產性提升。亦即，要求成膜速度低且實現高產出之裝置。
而且，於亦提案有一種CVD裝置，其目的在於可形成高品質之薄膜，且可降低製造成本或維修成本。例如於下述專利文獻1所記載之CVD裝置包含：基板(基體)移交‧送出裝置、可收納複數個基板之成膜隔室群、移動用隔室及隔室移動裝置。進一步於成膜隔室之成膜室之出入口，設置有具有氣密性之檔門，移動用隔室之收納室之出入口始終開放。
於同CVD裝置，在基板施行成膜時，藉由隔室移動裝置，使移動用隔室移動至基板移交‧送出裝置之位置，將基板托架移送至移動用隔室側。而且，藉由隔室移動裝置，將移動用隔室與成膜隔室接合，使基板托架移動至成膜隔室，然後於基板進行成膜。於成膜隔室設置有：複數個加熱器，其係用以加熱基板；及複數個電極，其係用以將供給至成膜隔室之成膜氣體進行電漿化。該等加熱器及電極係分別互異地並設，於各加熱器與電極之間分別配置基板。
[先行技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2005-139524號公報
然而，於上述CVD裝置，在基板施行成膜時，會有於加熱器或電極亦形成膜之情況。若於該等加熱器或電極形成膜，則於基板未能適當地施行成膜，或生產效率會降低，因此因應CVD裝置之使用頻率而需要交換加熱器或電極等定期的維修作業。
進行該類維修作業之情況時，由於成膜隔室內，加熱器及電極分別互異地並設，因此用以進行維修之作業空間受限，難以進行維修作業。因此，會有維修作業之負擔變大的問題。
而且，進行維修作業時，首先必須等待成膜隔室內之溫度降至特定溫度，其後進行維修作業。因此，不僅維修作業需要時間，而且於該期間必須停止CVD裝置，亦有生產效率(運轉率)降低的問題。
本發明係有鑑於上述事情而完成，其目的在於提供一種薄膜太陽電池製造裝置，其係可減輕維修作業之負擔，並且即使進行維修作業，仍可防止生產效率降低。
為了解決上述問題而達成相關目的，本發明係採用以下機構。亦即：
(1)本發明之薄膜太陽電池製造裝置包含：成膜室，其係收容基板；及電極單元，其係於該成膜室內，對於前述基板藉由CVD法而形成膜；且前述電極單元包含有：陽極及陰極；及側板部，其係保持該等陽極及陰極，構成前述成膜室之壁部之一部分，進一步對於前述成膜室裝拆自如。
(2)於上述(1)所記載之薄膜太陽電池製造裝置，亦可採用如下構成：包含前述陰極及1對前述陽極；前述各陽極分別配置為對於該等陰極拉開特定距離而相對向。
若依據上述(1)及(2)所記載之發明，於側板部與成膜室切離，藉此可使包含有陰極及陽極之電極單元容易從成膜室分離。因此，可取下電極單元，以單體進行維修作業，可確保電極單元周圍較大的作業空間。故，可減輕維修作業之負擔。
而且，以從成膜室分離之電極單元單體，可進行例如陰極及陽極間之離隔距離調節，或於陰極及陽極連接虛設負載而進行該等之阻抗調整等。因此，可於線外進行運轉薄膜太陽電池製造裝置時所必要的各種調整。
(3)於上述(1)所記載之薄膜太陽電池製造裝置，前述電極單元亦可進一步包含有開閉機構，其係變更對於前述陰極之前述陽極之打開角度。
該情況下，藉由開閉機構變更陽極之打開角度，可成為使陽極及陰極分別之對向面露出之狀態。總言之，可使基板以外經常被形成膜之陽極及陰極之各對向面露出。因此，陽極及陰極之維修作業易於進行，可進一步減輕維修作業之負擔。
(4)上述(3)之情況下，前述開閉機構亦可設置於前述陽極之前述側板部側。
該情況下，可藉由開閉機構開啟陽極，成為使陽極及陰極分別之對向面露出之狀態。總言之，可使基板以外經常被形成膜之陽極及陰極之各對向面露出。故，可進一步減輕該薄膜太陽電池製造裝置之維修作業之負擔。進一步可維持陽極及陰極安裝於側板而開閉該等陽極及陰極間，因此不從側板取下陽極及陰極即可進行維修。
(5)於上述(1)所記載之薄膜太陽電池製造裝置，亦可進一步設置有預備單元，其係與前述電極單元包含有同一構成。
該情況下，例如即使是為了電極單元之維修作業而使電極單元從成膜室分離之情況，預備單元仍可取代該電極單元而裝載於成膜室。該情況下，到電極單元之維修作業結束為止，可使用預備單元使薄膜太陽電池製造裝置正常地運轉。而且，由於預備單元係與電極單元包含有相同構成，因此即使於成膜室裝載預備單元，仍可於基板施行適當的成膜。因此，即使為進行維修作業之情況，仍可防止生產效率降低。
(6)於上述(1)所記載之薄膜太陽電池製造裝置，亦可採用如下構成：調整前述基板之加熱溫度之溫度控制機構內建於前述陽極；以前述溫度控制機構及前述陽極構成陽極單元。
該情況下，可效率良好地控制基板之溫度。而且，無須與陽極作為別體而另設溫度控制機構，因此可謀求薄膜太陽電池製造裝置之小型化。
(7)於上述(1)所記載之薄膜太陽電池製造裝置，亦可採用如下構成：於俯視觀看之情況下，前述陰極及前述陽極對於前述側板部大致構成垂直而安裝；於前述成膜室之前述壁部設置有開口；前述陰極及前述陽極從該開口插入於前述成膜室內，並且前述側板部關閉前述開口，藉此將前述電極單元安裝於前述成膜室。
(8)於上述(1)所記載之薄膜太陽電池製造裝置，亦可採用如下構成：於俯視觀看之情況下，前述陰極及前述陽極對於前述側板部大致構成垂直而安裝；於前述成膜室之前述壁部，設置有由前述側板部關閉之開口；藉由取下關閉該開口之前述側板部，從該開口將前述陰極及前述陽極取下至前述成膜室外。
若依據上述(7)及上述(8)所記載之發明，可進一步容易進行電極單元之維修作業。
(9)於上述(1)所記載之薄膜太陽電池製造裝置，前述電極單元亦可進一步包含有驅動機構，其係使前述陽極對於前述陰極接近隔開。
該情況下，由於陽極往對於陰極單元接近隔開之方向移動，因此於成膜室取放基板時，可增大陽極及陰極單元間之間隔。另一方面，於基板之被成膜面形成膜時，可縮窄陽極及陰極單元間之間隔。因此，可謀求所形成的膜之品質提升，同時容易從成膜室取放基板，可使生產性提升。
(10)　於上述(1)所記載之薄膜太陽電池製造裝置，亦可採用如下構成：前述陰極係對於前述基板之被成膜面供給成膜氣體之淋灑板；前述側板部包含有導入部，其係導入前述成膜氣體。
該情況下，無須個別地設置陰極與淋灑板，可謀求薄膜太陽電池製造裝置之簡化及低成本化。而且，可對成膜空間均勻地導入成膜氣體及均勻地發生電漿。
(11)　於上述(1)所記載之薄膜太陽電池製造裝置，前述電極單元亦可進一步包含有遮罩機構，其係限制前述基板之外緣部之成膜範圍。
該情況下，可防止對基板之被成膜面中之非必要的部分，亦即對基板之外緣部之膜形成。進一步而言，由於遮罩機構可與電極單元一體地從成膜室分離，因此遮罩機構之清洗變得容易。
(12)　於上述(1)所記載之薄膜太陽電池製造裝置，前述電極單元亦可進一步包含有台車。
該情況下，可藉由台車容易地使電極單元移動，進一步可使維修作業效率提升。
(13)　上述(12)之情況下，前述台車亦可與前述側板部連接及分離。
該情況下，於成膜室連接電極單元後，可從台車分離該電極單元，作為共同的台車而使用於其他電極單元之移動。因此，可於複數個電極單元共有台車，可進一步減低薄膜太陽電池製造裝置之製造成本。
 [發明之效果]
若依據本發明，可使包含有陰極及陽極之電極單元容易從成膜室分離。因此，以電極單元單體可進行維修作業，可確保較大的作業空間。故，可減輕維修作業之負擔。
而且，即使是為了維修作業而使電極單元從成膜室分離之情況，預備單元仍可取代電極單元而裝載於成膜室。該情況下，到電極單元之維修作業結束為止，可使薄膜太陽電池製造裝置正常地運轉。而且，由於預備單元係與電極單元包含有相同構成，因此可於基板施行適當的成膜。因此，即使為進行維修作業之情況，仍可防止生產效率降低。
以下，根據圖1~圖26，說明關於本發明之一實施型態之薄膜太陽電池製造裝置。
(薄膜太陽電池)
圖1係本實施型態之薄膜太陽電池100之概略剖面圖。如同圖1所示，薄膜太陽電池100係疊層下述而構成：構成其表面之玻璃基板W；設置於該玻璃基板W上，由透明導電膜所組成的上部電極101；由非晶矽所組成的頂部電池元件(top cell)102；設置於該頂部電池元件102與後述之底部電池元件104之間，由透明導電膜所組成的中間電極103；由微晶矽所組成的底部電池元件(bottom cell)104；由透明導電膜所組成的緩衝層105；及由金屬膜所組成的背後面電極106。總言之，薄膜太陽電池100為a-Si/微晶Si堆疊型太陽電池。於該類堆疊型構造之薄膜太陽電池100，藉由以頂部電池元件102吸收短波長光，並且以底部電池元件104吸收長波長光，可謀求發電效率提升。
頂部電池元件102係構成p層(102p)、i層(102i)及n層(102n)之3層構造，分別以非晶矽形成。而且，底部電池元件104之p層(104p)、i層(104i)及n層(104n)之3層構造，分別以微晶矽構成。
於具有此類構成之薄膜太陽電池100，當太陽光所含的所謂光子之能量粒子照到i層，藉由光電動勢效果而發生電子及電洞(hole)，電子朝向n層移動，並且電洞朝向p層移動。藉由從上部電極101及背後面電極106，取出該藉由光電動勢效果所發生的電子/電洞，可將光能量轉換為電能量。
而且，藉由於頂部電池元件102與底部電池元件104之間設置中間電極103，通過頂部電池元件102而到達底部電池元件104之光的一部分係由中間電極103反射，並再度對頂部電池元件102側射入，因此電池元件之感度特性提升，有助於發電效率提升。
而且，從玻璃基板W側射入之太陽光係於通過各層後，由背後面電極106反射。為了使光能量之轉換效率提升，薄膜太陽電池100係採用以拉長射入於上部電極101之太陽光的光路之稜鏡效果、及光的封閉效果作為目的之紋理構造。
(薄膜太陽電池製造裝置)
圖2係關於本實施型態之薄膜太陽電池製造裝置之概略俯視圖。如圖2所示，該薄膜太陽電池製造裝置10包含：成膜室11，其係對於複數片玻璃基板W，可同時將微晶矽所構成的底部電池元件104(半導體層)進行成膜；裝料‧取出室13，其係可同時收容搬入於該成膜室11之成膜處理前基板W1(玻璃基板W)、與從成膜室11搬出之成膜處理後基板W2(玻璃基板W)；基板拆裝室15，其係對於托架21(參考圖9)拆裝成膜處理前基板W1及成膜處理後基板W2；基板拆裝機器人17，其係用以從托架21拆裝玻璃基板W；及基板收容卡匣19，其係為了將玻璃基板W搬送至別的處理室而收容。此外，於本實施型態，設置有4個以成膜室11、裝料‧取出室13及基板拆裝室15所構成的基板成膜線16。基板拆裝機器人17可移動於鋪設在地面的軌道18上，以1台基板拆裝機器人17，可進行對所有基板成膜線16之玻璃基板W之移交。進一步而言，以成膜室11及裝料‧取出室13係一體化而構成基板製程模組14，其具有可堆載於卡車之大小。
圖3A~圖3C係成膜室11之概略構成圖，圖3A為立體圖，圖3B係與圖3A從不同角度之立體圖，圖3C為側面圖。
如該等圖3A~圖3C所示，成膜室11形成為箱型。於成膜室11之與裝料‧取出室13連接之側面23，形成有3處托架搬出入口24，其係可讓搭載有玻璃基板W之托架21通過。於該等托架搬出入口24，分別設置有開閉該等托架搬出入口24之檔門25。於關閉檔門25之情況下，托架搬出入口24係確保氣密性而密封。於與側面23相對向之側面27，安裝有3座用以於玻璃基板W施行成膜之電極單元31。該等電極單元31係可從成膜室11拆裝。於成膜室11之側面下部之開口部28，連接有用以將成膜室11內之空間進行真空排氣之排氣管29(參考圖3C。於圖3A及圖3B省略圖示)。於排氣管29設置有真空泵30。
圖4A~圖4D係電極單元31之概略構成圖，圖4A為立體圖，圖4B係與圖4A從不同角度之立體圖，圖4C係表示電極單元31之變形例之立體圖。圖4D為陰極單元及陽極(對向電極)之部分剖面圖。
電極單元31係可於形成在成膜室11之側面27之3處開口部26拆裝(參考圖3B)。電極單元31係於下部之四角落，各設置有1個車輪61，可移動於地面上。於安裝有車輪61之底板部62上，側板部63沿著鉛直方向而立設。該側板部63具有可閉塞成膜室11之側面27的開口部26之大小。
如圖4C之變形例所示，附車輪61之底板部62亦可製成可與電極單元31分離‧連接之台車62A。該情況下，於成膜室11連接電極單元31後，可從電極單元31分離台車62A，作為共同的台車62A而使用於其他電極單元31之移動。
側板部63係構成成膜室11之壁面的一部分。於側板部63之一面(朝向成膜室11之內部的面)65，設置有成膜處理時配置於玻璃基板W兩面之陽極67及陰極單元68。本實施型態之電極單元31包含1對陽極67，其係將陰極單元68夾於其間而於其兩側隔開而配置。然後，以1個電極單元31可同時將2片玻璃基板W進行成膜。成膜處理時之各玻璃基板W係以與鉛直方向大致構成平行而相對向之方式，分別配置於陰極單元68之兩面側。在與各玻璃基板W分別相對向之狀態下，2片陽極67係配置於各玻璃基板W之厚度方向外側。
於側板部63之另一面69安裝有：驅動機構71，其係用以驅動陽極67；及匹配箱72，其係於施行成膜時，用以對陰極單元68供電。進一步於側板部63，形成有對陰極單元68供給成膜氣體之配管用之連接部(不圖示)。
於陽極67內建有加熱器H作為調整玻璃基板W之溫度之溫度控制機構。而且，2片陽極67,67係可藉由設置於側板部63之驅動機構71，往相互接近‧隔開之方向(水平方向)移動，可控制各玻璃基板W與陰極單元68之隔開距離。具體而言，於施行玻璃基板W之成膜前，2片陽極67,67係朝向陰極單元68移動而與玻璃基板W抵接。進一步往靠近陰極單元68之方向移動，將玻璃基板W與陰極單元68之離隔距離調節為期望的距離。其後，進行成膜，於成膜結束後，陽極67,67往相互隔開之方向移動。其後，可容易從電極單元31取出玻璃基板W。
進一步而言，陽極67係經由絞鏈部87而安裝於驅動機構71，於從成膜室11拔出電極單元31之狀態下，陽極67之朝向陰極單元68側之面67A可轉動如開閉至大致與側板部63之一面65平行。絞鏈部87設置於陽極67之側板部63側。絞鏈部87係可讓陽極67及陰極單元68分別之對向面(詳細係於後面敘述)同時露出之開閉機構。陽極67係以絞鏈部87作為中心而可對於陰極單元68開閉。此外，陽極67之開閉角度係於俯視看來設定約為90°(參考圖4A)。
陰極單元68包含有淋灑板75(=陰極)、陰極中間構件76、排氣導管79及浮動電容體82。
於陰極單元68，在與各陽極67相對向之面，配置有分別形成有複數個小孔(不圖示)之1對淋灑板75，可朝向玻璃基板W噴出成膜氣體。進一步而言，淋灑板75,75係構成與前述匹配箱72連接之陰極(高頻電極)。於2片淋灑板75,75之間，設置有與匹配箱72連接之陰極中間構件76。亦即，淋灑板75係於陰極中間構件76之兩側面，以與該陰極中間構件76電性地連接之狀態配置。
陰極中間構件76及淋灑板(陰極)75係以導電體形成，高頻係經由陰極中間構件76而施加於淋灑板(陰極)75。因此，於2片淋灑板75,75，施加有發生電漿用之同電位‧同相位之電壓。
陰極中間構件76係藉由未圖示之布線而與前述匹配箱72連接。於陰極中間構件76與淋灑板75之間形成有空間部77。然後，從氣體供給裝置(不圖示)對該空間部77導入成膜氣體。1對空間部77係由介隔在該等之間之陰極中間構件76分離，與各個淋灑板75,75逐一對應而個別地形成。然後，可獨立控制從各淋灑板75,75放出的氣體。亦即，空間部77具有氣體供給路的作用。於本實施型態，由於各空間部77分別與淋灑板75,75逐一對應而個別地形成，因此陰極單元68包含有2系統的氣體供給路。
於陰極單元68之周緣部，大致遍及其整圈設置有中空狀之排氣導管79。於該排氣導管79形成有排氣口80，其係用以將成膜空間81之成膜氣體或反應副生成物(粉末)進行排氣。具體而言，面向施行成膜時形成於玻璃基板W與淋灑板75之間之成膜空間81而形成有排氣口80。排氣口80係沿著陰極單元68之周緣部形成有複數個，構成為可遍及整圈大致均等地排氣。而且，於陰極單元68之下部，在排氣導管79之朝向成膜室11內之面形成有開口部(不圖示)，可將排氣之成膜氣體等往成膜室11內排出。往成膜室11內排出之氣體係從設置於成膜室11之側面下部之排氣管29，往外部排氣。而且，於排氣導管79與陰極中間構件76之間，設置包含有介電體及/或疊層空間之浮動電容體82。排氣導管79連接於接地電位。排氣導管79亦作為用以防止來自陰極75及陰極中間構件76之異常放電之屏蔽框而發揮功能。
進一步於陰極單元68之周緣部設置有1對遮罩78，其係覆蓋從排氣導管79之外周部到達淋灑板75(=陰極)之外周部之部位。該等遮罩78係限制玻璃基板W之外緣部之成膜範圍，被覆設置於托架21之後述的挾持部59之挾持片59A(參考圖9、圖21)，並且形成於施行成膜時，與挾持片59A成為一體而將成膜空間81內之成膜氣體或反應副生成物(粉末)導至排氣導管79之氣體流路R。亦即，於被覆托架21(挾持片59A)之遮罩78與淋灑板75之間、以及與排氣導管79之間，形成有氣體流路R。
回到圖2，以托架21可移動於成膜室11與裝料‧取出室13之間、以及裝料‧取出室13與基板拆裝室15之間之方式，將複數道移動軌道37鋪設於成膜室11~基板拆裝室15之間。此外，移動軌道37係於成膜室11與裝料‧取出室13之間分離，藉由關閉檔門25而可密閉托架搬出入口24。
圖5A及圖5B係裝料‧取出室13之概略立體圖，圖5A為立體圖，圖5B係與圖5A從別的角度觀看之情況下之立體圖。如圖5A及圖5B所示，裝料‧取出室13形成為箱型。側面33係確保氣密性而與成膜室11之側面23連接。於側面33，形成3個托架21可插通之開口部32。與側面33相對向之側面34係連接於基板拆裝室15。於側面34，形成有3處搭載有玻璃基板W之托架21可通過之托架搬出入口35。於托架搬出入口35設置有可確保氣密性之檔門36。此外，各移動軌道37係於裝料‧取出室13與基板拆裝室15之間分離，可藉由關閉檔門36而密閉托架搬出入口35。
於裝料‧取出室13設置有推拉機構38，其係用以使托架21沿著移動軌道37而移動於成膜室11與裝料‧取出室13之間。如圖6所示，該推拉機構38包含：卡止部48，其係用以卡止托架21；1對導引構件49，其係設置於卡止部48之兩端，配設成與移動軌道37大致平行；及移動裝置50，其係用以使卡止部48沿著兩導引構件49移動。
進一步於裝料‧取出室13內設置移動機構(不圖示)，其係為了同時收容成膜處理前基板W1及成膜處理後基板W2，使托架21，往俯視看來與移動軌道37之鋪設方向大致正交之方向，進行特定距離移動。然後，於裝料‧取出室13之側面下部41，連接有用以將裝料‧取出室13內進行真空排氣之排氣管42，於排氣管42連接有真空泵43。
圖7A及圖7B係基板拆裝室15之概略構成圖，圖7A為立體圖，圖7B為正面圖。如圖7A及圖7B所示，基板拆裝室15係由框狀體所組成，連接於裝料‧取出室13之側面34。於該基板拆裝室15，可對於配設於移動軌道37之托架21，安裝成膜處理前基板W1。而且，可從托架21，取下成膜處理後基板W2。於基板拆裝室15可並排配置3個托架21。
如圖2所示，基板拆裝機器人17包含有驅動臂45，於驅動臂45之前端可吸附玻璃基板W。而且，驅動臂45可移動於配設在基板拆裝室15之托架21與基板收容卡匣19之間，可從基板收容卡匣19取出成膜處理前基板W1，進一步可於配設於基板拆裝室15之托架21安裝成膜處理前基板W1。而且，驅動臂45亦可從回到基板拆裝室15之托架21，取下成膜處理後基板W2，並往基板收容卡匣19搬送。
圖8為基板收容卡匣19之立體圖。如圖8所示，基板收容卡匣19形成為箱型，具有可收容複數片玻璃基板W之大小。然後，於該基板收容卡匣19內，玻璃基板W可於其被成膜面為水平之狀態下，於上下方向疊層複數片而收容。而且，於基板收容卡匣19之下部四角落設置有腳輪47，可容易往別的處理裝置移動。
圖9係托架21之立體圖。如圖9所示，托架21係用以搬送玻璃基板W，包含2片可安裝玻璃基板W之邊框狀之框架51。亦即，對於1個托架21可安裝2片玻璃基板W。2片框架51,51係於其上部，藉由連結構件52而連結。而且，於連結構件52之上面，設置有載置於移動軌道37之複數個車輪53。藉由車輪53滾動於移動軌道37上，托架21可移動。而且，於框架51之下部設置有框架保持器54，其係於托架21移動時，用以抑制玻璃基板W之晃動。該框架保持器54之下端係嵌合於設置在各室之底面上之剖面凹狀的軌道構件55(參考圖18)。此外，軌道構件55係於俯視看的情況下，沿著移動軌道37配設。若以複數個輥構成框架保持器54，則可更安定地搬送。
框架51分別包含有周緣部57及挾持部59。於形成在框架51之開口部56，露出玻璃基板W之被成膜面。然後，於開口部56之周緣部57與挾持部59可從其兩面側挾持玻璃基板W而固定。然後，於挾持玻璃基板W之挾持部59，藉由彈簧等，施力正在作用。而且，如圖21所示，挾持部59包含有挾持片59A,59B，其係分別抵接於玻璃基板W(成膜處理前基板W1)之表面WO(被成膜面)及背後面WU(背面)。該等挾持片59A,59B間之間隔可沿著前述彈簧等之施力方向，亦即因應陽極67之移動，挾持片59A可沿著對於挾持片59B接近‧隔開之方向而可變(詳細係於後面敘述)。托架21係對於1道移動軌道37安裝有1具(可保持1對(2片)基板之1具托架21)。
於本實施型態之薄膜太陽電池製造裝置10，配置4組以成膜室11、裝料‧取出室13及基板拆裝室15所構成的基板成膜線16，由於在1個成膜室11收容3個托架21，因此可將24片玻璃基板W大致同時進行成膜。
(薄膜太陽電池之製造方法)
接著，說明使用本實施型態之薄膜太陽電池製造裝置10，於玻璃基板W進行成膜之方法。此外，於該說明中雖利用1組基板成膜線16之圖式，但於其他3組基板成膜線16，亦以大致同一流程而將玻璃基板W進行成膜。
首先，如圖10所示，於特定位置，配置收容有複數片成膜處理前基板W1之基板收容卡匣19。
接下來，如圖11所示，移動基板拆裝機器人17之驅動臂45，從基板收容卡匣19取出1片成膜處理前基板W1，並安裝於基板拆裝室15內之托架21。此時，將於基板收容卡匣19上水平地配置之成膜處理前基板W1，往鉛直方向改變方向後安裝於托架21。再重複一次該動作，於1個托架21安裝第2片成膜處理前基板W1。
進一步重複該動作，於基板拆裝室15內之剩下2個托架21，亦分別安裝成膜處理前基板W1。總言之，於此階段安裝6片成膜處理前基板W1。
接下來，如圖12所示，使安裝有成膜處理前基板W1之3個托架21沿著各移動軌道37大致同時移動，收容於裝料‧取出室13內。於裝料‧取出室13收容托架21後，關閉裝料‧取出室13之托架搬出入口35之檔門36。其後，使用真空泵43，將裝料‧取出室13之內部保持為真空狀態。
如圖13所示，往俯視看來與各移動軌道37所鋪設的方向正交之方向，使用前述移動機構使3個托架21分別進行特定距離移動。
如圖14所示，使成膜室11之檔門25成為開狀態，使用推拉機構38，使安裝有在成膜室11結束成膜之成膜處理後基板W2之托架21A，移動至裝料‧取出室13內。此時，托架21與托架21A係俯視看來穿插地並排。然後，藉由將該狀態保持特定時間，積存於成膜處理後基板W2的熱傳熱至成膜處理前基板W1。總言之，成膜處理前基板W1受到加熱。
於此，說明推拉機構38之動作。於此說明使成膜室11內之托架21A往裝料‧取出室13移動時之動作。
如圖15A所示，對於推拉機構38之卡止部48，卡止安裝有成膜處理後基板W2之托架21A。然後，使安裝於卡止部48之移動裝置50之移動臂58搖動。此時，移動臂58之長度可變。如此一來，卡止有托架21A之卡止部48係一面由導引構件49引導一面移動，如圖15B所示往裝料‧取出室13內移動。總言之，托架21A從成膜室11往裝料‧取出室13內移動。藉由如此構成，於成膜室11內，不用設置用以移動托架21A之驅動源。
如圖16所示，藉由前述移動機構，將托架21及托架21A往與移動軌道37正交之方向移動，使保持有成膜處理前基板W1之托架21移動到各個移動軌道37之位置。
如圖17所示，使用推拉機構38，使保持有處理前基板W1之各托架21移動至成膜室11內，於移動完成後，關閉檔門25。此外，成膜室11內保持真空狀態。此時，安裝於各托架21之成膜處理前基板W1係沿著其等之面方向移動，於成膜室11內，以表面WO與鉛直方向大致構成平行之方式，插入於陽極67與陰極單元68之間(參考圖18)。
接下來，如圖18、圖19所示，藉由前述驅動機構71，使2片陽極67往相互靠近之方向移動，使陽極67對於成膜處理前基板W1之背後面WU抵接。
如圖20所示，若進一步使驅動機構71驅動，成膜處理前基板W1會受到陽極67推押而朝向陰極單元68側移動。進一步使成膜處理前基板W1移動至成膜處理前基板W1與陰極單元68之淋灑板75之隙縫成為特定距離(成膜距離)為止。此外，該成膜處理前基板W1與陰極單元68之淋灑板75之隙縫(成膜距離)為5~15mm之範圍內，例如以5mm程度為宜。
此時，抵接於成膜處理前基板W1之表面WO側之托架21的挾持部59之挾持片59A係隨著成膜處理前基板W1之移動(陽極67之移動)，朝向從挾持片59B離開之方向變位。此外之成膜處理前基板W1係挾持於陽極67與挾持片59A之間。此外，陽極67朝向從陰極單元68離開之方向移動時，由於未圖示之彈簧等之復原力作用於挾持片59A，因此該挾持片59A朝向挾持片59B側變位。
當成膜處理前基板W1朝向陰極單元側68移動時，玻璃基板W抵接於遮罩78，於該時點，陽極67之移動停止(參考圖21)。
如圖21所示，遮罩78係覆蓋玻璃基板W之外緣部，並且與玻璃基板W之外緣部密接而形成。成膜空間81係由遮罩78、陰極單元68之淋灑板75及成膜處理前基板W1(玻璃基板W)劃分而形成。
亦即，遮罩78係藉由托架21與玻璃基板W抵接，分離成膜空間81、與托架21或搬送裝置(不圖示)所存在的成膜隔室內之空間。進一步而言，遮罩78與玻璃基板W之對接面(抵接面)具有作為密封部86而構成，以使成膜氣體不會從該等遮罩78與玻璃基板W之間漏洩。藉此，限制成膜氣體擴散的範圍，可防止非必要的範圍成膜。其結果，可縮窄清洗範圍及減少清洗頻率，因此該薄膜太陽電池製造裝置10的運轉率提升。
而且，成膜處理前基板W1之移動係其外緣部抵接於遮罩78而停止。因此，藉由遮罩78與淋灑板75、以及與排氣導管79之間隙，亦即氣體流路R之厚度方向之流路尺寸，係設定為成膜處理前基板W1與陰極單元68之隙縫成為特定距離。
作為別的型態，藉經由彈性體將遮罩78對於排氣導管79安裝，成膜處理前基板W1與淋灑板75(=陰極單元68)之距離亦可藉由驅動機構71之行程任意變更。於上述實施型態，遮罩78與成膜處理前基板W1抵接，但亦可空出限制成膜氣體通過之微少的間隔而配置遮罩78與成膜處理前基板W1。
接下來，使成膜氣體從陰極單元68之淋灑板75噴出，並且啟動匹配箱72，於陰極單元68之陰極76施加電壓，藉此於成膜空間81內發生電漿，於成膜處理前基板W1之表面WO施行成膜。此時，藉由內建於陽極67之加熱器H，成膜處理前基板W1加熱至期望的溫度。
當成膜處理前基板W1達到期望的溫度時，陽極67停止加熱。另一方面，藉由電壓施加於淋灑板75(=陰極單元68)，於成膜空間81內發生電漿。隨著時間經過，由於來自電漿之熱輸入，即使停止陽極67之加熱，唯恐成膜處理前基板W1之溫度仍會較期望的溫度更上升。該情況下，亦可使陽極67作為用以冷卻溫度過度上升之成膜處理前基板W1之散熱板而發揮功能。因此，成膜處理前基板W1係無關於成膜處理時間之時間經過而均調整為期望的溫度。
此外，以一次之成膜處理步驟，將複數層進行成膜時，可藉由於每特定時間切換所供給的成膜氣體材料而實施。
於成膜中及成膜後，成膜空間81內之氣體或反應副生成物(粉末)係從形成於陰極單元68之周緣部之排氣口80排氣。被排氣之氣體係通過陰極單元68之周緣部之排氣導管79，從設置於成膜室11之側面下部28之排氣管29往外部排氣。此外，施行成膜時所發生的反應副生成物(粉末)係藉由使其附著‧堆積於排氣導管79之內壁面而可回收‧處分。於成膜室11內之所有電極單元31，執行與上述處理相同的處理，因此可對於6片基板全部同時施行成膜處理。
然後，當成膜結束時，藉由驅動機構71，使2片陽極67往相互離開的方向移動，使成膜處理後基板W2及框架51(挾持片59A)回到原本的位置(參考圖19、圖21)。亦即，當成膜結束而成為使托架21移動之階段時，遮罩78從挾持片59A之露出面85脫落。
進一步藉由使陽極67往相互離開的方向移動，成膜處理後基板W2與陽極67離開(參考圖18)。
如圖22所示，打開成膜室11之檔門25，使用推拉機構38使各托架21往裝料‧取出室13內移動。此時，裝料‧取出室13內受到排氣，安裝有接著要進行成膜之成膜處理前基板W1之托架21B既已配置。然後，於裝料‧取出室13內，成膜處理後基板W2的蓄熱往成膜處理前基板W1傳熱，降低成膜處理後基板W2之溫度。
如圖23所示，使各托架21B往成膜室11內移動後，藉由前述移動機構，使各托架21回到移動軌道37之位置。
如圖24所示，關閉檔門25後，使裝料‧取出室13內成為大氣壓，打開檔門36，使各托架21往基板拆裝室15內移動。
如圖25所示，於基板拆裝室15內，藉由基板拆裝機器人17，從各托架21取下各成膜處理後基板W2，使其往基板收容卡匣19移動。當所有成膜處理後基板W2之取下完成時，藉由使基板收容卡匣19移動至下一步驟的場所而結束成膜處理。
(電極單元之維修作業)
接著，一面參考圖4A及圖26，一面說明關於本實施型態之薄膜太陽電池製造裝置10之電極單元31之維修作業之程序。此外，於此說明中，作為例子而說明安裝於1個成膜室11之3座電極單元31中的1座電極單元31(圖26中央之電極單元31)之維修作業之程序，並省略說明其他電極單元31之維修作業。然而，關於其他電極單元31，當然亦採同樣程序進行維修作業。
於安裝於成膜室11內之電極單元31之陰極單元68或陽極單元90，形成有膜，或附著有反應副生成物(粉末)之情況時，如圖26所示，取下該等陰極單元68及陽極單元90，進行其等之清掃或交換等維修作業。
進行維修作業時，首先使電極單元31往拉出方向(圖26之箭頭A方向)移動，使電極單元31從成膜室11分離。此時，由於電極單元31之側板部63構成成膜室11之壁面之一部分，因此藉由側板部63從成膜室11分離，成膜室11之開口部26開啟。
然後，於該開口部26裝載預備單元Y(參考圖26之箭頭B)。預備單元Y係具有與電極單元31相同構成。
亦即，預備單元Y包含有閉塞成膜室11之開口部26的側板部63，於該側板部63，配設有陰極單元68、及位於該陰極單元68之兩面側之陽極單元90(陽極67)。除此之外，預備單元Y，就包含有用以驅動陽極67之驅動機構71之方面，或使陽極67可對於陰極單元68開閉之絞鏈部87設置於陽極67之側板部63側之方面等而言之構成，係與電極單元31相同。
因此，藉由於成膜室11之開口部26裝載預備單元Y，以關閉成膜室11之開口部26。因此，於維修(清洗)電極單元31之期間若使用預備單元Y，即可使用薄膜太陽電池製造裝置10。因此，可提高薄膜太陽電池製造裝置10之運轉率。而且，不將成膜室11內之溫度降低至維修作業所必要的期望溫度，即可再度於成膜處理前基板W1之表面WO重新開始施行成膜之作業。因此，可縮短維修作業所必要的成膜室11之冷卻時間。
另一方面，從成膜室11分離之電極單元31係以其單體維持曝露於外氣之狀態下，放置到可進行維修作業之溫度。
當電極單元31降至期望的溫度時，如圖4A所示，使陽極單元90以絞鏈部87作為中心而轉動。如此一來，成為陽極單元90及陰極單元68之各對向面同時露出之狀態。
於成膜時，前述成膜空間81係由遮罩78、陰極單元68之淋灑板(=陰極)75及玻璃基板W形成。於陰極單元68之與陽極單元90相對向的面(淋灑板75)、或陽極單元90之與陰極單元68相對向的面67A(參考圖4D)，經常會有形成膜或附著反應副生成物(粉末)之情況。而且，於遮罩78或氣體流路R，亦附著膜或反應副生成物(粉末)。因此，藉由開啟陽極單元90，可容易進行各面之清掃、或淋灑板75或遮罩78之交換作業等。然後，當電極單元31的各部之清掃或交換結束，維修作業結束。
設置於電極單元31之排氣導管79亦可同時從成膜室11拉掉。因此，亦可容易維修(清掃)附著‧堆積於排氣導管79之反應副生成物(粉末)。
維修結束之電極單元31係於其後作為預備單元Y而發揮功能。亦即，於維修裝載於成膜室11之其他電極單元31時，從成膜室11分離其他電極單元31後，於藉此而開放之開口部26，裝載維修結束之電極單元31(預備單元Y)。藉由重複此，即使為進行維修之情況，仍可使薄膜太陽電池製造裝置10幾乎不停止而運轉。
因此，若依據本發明，可使包含有陰極76及陽極67之電極單元31容易從成膜室11分離。因此，以電極單元31單體可進行維修作業，可確保較大的作業空間。故，可減輕維修作業之負擔。
而且，以從成膜室11分離之電極單元31單體，可進行於成膜處理時會與玻璃基板W抵接之陽極單元90(陽極67)與陰極單元68之離隔距離調節，或於陰極76及陽極67連接虛設負載而進行陰極76及陽極67之阻抗調整等。因此，可於線外進行運轉薄膜太陽電池製造裝置10時所必要的各種調整。
進一步而言，可藉由絞鏈部87，使陽極單元90(或陽極67)與陰極單元68(或陰極76)分別之對向面露出。因此，易於進行維修作業，可進一步減輕維修作業之負擔。
然後，由於在陽極67之側板部63側設置有絞鏈部87，因此陽極67之陰極單元68側之面67A可轉動至大致與側板部63之另一面65平行(開啟)。總言之，可使陽極67及陰極76分別之對向面露出。藉此，可使玻璃基板W以外經常被形成膜之陽極67與陰極76之各對向面露出。其結果，可進一步減輕維修作業之負擔。進一步可維持安裝於側板部63而開閉，因此不從側板部63取下陽極67及陰極76即可進行維修。
而且，於為了維修作業而使電極單元31從成膜室11分離時，預備單元Y取代電極單元31而裝載於成膜室11，藉此，到電極單元31之維修作業結束為止，可使薄膜太陽電池製造裝置10正常地運轉。而且，由於預備單元Y係與電極單元31包含有同樣構成，因此即使於成膜室11裝載預備單元Y，仍可於玻璃基板W施行適當的成膜。因此，即使為進行維修作業之情況，仍可防止生產效率降低。
進一步而言，施行成膜時，藉由驅動機構71使2片陽極67往相互接近之方向移動，藉此使陽極67與成膜處理前基板W1之背後面WU抵接，進一步使驅動機構71驅動而推押陽極67，使成膜處理前基板W1朝向陰極單元68側移動。而且，於陽極67內建加熱器H，以該等陽極67及加熱器H構成陽極單元90。因此，於施行成膜處理時，可未有任何物體介在陽極67與玻璃基板W之間，因此可有效率地加熱玻璃基板W。而且，由於無須另設加熱器H，因此亦可謀求薄膜太陽電池製造裝置10之小型化。
然後，淋灑板75,75構成與匹配箱72連接之陰極(高頻電極)，因此無須個別地設置該陰極與淋灑板75。故，可謀求薄膜太陽電池製造裝置10之簡化、低成本化。而且，可對成膜空間81均勻地導入成膜氣體及均勻地發生電漿。
而且，由於陽極67沿著對於陰極(淋灑板75)接近隔開之方向移動，因此於成膜室11內取放玻璃基板W時，可較大地設定陽極67與陰極(淋灑板75)之隙縫。另一方面，藉由電漿CVD法，於玻璃基板W將薄膜Si層進行成膜時，可將成膜處理前基板W1與陰極單元68之淋灑板75之隙縫設定為特定短距離(成膜距離)。具體而言，可將該特定距離設定為5mm程度。因此，會謀求成膜之品質提升，同時容易從成膜室11取放玻璃基板W，可使生產性提升。而且，可防止於取放玻璃基板W時，玻璃基板W接觸陽極67或陰極單元68而損傷。
進一步於陰極單元68之周緣部設置有遮罩78，其係覆蓋從排氣導管79之外周部到達淋灑板75(=陰極)之外周部之部位；因此可限制玻璃基板W之外緣部之成膜範圍。因此，可防止對玻璃基板W之被成膜面中之不要成膜的部分，亦即對玻璃基板W之外緣部之膜形成。由於遮罩78可與電極單元31一體地從成膜室11分離，因此遮罩78之清洗變得容易。
此外，本發明之技術範圍不限定於上述實施型態，其包含在不脫離本發明之旨趣的範圍內，於上述實施型態加入各種變更者。亦即，於本實施型態所舉出的具體形狀或構成等只不過為一例，可適宜地變更。
進一步而言，於上述實施型態，說明關於玻璃基板W在與鉛直方向大致構成平行之狀態下，分別對向配置於陰極單元68之兩面側，2片陽極67在與該等玻璃基板W分別相對向之狀態下，配置於各玻璃基板W之厚度方向外側，進一步於陰極單元68設置有遮罩78之情況。然而，不僅限於該構成，亦可採用於包含有陽極67之陽極單元90之兩面側，分別配置玻璃基板W，進一步於該等玻璃基板W之外側配設1對陰極76，於該等陰極76分別設置遮罩78之構成。
而且，於上述實施型態，說明關於在陽極67之側板部63側設置絞鏈部87，作為可讓陽極單元90(陽極67)的面67A、與陰極單元68之與陽極單元90相對向的面(淋灑板75)同時露出之開閉機構之情況。然而，不僅限於此，例如於可確保薄膜太陽電池製造裝置10之設置空間的場所，具體而言於設置薄膜太陽電池製造裝置10之場所，在高度方向有餘裕之情況時，將絞鏈部87設置於電極單元31之高度方向之上部或下部亦可。進一步而言，若陽極67及陰極單元68之各對向面可露出，則對於陰極單元68可滑動地設置陽極單元90(陽極67)亦可。
[產業上之可利用性]
若依據本發明，可使包含有陰極及陽極之電極單元容易從成膜室分離。因此，以電極單元單體可進行維修作業，可確保較大的作業空間。故，可減輕維修作業之負擔。
而且，即使是為了維修作業而將電極單元從成膜室分離之情況，預備單元仍可取代電極單元而裝載於成膜室。該情況下，到電極單元之維修作業結束為止，可使薄膜太陽電池製造裝置正常地運轉。而且，由於預備單元係與電極單元包含有相同構成，因此可於基板施行適當的成膜。因此，即使為進行維修作業之情況，仍可防止生產效率降低。
10．．．薄膜太陽電池製造裝置
11．．．成膜室
27．．．側面
31．．．電極單元
61．．．車輪(台車)
62．．．底板部(台車)
63．．．側板部
67．．．陽極
67A．．．面
68．．．陰極單元
75．．．淋灑板兼陰極
76．．．陰極中間構件
78．．．遮罩(遮罩機構)
87．．．絞鏈部(開閉機構)
90．．．陽極單元
102．．．頂部電池元件(膜)
104．．．底部電池元件(膜)
A．．．箭頭
B．．．箭頭
H．．．加熱器(溫度控制機構)
R．．．氣體流路
W．．．基板
W1．．．成膜處理前基板
W2．．．成膜處理後基板
WO．．．表面(被成膜面)
Y．．．預備單元
圖1係關於本發明之一實施型態之薄膜太陽電池之概略剖面圖；
圖2係關於同實施型態之薄膜太陽電池製造裝置之概略俯視圖；
圖3A係同實施型態之成膜室之立體圖；
圖3B係從別的角度觀看同成膜室之情況下之立體圖；
圖3C係同成膜室之側面圖；
圖4A係本實施型態之電極單元之立體圖；
圖4B係從別的角度觀看同電極單元之情況下之立體圖；
圖4C係表示同電極單元之變形例之圖，其係分解其一部分之立體圖；
圖4D係本實施型態之電極單元之陰極單元及陽極單元之部分剖面圖；
圖5A係本實施型態之裝料‧取出室之立體圖；
圖5B係從別的角度觀看同裝料‧取出室之情況下之立體圖；
圖6係表示本實施型態之推拉機構之概略構成之立體圖；
圖7A係表示本實施型態之基板拆裝室之概略構成之立體圖；
圖7B係同基板拆裝室之正面圖；
圖8係本實施型態之基板收容卡匣之立體圖；
圖9係本實施型態之托架之立體圖；
圖10係表示本實施型態之薄膜太陽電池之製造方法之過程之說明圖(1)；
圖11係表示同薄膜太陽電池之製造方法之後續過程之說明圖(2)；
圖12係表示同薄膜太陽電池之製造方法之後續過程之說明圖(3)；
圖13係表示同薄膜太陽電池之製造方法之後續過程之說明圖(4)；
圖14係表示同薄膜太陽電池之製造方法之後續過程之說明圖(5)；
圖15A係表示本實施型態之推拉機構之動作之說明圖；
圖15B係表示本實施型態之推拉機構之動作之說明圖；
圖16係表示本實施型態之薄膜太陽電池之製造方法之後續過程之說明圖(6)；
圖17係表示同薄膜太陽電池之製造方法之後續過程之說明圖(7)；
圖18係表示同薄膜太陽電池之製造方法之後續過程之說明圖(8)，其係基板插入於電極單元時之概略剖面圖；
圖19係表示同薄膜太陽電池之製造方法之後續過程之說明圖(9)；
圖20係表示同薄膜太陽電池之製造方法之後續過程之說明圖(10)；
圖21係表示同薄膜太陽電池之製造方法之後續過程之說明圖(11)，其係基板裝在電極單元時之部分剖面圖；
圖22係表示同薄膜太陽電池之製造方法之後續過程之說明圖(12)；
圖23係表示同薄膜太陽電池之製造方法之後續過程之說明圖(13)；
圖24係表示同薄膜太陽電池之製造方法之後續過程之說明圖(14)；
圖25係表示同薄膜太陽電池之製造方法之後續過程之說明圖(15)；及
圖26係用以說明本實施型態之電極單元之維修程序之立體圖。
11．．．成膜室
26．．．開口部
27．．．側面
31．．．電極單元
61．．．車輪
62．．．底板部
63．．．側板部
67．．．陽極
68．．．陰極單元
69．．．側板部之另一面
71．．．驅動機構
72．．．匹配箱
90．．．陽極單元
A．．．箭頭
B．．．箭頭
Y．．．預備單元

Claims (11)

  1. 一種薄膜太陽電池製造裝置，其特徵為：包含：成膜室，其係收容基板；及電極單元，其係於該成膜室內，對於前述基板藉由CVD法而形成膜；且前述電極單元包含有：陽極及陰極；側板部，其係保持該等陽極及陰極，構成前述成膜室之壁部之一部分，進一步對於前述成膜室裝拆自如；及開閉機構，其係變更前述陽極對於前述陰極之打開角度，而使前述陽極及前述陰極各自之對向面露出；其中前述開閉機構係設置於前述陽極之前述側板部側。
  2. 如請求項1之薄膜太陽電池製造裝置，其中包含前述陰極及1對前述陽極；前述各陽極分別配置為對於該等陰極拉開特定距離而相對向。
  3. 如請求項1之薄膜太陽電池製造裝置，其中進一步設置有預備單元，其係具有與前述電極單元相同構成。
  4. 如請求項1之薄膜太陽電池製造裝置，其中於前述陽極中內建有調整前述基板之加熱溫度之溫度控制機構；以前述溫度控制機構及前述陽極構成陽極單元。
  5. 如請求項1之薄膜太陽電池製造裝置，其中於俯視觀看之情況下，前述陰極及前述陽極對於前述側板部大致構成垂直而安裝；於前述成膜室之前述壁部設置有開口； 前述陰極及前述陽極從該開口插入於前述成膜室內，並且前述側板部關閉前述開口，藉此將前述電極單元安裝於前述成膜室。
  6. 如請求項1之薄膜太陽電池製造裝置，其中於俯視觀看之情況下，前述陰極及前述陽極對於前述側板部大致構成垂直而安裝；於前述成膜室之前述壁部，設置有由前述側板部關閉之開口；藉由取下關閉該開口之前述側板部，從該開口將前述陰極及前述陽極取下至前述成膜室外。
  7. 如請求項1之薄膜太陽電池製造裝置，其中前述電極單元進一步包含有驅動機構，其係使前述陽極對於前述陰極接近隔開。
  8. 如請求項1之薄膜太陽電池製造裝置，其中前述陰極係對於前述基板之被成膜面供給成膜氣體之淋灑板；前述側板部包含有導入部，其係導入前述成膜氣體。
  9. 如請求項1之薄膜太陽電池製造裝置，其中前述電極單元進一步包含有遮罩機構，其係限制前述基板之外緣部之成膜範圍。
  10. 如請求項1之薄膜太陽電池製造裝置，其中前述電極單元進一步包含有台車。
  11. 如請求項10之薄膜太陽電池製造裝置，其中前述台車可與前述側板部連接及分離。
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