TWI403416B - Hydrophilic components and hydrophilic products using them - Google Patents

Description

親水性構件及使用其之親水性製品

本發明係關於親水性構件及使用其之親水性製品。

於表面賦予了親水性之構件，係被利用於防霧、防結露、防污垢、水性塗料之印刷等各種領域。最近，使用氧化鈦系之光觸媒膜之親水性構件(於表面賦予親水性之構件)被開發出來，而被應用於外壁、窗玻璃、汽車之後視鏡等。氧化鈦膜在受到太陽光所含之外線照射時，表面狀態變化而親水性化，同時附著於表面之有機物藉著光觸媒作用被氧化分解，因此表現出高親水性。在採用氧化鈦系之光觸媒膜之建材或窗玻璃之中，附著於其表面之污垢被雨除去，藉此得到防污效果。

在實際應用以光線親水性化之構件之情況下，沒有光照射之狀態會成為問題。由於氧化鈦膜會在較短時間親水性降低，應用於例如汽車之後視鏡之防霧劑之情況下，於夜間或保管於車庫之狀態防霧效果會不足。在一部分的構件之中，利用著將親水性氧化物之氧化矽等混合於氧化鈦，使親水性的持續時間變長的辦法，然而並未得到充分之性能。再者，由於有必要以紫外線為作為激發光，因此在陰暗或屋內，有變成激發光不足之情況。為了彌補激發光不足，於氧化鈦添加氮或硫，或者進行鉑擔持，而可利用的光線之波長範圍並不怎麼擴大，因此並未得到可適用於屋內用途之性能。親水性效果之持續性亦與以往之氧化鈦同等，於暗處親水性會在短期間降低。

氧化鎢係作為電子元件用之介電體材料、光學元件用材料、電色材料、氣體感測器材料廣泛被利用，進一步亦已知作為可見光應答型光觸媒材料。氧化鎢之能帶間隙為2.5eV，相對於氧化鈦只能利用380nm以下之紫外線，係至450nm近傍之可見光可以激發光之形式利用。因此，氧化鎢係在由螢光燈或電燈泡產生之光線之波長範圍，可使用作為光觸媒。已知氧化鎢係藉由光照射表現出親水性，主要報告出關於藉由真空蒸鍍法、濺鍍法、剝蝕法、溶膠．凝膠法等製作之膜。

在專利文獻1之中，記載了將氧化鎢濺鍍成膜於基材上之光觸媒材料，主要使用著具有三斜晶系之結晶構造之氧化鎢。專利文獻1，揭示了將氧化鎢膜以可見光激發而得到親水性。具體而言，記載了濺鍍成膜之氧化鎢膜與水之接觸角(初期值)在10~30°之範圍，對氧化鎢膜照射紫外線，經過約20分後與水之接觸角成為5°以下。非專利文獻1，揭示了在以熱蒸鍍法或溶膠．凝膠法形成之後，以400℃熱處理之氧化鎢膜會表現出親水性。

以往之氧化鎢膜，由於在以光線激發時表現出親水性，因此在光線不足之狀態之性能成為問題。在採用加熱進行親水性化之情況下，基材之耐熱性成為問題，在面積大之構件，加熱方法亦成為問題。再者，在光照射或加熱等後處理進行親水性化之情況下，持續時間短，在短期間之內定期的光照射或加熱成為必要的。再者，僅藉著親水性作用無法除去有機物，因此在油成分等有機物附著於表面之情況下，必須以充分之雨水或水洗等除去，使用環境受到限制的問題發生。因此，將在光觸媒作用表面之有機物氧化分解之性能亦認為是必要的，而於以往之氧化鎢膜無法得到充分之光觸媒性能。

為了使用氧化鎢粉末形成均勻的膜，微細的粉末成為必要的。就氧化鎢粉末之製造方法而言，已知有將仲鎢酸銨(APT)於空氣中加熱得到三氧化鎢粉末之方法(專利文獻2參照)。藉由將APT在空氣中加熱之方法，可得到初級粒徑為0.01μm(BET比表面積：82m² /g)之三氧化鎢粉末。就有效率地得到氧化鎢之微粉末之方法而言，於專利文獻3記載了熱電漿處理。藉由採用熱電漿處理，可得到粒徑為1~200nm之微粉末。然而，即使將採用該等方法而製作之氧化鎢微粉末直接使用，由光線產生之親水性化不充分，無法長期間持續親水性。如此，現狀為並未得到表現出實用的親水性之氧化鎢膜。

[專利文獻1]特開2001-152130號公報[專利文獻2]特開2002-293544號公報[專利文獻3]特開2006-102737號公報[非專利文獻1]J.Phys.D：Appl.Phys.40(2007)1134

本發明之目的在於提供一種親水性優異，進一步可長時間維持其性能之親水性構件及使用其之親水性製品。

本發明之態樣所關連之親水性構件，係具備具有表面之基材、與至少存在於上述基材的表面之選自氧化鎢微粒子及氧化鎢複合材料微粒子之至少1種之微粒子，將基準長度定為100μm時之上述表面之算術平均粗糙度Ra為1nm以上1000nm以下之範圍，且不受光線影響而表現出親水性。

本發明之態樣所關連之親水性製品，其特徵為具備本發明之態樣所關連之親水性構件。

以下，對於用於實施本發明之形態作說明。由本發明之實施形態而得到之親水性構件，係具備基材，與至少存在於基材的表面之微粒子。於基材表面，係存在選自氧化鎢微粒子及氧化鎢複合材料微粒子之至少1種之微粒子(以下記為氧化鎢系微粒子)。微粒子存在之表面，係將基準長度定為100μm時之算術平均粗糙度Ra定為1~1000nm之範圍，且不受光線影響而表現出親水性者。

於此實施形態之親水性構件之中，存在於基材表面的微粒子並非限定為氧化鎢之微粒子，而亦可為氧化鎢複合材料之微粒子。氧化鎢複合材料，係指使過渡金屬元素或其他金屬元素合於作為主成分之氧化鎢者。過渡金屬元素係指原子編號21~29、39~47、57~79、89~109之元素。氧化鎢複合材料係以含選自Ti、Zr、Mn、Fe、Pd、Pt、Cu、Ag、Zn、Al及Ce之至少1種之金屬元素者為佳。選自Cu、Ag及Zn之至少1種之金屬元素為有效的，以少量即可使光觸媒性能等提升。

於氧化鎢複合材料之過渡金屬元素等金屬元素之含量係以定為0.001~50質量%之範圍者為佳。金屬元素之含量若超過50質量%，則有氧化鎢微粒子所具有之特性降低之虞。金屬元素之含量係以10質量%以下者為較佳，更佳為5質量%以下。金屬元素之含量之下限值並非受到特別限定者，而其含量為0.001質量%以上，進一步以定為0.01質量%以上者為佳。選自Cu、Ag及Zn之至少1種之金屬元素之含量係以定為0.001~1質量%之範圍者為佳。

在親水性構件所使用之氧化鎢複合材料中，金屬元素可以各種形態存在。氧化鎢複合材料，可以金屬元素之單體、含金屬元素之化合物(含有氧化物之化合物)、與氧化鎢之複合化合物等形態含有金屬元素。含於氧化鎢複合材料之金屬元素，其本身與其他元素形成化合物亦可。就金屬元素之典型的形態而言，可列舉氧化物。金屬元素係以單體、化合物、複合化合物等形態，與例如氧化鎢粉末混合。金屬元素亦可被擔持於氧化鎢。

氧化鎢與金屬元素(具體而言選自Ti、Zr、Mn、Fe、Pd、Pt、Cu、Ag、Zn、Al及Ce之至少1種元素之單體、化合物、複合化合物)的複合方法並非受到特別限定者，可採用將粉末彼此混合之混合法、浸漬法、擔持法等各種複合法。將代表性的複合法記載於以下。就使銅複合於氧化鎢之方法而言，可列舉將氧化鎢粉末與氧化銅粉末混合之方法。於硝酸銅或硫酸銅之水溶液或乙醇溶液加入氧化鎢粉末混合之後，以70~80℃之溫度使其乾燥，然後再以500~550℃之溫度燒成之方法亦為有效的。

另外，亦可採用使氧化鎢粉末分散於氯化銅水溶液或硫酸銅水溶液，並使此分散液乾燥之方法(浸漬法)。浸漬法，並非限定為銅的複合方法，亦可採用使用氯化鐵水溶液之鐵的複合方法、使用氯化銀水溶液之銀的複合方法、使用氯化鉑酸水溶液之鉑的複合方法、使用氯化鈀水溶液之鈀的複合方法等。進一步，使用氧化鈦溶膠或氧化鋁溶膠等氧化物溶膠，使氧化鎢與金屬元素(氧化物)複合亦可。該等以外，亦可採用各種的複合方法。

此實施形態之親水性構件，係採用例如使氧化鎢系微粒子附著於基材表面，於基材表面形成含有氧化鎢系微粒子之膜(塗膜等)，將氧化鎢系微粒子揉入基材中，於基材之成形步驟形成含有氧化鎢系微粒子之表面層等方法而製作。氧化鎢系微粒子，係可存在於基材之任意之表面。就親水性構件之基材而言，可列舉玻璃、塑膠、丙烯酸等樹脂、紙、纖維、金屬、木材等。具有氧化鎢系微粒子之表面之形成方法係因應基材之材質而適當地選擇。

親水性構件之表面中之氧化鎢系微粒子之量係以定為5~95質量%之範圍者為佳。此處，氧化鎢系微粒子之量，在使微粒子存在於膜中之情況下係表示膜中之微粒子之含量，或者在將微粒子揉入基材中情況下係表示表面之基材中之微粒子之含量者。在微粒子之含量未達5質量%之情況下，有無法充分地使氧化鎢系微粒子所具有之親水性發揮之虞。微粒子之含量若超過95質量%，則有發生表面強度不足之虞。

就使氧化鎢系微粒子附著於基材的表面之方法而言，可列舉將使氧化鎢系微粒子與水或醇等分散媒混合，以超音波分散機、濕式噴射磨機、珠磨機等對其施行分散處理而製作之分散液，採用旋轉塗佈、浸漬、噴霧等一般的塗佈法塗佈於基材的表面之方法。在氧化鎢系微粒子具有光觸媒性能之情況下，為了在使其附著於表面之後，使光觸媒性能發揮，係以設定為在分散處理不會太過於對微粒子造成歪斜般之條件者為佳。

於基材表面形成塗膜之情況下，將上述之氧化鎢系微粒子之分散液(例如水系分散液)與黏結劑成分等混合而製作塗料，藉由將此塗料塗佈於基材表面，形成含有氧化鎢系微粒子之膜。塗料係含有水系分散液同時還有選自無機黏結劑及有機黏結劑之至少1種之黏結劑成分。黏結劑成分之含量係以定為5~95質量%之範圍者為佳。黏結劑成分之含量若超過95質量%，則有無法得到所希望之性能(親水性等)之虞。在黏結劑成分之含量未達5質量%之情況下，無法得到充分之結合力，有膜特性降低之虞。藉由將如此的塗料塗佈於基材表面，可將膜之強度、硬度、對基材之密著力等調整為所希望之狀態。

就無機黏結劑而言，可使用例如矽酸烷基酯、鹵化矽、及將該等部分水解物等水解性矽化合物分解所得到之生成物、有機聚矽氧烷化合物與其聚縮合物、二氧化矽、膠狀二氧化矽、水玻璃、矽化合物、磷酸鋅等磷酸鹽、氧化鋅、氧化鋁、鋯等金屬氧化物、重磷酸鹽、水泥、石膏、石灰、搪瓷用玻料等。就有機黏結劑而言，可使用例如氟系樹脂、聚矽氧樹脂、丙烯酸樹脂、環氧樹脂、聚酯樹脂、三聚氰胺樹脂、胺甲酸乙酯樹脂、醇酸樹脂等。

上述之黏結劑成分之中，尤其選自二氧化矽(SiO₂ )、氧化鉑(Al₂ O₃ )、及鋯(ZrO₂ )至少1種由於表現出親水性，故為適合的材料。特別是，二氧化矽表現出高親水性。該等金屬氧化物係於塗膜中以結晶構造及無定形構造任一者之構造存在皆可，而若考慮膜形成性等，則以無定形氧化物之形式存在於膜中者為佳。此處，在氧化鎢系微粒子具有光觸媒性能之情況下，藉由有機物之分解效果可謀求構件表面之清淨化。為了經過長期間維持基於光觸媒性能之親水性，係以將作為黏結劑成分之金屬氧化物之含量定為10~50質量%之範圍者為佳。

使用水系分散液或塗料而形成之膜之厚度，係以2~2000nm之範圍者為佳。膜厚未達2nm之情況下，變得難以形成均勻的膜。膜厚若超過2000nm，則膜對基材之密著力降低。膜厚係以2~1000nm之範圍者為較佳，更佳為2~400nm之範圍。若考慮由含有氧化鎢系微粒子之膜產生之親水性之表現效果，或具有如此的膜之基材強度等實用性，則膜厚係以定為4~100nm之範圍為所希望者。在將氧化鎢系微粒子揉入基材中之情況下，只要至少氧化鎢系微粒子露出賦予親水性之表面即可。

親水性構件所使用之氧化鎢系微粒子係以具有1~200nm之範圍之平均粒徑者為佳。另外，氧化鎢系微粒子之BET比表面積係以4.1~820m² /g之範圍者為佳。平均粒徑係指氧化鎢系粉末之平均初級粒徑(D50)，對膜等形成所使用之粉末、或膜等直接藉由SEM或TEM等進行評估，而定為以由照片之影像解析而得之n=50個以上之粒子之體積基準之累計直徑之平均粒徑(D50)為基準而求得者。平均粒徑(D50)，亦可與由比表面積換算之平均粒徑一致。

為了得到親水性優異之表面，係以使氧化鎢系微粒子以均勻的狀態存在於表面者為佳。由如此的觀點看來，氧化鎢系微粒子係以平均粒徑小、比表面積大者為佳。在氧化鎢系微粒子之平均初級粒徑(D50)超過200nm之情況或BET比表面積未達4.1m² /g之情況下無法得到充分之特性(親水性等)。在氧化鎢系微粒子之平均初級粒徑為未達1nm之情況或BET比表面積超過820m² /g之情況下，由於粒子變為過小，作為粉末之操作性差，故實用性降低。

另外，光觸媒粉末之性能一般而言比表面積大、粒徑小者會變高。氧化鎢系微粒子具有光觸媒性能時，在平均初級粒徑超過200nm之情況或BET比表面積未達4.1m² /g之情況下，光觸媒性能降低，同時形成均勻且安定之表面變為困難。因此，光觸媒性能亦降低。在氧化鎢系微粒子之初級粒徑過小之情況下，分散性降低，均勻的分散液或塗料之製作變為困難。在如此的分散液或塗料中，膜之均勻性降低，有無法得到充分之光觸媒性能之虞。

氧化鎢系微粒子之平均初級粒徑係以2.7~75nm之範圍者為較佳，更佳為5.5~51nm之範圍。BET比表面積係以11~300m² /g之範圍者為較佳，更佳為16~150m² /g之範圍。在使用含氧化鎢系微粒子之分散液或塗料形成膜，或者揉入基材而使用之情況下，若粒徑過小，則氧化鎢系粒子之分散性降低。以改善如此的缺點為考量，係以使用平均初級粒徑為5.5nm以上之氧化鎢系微粒子者為佳。

另外，親水性構件所使用之氧化鎢系微粒子(粉末)，亦可含有金屬元素作為雜質。作為雜質元素之金屬元素之含量係以2質量%以下者為佳。就雜質金屬元素而言，有鎢鑛石中一般所含之元素或於製造使用作為原料之鎢化合物等時混入之污染元素等，可列舉例如Fe、Mo、Mn、Cu、Ti、Al、Ca、Ni、Cr、Mg等。在使用該等元素作為複合材料之構成元素之情況下，並不受到此限定。

此實施形態之親水性構件中之表面(具有氧化鎢系微粒子之表面)，特徵為不受光線影響而表現出親水性。此處所謂的光線，係指以白色螢光燈、太陽光、白色LED、電燈泡、鹵素燈、氙燈等一般照明或藍色發光二極體、藍色雷射等作為光源而照射之可見光、及在紫外區域具有波長之光線等光線全部。親水性構件之表面，係無論上述光線之種類甚至光線照射之有無，皆表現出親水性者。若藉由具有如此的表面之構件，即可大幅延長在暗處之親水性之保持時間。

親水性構件之表面，係定為在將基準長度定為100μm時之算術平均粗糙度Ra為1~1000nm之範圍。算術平均粗糙度Ra係以JIS B 0601(2001)所定義之值，可由使用表面形狀測定裝置、掃描式探針顯微鏡、電子顯微鏡等觀察以及測定之剖面曲線算出。為了得到高親水性能，係以表面平滑者為佳，而為了使親水性能之保持時間變長，於表面有必要成為稍微有凹凸。因此，表面之算術平均粗糙度Ra係定為1nm以上。

另一方面，對於將基準長度定為100μm時之算術平均粗糙度Ra超過1000nm之情況而言，欲賦予親水性之表面之凹凸變為過大。因此，無法得到基於親水性之本來的效果之防霧、污垢防止等效果。再者，算術平均粗糙度Ra若超過1000nm，則表面白濁，由於表面之凹凸污染變為容易，甚至由水進行之污垢除去亦變為困難。親水性構件之表面之將基準長度定為100μm時之算術平均粗糙度Ra係以2~400nm之範圍為較佳，更佳為2~100nm之範圍。

即使在氧化鎢或氧化鎢複合材料之粗大粒子存在於表面等、氧化鎢系粒子不均勻地存在於表面之情況下，算術平均粗糙度Ra變大。在如此的情況下，由於損及氧化鎢系微粒子本來所具有之活性，因此表面之親水性能降低。

再者，在表面之算術平均粗糙度Ra很大的情況下，親水性之評估法之接觸角之測定本身變得困難。

親水性構件之表面，係以將基準長度定為100μm時之輪廓曲線要素(粗糙度曲線要素)之平均長度RSm為算術平均粗糙度Ra之2倍以上者為佳。相對於Ra而言，RSm若為2倍以上，則表面變得較為平滑，可發揮高親水性。RSm若為未達Ra之2倍，則表面之凹凸變大。親水性構件之表面之輪廓曲線要素之平均長度RSm係以算術平均粗糙度Ra之3倍以上者為較佳。

進一步，在親水性構件之表面之中，氧化鎢系微粒子係以結晶方位沒有配向者為佳。表面之結晶方位之配向狀態，係可藉由實施X射線繞射或後方散射電子束繞射而作確認。例如，在X射線繞射存在於2θ為22~25°之範圍之峰之內，強度最大之繞射峰定為A、強度第2大之繞射峰定為B、強度第3大之繞射峰定為C時，滿足下述之(1)~(3)之條件之任一者之情況下，可確認結晶方位未配向。峰強度之測定係將山形之最高位置定為峰，將其高度定為讀取強度。具有肩部之情況，亦將其高度定為讀取峰強度。

(1)在存在3個峰之情況下，峰B對峰A之強度比(B/A)為0.3以上，且峰C對峰A之強度比(C/A)為0.3以上。

(2)在存在2個峰之情況下，峰A與峰B間之谷之最低強度定為D時，峰B對峰A之強度比(B/A)為0.3以上，且強度D為大於峰B之強度之1/2(D>B/2)。

(3)在只存在1個峰之情況下，峰之半值寬度為1°以上。

在存在於親水性構件之表面之氧化鎢系微粒子具有無定形構造之情況下，無法得到所希望之特性。因此，定為在親水性構件之表面使具有結晶構造之氧化鎢系微粒子存在者。但是，在如上述之方式觀察表面全體之情況下，係以氧化鎢之結晶方位不會變成配向之狀態之方式使氧化鎢系微粒子存在於表面者為佳。

由於氧化鎢之代表的結晶構造係ReO₃ 構造，因此具有氧之反應活性高之結晶面容易露出於表面之最外層。因此，吸附水而表現出高親水性。以蒸鍍法、濺鍍法、溶膠．凝膠法製作之氧化鎢膜，在成膜時結晶變成無定形難以親水化。如此的膜若也進行熱處理而使結晶性提升，則成為親水性表面。但是，若使熱處理溫度變高，則結晶配向，同時親水性降低。此情形認為會難以表現出親水性之結晶面於表面變多之故。

相對於此，在實施形態之親水性構件中，係使用氧化鎢系微粒子構成表面。因此，可使結晶性高之氧化鎢或氧化鎢複合材料存在於表面，進一步可得到表現出親水性結晶面朝向任意方向之狀態。於是，可使氧化鎢系微粒子均勻地存在於表面全體，因此可得到相較於其他成膜方法表現出更高親水性之表面。

於此實施形態之親水性構件之表面，係以在可見光之照射下表現出光觸媒性能者為佳。一般而言，可見光係指波長為380~830nm之區域之光，以白色螢光燈、太陽光、白色LED、電燈泡、鹵素燈、氙燈等一般照明，或藍色發光二極體、藍色雷射等作為光源而照射之光。此實施形態之親水性構件，在通常之屋內環境下發揮光觸媒性能者。光觸媒性能係指，吸收光線而相對於一個光子一對的電子與正電洞受到激發，藉由經過激發之電子與正電洞使在表面之羥基或酸氧化還原而活性化，藉由其活性化所產生之活性氧種，發揮將有機氣體等氧化分解之作用，甚至親水性或抗菌．除菌性能等之作用。

為了於親水性構件之表面賦予光觸媒性能，係使用具有光觸媒性能之氧化鎢系微粒子構成表面。例如藉由使用具有選自單斜晶及三斜晶至少1種(單斜晶、三斜晶、或單斜晶與三斜晶之混晶)之結晶構造、或於其混有斜方晶之結晶構造之三氧化鎢或以其為基底之複合材料之微粒子，可得到高光觸媒性能。進一步，以三氧化鎢之結晶構造為單斜晶與三斜晶之混晶、或單斜晶與三斜晶與斜方晶之混晶之情況下，成為可更進一步使光觸媒性能提升。

親水性構件之光觸媒性能、亦即有機物之分解性能，係藉由例如於表面塗佈油酸，照射可見光同時測定水之接觸角之時間變化進行評估。在具有光觸媒性能之情況下，膜等剛形成之後，即使接觸角大，藉著分解油酸而接觸角降低，亦即成為表現出親水性。

此實施形態之親水性構件所使用之氧化鎢系微粒子(粉末)，係以藉著以下所表示之方法製作者為佳，而並非受到其所限定者。氧化鎢微粒子係以採用昇華步驟製作者為佳。另外，於昇華步驟組合熱處理步驟亦為有效的。只要藉著以如此的方法製作之三氧化鎢系微粒子，可安定實現上述之平均初級粒徑或BET比表面積。進一步，平均初級粒徑近似於由BET比表面積換算之值，可安定提供粒徑偏差小之微粒子(微粉末)。

首先，對於昇華步驟作敘述。昇華步驟，係藉由使金屬鎢粉末、鎢化合物粉末、或鎢化合物溶液，在氧環境氣氛中昇華而得到三氧化鎢微粒子之步驟。昇華係指由固相至氣相、或氣相至固相之狀態變化不經過液相地發生之現象。藉由使作為原料之金屬鎢粉末、鎢化合物粉末、或鎢化合物溶液昇華同時氧化，可得到微粒子狀之氧化鎢粉末。

對於昇華步驟之原料(鎢原料)而言，亦可使用金屬鎢粉末、鎢化合物粉末、或鎢化合物溶液之任一者。就作為原料所使用之鎢化合物而言，可列舉例如三氧化鎢(WO₃ )、二氧化鎢(WO₂ )、低級氧化物等氧化鎢、碳化鎢、鎢酸銨、鎢酸鈣、鎢酸等。

藉由在氧環境氣氛中進行如上述之鎢原料之昇華步驟而使金屬鎢粉末或鎢化合物粉末瞬間地由固相至氣相，進一步使成為氣相之金屬鎢蒸氣氧化，可得到氧化鎢微粒子。即使在使用溶液之情況下，經過鎢氧化物或化合物而成為氣相。如此，藉由利用在氣相之氧化反應，可得到氧化鎢微粒子。進一步可控制氧化鎢微粒子之結晶構造。

就昇華步驟之原料而言，由於在氧環境氣氛中昇華所得到之氧化鎢微粒子難以含有雜質，因此係以使用選自金屬鎢粉末、氧化鎢粉末、碳化鎢粉末、及鎢酸銨粉末至少1種者為佳。金屬鎢粉末或氧化鎢粉末，係由於在昇華步驟所形成之副生成物(氧化鎢以外之物質)不含有害之物，因此特別適合作為昇華步驟之原料。

就原料所使用之鎢化合物而言，作為其構成元素含鎢(W)與氧(O)之化合物為佳。若含W及O作為構成成分，則在昇華步驟採用後述之感應偶合型電漿處理等時，瞬間昇華變為容易。就如此的鎢化合物而言，可列舉WO₃ 、W₂₀ O₅₈ 、W₁₈ O₄₉ 、WO₂ 等。另外，鎢酸、仲鎢酸銨、偏鎢酸銨之溶液或鹽等亦有效。

在製作氧化鎢複合材料微粒子時，將鎢原料加上過渡金屬元素或其他元素，以金屬、含有氧化物之化合物、複合化合物等形態混合亦可。藉由將氧化鎢與其他元素同時處理，可得到氧化鎢與其他元素之複合氧化物等複合化合物微粒子。氧化鎢複合材料微粒子，係亦可藉由將氧化鎢微粒子與其他金屬元素之單體粒子或化合物粒子混合，使其擔持而得到。氧化鎢與其他金屬元素的複合方法並非受到特別限定者，可適用各種周知的方法。

作為鎢原料之金屬鎢粉末或鎢化合物粉末係以具有0.1~100μm之範圍之平均粒徑者為佳。鎢原料之平均粒徑較佳為0.3μm~10μm之範圍、更佳為0.3μm~3μm之範圍、希望為0.3μm~1.5μm之範圍。若使用具有上述範圍內之平均粒徑之金屬鎢粉末或鎢化合物粉末，則昇華容易發生。

在鎢原料之平均粒徑未達0.1μm之情況下，由於原料粉過為微細，因此原料粉之事前調整成為必要，操作性降低加上變為高價，因此工業方面為不佳。若鎢原料之平均粒徑超過100μm，則均勻的昇華反應變得難以發生。即使平均粒徑大，只要以很大的能源量處理，即可使均勻的昇華反應發生，而工業方面為不佳。

就於昇華步驟使鎢原料在氧環境氣氛中昇華之方法而言，可列舉選自感應偶合型電漿處理、電弧放電處理、雷射處理、電子束處理、及氣體燃燒器處理之至少1種之處理。於該等之中，在雷射處理或電子束處理照射雷射或電子束而進行昇華步驟。雷射或電子束，係由於照射光點徑小，因此為了一次處理大量的原料會花費時間，然而卻有不須要嚴格控制原料粉之粒徑或供給量之安定性之長處。

對於感應偶合型電漿處理或電弧放電處理而言，電漿或電弧放電之發生區域之調整為必要的，然而，可一次使大量之原料粉在氧環境氣氛中進行氧化反應。另外，可控制一次可處理之原料量。氣體燃燒器處理動力實用比較便宜，然而卻難以多量處理原料粉或原料溶液。因此，氣體燃燒器處理由生產性之觀點看來為較差者。另外，氣體燃燒器處理只要是使其昇華方面具有充分之能量者即可，並非受到特別限定者。可使用丙烷氣體燃燒器或乙炔氣體燃燒器等。

於昇華步驟採用感應偶合型電漿處理之情況，通常可使用使用氬氣體或氧氣體使電漿發生，於此電漿中供給金屬鎢粉末或鎢化合物粉末之方法。就於電漿中供給鎢原料之方法而言，可列舉例如將金屬鎢粉末或鎢化合物粉末與載體氣體一起灌入之方法、使金屬鎢粉末或鎢化合物粉末分散於既定之液狀分散媒中之將分散液灌入之方法等。

就將金屬鎢粉末或鎢化合物粉末灌入至電漿中之情況所使用之載體氣體而言，可列舉例如空氣、氧、含有氧之惰性氣體等。該等內、空氣為低成本因此適合使用。載體氣體之外，流入含氧之反應氣體之情況，或鎢化合物粉末為三氧化鎢之情況等，於反應場中充分地含有氧時，亦可使用氬或氦等惰性氣體作為載體氣體。反應氣體，係以使用氧或含氧之惰性氣體等者為佳。在使用含氧之惰性氣體之情況下，係以可充分地供給氧化反應所必要的氧量之方式設定氧量者為佳。

採用將金屬鎢粉末或鎢化合物粉末一起灌入至載體氣體之方法，同時藉由調整氣體流量或反應容器內之壓力等，容易控制三氧化鎢微粒子之結晶構造。具體而言，選自單斜晶及三斜晶至少1種(單斜晶、三斜晶、或單斜晶與三斜晶之混晶)、或具有於其混有斜方晶之結晶構造之三氧化鎢微粒子為容易得到。三氧化鎢微粒子之結晶構造，係以單斜晶與三斜晶之混晶、或單斜晶與三斜晶與斜方晶之混晶者為較佳。

就金屬鎢粉末或鎢化合物粉末之分散液之製作所使用之分散媒而言，可列舉於分子中具有氧原子之液狀分散媒。若使用分散液，則原料粉之操作成為容易的。就於分子中具有氧原子之液狀分散媒而言，可使用例如含選自水及醇至少1種20容量%以上者。作為液狀分散媒所使用之醇，係以例如選自甲醇、乙醇、1-丙醇及2-丙醇至少1種為佳。由於水或醇，係容易因為電漿之熱容易地揮發，因此不會妨害原料粉之昇華反應或氧化反應，於分子中含有氧，因此容易促進氧化反應。

使金屬鎢粉末或鎢化合物粉末分散於分散媒而製作分散液情況下，金屬鎢粉末或鎢化合物粉末，係以在10~95質量%之範圍含於分散液中者為佳，更佳為40~80質量%之範圍。藉著以如此的範圍分散於分散液中，可使金屬鎢粉末或鎢化合物粉末均勻地分散於分散液中。若為均勻地分散之狀態，則原料粉之昇華反應容易均勻地發生。在分散液中之含量未達10質量%時，原料粉之量過少，無法效率良好地製造。若超過95質量%，則因為分散液少，原料粉之黏性增大，變為容易黏著於容器，因此操作性降低。

藉由採用將金屬鎢粉末或鎢化合物粉末製成分散液灌入至電漿中之方法，容易控制三氧化鎢微粒子之結晶構造。具體而言，選自單斜晶及三斜晶至少1種、或具有於其混有斜方晶之結晶構造之三氧化鎢微粒子容易得到。進一步，藉由使用鎢化合物溶液作為原料，亦可均勻地進行昇華反應，進一步三氧化鎢微粒子之結晶構造之控制性提升。使用如上述之分散液之方法，亦可採用電弧放電處理。

在照射雷射或電子束實施昇華步驟之情況下，係以使用使金屬鎢或鎢化合物成為粒狀者作為原料者為佳。由於雷射或電子束係照射光點徑小，因此若使用金屬鎢粉末、鎢化合物粉末，則供給變為困難，而藉著使用製成粒狀之金屬鎢或鎢化合物，可效率良好地使其昇華。雷射只要是使金屬鎢或鎢化合物昇華方面具有充分之能量者即可，並非受到特別限定者，而由於CO₂ 雷射為高能量故為佳。

對顆粒照射雷射或電子束時，若使雷射光或電子束之照射源或顆粒之至少一者移動，則可有效地使具有某程度大小之丸全部昇華。藉此，具有於選自單斜晶及三斜晶至少1種混有斜方晶之結晶構造之三氧化鎢粉末變為容易得到。如上述之顆粒，亦可適用於感應偶合型電漿處理或電弧放電處理。

此實施形態之親水性構件所使用之氧化鎢系微粒子，亦可僅藉由如上述之昇華步驟而得到，而對在昇華步驟製作之氧化鎢系微粒子實施熱處理步驟亦有效。熱處理步驟，係將於昇華步驟所得到之三氧化鎢系微粒子，在氧化環境氣氛中以既定之溫度與時間進行熱處理者。即使在藉著昇華步驟之條件控制等無法充分地形成三氧化鎢微粒子之情況下，藉著施行熱處理可使氧化鎢微粒子中之三氧化鎢微粒子之比例成為99%以上，實質上成為100%。進一步，於熱處理步驟可將三氧化鎢微粒子之結晶構造調整為既定之構造。

就於熱處理步驟所使用之氧化環境氣氛而言，可列舉例如空氣或含氧氣體。含氧氣體係意指含有氧之惰性氣體。熱處理溫度係以定為200~1000℃之範圍者為佳，更佳為400~700℃。熱處理時間係以定為10分鐘~5小時者為佳，更佳為30分鐘~2小時。藉由將熱處理步驟之溫度及時間定為上述範圍內，容易由三氧化鎢以外之氧化鎢形成三氧化鎢。另外，為了得到缺陷少之結晶性之良好的粉末，和緩地實施熱處理時之昇溫或降溫者為佳。熱處理時之急劇加熱或急冷會導致結晶性之降低。

在熱處理溫度未達200℃之情況下，有無法充分地得到用於使在昇華步驟並未變為三氧化鎢之粉末成為三氧化鎢之氧化效果之虞。熱處理溫度若超過1000℃，則由於氧化鎢微粒子急劇地粒成長，因此所得到之氧化鎢微粉末之比表面積容易降低。進一步，藉由以如上述之溫度與時間進行熱處理步驟，可調整三氧化鎢微粉末之結晶構造或結晶性。

此實施形態之親水性製品係具備上述之親水性構件者，於其所使用之該構件採用親水性構件而構成。就親水性製品之具體例而言，可列舉空氣調節機、空氣清淨機、電風扇、冰箱、微波爐、餐具洗淨乾燥機、煮飯鍋、鍋蓋、熱水瓶、感應加熱器、洗衣機、吸塵器、照明器具(檯燈、器具本體、燈罩等)、衛生用品、馬桶、洗臉台、鏡子、浴室(牆壁、天花板、地板等)、建材(室內牆壁、天花板材、地板、外壁)、內部裝潢用品(窗簾、絨毯、桌子、椅子、沙發、架子、床、寢具等)、玻璃、窗框、扶手、門、旋鈕、衣服、家電製品等所使用之過濾器、文具、廚房用品、在汽車之室內空間所使用之構件等。

此實施形態之親水性構件或親水性製品，無論光線照射之有無皆具有高親水性，進一步可長時間維持其性能。因此，可提供即使在暗處經過長時間亦可發揮高親水性之構件或製品。使用具有光觸媒性能之氧化鎢系微粒子之情況下，可提供具有基於光觸媒性能之有機物之分解性能、親水性、抗菌．除菌性能等之構件或製品。

一般而言認為金屬氧化物為親水性，氧化鈦或氧化鎢亦表面為親水性。但是，藉以往之製法所製作之材料，係在大氣中短時間親水性降低，在通常的狀態無法得到親水性構件。於此實施形態之中，使用本來即為親水性之氧化鎢或氧化鎢複合材料之微粒子，因此可實現不受光線影響而表現出親水性構件或製品。因此，使在暗處之親水性保持時間大幅延長，可提供經過長期間可得到防污、防霧，污垢除去等效果之構件或製品。

進一步，藉由使用在可見光之照射下表現出光觸媒性能氧化鎢系微粒子構成構件之表面，即使在因為有機物造成之污垢使得親水性降低之情況下，藉著光線照射，於短時間之內可使表面親水性化。藉由在如此的構件或製品受到可見光照射之環境下使用，成為可得到有機氣體之分解性能、抗菌．除菌性能等基於光觸媒性能之效果。

[實施例]

接下來，對於本發明之具體的實施例及其評估結果作敘述。另外，在以下之實施例中，使用在昇華步驟採用感應偶合型電漿處理之方法作為粉末之製造方法，而本發明並非受到其所限定者。

(實施例1)

首先，準備平均粒徑為0.5μm之三氧化鎢粉末作為原料粉末。將此原料粉末與載體氣體(Ar)一起噴霧至RF電漿，進一步將氬以40L/min、氧以40L/min之流量流通作為反應氣體。如此之方式，使原料粉末經過昇華同時氧化反應之昇華步驟，製作氧化鎢粉末。進一步，對氧化鎢粉末以1050℃×0.25小時之條件進行熱處理。

測定所得到之氧化鎢粉末之平均初級粒徑(D50)與BET比表面積。平均初級粒徑係藉由TEM照片之影像解析測定。TEM觀察係使用日立公司製H-7100FA，將放大照片加以影像解析抽出粒子50個以上，求得體積基準之累計直徑而算出D50。BET比表面積之測定，係使用MOUNTECH公司製比表面積測定裝置Macsorb1201進行。前處理係於氮中以200℃×20分之條件實施。將平均初級粒徑(D50)與BET比表面積示於表1。

然後，在將氧化鎢粉末與水混合之後，進行超音波分散處理而製作分散液。藉由將分散液擴屐於5×5cm之玻璃板，使其於200℃乾燥30分鐘，製作塗佈0.05g之氧化鎢微粒子之試樣。測定所得到之膜之表面粗糙度Ra、RSm。表面粗糙度係使用ULVAC公司製表面形狀測定裝置Dektak6M，將基準長度定為100μm進行測定。其結果，Ra為150nm、RSm為618nm。進一步進行膜之X射線繞射，確認結晶方位之配向性。X射線繞射係使用日本電子公司製X射線繞射裝置JDX-3500實施。其結果，確認了結晶方位未配向。

接下來，由以下之方式對膜之親水性進行評估。使用接觸角計(協和界面科學公司製CA-D)按照各段時間經過測定膜對於0.4mg之水滴之接觸角。接觸角係在膜剛製作之後，於通常之實驗室內環境下在暗處保管3天之後，進一步在暗處保管1個月之後進行測定。進一步，對在暗處保管1個月後之膜照射可見光1小時，亦測定其後之接觸角。光源係使用白色螢光燈(東芝LiTech公司製，FL-20SS．W/18)，使用紫外線截止濾波器(日東樹脂工業公司製，clarex N-169)，將未達380nm之波長之光截止。照度調整為10001x。將該等評估結果示於表2。

接觸角為10~1°之情況，認為是高親水性。特別是，接觸角末達5°之情況下，可說是表現出超親水性。確認了此實施例之膜無論暗處保管或光照射皆表現出高親水性，還有長期間維持親水性。

進一步，為了確認由光觸媒之有機物分解產生之親水性效果，將油酸塗佈於所得到之膜，評估照射照度為10001x之可見光時之接觸角之變遷。光源係使用與上述相同者。將從可見光之照射開始經過24小時、48小時、72h小時後之評估結果示於表2。為了進行比較，使用Black Light(東芝LiTech公司製、FL20S．BLB．JET20W)對於照射紫外線(0.5mW/cm² )72小時後之接觸角亦進行評估。

確認了實施例1之膜係在可見光之照射最初並未表現出充分之親水性，而隨著時間之經過，水之接觸角降低、油酸被分解。此為認為是，由於是在高溫進行熱處理，氧化鎢粒子會發生粒成長，因此作為光觸媒之效果無法充分地發揮之故。

(實施例2)

將氧以80L/min之流量流通作為反應氣體，將反應容器內之壓力調整成為25kPa與減壓側以外，係以與實施例1相同之方式實施昇華步驟製作氧化鎢粉末。接下來，使用所得到之氧化鎢粉末，以與實施例1相同之方式於玻璃板上形成膜。對氧化鎢粉末及膜之特性以與實施例1相同之方式進行評估。將其結果示於表1。進一步，對所得到之膜之親水性以與實施例1相同之方式進行評估。將親水性之評估結果示於表2。確認了實施例2之膜係在暗處之接觸角末達1°，無論暗處及光照射皆表現出高親水性，進一步長期間維持親水性。亦確認了具有由光觸媒產生之親水性效果。

(實施例3~5)

經過與實施例1相同之昇華步驟製作氧化鎢粉末。進一步，對氧化鎢粉末於大氣中在500~900℃×1~2小時之條件下進行熱處理。接下來，分別使用所得到之氧化鎢粉末，以與實施例1相同之方式於玻璃板上形成膜。對氧化鎢粉末及膜之特性以與實施例1相同之方式進行評估。將其結果示於表1。進一步，對所得到之膜之親水性以與實施例1相同之方式進行評估。將親水性之評估結果示於表2。

確認了由實施例3~5得到之玻璃構件(具有膜之玻璃板)，任一者皆在暗處之接觸角未達1°，無論暗處及光照射皆表現出高親水性，進一步，長期間維持親水性。亦確認了具有由光觸媒產生之親水性效果。特別是，實施例3及實施例4，係於照射可見光72小時之後表現出高親水性。相較於粒徑小之實施例2，實施例3、4表現出高光觸媒效果，認為是由於製造條件之最適化而使氧化鎢微粒子之結晶性提升之故。

(實施例6)

將在實施例3所得到之氧化鎢粉末5質量%與膠狀二氧化矽0.5質量%混合，使此混合物分散於水中製作水系塗料。將此水系塗料塗佈於5×5cm之玻璃板之後，於200℃使其乾燥30分鐘形成膜。對粉末與膜之特性以與實施例1相同之方式進行評估。將其結果示於表1。進一步，對所得到之膜之親水性以與實施例1相同之方式進行評估。將親水性之評估結果示於表2。

(實施例7)

除了使用Fe或Mo等雜質量多之氧化鎢粉末作為投入於電漿之原料以外，實施與實施例3相同之昇華步驟與熱處理步驟，製作含有Fe 300ppm之氧化鎢複合材料粉末。接下來，使用所得到之氧化鎢複合材料粉末，以與實施例1相同之方式於玻璃板上形成膜(塗佈0.05g)。對粉末及膜之特性以與實施例1相同之方式進行評估。將其結果示於表1。進一步，對所得到之膜之親水性以與實施例1相同之方式進行評估。將親水性之評估結果示於表2。

(實施例8)

將氧化銅(CuO)粉末1質量%混合於在實施例3所得到之氧化鎢粉末。使用如此之方式所得到之氧化鎢複合材料粉末，以與實施例1相同之方式於玻璃板上形成膜。對粉末及膜之特性以與實施例1相同之方式進行評估。將其結果示於表1。進一步，對所得到之膜之親水性以與實施例1相同之方式進行評估。將親水性之評估結果示於表2。

(實施例9)

將硝酸銀以Ag換算0.002質量%混合於在實施例3所得到之氧化鎢粉末5質量%，使此分散於水中製作水系分散液。進行光還原處理之後，將水系分散液塗佈於5×5cm之玻璃板之後，使其於200℃乾燥30分鐘形成膜(塗佈0.05g)。對粉末與膜之特性以與實施例1相同之方式進行評估。將其結果示於表1。進一步，對所得到之膜之親水性以與實施例1相同之方式進行評估。將親水性之評估結果示於表2。

確認了由實施例6~9得到之玻璃構件(具有膜之玻璃板)，係任一者皆與實施例3相同地，無論暗處及光照射皆表現出高親水性，進一步長期間維持親水性。亦確認了具有由光觸媒產生之親水性效果。

(比較例1)

對以試藥等之形式市售之氧化鎢粉末(RARE METALLIC公司製)進行評估。以與實施例1相同之方式於玻璃板上形成膜，而由於粒徑很大，膜無法形成，無法進行膜之評估。僅將粉末之特性示於表1。

(比較例2)

適用濺鍍法，於加熱至600℃之玻璃基板上形成氧化鎢膜。對所得到之膜之特性以與實施例1相同之方式進行評估。將其結果示於表1。氧化鎢膜係具有三斜晶配向之結晶構造。進一步，對所得到之膜之親水性以與實施例1相同之方式進行評估。將親水性之評估結果示於表2。由於以濺鍍法形成之膜係結晶方位配向之狀態，因此剛成膜之後及暗處保管後之親水性低。藉著照射可見光，觀察到接觸角之降低，而親水性為不充分。油酸之分解能力亦為低者。

(比較例3)

於玻璃板上使用膠狀二氧化矽，形成二氧化矽(SiO₂ )膜。對所得到之膜之特性以與實施例1相同之方式進行評估。將其結果示於表1。進一步，對所得到之膜之親水性以與實施例1相同之方式進行評估。將親水性之評估結果示於表2。二氧化矽膜，係在剛成膜之後表現出高親水性，而在暗處之保管中吸附環境氣氛之污垢而親水性降低。亦並未觀察到由光照射產生之變化。亦並未得到油酸之分解性能。

(比較例4)

使用銳鈦礦型二氧化鈦溶膠，於玻璃板上形成膜。對所得到之膜之特性以與實施例1相同之方式進行評估。將其結果示於表1。進一步，對所得到之膜之親水性以與實施例1相同之方式進行評估。將親水性之評估結果示於表2。但是，由於即使對在暗處保管1個月之後的試樣照射可見光，接觸角亦沒有變化，因此測定照射紫外線的試樣之接觸角。將其結果示於表2。觀察到氧化鈦膜在剛成膜之後為低的，同時有親水之傾向，而於暗處之保管中，吸附環境氣氛之污垢而親水性降低。在紫外線之照射後，有接觸角降低之傾向，觀察到由光照射產生之效果。在油酸之分解測試之中，亦僅在紫外線之照射時表現出親水性。

(實施例10~實施例15)

在實施例10之中，除了使用將氧化鋯粉末混合於氧化鎢粉末作為於電漿投入之原料以外，係藉由與實施例3相同之方式實施昇華步驟與熱處理步驟，製作含有Zr 500ppm之氧化鎢複合材料粉末。在實施例11之中，使在實施例3所得到之氧化鎢粉末分散於氯化鉑酸水溶液，並且進行可見光照射與甲醇投入，然後再進行由光析出法進行之擔持。藉由實施離心分離，進行上澄液之除去與由水之再增加進行之洗淨2次之後，使上澄液除去後之粉末於110℃乾燥12小時，製作含有Pt 0.1質量%之氧化鎢複合材料粉末。

在實施例12之中，使在實施例3所得到之氧化鎢粉末分散於氯化鈀水溶液。藉由將此分散液離心分離，進行上澄液之除去與由水之再增加進行之洗淨2次之後，使上澄液除去後之粉末於110℃乾燥12小時，製作含有Pd 0.5質量%之氧化鎢複合材料粉末。在實施例13之中，藉由將氧化鈦粉末以5質量%之比例混合於在實施例3所得到之氧化鎢粉末，製作氧化鎢複合材料粉末。

在實施例14之中，使在實施例3所得到之氧化鎢粉末分散於氯化鈰水溶液。藉由將此分散液離心分離，進行上澄液之除去與由水之再增加進行之洗淨2次之後，使上澄液除去後之粉末於110℃乾燥12小時，製作含有Ce 0.1質量%之氧化鎢複合材料粉末。在實施例15之中，藉由使在實施例3所得到之氧化鎢粉末分散於氧化鋁溶膠，使此分散液於110℃乾燥12小時，製作含有氧化鋁(Al₂ O₃ )2質量%之氧化鎢複合材料粉末。

關於實施例10~14之氧化鎢複合材料粉末，進行由珠磨機進行之分散處理之後，塗佈於玻璃板上而形成膜。關於實施例15，將乾燥前之分散液塗佈於玻璃板上而形成膜。對粉末與膜之特性以與實施例1相同之方式進行評估。將其結果示於表3。進一步，對所得到之膜之親水性以與實施例1相同之方式進行評估。將親水性之評估結果示於表4。

確認了在實施例10~15之中，任一者皆可得到與實施例3相同的粉末特性及膜特性。關於膜之親水性，任一者無論暗處及光照射皆表現出高親水性，進一步長期間維持親水性。亦確認了各膜係具有由光觸媒產生之親水性效果。

(實施例16)

將在實施例6製作之水系塗料塗佈於汽車之室內空間之玻璃，評估親水性之結果，確認了接觸角為1°以下，表現出超親水性。因此，結露難以發生，另外玻璃變為難以污垢。使用金黃色葡萄球菌、大腸菌、黴菌進行抗菌性之評估之結果，確認了任一者皆表現出優異之抗菌性。

由於使用各實施例之氧化鎢粉末或氧化鎢複合材料粉末之水系分散液或水系塗料係具有優異之分散性，因此可製作具有均勻的膜構件。氧化鎢粉末或氧化鎢複合材料粉末係具有光觸媒性能，因此可使乙醛等有機氣體之分解性能安定而發揮、視覺上色斑等問題難以發生。因此，適合使用於在汽車之室內空間所使用之構件或在工廠、商店、公共設施、住宅等所使用之建材、內部裝潢材、家電等。

[產業上之利用可能性]

本發明之態樣所關連之親水性構件係不受光線影響而表現出親水性，進一步可長時間維持如此的性能。因此，藉由適用如此的親水性構件，可提供使在暗處之親水性保持時間延長之親水性製品。親水性製品係適用於需要基於親水性之防污、防霧、污垢除去等效果之各種製品。

Claims (15)

1. 一種親水性構件，其特徵係具備具有表面之基材、與至少設於該基材的表面且含有選自氧化鎢微粒子及氧化鎢複合材料微粒子之至少1種微粒子的膜，該含有微粒子的膜係使於該基材表面所塗佈之該含有微粒子與分散媒的粒子分散液乾燥所形成的膜，該微粒子係具有結晶構造，且以結晶方位未配向之狀態存在於該膜中，該膜係具有基準長度定為100μm時算術平均粗糙度Ra為1nm以上且1000nm以下之範圍的表面，且該膜的表面基於該膜中的該微粒子係不受光線影響而表現出親水性的同時，水的接觸角為10°以下者。
2. 如申請專利範圍第1項之親水性構件，其中該微粒子之平均粒徑係在1nm以上200nm以下之範圍。
3. 如申請專利範圍第1項之親水性構件，其中該微粒子之BET比表面積係在4.1m² /g以上820m² /g以下之範圍。
4. 如申請專利範圍第1項之親水性構件，其中該氧化鎢複合材料，係以0.001質量%以上50質量%以下之範圍含有過渡金屬元素。
5. 如申請專利範圍第1項之親水性構件，其中該氧化鎢複合材料，係以0.001質量%以上50質量%以下之範圍含有選自Ti、Zr、Mn、Fe、Pd、Pt、Cu、 Ag、Zn、Al及Ce之至少1種之金屬元素。
6. 如申請專利範圍第1項之親水性構件，其中該氧化鎢複合材料，係以0.001質量%以上1質量%以下之範圍含有選自Cu、Ag及Zn之至少1種之金屬元素。
7. 如申請專利範圍第5項之親水性構件，其中該金屬元素，係以選自單體、化合物、及與氧化鎢之複合化合物之至少1種之形態，含於該氧化鎢複合材料中。
8. 如申請專利範圍第1項之親水性構件，其中該膜係含有選自無機黏結劑及有機黏結劑之至少1種之黏結劑成分。
9. 如申請專利範圍第1項之親水性構件，其中該膜的表面係在可見光之照射下表現出光觸媒性能。
10. 如申請專利範圍第1項之親水性構件，其中該分散媒係選自水及醇之至少1種。
11. 如申請專利範圍第1項之親水性構件，其中該粒子分散液係進一步包含無機黏結劑。
12. 如申請專利範圍第11項之親水性構件，其中該無機黏結劑係選自二氧化矽、膠狀二氧化矽、氧化鋁、氧化鋯、氧化鋅、矽化合物、磷酸鹽、水玻璃、水泥、石膏、石灰及搪瓷用玻料之至少1種。
13. 如申請專利範圍第12項之親水性構件，其中該矽化合物係水解性矽化合物的分解生成物、或有機 聚矽氧烷化合物或其聚縮合物。
14. 如申請專利範圍第1項之親水性構件，其中前述膜係含有選自二氧化矽、膠狀二氧化矽、氧化鋁、氧化鋯、氧化鋅、矽化合物、磷酸鹽、水玻璃、水泥、石膏、石灰及搪瓷用玻料之至少1種以作為無機黏結劑成分。
15. 一種親水性製品，其特徵為具備申請專利範圍第1項之親水性構件。