JP5378192B2 - 成膜装置 - Google Patents
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この薄膜太陽電池の薄膜Si層(半導体層)の成膜にはプラズマCVD装置を用いることが多い。プラズマCVD装置としては、枚葉式PE−CVD(プラズマCVD)装置、インライン型PE−CVD装置、バッチ式PE−CVD装置などが存在する。
このように構成することで、例えば、成膜室内の輻射熱等によって得るアノードの熱容量などに基づいてアノードと冷却板との間の離間距離を設定し、アノードから所望の熱量を吸熱することができる。このため、ヒータの能力などに応じ、その都度冷却板を作成する必要がなく、冷却板の汎用性を高めることができる。
また、アノードと冷却板との間に間隙を設けることにより、アノードの冷却板側の面を満遍なく均一に冷却することができる。このため、効率よくアノードの温度上昇を抑制することが可能になる。
次に、この発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図1は、成膜装置の概略構成図である。
同図に示すように、成膜装置10は、複数の基板Wに対して同時に、例えばマイクロクリスタルシリコン膜を成膜可能な成膜室11と、成膜室11に搬入される基板W(以下、成膜処理前基板という)と、成膜室11から搬出された基板W(以下成膜処理後基板という)とを同時に収容可能な仕込・取出室13と、成膜処理前基板および成膜処理後基板をキャリア21(図11参照)に脱着する基板脱着室15と、基板Wをキャリア21から脱着するための基板脱着ロボット17と、基板Wを別の処理室との搬送のために複数枚収容可能な基板収容カセット19と、を備えている。
さらに、成膜室11と仕込・取出室13とで構成される基板成膜モジュール14は一体化されており、トラックに積載可能な大きさで形成されている。
図2、図3は、成膜室11の概略構成を示し、図2は、斜視図、図3は、図2とは別の角度からの斜視図である。図4は、成膜室11の側面図である。
図2に示すように、成膜室11は箱型に形成されている。成膜室11の仕込・取出室13と接続される一方の側面23(図2における紙面手前側の側面)には、基板Wが搭載されたキャリア21が通過可能なキャリア搬出入口24が3箇所形成されている。
なお、図3においては、電極ユニット31毎に1つの冷水循環器32が接続されている場合について示しているが、各電極ユニット31をまとめて1つの冷水循環器32に接続するように構成してもよい。
図5、図6は、電極ユニット31の概略構成を示し、図5は、斜視図、図6は、図5とは別の角度からの斜視図である。図7は、カソードユニット68、およびアノードユニット90の部分断面図である。
図5〜図7に示すように、電極ユニット31は、成膜室11の他方の側面27に形成された3箇所の開口部26に着脱可能構成されている(図3参照)。電極ユニット31は、下部に車輪61が設けられており、床面上を移動可能に構成されている。
側板部63の一方の面(成膜室11の内部を向く面)65には、成膜を施す際に基板Wの両面に位置するアノードユニット90とカソードユニット68とが重力方向に沿うように設けられている。すなわち、電極ユニット31には、カソードユニット68を挟んで両側に離間してアノードユニット90がそれぞれ配置されており、それぞれカソードユニット68とアノードユニット90との間を成膜空間81として構成している。各成膜空間81,81にそれぞれ基板Wを配置することにより、一つの電極ユニット31で2枚の基板Wを同時に成膜できるようになっている。
図8は、アノードユニット90の斜視図である。なお、以下の説明において、カソードユニット68の両面に各々配置されている2つのアノードユニット90は、何れも同一に構成されているので、2つのアノードユニット90のうちの一方のアノードユニット90についてのみ説明し、他方のアノードユニット90については説明を省略する。
図5、図7、図8に示すように、アノードユニット90は、カソードユニット68側に配置され、カソードユニット68に対向する平板状のアノード(対向電極)67と、アノード67を挟んでカソードユニット68とは反対側に配置された平板状の冷却板91と、これらアノード67と冷却板91とを一体化して保持する駆動アーム92とを有している。
具体的には、基板Wの成膜を施す際にはアノードユニット90がカソードユニット68方向に移動(図7における矢印参照)して基板Wと当接し、さらに、カソードユニット68に近接する方向に移動して基板Wとカソードユニット68との離隔距離を所望の距離に調節する。その後、成膜を行い、成膜終了後にアノードユニット90が、互いに離反する方向に移動して、基板Wを電極ユニット31から容易に取り出すことができるように構成されている。
冷却板91は、アノード67の冷却を行うためのものであって、アルミにより形成されている。また、冷却板91は、アノード67よりもやや小さくなるように形成されている。さらに、冷却板91とアノード67との間には、駆動アーム92によって間隙Kが設けられている。
より具体的には、冷水配管93は、冷却板91の側板部63側であって重力方向上部から水平方向に沿って延出し、冷却板91の側板部63とは反対側の端部近傍で折り返す形で再び冷却板91の側板部63側に向かって水平方向に沿って延出している。さらに、冷水配管93は、冷却板91の側板部63側の端部近傍で折り返し、再び水平方向に沿って延出している。そして、これらを繰り返し行うようにしながら徐々に重力方向下部に向かって冷水配管93が敷設されている。
冷水配管93の流入口93A、および流出口93Bは、それぞれ冷却板91の面91Aと交差する方向に向かって曲折され、冷却板91の面91Aから突出した状態になっている。この突出した部位に、冷水循環器32に他端が接続されている冷水配管28の一端がそれぞれ接続される。
図7に示すように、カソードユニット68は、シャワープレート75と、シャワープレート75の外周部に接触しているカソード中間部材76と、排気ダクト79と、浮遊容量体82とを有している。
シャワープレート75は、カソード中間部材76を挟んで両面側にそれぞれ配置され、アノード67と対向している。各シャワープレート75,75には、それぞれ複数の小孔(不図示)が形成されており、この小孔74から基板Wに向かって成膜ガスを噴出するようになっている。
すなわち、空間部77は、ガス供給路の役割を有している。この実施形態にあっては、空間部77がそれぞれのシャワープレート75、75毎に対応して別々に形成されているので、カソードユニット68は、2系統のガス供給路を有していることになる。
図1に示すように、成膜室11と仕込・取出室13との間、および、仕込・取出室13と基板脱着室15との間をキャリア21が移動できるように移動レール37が成膜室11〜基板脱着室15間に敷設されている。
仕込・取出室13は、箱型に形成されている。仕込・取出室13の一側面(図1における下側の面)には、基板Wが搭載されたキャリア21が通過可能なキャリア搬出入口(不図示)が設けられ、このキャリア搬出入口に、気密性を確保できるシャッタ36が設けられている。また、仕込・取出室13には、不図示の真空ポンプが接続されており、内部を真空状態にすることができる。
基板脱着室15では、移動レール37に配されているキャリア21に対して成膜処理前基板を取り付けることができ、成膜処理後基板をキャリア21から取り外すことができるようになっている。基板脱着室15にはキャリア21が3個並列配置できるように構成されている。
基板脱着ロボット17は、駆動アーム45を有しており、駆動アーム45の先端に基板Wを吸着できるようになっている。また、駆動アーム45は基板脱着室15に配されたキャリア21と基板収容カセット19との間を駆動できるようになっており、基板収容カセット19から成膜処理前基板を取り出し、基板脱着室15に配されたキャリア21に成膜処理前基板を取り付けることができるとともに、成膜処理後基板を基板脱着室15に戻ってきたキャリア21から取り外し、基板収容カセット19へ搬送することができるようになっている。
図9は、キャリア21の斜視図である。
同図に示すように、キャリア21は、基板Wを搬送するためのものであって、基板Wを取り付けることができる額縁状のフレーム51が2個形成されている。つまり、一つのキャリア21に基板Wを2枚取り付けることができるようになっている。2個のフレーム51,51は、その上部において連結部材52により一体化されている。また、連結部材52の上方には移動レール37に載置される車輪53が設けられており、移動レール37上を車輪53が転がることで、キャリア21が移動できるようになっている。
ここで、キャリア21は、一つの移動レール37上に1つ取り付けられている。つまり、一つの移動レール37上に一対(2枚)の基板Wを保持できる1つのキャリア21が取り付けられている。したがって、一組の成膜装置10には、3個(3対6枚基板保持)のキャリア21が取り付けられていることになる。
次に、成膜装置10を用いて、基板Wに成膜する方法を説明する。なお、この説明においては一つの基板成膜ライン16の図面を用いるが、他の三つの基板成膜ライン16も略同一の流れで基板を成膜する。
図1に示すように、成膜処理前基板(基板W)を複数枚収容した基板収容カセット19を所定の位置に配置する。
この動作をもう一度繰り返し、一つのキャリア21に2枚の成膜処理前基板を取り付ける。さらに、この動作を繰り返して、基板脱着室15に設置されている残り二つのキャリア21にも成膜処理前基板をそれぞれ取り付ける。つまり、この段階で成膜処理前基板を6枚取り付ける。
次に、3個のキャリア21を平面視において移動レール37が敷設された方向と直交する方向に移動機構を用いてそれぞれ所定距離移動させる。
なお、成膜室11は真空状態が保持されている。このとき、キャリア21に取り付けられた成膜処理前基板は、面方向に沿って移動し、成膜室11内において、アノード67とカソードユニット68との間に表面が重力方向と略並行を成すように鉛直方向に沿った状態で挿入される。
なお、基板Wとカソードユニット68のシャワープレート75との隙間(成膜距離)は5〜15mmで、例えば5mm程度である。
このような状態でカソードユニット68のシャワープレート75から成膜ガスを噴出させると共に、マッチングボックス72を起動させてカソードユニット68のカソード中間部材76(シャワープレート75)に電圧を印加することで成膜空間81にプラズマを発生させ、基板Wの表面に成膜を施す。
このとき、冷水循環器32(図3参照)を駆動させて冷却板91に敷設されている冷水配管93に冷水を循環させる。冷水の温度としては、例えば、約20℃程度に設定されている。
ここで、冷却板91とアノード67との離間距離L1は、アノード67が成膜空間81からの輻射熱により得る熱容量、および成膜空間81に導入される成膜ガスの熱伝導率に基づいて決定される。
なお、成膜ガスは、例えば、SiH4(モノシラン):H2(水素)=1.5:45(slm)とする。このような成分によりなる成膜ガスの熱伝導率を求める場合、H2と比較してSiH4の比率が小さいので、H2の熱伝導率、およびアノード67が得る熱容量に基づいて、冷却板91とアノード67との離間距離L1を設定してもよい。
なお、一度の成膜処理工程で複数の層を成膜する際には、供給する成膜ガス材料を所定時間毎に切り替えることで実施することができる。
なお、成膜を施す際に発生した反応生成物(パウダー)は排気ダクト79の内壁面に付着・堆積させることで回収・処分できるようになっている。成膜室11内の全ての電極ユニット31において、上述した処理と同じ処理を実行するため6枚の基板に対して同時に成膜を施すことができる。
図1に示すように、成膜室11のシャッタ25を開状態にし、キャリア21を仕込・取出室13へプッシュ−プル機構(不図示)を用いて移動させる。このとき仕込・取出室13は排気され、次に成膜される成膜処理前基板を取り付けたキャリア21が既に位置している。そして、仕込・取出室13内で成膜処理後基板に蓄熱されている熱を成膜処理前基板へ伝熱し、成膜処理後基板の温度を下げる。
したがって、上述の実施形態によれば、アノードユニット90に冷却板91を設け、アノード67のヒータHを停止した際、冷却板91に設けられた冷水配管93に冷却用水を循環させることによって、アノード67を冷却することができる。このため、成膜室11内の成膜空間81の輻射熱によるアノード67の温度上昇を抑えることができる。この結果、基板Wの温度上昇を抑制することができ、基板Wの温度を所望の温度で管理することを容易に行うことができる。よって、バッチ処理の回数が増えても基板Wに形成される膜の品質を安定させることが可能になる。
さらに、冷却板91とアノード67との間に間隙Kを設けることにより、アノード67の冷却板91側の面を満遍なく均一に冷却することができる。このため、効率よくアノード67の温度上昇を抑制することが可能になる。
例えば、上述の実施形態では、冷却板91とアノード67との間に、駆動アーム92によって間隙Kを設けた場合について説明した。しかしながら、これに限られるものではなく、冷却板91とアノード67とを互いに重ね合わせ、間隙Kを介さずにアノード67の熱を冷却板91から放熱させるように構成してもよい。
また、駆動アーム92とは別に例えば、冷却板91とアノード67との間にスペーサ等を挟んで間隙Kを設定するように構成してもよい。
Claims (2)
- 成膜室内に基板を配し、前記基板の被成膜面にCVD法により所望の膜を形成する成膜装置において、
電圧が印加される平板状のカソードと、前記カソードに離間して対向配置されるアノードとを有する電極ユニットを、前記成膜室に対して着脱自在に設け、
前記アノードに、前記基板を加熱するためのヒータを内蔵すると共に、
前記アノードの前記カソードとは反対側の面に、前記アノードを冷却するための冷却板を設け、
前記冷却板に、冷却用水を循環させるための冷却流路を設け、
前記アノードと前記冷却板との間には間隙が設けられ、該間隙を成す前記アノードと前記冷却板との離間距離が任意の値に設定可能であることを特徴とする成膜装置。 - 前記離間距離は、前記アノードが成膜空間からの輻射熱により得る熱容量、および前記成膜空間に導入される成膜ガスの熱伝導率に基づいて設定されることを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。
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