TWI420436B - 用於接附基板之設備 - Google Patents

Description

用於接附基板之設備

本發明提供一種基板接附設備，並且更明確地說，提供一種用於平面顯示器製造之基板接附設備。

隨著資訊科技社會的發展，對於顯示裝置的需求也增加。各種平面顯示器，例如液晶顯示器(LCD)、電漿顯示面板(PDP)、以及電激發光顯示器(ELD)，均被廣泛使用。

其中，與較早期的陰極射線管(CRT)技術相比，LCD因為其優異的影響品質、重量輕、厚度薄、以及低耗電而廣泛用於行動應用中。在製造用於LCD之液晶顯示面板時，接附一陣列基板及一彩色濾光片的製程可能是決定LCD品質的一個重要因素。

一種基板接附設備，其至少包含：一第一支撐構件，其接收一第一基板在其一接收表面上；一第二支撐構件，相對於該第一支撐構件提供，以在其間界定一接附空間，其中該第二支撐構件接收一第二基板在其一接收表面上；一支撐梢，提供在該第一支撐構件內且位於該第一基板外部，其中該支撐梢提供該第一基板相對於該第二支撐構件的移動；以及一距離調整裝置，其選擇性地往上或往下移動該支撐梢，以調整該第一支撐構件和該第二支撐構件之間的距離。

一種基板接附設備，其至少包含：一第一腔室，相對於一第二腔室設置，以在其間界定一附接空間；一第一支撐構件，設置在該第一腔室內，以接收並支承一第一基板；一第二支撐構件，設置在該第二腔室內，以相對於該第一基板接收並支承一第二基板；第一及第二支撐梢，其分別從該第一支撐構件之相對的第一及第二側邊往外延伸，並分別進入形成在該第一腔室之相對側壁中對應的第一及第二接收空間；以及一距離調整裝置，與該第一及第二支撐梢連接，以選擇性升起及降下該第一和第二支撐梢，並調整該與其連接之第一支撐構件的位置。

此後，將參考第1至9圖更詳細描述例示實施例。該等例示實施例可做出各種形式的調整，因此不應將本發明範圍理解為受限於該等例示實施例。

一薄膜電晶體(TFT)LCD面板之製備可藉由製備擁有設置為一矩陣的複數個薄膜電晶體之陣列基板，製備擁有一彩色濾光片或一光盾膜(light shielding film)形成在其上之彩色濾光片基板，接附該彩色濾光片基板和該陣列基板，而使該彩色濾光片基板與該陣列基板相對，同時在該彩色濾光片基板和該陣列基板之間保持數微米的預定距離，在接附前、接附期間、或接附後於該彩色濾光片基板和該陣列基板之間注入液晶，以及封裝該經接附的彩色濾光片基板和陣列基板。

該基板接附製程可藉由含有一上腔室和一下腔室之基板接附設備，以及在由該上及下腔室界定之內部空間中製造真空來執行。該等基板可固定在該上及下腔室上，並且可移動以調整該等基板之間的距離以及調整該等基板的校直。可在每一個腔室內提供一平板、一夾盤及一校直裝置，以避免該等腔室的結構變形而影響該等基板，同時校直並調整該等基板之間的距離。

第1圖示出如在此實施且廣義描述之一例示基板接附設備100。該基板接附設備100可包含一框架200、一上腔室300、一下腔室400、以及一驅動器500。

該框架200形成該基板接附設備100的外表，並支撐該基板接附設備100的各個零組件。該框架200包含複數個支柱210，其界定該框架200的下半部分，該等支柱210係固定在一基座220的邊緣上。該基座220支撐該驅動器500。可在相鄰支柱210間提供其他樑(未示出)和支索(未示出)，以增加該等支柱210提供的結構剛性之強度。

該上腔室300可與該框架200的上半部分連結，並且可與該下腔室400緊密接觸，以界定出一接附空間。該上腔室300可包含一上腔室主體310，經配置而與該下腔室400緊密接觸，以界定出該接附空間，以及複數個支撐桿320，其從該上腔室主體310伸出，以使該框架200的支柱210可延伸通過其間，因此該等支柱210接收在該等支撐桿320內並與其連結。

該上腔室主體310可包含一開口312，形成在其下半部分內以接收一上支撐構件。該上支撐構件可包含一頂板330及設置在該頂板330底部之上夾盤340。該上夾盤340可形成為平板形狀。可將一第一基板P1設置在該上夾盤340的接收表面上。該上夾盤340可以是一靜電夾盤，以利用靜電力支撐該第一基板P1，或是適用的其他類型夾盤。在其他實施例中，該頂板330可與該上夾盤340整合形成。在此情況中，該頂板330可支承住該第一基板P1。

一支撐梢350可從該頂板330的外端伸出，並且可經設置實質上與固定在該上夾盤340上的第一基板P1之一側平行。該支撐梢350可由一推桿412支撐，其會在後方描述。

可在該上腔室主體310頂部提供一攝影機360，以調整該第一基板P1和一第二基板P2之間的相對位置。其他的攝影機360位置也可以是適當的。也可提供該上腔室310一基板分離器370，以抽吸或加壓該第一基板P1，而使該第一基板P1可固定在該上夾盤340上或與其分離。

該攝影機360可透過形成在該上腔室主體310和該頂板330內的通孔361觀察固定在該上夾盤340上的第一基板P1和一第二基板P2之間的校直，稍晚會描述。例如，該攝影機360可在該第一基板P1和該第二基板P2重疊時觀察提供在該第一基板P1和該第二基板P2上的校直記號(未示出)。該攝影機360也可在該第一基板P1和該第二基板P2重疊時觀察該第一基板P1和該第二基板P2的至少兩個對角。

該基板分離器370可包含延伸通過該上腔室主體310和該頂板330的複數個分離梢371，以及配置在該上腔室主體310外部的分離梢促動構件372，以上下移動該等分離梢371。每一個分離梢371可經形成為中空管形狀。該等分離梢371可與一排氣裝置600連接，因此該等分離梢371可在該排氣裝置600於該等分離梢371內產生真空壓力時施加吸力至該第一基板P1。

該排氣裝置600可在界定在該上腔室主體310和該下腔室400之間的接附空間內創造真空。該排氣裝置600可包含與界定在該上腔室主體310和該下腔室400之間的接附空間交流的排氣管610，以及一真空幫浦(未示出)，以利用該排氣管610在該接附空間內創造真空。該真空幫浦可與該排氣管610連接，而使接附期間使用的氮氣製程氣體可在產生該真空壓力時同步供應。或者，可供應一加壓氣體至該排氣管610內，而使該接附空間內的壓力變為大氣壓力。

該下腔室400係配置在該上腔室300下方。該下腔室400可朝該上腔室300移動，而使該下腔室400與該上腔室主體310緊密接觸，以界定出該接附空間。在該下腔室400頂部，可提供一下支撐構件，包含一底板420以及提供在該底板420頂部的下夾盤430，以支撐該第二基板P2。該下夾盤430可以是一靜電夾盤，以利用靜電力固定該第二基板P2，或是適用的其他類型夾盤。在其他實施例中，該底板420可與該下夾盤430整合形成。在此情況中，該底板430可支承住該第二基板P2。

可在該上及下腔室300和400的對應邊緣之間提供一密封件400，以接觸該上腔室主體310的底部並牢固封住該接附空間。

也可在該下腔室400邊緣處提供一距離調整裝置410，以支撐該支撐梢350，其從該頂板330往外伸出通過該上腔室主體310，並調整該頂板330和該底板420之間的距離。

可在該下腔室400底部提供一基板移動裝置450，以將該第二基板P2固定在該下夾盤430上或將該第二基板P2與該下夾盤430分離。該基板移動裝置450可包含複數個延伸通過該下腔室400的梢451，以及設置在該下腔室400外部的促動構件452，以上下移動該等梢451。

由該驅動器500支撐的位置調整台460可調整該下腔室400的位置，因此校直該上腔室主體310和該下腔室400。

該驅動器500可設置在該框架200的下半部分，以將該下腔室400朝向或遠離該上腔室300移動，而使該接附空間開啟和關閉。該驅動器500可包含複數個安裝在該基座220邊緣處的移動裝置510以及由該等移動裝置510支撐的平板520。

每一個移動裝置510可包含一支柱511，以支撐該平板520，以及一移動構件512，以上下移動該支柱511。該移動構件512可以是液壓缸(未示出)，以產生直接上下移動該平板520所需的動力。或者，該移動構件512可以是一馬達(未示出)、一減速機(未示出)，以及一螺絲組件(未示出)的組合，該減速機轉變該馬達所產生的動力之方向，同時降低該動力的速度，該螺絲組件將該減速機的旋轉移動轉變為直線移動。該移動構件512可以建構為各種結構，並且不受限於上述結構。

之後，將參考第2至4圖更完整描述在此實施且廣義描述之距離調整裝置410。該距離調整裝置410可支撐提供在該頂板330處的複數個支撐梢350。該距離調整裝置410可包含一致動器411及一推桿412。

該致動器411可安裝在該下腔室400的邊緣，以上下移動該推桿412。該推桿412可支撐對應的支撐梢350，並且可由該致動器411上下移動。

一溝槽412a可形成在該推桿412上端，以接收設置在該頂板330處對應的支撐梢350。該溝槽412a可實質上與固定在該底板420上的第二基板P2之一側平行(或實質上與該支撐梢350或是該第一基板P1的一側平行)，也就是說，如第3圖所示，該溝槽412a可與該第一及第二基板P1和P2及/或頂及底板330和420的縱軸平行。因此，該推桿412可避免對應的支撐梢在實質上與該支撐梢350垂直的方向上移動。雖然第3-4圖所示的溝槽412a在此實施例中係形成在該推桿412上端，但該推桿412上端的形狀可以調整，只要可避免該對應的支撐梢350在實質上與該支撐梢350垂直的方向上移動即可。

如第5圖所示，該基板接附設備100可包含複數個支撐梢350a和350b。該等支撐梢350a和350b可包含與該頂板330的一側連接之第一支撐梢350a以及與該頂板330之另一側連接之第二支撐梢350b。該第一支撐梢350a可設置為實質上與該第二支撐梢350b垂直。複數個推桿412b和412c可分別支撐該第一及第二支撐梢350a和350b。該等推桿412b和412c可包含第一推桿412b，以支撐該等第一支撐梢350a，以及第二推桿412c，以支撐該等第二支撐梢350b。

在每一個第一推桿412b的上端，可形成一第一溝槽以接收對應的第一支撐梢350a。該第一溝槽可實質上與對應的第一支撐梢350a平行。在每一個第二推桿412c的上端，可形成一第二溝槽以接收對應的第二支撐梢350b。該第二溝槽可實質上與對應的第二支撐梢350b平行。該等第一溝槽避免該等第一支撐梢350a在實質上與該等第一支撐梢350a垂直的方向上移動，而該等第二溝槽避免該等第二支撐梢350b在實質上與該等第二支撐梢350b垂直的方向上移動。因此，可能在利用該頂板330的上下移動調整該等基板P1和P2之間的距離時避免該頂板330上下或側向移動。此外，也可能在一致地維持該等基板P1和P2之間的距離的同時上下移動該頂板330。

所提供之支撐梢350和推桿412的數量可以是一或多個，並且支撐梢350和推桿412的數量並沒有特別的限制。

第6圖係根據如在此廣義描述之另一實施例之一距離調整裝置410之內部結構的前剖面圖，第7圖係此距離調整裝置410的側剖面圖，而第8A和8B圖係與此實施例相關之頂板和支撐梢的平面圖。

第6-7圖所示的距離調整裝置410支撐複數個提供在頂板330處的支撐梢350，並包含一致動器411、一推桿412、以及一彈性件413。該致動器411可安裝在該下腔室400的邊緣，以上下移動該推桿412，進而上下移動對應的支撐梢350。

在該推桿412上端，可形成一溝槽412a以接收該頂板330處的支撐梢350。該溝槽412a可定向在該支撐梢350和該等基板P1及P2的縱向方向上，且實質上與固定在該底板420上的第二基板P2之一側平行(或實質上與該支撐梢350或是該第一基板P1的一側平行)。因此，該推桿412可避免該支撐梢350在實質上與該支撐梢350垂直的方向上移動。雖然第7圖所示的實施例之溝槽412a係形成在該推桿412上端，但該溝槽並不受限於此結構。該推桿412上端的形狀可以調整，只要可避免該支撐梢350在實質上與該支撐梢350垂直的方向上移動即可。

如第8A圖所示，該彈性件413可設置在該支撐梢350的末端處，以提供該支撐梢朝向該頂板330方向的彈力。該彈力可實質上與該支撐梢350平行。設置在該頂板330的左及右側之該等彈性件413可避免該等支撐梢在實質上與該支撐梢350垂直的方向上移動。

該等彈性件413可以是，例如，定位球塞(ball plunger)。當該等支撐梢350被該等致動器411上下移動時，該等支撐梢350也可接觸各自的定位球塞之球體而上下移動，儘可能避免該等支撐梢350在縱向方向上移動。

參見第8A和8B圖，該等支撐梢350的數量可大於一，並且該等支撐梢350可沿著該頂板330的第一側，以及沿著與該頂板330的第一側平行之該頂板330的第二側安裝。此外，該等支撐梢350可安裝在該頂板330的第一及第二側上之對應位置處。因為該等支撐梢350係由各自的推桿412支撐，該等支撐梢350無法在實質上與該等支撐梢350垂直的方向上移動。此外，該等支撐梢350因為各自的定位球塞413而無法在實質上與該等支撐梢350平行的方向上移動。因此，該等支撐梢350的水平移動受到該等推桿412和該等定位球塞413的限制。該等支撐梢350、該等推桿412、和該等定位球塞413的數量可以是一或多個，並且該等支撐梢350、該等推桿412、和該等定位球塞413的數量並未特別受到限制。

第9圖係第1圖所示之該基板接附設備之操作流程圖。參見第9圖，利用一基板供應設備(未示出)供應該第一基板P1和該第二基板P2至該上腔室300和該下腔室400之間的一空間內(S110)。

例如，可先供應該第一基板P1，並固定在設置在該上腔室主體310內之該頂板330的上夾盤340上。當隨後供應該第二基板P2時，裝配於該下腔室400的該等梢451可利用該等促動構件452從該下腔室400上移，而該第二基板P2可被該等梢451支撐在該上腔室300和該下腔室400之間。當該等梢451接著利用該等促動構件452下移時，由該等梢451支撐的該第二基板P2也下移。此時，該第二基板P2可藉由該下夾盤430或其他適用裝置所產生的接附力，被固定在該底板420的下夾盤430上，位於該第二基板P2的底部。

當該第一基板P1和該第二基板P2固定在適當位置上時，該下腔室400可在該驅動器500將該下腔室400朝該上腔室300移動之時，與該上腔室300校直，(S120)。

支撐該下腔室400的平板520係由複數個移動裝置510支撐，移動裝置510可獨立運作。該平板520的垂直位置可由該等支柱511調整，其利用各自的移動構件512上下移動。此時，該攝影機360拍下該第一基板P1和該第二基板P2的校直記號(未示出)，以觀察該第一基板P1和該第二基板P2的校直狀態。當該下腔室400由該驅動器500上下移動時，該下腔室400和該上腔室主體310的水平位置校直可由設置在該下腔室400和該驅動器500的平板520之間的位置調整台460執行。

當該下腔室400和該驅動器500的平板520之位置校直完成時，該下腔室400的頂部與該上腔室主體310的底部緊密接觸而形成一接附空間，於其中該第一基板P1和該第二基板P2將會接附(S130)。該密封件440可在界定於該上腔室主體310和該下腔室400之間的接附空間內部維持氣密式密封。

在移動該下腔室400以形成該接附空間後，該距離調整裝置410調整該第一基板P1和該第二基板P2之間的距離(S140)。也就是，當操作該距離調整裝置410的致動器411來維持該第一基板P1和該第二基板P2之間一致的距離時，支撐該等支撐梢350的該等桿412會移動，使該上夾盤340和該頂板330(該第一基板P1固定在其上)也下移。

當在該第一基板P1和該第二基板P2之間達到預定距離時，該頂板330的下移停止，並且該排氣裝置600在該接附空間內形成真空(S150)。此時，該第一基板P1和該第二基板P2之間的距離可由該距離調整裝置410一致地維持，即使已在該接附空間內建立真空壓力。

當已在該接附空間內建立真空壓力時，該第一基板P1可由該上夾盤340釋放，並自由落下至該第二基板P2的頂部，而使該第一基板P1暫時與該第二基板P2接附(S160)。

可在暫時接附的第一及第二基板P1和P2上施加壓力，同時供應氮氣製程氣體至該接附空間，圍繞該暫時接附的第一及第二基板P1和P2，以使該第一基板P1和該第二基板P2彼此牢固地接附(S170)。也就是，該暫時接附的第一及第二基板P1和P2內部和外部之間的壓力差藉由增加該接附空間內的壓力而增加，致使該第一基板P1接附在該第二基板P2上。

當該第一基板P1和該第二基板P2的接附完成時，可回復該接附空間內的壓力至大氣壓力，並將該等已接附基板傳送出該基板接附設備100(S180)。該接附空間內的壓力回復至大氣壓力，因為控制該壓力很容易，並且隨後的基板傳輸工作可在大氣壓力下執行，並且不需要更進一步的製程。

雖然已為例示目的揭示若干實施例，但熟知技藝者會了解各種調整、添加及置換都是可能的，且不背離在此提供的揭示以及附屬申請專利範圍的範圍及精神。例如，可能加入具備其他附加功能的零組件至如在此廣義描述的實施例中，或以其他新的零組件置換該等零組件。但是，應注意到，當其他調整包含在此所揭示的基本零組件時，此類調整係包含在如在此廣義描述的實施例之技術範疇內。

如在此實施且廣義描述之一基板接附設備及方法可避免該頂板(或該底板)在該頂板(或該底板)朝該底板(或該頂板)移動時震動。此外，該頂板(或該底板)可被一致地移動，因此在該等基板之間維持一致距離。另外，可在維持該等基板間一致距離的同時接附該等基板，進而減少接附基板缺陷率。

提供一種基板接附設備，其能夠避免一頂板(或一底板)在該頂板(或該底板)朝該底板(或該頂板)移動時震動。

如在此實施且廣義描述的基板接附設備可包含一第一支撐構件，以固定一第一基板在其一主要表面上，一第二支撐構件，以固定一第二基板在其相對於該第一支撐構件之一主要表面上，一支撐梢，設置在固定在該第一支撐構件上的第一基板外部，該支撐梢係與該第一支撐構件連接，以及一距離調整單元，用來上下移動該支撐梢以調整該第一支撐構件和該第二支撐構件之間的距離。

該支撐梢可經配置為實質上與該第一基板的一側平行，並且該距離調整單元包含一溝槽，形成為實質上與固定在該第二支撐構件上的第二基板的一側平行，以接收該支撐梢。

該距離調整單元可包含一推桿，其擁有一溝槽以接收該支撐梢，該推桿支撐接收在該溝槽內的支撐梢，以及一致動器，與該推桿連接以上下移動該推桿。

如在此實施且廣義描述之一基板接附設備可包含一第一支撐構件，以固定一第一基板在其一主要表面上，一第二支撐構件，以固定一第二基板在其相對於該第一支撐構件之一主要表面上，一第一支撐梢，設置在固定在該第一支撐構件上的第一基板外部，該第一支撐梢係與該第一支撐構件之一側連接，一第二支撐梢，設置在固定在該第一支撐構件上的第一基板外部，該第二支撐梢係與實質上平行於該第一支撐構件之該一側的該第一支撐構件之另一側連接，一第一腔室，擁有一開口，該第一支撐構件設置在其中，該第一腔室圍繞該第一及第二支撐梢以及該第一支撐構件，第一及第二彈性件，分別設置在該第一支撐構件的一側和該第一腔室之間以及該第一支撐構件的另一側和該第一腔室之間，以提供朝向該第一支撐構件方向的彈力給該第一支撐構件，以及一距離調整單元，用來上下移動該第一及第二支撐梢，以調整該第一支撐構件和該第二支撐構件之間的距離。

如在此實施且廣義描述之一基板接附設備可包含一第一支撐構件，以固定一第一基板在其一主要表面上，一第二支撐構件，以固定一第二基板在其相對於該第一支撐構件之一主要表面上，一第一支撐梢，設置在固定在該第一支撐構件上的第一基板外部，該第一支撐梢係與該第一支撐構件之一側連接，一第二支撐梢，設置在固定在該第一支撐構件上的第一基板外部，該第二支撐梢係與實質上與該第一支撐構件之該一側垂直之該第一支撐構件的另一側連接，以及一距離調整單元，用來上下移動該第一及第二支撐梢，以調整該第一支撐構件和該第二支撐構件之間的距離。

本說明書中任何提及“一個實施例”、“一實施例”、“範例實施例”、“具體實施例”、“其他實施例”等係表示關於該實施例所描述的特定特徵、結構、或特性係包含在本發明之至少一實施例中。在本說明書若干處出現之此類字句並不必定皆表示相同實施例。此外，當特定特徵、結構、或特性係關於任一實施例進行描述時，關於其他實施例實現此類特徵、結構、或特性係屬熟知技藝者之權限。

雖然已參考其若干例示實施例描述過實施例，但應了解熟知技藝者可設計出眾多其他調整及實施例，其會落在本揭示之原理的精神及範圍內。更明確地說，在本揭示、該等圖式及附屬申請專利範圍之範圍內的標的物組合配置之零組件及/或配置的眾多變異及調整是可能的。除了零組件及/或配置的變異及調整之外，其他用途對熟知技藝者而言也是顯而易見的。

100．．．基板接附設備

200．．．框架

210．．．支柱

220．．．基座

300．．．上腔室

310．．．上腔室主體

312．．．開口

320．．．支撐桿

330．．．頂板

340．．．上夾盤

350、350a、350b．．．支撐梢

360．．．攝影機

361．．．通孔

370．．．基板分離器

371、451．．．分離梢

372、452．．．分離梢促動構件

400．．．下腔室

410．．．距離調整裝置

411．．．致動器

412、412b、412c．．．推桿

412a．．．溝槽

413．．．彈性件

420．．．底板

430．．．下夾盤

440．．．密封件

450．．．基板移動裝置

460．．．位置調整台

500．．．驅動器

510．．．移動裝置

511．．．支柱

512．．．移動構件

520．．．平板

600．．．排氣裝置

610．．．排氣管

實施例會參考如下圖式詳細描述，其中相似元件符號表示相同元件，其中：

第1圖係如在此實施且廣義描述之一基板接附設備的剖面圖；

第2圖係如在此實施且廣義描述之該基板接附設備的距離調整裝置之內部結構前剖面圖；

第3圖係第2圖所示之距離調整裝置的部分透視圖；

第4圖係第2圖所示之距離調整裝置的側剖面圖；

第5圖係頂板和支撐梢的平面圖；

第6圖係如在此實施且廣義描述之該基板接附設備的另一距離調整裝置之內部結構前剖面圖；

第7圖係第6圖所示之距離調整裝置的側剖面圖；

第8A和8B圖係頂板和支撐梢的平面圖；以及

第9圖係如在此實施且廣義描述之該基板接附設備之操作流程圖。

100．．．基板接附設備

200．．．框架

210．．．支柱

220．．．基座

300．．．上腔室

310．．．上腔室主體

312．．．開口

320．．．支撐桿

330．．．頂板

340．．．上夾盤

350．．．支撐梢

360．．．攝影機

361．．．通孔

370．．．基板分離器

371、451．．．分離梢

372、452．．．分離梢促動構件

400．．．下腔室

410．．．距離調整裝置

420．．．底板

430．．．下夾盤

440．．．密封件

450．．．基板移動裝置

460．．．位置調整台

500．．．驅動器

510．．．移動裝置

511．．．支柱

512．．．移動構件

520．．．平板

600．．．排氣裝置

610．．．排氣管

Claims (14)

1. 一種基板接附設備，其包含：一第一支撐構件，其接收一第一基板在其一接收表面上；一第二支撐構件，相對於該第一支撐構件提供，以在其間界定一接附空間，其中該第二支撐構件接收一第二基板在其一接收表面上；至少一支撐梢，其從第一平板的外側邊往外水平地延伸，並進入一形成在該第一支撐構件內的至少一對應接收空間，其中該至少一接收空間包含形成在該第一支撐構件內之一對應內側壁的至少一凹處，並且其中該至少一支撐梢提供該第一基板相對於該第二支撐構件的垂直移動；一距離調整裝置，其選擇性地往上或往下移動該支撐梢，以調整該第一支撐構件和該第二支撐構件之間的一距離，其中該距離調整裝置包含：一推桿，具有一溝槽形成在其一第一端中，以接收並支撐一各自的支撐梢之一端，其中該溝槽係經設置為實質上與該支撐梢的一縱軸平行，以使該溝槽的外壁限制該設置在其內之支撐梢的橫向移動。
2. 如申請專利範圍第1項所述之基板接附設備，其中該第一支撐構件包含： 一第一腔室；一第一平板，可移動地與該第一腔室連接；以及一第一夾盤，與該第一平板連接，其中該第一支撐構件之該接收表面係形成在該第一夾盤面向該第二支撐構件的一表面上；並且其中該第二支撐構件包含：一第二腔室；一第二平板，與該第二腔室連接；以及一第二夾盤，與該第二平板連接，其中該第二支撐構件之該接收表面係形成在該第二夾盤面向該第一夾盤的一表面上。
3. 如申請專利範圍第2項所述之基板接附設備，其中該支撐梢包含至少兩支撐梢，其從該第一平板的相對側邊往外延伸，並進入形成在該第一腔室內的對應接收空間。
4. 如申請專利範圍第3項所述之基板接附設備，其中該距離調整裝置包含至少兩距離調整裝置，裝配在該第二腔室對應該至少兩支撐梢的位置處，其中各距離調整裝置更包含：一致動器，與該推桿的一第二端連接，其中該致動器選擇性地往上或往下移動該推桿。
5. 如申請專利範圍第4項所述之基板接附設備，其中該推桿延伸出該第二腔室，並通過該第一腔室內之一通孔 進入該形成在該第一腔室內的接收空間，以便支撐該支撐梢的該末端，且其中該支撐梢和該與其連接的第一平板在該第一腔室內往上或往下移動，以回應該推桿藉由該致動器的一對應移動。
6. 如申請專利範圍第4項所述之基板接附設備，其中各距離調整裝置更包含一彈性件，其設置在該接收空間之一側壁和該設置在其內之該支撐梢的該末端間，其中該彈性件限制該支撐梢在該溝槽內的縱向移動，且該溝槽的相對側壁限制該支撐梢在該溝槽內的橫向移動。
7. 如申請專利範圍第1項所述之基板接附設備，其中該支撐梢往實質上平行於該第一支撐構件之該接收表面及該接收在其上的第一基板之一縱方向延伸，並且該距離調整裝置包含一溝槽，其實質上平行於該支撐梢而形成，以在其內接收該支撐梢並限制該支撐梢的橫向移動。
8. 如申請專利範圍第1項所述之基板接附設備，其中該至少一支撐梢往實質上平行於該第一支撐構件之該接收表面及該接收在其上的第一平板與第一基板之一縱方向延伸，並且該距離調整裝置包含一溝槽，其實質上平行於該支撐梢而形成，以在其內接收該支撐梢並限制該支撐梢的橫向移動。
9. 一種基板接附設備，其包含：一第一腔室，相對於一第二腔室設置，以在其間界定一附接空間；一第一支撐構件，設置在該第一腔室內，以接收並支承一第一基板；一第二支撐構件，設置在該第二腔室內，以相對於該第一基板接收並支承一第二基板；第一及第二支撐梢，其分別從該第一支撐構件之相對的第一及第二側邊往外延伸，並分別進入形成在該第一腔室之相對側壁中對應的第一及第二接收空間；以及一距離調整裝置，與該第一及第二支撐梢連接，以選擇性升起及降下該第一和第二支撐梢，並調整該與其連接之第一支撐構件的一位置，其中該距離調整裝置包含：第一及第二推桿，對應該第一及第二支撐梢，該第一及第二推桿各具有一有一溝槽形成在其內的第一端，其延伸進入其各自的接收空間內，以接收並支撐其各自支撐梢之一末端。
10. 如申請專利範圍第9項所述之基板接附設備，更包含第一及第二彈性件，分別設置在該第一支撐構件和該第一腔室間的該第一和第二接收空間內，其中該第一和第二彈性件在該第一支撐構件上施加一彈力，以維持該第一支撐構件在該第一腔室內的位置。
11. 如申請專利範圍第10項所述之基板接附設備，其中該第一彈性件係設置在該第一支撐梢的一末端和該第一腔室之間，且該第二彈性件係設置在該第二支撐梢之一末端和該第二腔室之間，且其中該第一及第二彈性件在該第一及第二支撐梢上施加一彈力，其維持該第一支撐構件在該第一腔室內的一水平位置。
12. 如申請專利範圍第9項所述之基板接附設備，其中該距離調整裝置係具有該第二支撐構件，且其中該距離調整裝置包含：第一及第二致動器，分別與該第一和第二推桿之一第二端連接，其中該第一及第二致動器升起並降下該第一及第二推桿，以升起並降下該支撐在該等溝槽內的第一及第二支撐梢，並相對於該第二支撐構件調整該與其連接之該第一支撐構件的一位置。
13. 如申請專利範圍第12項所述之基板接附設備，其中該第一和第二支撐梢往實質上平行於由該第一支撐構件支撐的該第一基板之一縱軸延伸，且該等形成在該第一及第二推桿內的溝槽往實質上平行於該第二基板的一縱軸延伸。
14. 如申請專利範圍第13項所述之基板接附設備，其中該形成在該第一和第二推桿內的溝槽實質上平行於該接 收在其內的第一及第二支撐梢，且其中該溝槽的相對側壁限制該等溝槽內該第一及第二支撐梢的橫向移動。