TWI393964B - 液晶顯示裝置 - Google Patents

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TWI393964B
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Nobutaka Fukagawa
Katsumi Sasata
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Fujifilm Corp
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Description

液晶顯示裝置
本發明係關於一種具有低霧度、波長分散之延遲特性佳之醯化纖維素薄膜，並且可被收集及回收；以及光學補償片、偏光板及液晶顯示裝置使用該膜片。
醯化纖維素薄膜已經被廣泛地在液晶顯示裝置上當作偏光板保護膜，因為醯化纖維素薄膜具有透水性佳以及高光學各向異性(低延遲)。
在最近幾年，已提出在醯化纖維素薄膜中引進延遲的製程，因此除了當作偏光板保護膜功能之外，醯化纖維素薄膜可以給予光學補償的功能。舉例來說，在日本專利JP－A－2003－344655中揭露，添加具有高平面性(planarity)之三(triazine)化合物到醯化纖維素的製程，因此導致延遲的發展，而在日本專利JP－A－2003－170492中揭露，延伸薄膜之方法包含具有特別醯化取代度之醯化纖維素，因此導致延遲的發展。
主要對液晶電視而言，近來迫切需求高清晰度之顯示裝置，亦要求光學補償片之更精準延遲控制。
在光學補償片中，波長分散之延遲對於補償微小的變化是一個非常重要的特性，該變化隨著液晶顯示裝置之視角而產生。
在日本專利JP－A－2002－296422中揭露一種在寬度方向上具有特別取代基(substituent)及取代度(substitution degree)之拉伸醯化纖維素薄膜的製程，因此給了此薄膜一種特性，此種特性在薄膜面內方向上的延遲會隨著波長變長而增加。然而這種製程會增加薄膜的霧度，造成液晶顯示裝置的對比惡化。
另一方面，在日本專利JP－A－2003－14933中揭露一種共同流延兩種不同組成物添加物的方法，因此得到了維持薄膜之面內方向上的延遲會隨著波長變長而增加的特性且同時霧度降低的醯化纖維素薄膜。然而因為使用兩種不同組成物之溶液造成非常難以收集和使用溶劑去溶解已使用過的薄膜並將此薄膜重複使用，所以需要改進這個製程。
也就是說，已提出之醯化纖維素薄膜無法同時具有低霧度、波長分散之延遲特性佳及被利用性。因此對於醯化纖維素薄膜發展的要求需有能力滿足這些特性。
本發明的目的為提供醯化纖維素薄膜，該醯化纖維素薄膜具有低霧度、波長分散之延遲特性佳且可以被回收；以及光學補償片、偏光板及液晶顯示裝置使用該薄膜。
本發明的發明人已經完成廣泛的研究。研究中發現決定醯化纖維素薄膜之波長分散特性的因素可以約略被分成兩類，(A)因素歸因於醯化纖維素及(B)因素歸因於添加物例如紫外光吸收劑和塑化劑。
研究中發現(A)在波長分散特性的改變歸因於醯化纖維素薄膜相當於主要醯化纖維素鏈的定向度及可藉由改變主鏈的定向度增加反向分散特性。為了改進主鏈的定向度，常見的實施例為在較高的拉伸比下拉伸習知薄膜。然而這樣將造成薄膜的裂痕，因此不可避免地提高了薄膜的霧度。本發明的發明者已經發現利用下列描述的方法(i)可以改善主鏈的定向度且不會提高薄膜的霧度。
(i)已知習知在薄膜內的拉伸應力小於薄膜表面的拉伸應力，因此在薄膜內主鏈的定向度小於薄膜表面的定向度。當減少薄膜厚度時，應力在厚度方向上分佈均勻而且整體來看改善了薄膜的定向性。
同時也發現(ii)特別地在所有添加物相對應的比例上增加具有熔點25℃或以下的紫外光吸收劑，紫外光吸收劑可以壓制霧度的上升，除此之外其他藉由拉伸操作將會增加霧度。然而這樣的機制尚未被揭露。
更進一步發現關於(B)在波長分散特性的改變歸因於添加物，在紫外光吸收劑中增加油成分的比例會增加反向分散之延遲特性而不會在紫外光區域中造成較大薄膜傳播的改變。
本發明之完成已經預期解決上面所描述的問題。總之，藉由下列描述的方法解決本發明之問題。
[1]一種醯化纖維素薄膜，其具有滿足下列(1)到(6)項的關係式之面內延遲(Re)以及厚度方向延遲(Rth)，並且具有30微米或以上，但必須小於70微米之厚度。
20nm<Re(548)<100nm (1) 100nm<Rth(548)<400nm (2) 0.5≦Re(446)/Re(548)≦0.90 (3) 1.05≦Re(629)/Re(548)≦1.50 (4) 0.5≦Rth(446)/Rth(548)≦0.95 (5) 1.05≦Rth(629)/Rth(548)≦1.50 (6)
[2]如上述[1]中所述之醯化纖維素薄膜，其中上述之醯化纖維素薄膜具有從0.1或以上但不大於0.8之霧度。
[3]如上述[1]或[2]中所述之醯化纖維素薄膜，其中假定整個薄膜厚度之醯化纖維素分子鏈之面內定向度為Po以及薄膜之醯化纖維素分子鏈之厚度方向定向度為Pth，Po及Pth滿足關係式(7)和(8)：0.040≦Po≦0.10 (7) 0.12≦Pth≦0.40 (8)
[4]如上述[3]所述之醯化纖維素薄膜，其中在薄膜表面之醯化纖維素分子鏈之面內定向度Po與在整個薄膜厚度之該醯化纖維素分子鏈之面內定向度Po滿足關係式(9)：1≦[(薄膜表面之Po/整個薄膜厚度之Po)]≦1.5 (9)
[5]如上述任意[1]到[4]中所述之醯化纖維素薄膜，其係藉由拉伸之方式而獲得，在拉伸比為1%或以上但不大於100%時，在至少薄膜之行進方向及與其垂直之方向上，包含醯化纖維素之薄膜具有2.50或以上，但不大於2.90之醯化度。
[6]如上述[1]到[5]中任一所述之醯化纖維素薄膜，其中該醯化纖維素薄膜之醯化纖維素包含兩個或以上碳原子數目不同之醯基，並且假定具有最少碳原子數目之醯基稱為醯基A，而具有最多碳原子數目之醯基稱為醯基B，醯基A及醯基B之取代度滿足關係式(10)和(11)：0.1≦(醯基A之取代度)≦2.40 (10) 0.1≦(醯基B之取代度)≦1.50 (11)
[7]如上述所述[6]中所述之醯化纖維素薄膜，其中該醯基B包含芳香族結構。
[8]如上述[1]到[7]中任一所述之醯化纖維素薄膜，其包括複數個紫外光吸收劑，每紫外光吸收劑在250奈米或以上但不超過380奈米波長範圍內具有最大吸收值；其中複數個紫外光吸收劑包含至少紫外光吸收劑，其具有25℃或以下之熔點、以及以該複數個紫外光吸收劑之總量為基準，該具有熔點為25℃或以下之至少紫外光吸收劑的質量百分比為80質量%或以上但不大於100質量%。
[9]一種光學補償片，其包括上述[1]到[8]中任一所述之醯化纖維素薄膜。
[10]如上述[9]中所述之光學補償片，其進一步包括在醯化纖維素薄膜上之光學各向異性層。
[11]一種偏光板，其包括：偏光膜；以及二透明保護膜，其分別位在該偏光膜之兩側；其中該二透明保護膜之至少一透明保護膜係為上述[9]或[10]所述之光學補償片。
[12]一種液晶顯示裝置，其包括：液晶胞；以及二偏光板，其分別位在該液晶胞之兩側；其中該二偏光板之至少一偏光板係為上述[11]所述之偏光板。
[13]如上述[12]所述之液晶顯示裝置，其中該液晶顯示裝置之顯示模式為VA(垂直配向)模式。
[14]如上述[12]所述之液晶顯示裝置，其中該液晶顯示裝置之顯示模式為OCB(光學補償彎曲)模式。
本發明盡可能提供具有低霧值、波長分散之延遲特性佳之醯化纖維薄膜，並且可被收集及回收；以及在任何視角、光學補償片、偏光板及液晶顯示裝置具有高類比及較少色偏差。
以下將具體地描述本發明。在此使用符號"~"代表在一個數字之前或之後來當作上限或下限且該數字被包含在內。
[醯化纖維素薄膜]
本發明之醯化纖維素薄膜的特點是在Re及Rth滿足特特殊之關係且其薄膜的厚度在特殊之範圍之內，醯化纖維素薄膜將在之後被描述。
本發明之醯化纖維素薄膜具有包含添加物的特性例如紫外光吸收劑且其適合藉由最少在薄膜之行進方向及垂直方向上拉伸薄膜的方式獲得。醯化纖維素，添加物及薄膜成形的方法將在下列依序被描述出來。
(醯化纖維素)
醯化纖維素原料可以被使用來當作本發明中之醯化纖維素薄膜，能使用已知的未加工之材料(舉例來說，Journal of Technical Disclosure of Japan Institute of Invention and Innovation，2001－1745)。醯化纖維素之合成也可以使用已知的方法來形成(舉例來說，Mokuzai Kagaku，pp.180－190，由Migita等人所撰寫，在1968年由Kyoritsu Shuppan所出版)。
雖然醯化纖維素之醯基沒有加入特別的限制，但較佳使用醯基、丙醯基或是丁醯。所有醯基的取代度適合從2.50到2.90，最好從2.50到2.80，最佳從2.50到2.65。"醯基之取代度"一詞在這裡表示依照ASTM D817計算之數值。
醯化纖維素包含兩個或多個醯基，其碳原子的數目不同。假定具有最少數目的碳原子醯基稱為醯基A，且具有最多數目的碳原子醯基稱為醯基B，為了平衡具有疏水性之薄膜在熱膨脹係數的減少，傾向選擇取代基A及B的取代度滿足下列的關係式(10)及(11)：0.1≦(醯基A之取代度)≦2.40 (10) 0.1(醯基B之取代度)1.50 (11)
醯基A的取代度適合為1.0或以上但不超過2.4，最好為1.5或以上但不超過2.4。
醯基B的取代度適合為0.2或以上但不超過1.5，最好為0.4或以上但不超過1.2。
取代基A最佳為醯基。取代基B的碳原子數目適合為3或以上但不超過22，最好為3或以上但不超過16。取代基B適合為脂肪醯基例如丙醯基和丁醯或是具有芳香族結構之醯基例如苯甲醯，後者為最佳。
當每個取代基A與取代基B為脂肪醯基時，其最好滿足下列方程式(III)及(IV)：2.50≦DS2＋DS3＋DS6≦2.85 (III) 0.33≦DS6/(DS2＋DS3＋DS6) (IV)
其中，DS2代表的是2－醯基之取代度，DS3代表的是3－醯基之取代度，以及DS6代表的是6－醯基之取代度。
(DS2＋DS3＋DS6)適合為2.60或以上但不超過2.80，最好為2.65或以上但不超過2.75。
DS6/(DS2＋DS3＋DS6)適合為0.35或以上，最好為0.37或以上。
當取代基A或B為具有芳香族結構之醯基時，其滿足下列方程式(V)及(VI)：2.5≦DS2＋DS3＋DS6≦2.85 (V) 0.30≦DS6/(DS2＋DS3＋DS6) (VI)
(DS2＋DS3＋DS6)適合為2.60或以上但不超過2.80，最好為2.65或以上但不超過2.75。
DS6/(DS2＋DS3＋DS6)適合為0.50或以上，最好為0.70或以上。
至於醯化纖維素，特佳為混合具有脂肪酸醯基之混合酸酯以及被取代或未被取代之芳香醯基。以被取代或未被取代之芳香醯基為例包括表示為下列化學式(A)之族群：
化學式(A)將在之後被描述。在化學式(A)中，X代表的是取代基。取代基範例中包含鹵素(halogen)原子、氰基(cyano)、烷基(alkyl)、烷氧基(alkoxy)、芳香基(aryl)、芳氧基(aryloxy)、醯基(acyl)、醯胺(carbonamide)基、苯磺醯胺(sulfonamie)基、脲基(ureido)、芳烷基(aralkyl)、硝基(nitro)、烷氧羰基(alkoxycarbonyl)、芳氧羰基(aryloxycarbonyl)、芳氧烷羰基(aralkyloxycarbonyl)、胺甲醯基(carbomoyl)、胺磺醯基(sulfamoyl)、醯氧基(acyloxy)、烯基(alkenyl)、炔基(alkynyl)、烷磺醯基(alkylsulfonyl)、芳磺醯基(arylsulfonyl)、烷氧磺醯基(alkyloxysulfonyl)、烷磺醯氧基(alkylsulfonyloxy)、芳氧磺醯基(aryloxysulfonyl)、－S－R、－NH－CO－OR、－PH－R、－P(－R)2 、－PH－O－R、－P(－R)(－O－R)、－P(－O－R)2 、－PH(＝O)－R－P(＝O)(－R)2 、－PH(＝O)－O－R、－P(＝O)(－R)(－O－R)、－P(＝O)(－O－R)2 、－O－PH(＝O)－R、－O－P(＝O)(－R)2 －O－PH(＝O)－O－R、－O－P(＝O)(－R)(－O－R)、－O－P(＝O)(－O－R)2 、－NH－PH(＝O)－R、－NH－P(＝O)(－R)(－O－R)、－NH－P(＝O)(－O－R)2 、－SiH2 －R、－SiH(－R)2 、－Si(－R)3 、－O－SiH2 －R、－O－SiH(－R)2 、及－O－Si(－R)3 ，其中R代表的是脂肪族、芳香族或是雜環族。
在化學式(A)中，n代表的是取代基的數目且為0到5之間的整數，取代基(n)的數目適合為1到5，最好為1到4，1到3仍更佳，最佳為1或2。上述之取代基適合為鹵素原子、氰基、烷基、烷氧基、芳香基、芳氧基、醯基、甲醯胺、磺醯胺或脲基，最好為鹵素原子、氰基、烷基、烷氧基、芳氧基、醯基或醯胺基，鹵素原子、氰基、烷基、烷氧基、芳氧基仍更佳，最佳為鹵素原子、烷基或烷氧基。
以鹵素原子為例包括氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
烷基可能具有環狀結構或枝狀結構。烷基適合具有1到20個碳原子，最好為1到12個碳原子，1到6仍更佳，最佳為1到4個碳原子。以烷基為例包含甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第三丁基、己基、環己基、酰基(actyl)及2－乙基己基。
烷氧基可能具有環狀結構或枝狀結構。烷氧基適合具有1到20個碳原子，最好為1到12個碳原子，1到6仍更佳，最佳為1到4個碳原子。烷氧基可能進一步被另一個烷氧基所取代。以烷氧基為例包括甲氧基、乙氧基、2－甲氧基乙氧基、2－甲氧基－2－乙氧基乙氧基、丁氧基、己氧基、辛氧基。
芳香基適合具有6到20個碳原子，最好為6到12個碳原子。以芳香基族為例包含苯基及萘基。
芳氧基適合具有6到20個碳原子，最好為6到12個碳原子。以芳氧基為例包含苯氧基及萘氧基。
醯基適合具有1到20個碳原子，最好為1到12個碳原子。以醯基為例包含甲醯基、乙醯基、苯甲醯基。
醯胺基適合具有1到20個碳原子，最好為1到12個碳原子。以尿素基為例包含乙醯胺基、苯醯胺基。
磺醯胺適合具有1到20個碳原子，最好為1到12個碳原子。以磺醯胺為例包含甲烷磺醯胺、苯磺醯胺、對甲苯磺醯胺。
脲基適合具有1到20個碳原子，最好為1到12個碳原子。以脲基為例包含(未被取代的)脲基。
芳烷基適合具有7到20個碳原子，最好為7到12個碳原子。以芳烷基為例包含芐基、苯乙基、萘基甲基。
烷氧羰基適合具有2到20個碳原子，最好為2到12個碳原子。以烷氧羰基為例包含甲氧羰基。
芳氧羰基適合具有7到20個碳原子，最好為7到12個碳原子。以芳氧羰基為例包含苯氧羰基。
芳氧烷羰基適合具有8到20個碳原子，最好為8到12個碳原子。以芳氧烷羰基為例包含芐氧基羰基。
胺甲醯基適合具有1到20個碳原子，最好為1到12個碳原子。以胺甲醯基為例包含(未被取代的)胺甲醯基、N－甲基胺甲醯基。
胺磺醯基適合具有20個或更少的碳原子，最好為12個或更少的碳原子。以胺甲醯基為例包含(未被取代的)胺磺醯基、N－甲基胺磺醯基。
醯氧基適合具有1到20個碳原子，最好為1到12個碳原子。以醯氧基為例包含乙醯氧基、苯甲醯氧基。
烯基適合具有2到20個碳原子，最好為2到12個碳原子。以烯基為例包含烯乙基、烯丙基、異烯丙基。
炔基適合具有2到20個碳原子，最好為2到12個碳原子。以炔基為例包含噻吩基。
烷磺醯基適合具有1到20個碳原子，最好為1到12個碳原子。
芳磺醯基適合具有6到20個碳原子，最好為6到12個碳原子。
烷氧磺醯基適合具有1到20個碳原子，最好為1到12個碳原子。
芳氧磺醯基適合具有6到20個碳原子，最好為6到12個碳原子。
烷磺醯氧基適合具有1到20個碳原子、最好為1到12個碳原子。
當芳香環具有兩個或多個取代基時，取代基可以相同或是不同，或可以互相鍵結形成濃縮多環化合物(例如萘基、茚基、茚烷基、菲基、喹啉基、異喹啉基、色烯基、色滿(chromane)基、酞基、吖啶基、吲哚基或吲哚啉基)。
芳香醯基通常可以取代纖維素之羥基藉由對稱的酸酐或是混合的酸酐其衍生自芳香羧酸氯或是芳香羧酸之方法。特佳為利用芳香羧酸所衍生之酸酐的方法。(在Journal of Applied polymer Science，29，3981－3990，(1984))。
以醯化纖維素的製作流程為例，其為纖維素之酸酯混合物根據本發明包含(i)一種製作纖維素之脂肪酸單酯或二酯的方法，接著由化學式(A)表示芳香醯帶入且保持為基羥基，或(ii)一種直接反應混合脂肪羧酸之酸酐和具有纖維素之芳香羧酸之方法。
在方法(i)中，一種製造製造纖維素之脂肪酸單酯或二酯的方法為已知之方法，但是帶入芳香醯基的連續反應隨著在其中之芳香醯基的種類而變化。反應溫度適合從0℃到100℃，最好為20℃到50℃，而且反應時間適合為30分鐘或是更長，最好為30分鐘到300分鐘。
使用混合酸酐方法(ii)之反應條件也隨著混合酸酐的種類變化。反應溫度適合從0℃到100℃，最好為20℃到50℃，而且反應時間適合從30分鐘到300分鐘，最好為60分鐘到200分鐘。這些反應各自都可能以溶液或非溶液的方式完成，但是適合以溶液的方式。以使用在反應中的溶液為例包含二氯甲烷、氯仿及二烷。
藉由化學式(A)所表示的芳香醯之具體範例(編號1到51)將在下面被描述，但本發明並不僅此限制之外。在化學式(A)所表示之芳香醯，較佳為編號1、3、5、6、8、13、18及28，更佳為編號1、3、6及13。
本發明之醯化纖維素具有重量平均聚合度適合從250到800，最好從300到600。具有數字平均分子量之醯化纖維素適合從70000到230000，最好從75000到230000，最佳為78000到120000。
重量平均分子量(Mw)/數目平均分子量(Mn)之比例(Mw/Mn)適合為2.0或以上，但不超過4.0，最好為2.0或以上，但不超過3.5。
(添加物) (塑化劑)
為了改進機械物理特性或改善蝕刻速度，可以加入塑化劑至本發明之醯化纖維素薄膜。磷酸酯和羧酸酯可以被當作塑化劑來使用。以磷酸酯為例包含磷酸三苯酯(TPP)、磷酸三甲苯酯(TCP)。
鄰苯二甲酸酯及檸檬酸酯為典型的羧酸酯。以鄰苯二甲酸酯為例包含鄰苯二甲酸二甲酯(DMP)、鄰苯二甲酸二乙酯(DEP)、鄰苯二甲酸二丁酯(DBP)、磷苯二甲酸二辛酯(DOP)、鄰苯二甲酸二苯酯(DPP)、鄰苯二甲酸二乙基己基酯(DEHP)。以檸檬酸酯為例包含乙醯檸檬酸三乙酯(OACTE)及乙醯檸檬酸三丁酯(OACTB)。以其他的羧酸為例包含油酸丁酯、甲基乙醯苷(licinolate)酯、癸二酸二丁酯、以及多種的三酸(Trimillitate)酯。在這之中，較佳為鄰苯二甲酸酯塑化劑(例如DMP、DEP、DBP、DOP、DPP、以及DEHP)。其中特佳為DEP、DPP。
將醯化纖維素的質量分成100份，塑化劑之總量適合為0.1到25份，最好為1到20份，最佳為3到15份。(在此說明書中，質量比等於重量比。)
(紫外光吸收劑)
本發明之醯化纖維素薄膜適合包括紫外光吸收劑。
將醯化纖維素的質量分成100份，紫外光吸收劑的種量適合為1到30份，最好為2到15份，最佳為3到10份。
以包含二苯甲氧酮化合物之紫外光吸收劑為例，苯并三唑化合物、水楊酸脂化合物、二苯基酮化合物、氰基丙烯酸化合物、及鎳鹽複合物。在這之中，較佳為無污染的苯并三唑化合物。在JP－A－10－182621及JP－A－8－337574中所提及之紫外光吸收劑和JP－A－6－148430中所提及較佳為高分子紫外光吸收劑。當本發明之醯化纖維素薄膜被使用來當作偏光板之保護膜時，在保護偏光板或液晶劣化之觀點傾向選擇紫外光吸收劑在紫外光具有波長不超過370奈米具有絕佳之吸收特性，及較佳在液晶顯示特性之觀點來看那些可見光之波長為400奈米或以上具有較少之吸收。紫外光吸收劑之最大吸收範圍為250奈米或以上但不超過380奈米較為傾向選擇。
以苯并三唑之紫外光吸收劑為具體實施例在本發明中有用包含但不僅此為限制2－(2'－羥基－5'－甲基苯基)苯並三唑、2－(2'－羥基－3',5'－二－三－丁基苯基)苯并三唑、2－(2'－羥基－3'－三－5'－甲基苯基)苯并三唑、2－(2'－羥基－3',5'－二－三－丁基苯基)－5－氯苯并三唑、2－[2'－羥基－3'－(3",4",5",6"－四氫基鄰苯二甲酰亞胺甲基)-5'-甲基苯基]苯并三唑、2,2-亞甲基貳[4-(1,1,3,3-四甲基丁基)-6-(2氫-苯并三唑-2基)酚]、2-(2'-羥基-3'-三-丁基-5'-甲基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(2氫-苯并三唑-2基)-6-(直鏈或支鏈十二基)-4-甲基酚、及辛基-3-[3-三-丁基-4-羥基-5-(氯-2氫-苯并三唑-2基)苯基]丙酸之混合物以及2-乙基己基-3-[3-三-丁基-4-羥基-5-(5-氯-2氫-苯并三唑-2基)苯基]丙酸。
同時，可以使用商品上可用的產品如"TINUVIN 109"、"TINUVIN 171"、"TINUVIN 326"、及"TINUVIN 328"(商品名；汽巴精化公司(Ciba Specialty Chemicals)的產品)。
作為紫外光吸收劑，紫外光吸收劑具有熔點為25℃或以下或是混合了兩種或多種之紫外光吸收劑，較佳為包括具有熔點為25℃或以下之紫外光吸收劑。當包括兩種或多種之紫外光吸收劑時，具有熔點為25℃或以下之紫外光吸收劑之百分比適合為80質量%或以上但不超過100質量%相對於所有紫外光吸收劑之總量(當所有總量被設定為100質量%)。重量百分比更適合為90質量%或以上但不超過100質量%，最好百分比為95質量%或以上但不超過100質量%。總之在上述所描述之範圍內，較佳為使用包括紫外光吸收劑之具有熔點為25℃或以下之紫外光吸收劑混合物。當至少一種紫外光吸收劑包括在上述所描述之範圍內時，因拉伸操作所造成之霧度增加可以進一步被減少，並且在不造成紫外光波段薄膜穿透特性大幅改變下，可以加強反向分散特性之延遲。
以紫外光吸收劑具有熔點為25℃或以下為例，包括"TINUVIN 109"、"TINUVIN 171"。
(其他的添加物)
一種沈降之預防方法(舉例來說，抗氧化物、過氧化物分解劑、自由基抑制劑、金屬去活化劑、脫酸劑、或胺(類))可能被加入醯化纖維素薄膜。預防方法在日本專利JP－A－3－199201、JP－A－5－1907073、JP－A－5－194789、JP－A－5－271471、JP－A－6－107854中被描述。從引起足夠的效果及避免犧牲離開薄膜表面上之沈降保護劑的觀點，降解預防物的數量適合為0.01到1質量%，最好製造溶液(塗料)為0.01到0.2質量%。特佳的降解保護物範例包含丁基化羥基甲苯(BHT)、三苯胺(TBA)。
(細微粒徑之消光劑)
在本發明中細微粒徑適合加入醯化纖維素薄膜來當作消光劑。以適合應用於本發明之細微粒徑為例包含二氧化矽、二氧化鈦、氧化鋁、氧化鋯、碳酸鈣、滑石、黏土、鍛燒高領土、鍛燒矽酸鈣、水合矽酸鈣、矽酸鋁、矽酸鎂、鄰酸鈣。在這些之中，傾向選擇包含矽之細微粒子，因為細微粒子降低了濁度。特別傾向選擇二氧化矽。細微粒徑之二氧化矽適合具有平均主要粒徑從1奈米到20奈米，且外觀上具體重量為70克/公升或是更大。平均主要粒徑最好從5奈米到16奈米因為粒徑可以降低薄膜的霧度。外觀上具體重量最好為90克/公升到200克/公升，最佳為100克/公升到200克/公升。當外觀上具體重量更大時，可以製造具有更高濃度之分散，這帶來了霧度的改善及壓制聚集。
通常微小粒子形成具有平均粒徑為0.05微米到2微米之二次粒子。這些微小粒子在薄膜中當作一次粒子聚集呈現，因此在薄膜表面形成不平整從0.05微米到2微米。平均二次粒子大小適合從0.05微米到1微米，最好從0.1微米到0.7微米，最佳從0.1微米到0.4微米。至於一次或是二次粒子大小，藉由掃瞄式電子顯微鏡觀察薄膜中的粒子，每個粒子的外接圓直徑被定義為粒子大小。200個不同位置被觀察到之粒子之平均粒子大小被定義為平均粒子大小。
作為微小粒徑之二氧化矽，可以使用商業上可用的商品例如"AEROSIL R972"、"AEROSIL R972V"、"AEROSIL R974"、"AEROSIL R812"、"AEROSIL 200"、"AEROSIL 200V"、"AEROSIL 300"、"AEROSIL R202"、"AEROSIL OX50"以及"AEROSIL TT600"(商品名；出光興產公司(Nippon Aerosil)之產品)。可以使用微小粒徑之氧化鋯在商業上是可行的"AEROSIL R976"及"AEROSIL R811"(商品名；出光興產公司之產品)。
在這之中，特別傾向選擇"AEROSIL 200V"及"AEROSIL R972V"，因為產品為具有平均主要粒徑之大小不大於20奈米且外觀上具體重量為70克/公升或更大之二氧化矽微小粒徑且在保持光學薄膜之霧度在低程度下仍有效降低摩擦係數。
在本發明中適合使用之消光劑製備如下。藉由混合攪拌溶劑及微小粒子以預先製備微小粒子分散。然後微小粒子分散被加在分開製備具有醯化纖維素薄膜濃度小於重量百分比5質量%且具有分子量為200到2000之第一添加物溶液，接下來藉由攪拌來溶解。藉由攪拌附加第二添加物溶液來產生溶液之後，溶液被主要醯化纖維素溶液混合而得到。
消光劑具有疏水性的表面，所以當加入疏水性的添加物時，它們被吸附在消光劑的表面並將之當作核心，添加物有聚集出現的趨勢。因此，傾向將其混合，在混合具有分散消光劑之相對應親水性添加物之後，產生具有疏水性添加物之混合物，因為可以壓制添加物在消光劑表面聚集，而霧度可以被壓制在較低的程度，當薄膜被併入於液晶顯示裝置上時，可以減少在全黑顯示狀態之漏光。
為了混合分散的消光劑及添加物溶液及接著與醯化纖維素溶液混合，傾向使用線上混合器。本發明並不僅限制於此方法。當加入細微粒徑之二氧化矽被且溶解於溶劑或其它相似物，二氧化矽濃度適合為5到30質量%，最好為10到25質量%，最佳為15到20質量%。較傾向於使用較高的分散濃度，因為在相同添加物的總量濁度會較低，且霧度跟聚集度會得到改善。在最終醯化纖維素溶液之消光劑數量適合為0.001到1.0質量%，最好為0.005到0.5質量%，最佳為0.01到0.1質暈%。
[醯化纖維素之製造]
本發明之醯化纖維素薄膜適合藉由溶劑流延法來製造。在溶劑流延法中，薄膜使用具有溶解(塗料)於有機溶劑之醯化纖維素溶液製造。
有機溶劑適合包含從C3－12 醚類、C3－12 酮類、C3－12 酯類、及C3－6 鹵化碳氫化合物之中選擇之溶劑。
醚類、酮類、及酯類可能具有環狀結構，包含任意兩個或多個官能基為醚、酮、及酯(為－O－、－CO－、及－COO－)之化合物可以被使用來當作有機溶劑。有機溶劑可能包含其他的官能基例如醇式羥基。在具有兩個或多個官能基之有機溶劑中，較傾向選擇碳原子的數目下降在上所描述之溶劑中具有任一官能基之碳原子的數目範圍。
以C3－12 醚類為例包含二異丙醚、二甲氧甲烷、二甲氧乙烷、1,4－二氧化二伸乙基、1,3－二氧五環烷(ioxolan)、四氫呋喃、甲氧苯、苯基乙基醚。
以C3－12 酮類為例包含丙酮、丁酮、二乙酮、二異丁酮、環己酮、甲基環己酮。
以C3－12 酯類為例包含甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸戊酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸戊酯。
以包含兩個或多個官能基之有機溶劑為例包含2－乙酸(thoxyethyl)、2－甲氧乙醇、2－丁氧乙醇。
鹵化碳氫化合物之碳原子數目最好為1或2，最佳為1，鹵化碳氫化合物之鹵素最好為氯，鹵化碳氫化合物之氫原子被鹵素取代的比例適合之莫耳百分比為25到75莫耳%，最好莫耳百分比為30到70莫耳%，莫耳百分比為35到65莫耳%仍更佳，最佳莫耳百分比為40到60莫耳%。二氯甲烷為典型的鹵化碳氫化合物。
本發明之有機溶劑，較傾向選擇具有醇類之二氯甲烷混合物。相對於二氯甲烷，被加入之醇類數量適合為1質量%或以上但不超過50質量%，最好為10質量%或以上但不超過40質量%，最佳為12質量%到30質量%。醇類之中較傾向使用甲醇、乙醇及正丁醇以及混合兩種或可以使用多種醇類。
醯化纖維素溶液可以藉由習慣上使用之方法包含處理溫度為0℃或以上(平常溫度或高溫)製造。溶液可以使用塗料或裝置於一般溶劑流延方法之製造方法配製。在習慣上所使用的方法，較傾向使用鹵化碳氫化合物(特別是二氯甲烷)來當作有機溶劑。
調整醯化纖維素的總量所以其包含在佔所有產生溶液數量為10到40質量%。醯化纖維素數量最好為10到30質量%，任何上述之添加物所選擇出來之添加物可以被加在有機溶劑內(起始的溶劑)。
藉由在正常溫度下(0到40℃)攪拌醯化纖維素及有機溶劑可製造醯化纖維素溶液。在加壓及加熱下攪拌具有高濃度之溶液。具體來說，在壓力容器中反應醯化纖維素及有機溶劑，且在密封容器之後，在壓力下攪拌混合物當加熱在溫度範圍為常溫下溶劑的沸點到溶劑不再沸騰的溫度。
加熱溫度通常為40℃或更高，最好為60℃到200℃，最佳為80℃到110℃。
在約略混合之後各成分可以在容器內反應，兩者擇一來說，他們可在容器內依序地被反應，容器必須具有可以在裡面運轉攪拌之構造，壓力藉由注入氣體的方式如氮氣施加在容器上，可以利用藉由加熱來增加溶劑的蒸汽壓，兩者擇一選擇，在密封容器後各成分可以在加壓之下被添加。
容器適合在其外部加熱，舉例來說，可以利用夾克式加熱器，兩者擇一選擇，整個容器可以藉由平版加熱器在容器外部加熱且利用安排好的管子來流動液體。藉由使用安裝在容器內部的攪拌葉片來完成攪拌。攪拌葉片適合的長度達到容器壁的附近。在攪拌葉片的末端，以安裝一切削過的葉片，為了加速容器壁上的液晶薄膜固定再生。
可以裝配量測儀器例如壓力計或溫度計於容器中。各成分可以被容器內的溶劑所溶解。塗料的溶液可能被冷卻然後從容器中取出，或可以從容器中被取出然後藉由熱交換機或相似的物品來冷卻。
溶液也可以藉由冷卻及溶解的方法被製造。根據冷卻及溶解的方法，醯化纖維素可以被溶解在有機溶劑中，若藉由其他方法很難被溶解。當為了使溶劑藉由一般的溶解方法具有溶解醯化纖維素之能力時，使用冷卻及溶解的方法可以加速製造均勻的溶液。
在冷卻及溶解的方法中，首先，在室溫下加入一部分醯化纖維素於有機溶劑中同時攪拌。調整適合醯化纖維素總量，醯化纖維素在混合物中的容量從10到40質量%。醯化纖維素容量最好為10到30質量%。任何上述之添加物可以事先被添加於混合物中。
接下來，冷卻混合物從－100℃到－10℃(適合從－80℃到－10℃，最好從－50℃到－20℃，最佳為－50℃到－30℃)。舉例來說，冷卻可以被完成在乾冰甲醇浴(－75℃)或冷卻的二乙二醇溶液(從－30℃到－20℃)。醯化纖維素及有機溶劑之混合物藉由冷卻的方式被凝固。
冷卻率適合為4℃/分或以上，最好為8℃/分或以上，最佳為12℃/分或以上。冷卻率越大越好。然而，理論上的上限為10000℃/秒，技術上的上面為1000℃/秒；實際上的上限為100℃/秒，在這裡所使用"冷卻率"名詞代表得到之數值由起始冷卻之溫度與結束冷卻之溫度的差值除上開始到結束冷卻所需之時間。
在冷卻之後，所產生之固體被加熱從0℃到200℃(適合從0℃到150℃，最好從0℃到120℃，最佳為0℃到50℃)，藉此醯化纖維素被溶解於有機溶劑之中，只有允許固體處於在室溫下溫度可能被升高。固體可以在熱水中被加熱。
加熱率適合為4℃/分或更高，最好為8℃/分或更高，最好為12℃/分或更高，加熱率越高越好。然而，理論上的上限為10000℃/秒；技術上的上限為1000℃/秒；實際上的上限為100℃/秒，加熱率是被得到的數值藉由起始加熱之溫度與結束加熱之溫度的差值除上開始到結束加熱所需之時間。
在上述之方法，可以獲得均勻的溶液。如果溶液並不夠均勻，可以重複冷卻及加熱的操作過程。溶液是否均勻可以藉由視覺上觀察溶液的現象來判斷。
在冷卻及溶解的方法中，在溶液中為了避免在冷卻過程中混合到因露水凝結的水分，較傾向使用封閉的容器。在冷卻及加熱的操作過程中，當冷卻時施加壓力及加熱時減少壓力可以減少溶解時間。在完成壓力的施加或壓力的減少時，較傾向使用壓力容器。
根據差動掃瞄式熱量計的量測結果(DSC)，介在溶膠狀態與凝膠狀態之間的相轉換點在藉由冷卻及溶解的方法來溶解醯化纖維素(乙基化度為：60.9%，黏度平均聚合度為：299)於甲基酯後所得為20質量%之溶液中目前為33℃附近，溶液變成均勻之凝膠狀態在溫度不超過此溫度，因此，這個溶液必須維持在相轉換點或是之上，最好溫度超過凝膠轉換點10℃，然而，相轉換點隨著乙基化度、黏度平均聚合度、醯化纖維素之濃度或有機溶劑而改變。
藉由溶劑流延法製備醯化纖維素薄膜使用醯化纖維素溶液(塗料)，於塗料中適合添加延遲提升劑。
薄膜的形成是藉由流延塗料在圓桶或帶上然後蒸發溶劑。在之前的調整適合之塗料使其固態容量為18%到35質暈%。圓桶或帶之製備最好具有鏡面。流延適合塗料在具有表面溫度不超過10℃之圓桶或帶。
溶劑流延法之乾燥法被描述在美國專利號2,336,310、2,367,603、2,492,078、2,492,977、2,492,978、2,607,704、2,739,069及2,739,079，英國專利號640,731、736,892，日本專利號JP－B－45－4554、JP－B－49－5614、JP－A－60－176834、JP－A－60－203430、JP－A－62－115035。圓桶或帶之乾燥可以藉由吹氣或注入例如氮氣之類的氣體來完成。
本發明醯化纖維素薄膜在圓桶或帶之乾燥適合在盡可能的低溫下完成。當殘存的溶劑容量為30質量%或以上時，乾燥溫度適合為150℃或以下，最好為120℃或以下，最佳乾燥溫度為90℃或以下。
其中在上述之乾燥溫度範圍可以降低在薄膜中細液晶的產生。
薄膜也可以藉由流延醯化纖維素溶液(塗料)來形成兩層或多層薄膜。在這個案例中，醯化纖維素薄膜適合藉由溶劑流延法來備製。薄膜的形成是藉由流延塗料在圓桶或帶上然後蒸發溶劑。在流延之前的調整適合塗料濃度如此它的固態容量落在為10到40質暈%之間。圓桶或帶之完成最好具有鏡面。
[拉伸]
本發明之醯化纖維素薄膜適合藉由在薄膜的行進方向(縱向方向)且或在其垂直方向(厚度方向)。
舉例來說，在厚度方向上的拉伸在日本專利JP－A－62－115035、JP－A－4－152125、JP－A－4－284211、JP－A－4－298310及JP－A－1148271中被描述。舉例來說，藉由調整薄膜傳送捲軸的速率來造成取出率快於剝除率使薄膜可以在縱向上拉伸。換句話說，當藉由張布機來保持其厚度在逐漸地增加張布機厚度方向之速度，薄膜可以在厚度方向藉由傳送薄膜的方式被拉伸。薄膜可以在乾燥薄膜後藉由使用拉伸機來拉伸(適合藉由長拉伸機來單軸的拉伸)。
為了改善Re及Rth的發展，傾向選擇同時在行進方向及厚度方向上拉伸。
在本發明中為了形成醯化纖維素薄膜，拉伸適合被完成在先前設定之拉伸率當保持殘存溶劑容量不大於先前設定之總量。當開始拉伸時，殘存溶劑容量通常為1質量%或以上但不超過80質量%，適合為1質量%或以上但不超過70質量%，最好為1質量%或以上但不超過60質量%。
拉伸溫度適合為(薄膜之玻璃遷移點－20℃)或大於但不超過(薄膜之玻璃遷移點＋20℃)。
薄膜的拉伸率適合從1%到100%，最好從5%到90%。在此所使用之"薄膜拉伸率"名詞代表公式(12)所推得之數值：{(拉伸後的尺寸/拉伸前的尺寸)－1}×100(%) (12)
(厚度方向上的拉伸率/縱方向上的拉伸率)比例適合為1或以上但不超過10，最好為2或以上但不超過8。
總之，本發明中之醯化纖維素薄膜適合藉由拉伸來獲得，藉由使用具有醯化度為2.50或以上但不超過2.90之醯化纖維素形成醯化纖維素薄膜，在薄膜的行進方向且或在垂直方向上之拉伸率為1%或以上但不超過100%，適合為5%或以上但不超過90%。
[醯化纖維素薄膜之特性] (薄膜厚度)
在本發明之醯化纖維素薄膜具有厚度為30微米或以上但小於70微米，適合為40微米或以上但不超過60微米，最好為40微米或以上但不超過55微米。
藉由設定薄膜的厚度於上述所描述之範圍內，可以獲得具有高定向度及良好操作特性之醯化纖維素薄膜。更具體來說，當薄膜厚度小於30微米時，搬運製造成長捲軸之醯化纖維素薄膜變的不穩定且有問題例如破裂或有裂縫發生。當薄膜厚度超過70微米時，定向度不能有效的被提升。
(薄膜的延遲)
目前的說明之中，Re及Rth代表面內延遲及厚度方向延遲，Re藉由製造具有波長為590奈米之光源入射於"KOBRA 21ADH"(商品名，Oji Science Instruments之商品)之法線上被量測。由"KOBRA21 ADH"基於在完整三維方向上量測到之延遲數值計算Rth。上述之Re延遲數值是藉由製造具有波長為590奈米之光源入射於從薄膜法線方向上向反方向＋40度之方向當製造平面慢軸(由"KOBRA 21ADH"判定)來當作傾斜軸(旋轉軸)，延遲數值是藉由製造具有波長為590奈米之光源入射於從薄膜法線方向上向反方向－40度之方向當製造平面慢軸來當作傾斜軸(旋轉軸)。在此，平均折射率之假定值，假定值在聚合物手冊(John Wiley & Son,Inc.)中被描述且可以利用許多的光學薄膜目錄。當平均折射率不知道時，它可以藉由Abbe的折射計來量測。每一個主要的光學薄膜平均折射率為下列所述：醯化纖維素薄膜(1.48)聚環烯烴高分子(1.52)聚碳酸酯樹脂(1.59)聚甲基丙烯酸甲酯(1.49)以及聚苯乙烯(1.59)
藉由輸入平均折射率及薄膜厚度之假定值，KOBRA 21ADH計算nx、ny及nz。
在本發明中，當延遲表示在波長分佈上為反向分散，這表示越短的波長，越小的延遲數值。
本發明中之醯化纖維素薄膜滿足下列(1)到(6)項的關係式：20nm<Re(548)<100nm (1) 100nm<Rth(548)<400nm (2) 0.5≦Re(446)/Re(548)≦0.90 (3) 1.05≦Re(629)/Re(548)≦1.50 (4) 0.5≦Rth(446)/Rth(548)≦0.95 (5) 1.05≦Rth(629)/Rth(548)≦1.50 (6)
方程式(1)最好為下列方程式(1－b)，最佳為下列方程式(1－c)：30nm<Re(548)<90nm (1－b) 35nm<Re(548)<80nm (1－c)
方程式(2)最好為下列方程式(2－b)，最佳為下列方程式(2－c)：110nm<Rth(548)<350nm (2－b) 120nm<Rth(548)<300nm (2－c)
方程式(3)最好為下列方程式(3－b)，最佳為下列方程式(3－c)：0.6≦Re(446)/Re(548)≦0.87 (3－b) 0.7≦Re(446)/Re(548)≦0.85 (3－c)
方程式(4)最好為下列方程式(4－b)，最佳為下列方程式(4－c)：1.07≦Re(629)/Re(548)≦1.30 (4－b) 1.10≦Re(629)/Re(548)≦1.20 (4－c)
方程式(5)最好為下列方程式(5－b)，最佳為下列方程式(5－c)：0.6≦Rth(446)/Rth(548)≦0.90 (5－b) 0.7≦Rth(446)/Rth(548)≦0.85 (5－c)
方程式(6)最好為下列方程式(6－b)，最佳為下列方程式(6－c)：1.07≦Rth(629)/Rth(548)≦1.40 (6－b) 1.10≦Rth(629)/Rth(548)≦1.30 (6－c)
當薄膜被當作光學補償膜組裝在裝置上，藉由控制延遲下降至上述之範圍內，可以獲得在任意視角下具有較少色偏差之液晶顯示裝置。並且藉由調整薄膜的厚度於上述之範圍內及如上述之控制延遲，其可以藉由僅可重複使用之材料、減少霧度及改善波長分散特性構成薄膜。
具體來描述，由於視角變大之對比的改變，當Re(548)為20奈米或更小或100奈米或更大。
由於視角也變大之對比的改變，當Rth(548)為100奈米或更小或400奈米或更大。
隨視角變大之色偏差，當Re(446)/Re(548)、Re(629)/Re(548)、Rth(446)/Rth(548)、及Rth(629)/Rth(548)，超過了上述之範圍。
可以藉由選擇適當醯化纖維素材料獲得滿足上述之方程式(1)到(6)之薄膜，調整種類或添加物的總量例如紫外光吸收劑或控制拉伸的條件。詳細的內容將會在稍後的範例被描述。
(霧度)
在本發明中醯化纖維素薄膜之霧度適合為0.1或以上但不超過0.8，最好為0.1或以上但不超過0.7，最佳為0.1或以上但不超過0.60。霧度可以藉由在一般相關領域所使用的任何霧度計來量測。舉例來說，可以使用霧度計("1001DP"，Nippon Denshoku Industries公司的產品)來量測霧度。在本發明中，根據JIS K6714使用霧度計("HGM－2DP"，商品名，Suga Test Instruments的商品)來量測。當薄膜被當作光學補償膜組裝在液晶顯示裝置上，藉由控制霧度在上述之範圍內，所產生之薄膜可以提供高對比之影像。
(薄膜穿透度)
本發明之醯化纖維素薄膜在370奈米具有光穿透率為5%或以下，最好為0%或以上但不超過2%。薄膜在390奈米適合具有光穿透率為80%或以上，最好為85%或以上。
藉由控制光穿透率於上述之範圍內，液晶胞的耐久性可以在不污染薄膜的情況下被提升。
舉例來說，薄膜的穿透率可以藉由分光光度計"UV 3500"(商品名，Shimadzu Corporation的產品)來量測。
(主醯化纖維素鏈之定向度)
其傾向選擇假定整個薄膜厚度之醯化纖維素分子鏈之面內方向定向度為Po以及薄膜之醯化纖維素分子鏈之厚度方向定向度為Pth，Po及Pth滿足關係式(7)和(8)：0.040≦Po≦0.10 (7) 0.12≦Pth≦0.40 (8)
方程式(7)適合為下列方程式(7－b)，最好為下列方程式(7－c)：0.05≦Po≦0.10 (7－b) 0.06≦Po≦0.10 (7－c)
方程式(8)適合為下列方程式(8－b)，最好為下列方程式(8－c)：0.15≦Pth≦0.35 (8－b) 0.20≦Pth≦0.30 (8－c)
當Po為上述之最低限制或大於限制，則Re變成被要求值。換句話說，當Po為上述之最高限制或小於限制，霧度可以被有效的壓制。因此傾向選擇Po於上述之範圍內。
當Pth為上述之最低限制或大於限制，則Rth變成被要求值。換句話說，當Pth為上述之最高限制或小於限制，霧度可以被有效的壓制。因此傾向選擇Pth於上述之範圍內。
本發明中之醯化纖維素薄膜，薄膜表面之醯化纖維素分子鏈之面內方向定向度Po與在整個薄膜厚度之醯化纖維素分子鏈之面內方向定向度Po適合滿足關係式(9)：1≦[(薄膜表面之Po/整個薄膜厚度之Po)]≦1.5 (9)
方程式(9)適合為下列方程式(9－b)，最好為下列方程式(9－c)：1≦[(薄膜表面之Po/整個薄膜厚度之Po)]≦1.3 (9－b) 1≦[(薄膜表面之Po/整個薄膜厚度之Po)]≦1.2 (9－c)
藉由控制醯化纖維素分子鏈之定向度於上述之範圍內，醯化纖維素薄膜呈現大的反向波長分散特性及具有大的Re及Rth是可允許的。
在本發明中薄膜表面之面內方向定向度(定向次量級參數)Po可以從2θX /Φ＝6~11°的峰值強度計算，值已經被旋轉X光偵測計偵測且樣品在角度為2θX 及Φ藉由薄膜面內X光法，根據下列的表示式(21)：Po＝(cos2 β－1)/2 (21)
其中cos2 β可以按照下列的方程式推導
根據上面所描述之表示式，藉由使用平均峰強度2θ＝ 6~11°在二維穿透之X光量測方式，推導整個薄膜厚度之醯化纖維素分子鏈之面內方向定向度Po。
當薄膜橫截面之表面配向平均數值包含行進方向及厚度方向且薄膜橫截面之表面配向包含寬度方向及厚度方向，推得薄膜在厚度方向上之定向度Pth。
(平面的問題)
在本發明之醯化纖維素薄膜，外在物質的數目或30微米或更大的聚集呈現在醯化纖維素薄膜的兩端30公分寬及1公尺長的部分被當作樣品來使用適合為0到50，最好為0到40，最佳為0到30。
(醯化纖維素薄膜之表面處理)
醯化纖維素薄膜適合具有表面能量為55到75mN/m。為了調整表面能量在上述之範圍內，薄膜施以表面處理。以表面處理為例包含皂化處理、電漿處理、火焰處理及紫外光照射處理。皂化處理包含酸皂化處理、鹼皂化處理，電漿處理包含環形放電處理及輝光放電處理。為了維持薄膜表面的平整，醯化纖維素薄膜的溫度適合被調整到玻璃遷移點(Tg)或小於玻璃遷移點，在表面處理，最好為150℃或以下。醯化纖維素薄膜經過表面處理後之表面能量適合為55到75mN/m。
環形放電處理可以藉由低溫電漿處理發生在低壓氣體為10－3 到20拖爾(Torr)，且在常壓下也傾向選擇電漿處理。在上述之條件下電漿激發氣體為氣體電漿激發。以電漿氣體為例包含氬氣、氦氣、氖氣、氪氣、氙氣、氮氣、二氧化碳及氟氯碳化物例如四氟化碳及相關混合物。詳盡的描述可以在Technical Report of Japan Institute of Invention and Innocation(技術號2001－1745，在2001年5月15日由Japan Institute of Invention and Innocation公開)在30到32頁。對常壓下之電漿處理，電漿處理在最近已經吸引了很大的注意，放射能量在20到500kGy被使用從10到1000仟電子伏特，最好為放射能量在20到300kGy被使用從30到500仟電子伏特。在這之中，特別地傾向使用鹼皂化處理且被用以醯化纖維素薄膜的表面處理非常有效率。
藉由直接浸泡醯化纖維素薄膜於皂化溶液桶內或塗皂化溶液於醯化纖維素薄膜以事先完成鹼皂化處理。以應用方法為例包含浸泡塗布、淋幕塗布、壓出塗布、條狀塗布或E形塗布。被用來當作鹼皂化處理之塗布溶液之溶劑，溶劑具有好的潤濕特性以幫助塗布溶液之應用至提供可穿透且具有保持良好表面狀態能力而避免在穿透之表面形成不規則，即使適合選擇使用皂化溶劑之溶劑。具體來說，傾向選擇醇類溶劑，特別傾向選擇異丙醇。介面活性劑之水溶液也可以當作溶劑使用。用於鹼皂化處理之塗布溶液中所使用之強鹼適合為溶於上述溶劑內之強鹼，較為傾向選擇氫氧化鉀及氫氧化鈉。皂化處理之塗布溶液之酸鹼值在室溫下適合為10或更大，最好為12或更大。鹼皂化之反應時間適合為1秒到5分鐘，最好為5秒到5分鐘，最佳為20秒到3分鐘。在完成鹼皂化反應之後，皂化溶液使用過後之表面以水清洗或依序用酸及水清洗。
藉由接觸角方法、濕熱法或吸收法如"The Basic Theory and Application of Wetting"，由Realize Co.Ltd.在1989年12月10日公開，可以推得固體的表面能量。接觸角方法適合於本發明中之醯化纖維素薄膜所使用。具體來描述，薄膜的表面能量可以藉由填加推得，逐滴加入兩種表面能量已知之溶液於薄膜，定義角度角度介在薄膜表面及液體滴在介面處的切線方向所形成且此角度被視為液滴之接觸角，且完成計算。
藉由完成上述之表面處理，可以獲得具有表面能量為55mN/m到75mN/m之醯化纖維素薄膜。使用這樣的醯化纖維素薄膜來當作偏光板之穿透保護膜可以改善偏光膜及醯化纖維素薄膜之間的黏著。
當本發明中之醯化纖維素薄膜當作液晶顯示裝置之光學補償彎曲(Optically Compensated Bend,OCB)模式使用。在本發明中醯化纖維素薄膜被組裝在其中當作光學補償板藉由形成具有配向膜之醯化纖維素薄膜然後放置光學各向異性層包括盤狀化合物或桿狀液晶化合物。光學各向異性層藉由將配向膜上之盤狀化合物(或桿狀液晶混合物)配向而形成且修復了配向狀態而形成。當光學各向異性層覆蓋於醯化纖維素薄膜時，習慣上必須在醯化纖維素薄膜與配向膜間形成凝膠底層以確保其接著性。在本發明中使用具有表面能量為55到75mN/m之醯化纖維素薄膜可以省略凝膠底層。
[使用醯化纖維素薄膜之光學材料] (光學補償板)
接下來將描述本發明中之光學補償板。
本發明中之光學補償板具有上述本發明之醯化纖維素薄膜特性。既使醯化纖維素薄膜單獨使用，本發明之醯化纖維素薄膜具有光學補償板的功能。因此本發明中之醯化纖維素薄膜傾向被當作光學補償膜使用。本發明之光學補償膜可能具有光學各向異性層在其中。
光學各向異性層包含液晶化合物。在本發明中，具有盤狀化合物(或桿狀液晶混合物)之光學各向異性層傾向被當作液晶混合物使用。盤狀化合物具有從其主鏈輻射狀伸展之支鏈混合物具有與三亞苯相似之結構。為了給予混合物與時間相關之穩定性，在此被介紹藉由熱或光反應之族群。傾向使用盤狀化合物之範例在日本專利JP－A－8－50206中被描述。
接下來為盤狀化合物的範例。
在摩擦的方向配向層的附近盤狀液晶分子具有預先傾斜之角度且盤狀液晶分子大體上在平行簿膜面上被配向。在另外一面，即空氣表面端，盤狀液晶分子站立且大體上在垂直薄膜面上被配向。整體來看盤狀液晶層具有混合配向，且藉由這個層狀結構可以實現擴大薄膜電晶體－液晶顯示器之扭轉向列模式(Twisted Nematic,TN)的可視角。
光學各向異性層通常可以藉由溶解盤狀化合物或其他混合物(舉例來說，聚合性單體和光聚合起始劑)在溶劑中，使用產生之溶液在配向層、乾燥、加熱到盤狀向列相成形溫度，藉由照射紫外光或其他相似的東西來達到聚合化，接著冷卻。在本發明中盤狀化合物之遷移溫度被使用，盤狀向列液晶相到固態相適合為70℃到300℃，特別適合從70℃到170℃。
當加入除了盤狀化合物之化合物到光學各向異性層，可以使用任何化合物其與盤狀化合物一致時且可以在盤狀化合物上給予較佳改變之傾斜角或不會阻礙配向之傾斜角。以混合物為例包含聚合性單體(例如乙烯族、乙氧烯族、丙烯醯基族或甲基丙烯醯基族)，在與空氣介面端之配向控制添加物例如含氟之三吖化合物，和聚合物例如醋酸纖維素、醋酸丙酯纖維素、羥丙基纖維素、醋酸丁酸纖維素。混合物通常被加入在相對於盤狀化合物佔數量之0.1到50質量%，適合從0.1到30質量%。
光學各向異性層具有適當厚度為0.1微米到10微米，最好為0.5微米到5微米。
(偏光板)
本發明之偏光板其特徵在於具有偏光膜及兩置放於偏光板兩端之透明保護膜，且至少一透明保護膜為上面本發明中所述之光學補償板。
偏光板通常由偏光膜與置放於偏光板及其兩端之透明保護膜所組成。光學保護膜其中之具有在本發明之光學補償板且補償板具有上述之醯化纖維素薄膜。另一保護膜可能為本發明之光學補償板或可能為一般使用之醯化纖維素薄膜。
舉例來說，偏光板為碘類偏光膜、使用雙色性染料之染料偏光膜或烯類偏光膜。此碘類偏光膜及染料偏光膜通常使用聚乙烯醇膜來製造。
包含醯化纖維素薄膜之光學補償板之慢軸大體上被布置在平行於偏光膜之穿透軸。
(抗反射層)
抗反射膜適合被放置在偏光板之穿透保護膜，偏光板被安排在液晶胞之相對端。特別在本發明中，(1)抗反射層具有穿透保護膜及光散射層及較低之折射率層依序堆疊，或(2)抗反射層具有穿透保護膜及中等折射率層、高折射率層及低折射率層依序堆疊。以這些傾向被選擇之抗反射層為例在下將被描述。
(1)抗反射層具有穿透保護膜及光散射層及低折射率層被堆疊在一起。
表面粗糙之粒子被散佈在光散射層。除了表面粗糙之粒子光散射層其中一部分的材料具有折射率落在1.48到2.00之間，當低折射率層具有折射率落在1.20到1.49。在本發明中，光散射層具有抗眩光特性及硬性塗布特性，且可能由層、或多層所組成，舉例來說兩層到四層。
抗反射層適合具有有效之抗眩光特性及大致上均勻的表面粗化當表面被設計成不均勻以致於中心線平均粗糙值Ra從0.08到0.40微米，十點平均粗糙值Rz變成Ra的十倍或小於，平均峰谷值距離Sm範圍從1到100微米，凸面高之標準差從不均勻之最低點變成0.5微米或更少，具有中心線當標準之平均峰谷值距離Sm之標準差變成20微米或更少，且表面具有斜面角從0到5相當於10%或更多。另外，當色調(tint)之反射光在光源C之下為－2到2為a＊ 值及－3到3為b＊ 值且反射範圍為380奈米到780奈米之最低值到最高值的比為0.5到0.99，色調之反射光適合變成淡灰色。而且，藉由調整在光源C之下反射光之b＊ 值從O到3，在白顯示下之淡黃色被降低當抗反射層被施加在影像顯示。當晶格為120微米×40微米在面光源及本發明之抗反射膜之間被插入且在薄膜上量測到之發光分佈之標準差為20或更少，當本發明之薄膜被使用在高精準面板眩光的時間被減低。
藉由調整抗反射層之光學特性，更具體來說，調整鏡面反射率到2.5%或更少，穿透率為90%或更多，且60度光澤到70%或更少，抗反射層可以壓制外部光的反射且已經改善了能見度。特別來說，鏡面反射率最好為1%或更少，最佳為0.5%或更少。藉由調整霧度從20%到50%，內部霧度/總霧度之比例從0.3到1，降低霧度從提供光散射層時間到提供低折射率層時間到15%或更少，鮮明的穿透影像在梳寬為0.5釐米時間從20%到50%，光穿透在垂直方向到光穿透在傾斜2度方向上從1.5到5.0，在高精準液晶顯示裝置面板之眩光可以被預防且降低字體的模糊和類似的可以被得到。
<低折射率層>
抗反射膜之低折射率層具有折射率從1.20到1.49，適合從1.30到1.44，低折射率層適合滿足下列方程式(VI)為了降低折射率。
方程式(VI)(m/4)×0.7<nldl<(m/4)×1.3 (VI)其中m代表正奇數，nl代表低折射層之折射率，dl代表低折射率層之薄膜厚度(奈米)，及λ為波長，波長為500奈米到550奈米。
下面描述將用來形成低折射率層之材料。
在本發明中低折射率層包含含氟聚合物來當作低折射率之接著劑。含氟聚合物具有動摩擦係數為0.03到0.20，與水之接觸角從90度到120度，與純水之滑動角70度或更小，且傾向使用藉由加熱或離子放射而具有能力交聯的能力。當本發明之抗反射膜被固定在影像顯示裝置上時，從商業上可用之黏著膠帶之聚合物適合具有較低拉力，因為標籤，便條紙且容易撥去。拉力適合為500gf或更少，最好為300gf或更少，最佳為100gf或更少。藉由微型硬度測試機來量測聚合物適合具有高表面硬度。表面硬度越大，表面越難被刮傷。值適合為0.3GPa或更大，最好為0.5GPa或更大。
以使用在低折射率層之含氟聚合物為例包含水解產生物及脫水全氟烷基濃縮物包含矽烷混合物(例如(heptadecafluoro－1,1,2,2,－四氫基癸基)三乙氧基矽烷)及含氟之異量分子聚合物包含含氟單體單元及交聯反應提供單元。
含氟單體單元之具體實施例包含氟烯烴(例如氟乙烯、二氟亞乙烯、四氟乙烯、過氟辛基乙烯、六氟丙烯、及全氟－2,2－二甲氧基－1,3－二氧化物)，部分或完全(甲基)丙烯酸之氟化烷基酯衍生物(例如"Viscoat 6FM"(商品名；Osaka Organic Chemical Industry之產品)及"M－2020"(商品名；Daikin Industries Ltd.之商品))，及完全或部分的氟化乙烯醚。在這之中，較傾向使用過氟烯烴，從折射率、溶解度、穿透度及可利用性的觀點來看特別地傾向使用六氟丙烯。
以交聯反應提供單元為例包含聚合作用單體可得之單元在分子之中具有自我可交聯機能族在前面例如(甲基)丙烯酸環氧丙基酯及環氧丙基乙烯醚，聚合作用單體可得之單元具有羧基族、羥基族、胺基族、或磺酸基族(例如(甲基)丙烯酸、羥甲基(甲基)丙烯酸脂、羥烷基(甲基)丙烯酸脂、烯丙基丙烯酸脂、羥乙基乙烯醚、馬來酸或巴豆酸)，及可得之單元藉由採用交聯反應族例如(甲基)丙烯醯族來當作上述單元藉由聚合物反映(例如藉由採用丙烯酸氯來當作羥基族)。
除了上述的含氟單體單元及交聯反應提供單元，從溶劑溶解度及薄膜穿透出的觀點來看無氟原子之單體可以被異分子聚合需要。在單體單元可用的組合沒有提出特別的限制。樣品包括烯烴(例如甲基丙烯酸酯、丙烯、異丙烯酸、氯乙烯及二氯乙烯)、丙烯酸酯(例如甲基丙烯酸酯、乙基丙烯酸脂、及2－乙基己基丙烯酸脂)、丙烯酸甲酯(例如甲基甲基丙烯酸脂、乙基甲基丙烯酸脂、丁基甲基丙烯酸脂及乙烯乙二醇二甲基丙烯酸鹽)、苯乙烯衍生物(例如苯乙烯、二乙烯苯、乙烯基甲苯、及α－甲基苯乙烯)、乙烯基醚(例如甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚及環己基乙烯基醚)、乙烯基脂(例如醋酸乙烯脂、丙酸乙烯、苯乙烯酸乙烯)、丙烯醯胺(例如N－第三丁基丙烯醯胺及N－環己基丙烯醯胺)、甲基丙烯醯胺、及丙烯腈衍生物。
硬化劑可能與上述之聚合物結合被使用聚合物在日本專利JP－A－10－25388及JP－A－10－147739中所描述。
<光散射層>
光散射層是為了提供光漫射特性來製造表面散射且/或次表面散射的目的而形成，且硬塗膜特性來改善薄膜的耐刮性。光散射層被形成藉由包含黏著劑來提供硬塗膜特性，用來提供光漫射特性之表面粗糙粒子，及如果需要的話，用來提升折射率之無基填充料，藉由交聯來防止收縮及增加強度。
光散射層具有厚度適合從1到10微米，最好從1.2微米到6微米，從提供硬膜特性之觀點。厚度低於上述範圍導致不足的硬膜特性，當厚度超過上述範圍將惡化捲曲及易碎，導致不適合的製程匹配。
光散射層的黏著劑適合為具有飽和碳氫化合物鏈或聚醚鏈之聚合物來當作主鏈，傾向使用前者。黏著劑聚合物適合具有交聯之結構。當黏著劑聚合物具有飽和碳氫化合物鏈來當作主鏈，較傾向使用烯性不飽和單體聚合物。當黏著劑聚合物具有飽和碳氫鏈來當作主鏈且同時具有交聯結構，(異量分子)聚合物之單體較傾向使用具有兩個或多個乙烯性不飽和基。為了獲得具有折射率增加之黏著劑單體，在結構中單體具有芳香環或從鹵素中選擇最少一原子，除了氟、硫原子、磷原子、及氮原子外。
以單體具有兩個或多個乙烯性不飽和基為例包含多元醇及(甲基)丙烯酸酸(例如乙烯乙二醇二(甲基)丙烯酸脂、丁二醇二(甲基)丙烯酸脂、己二醇二(甲基)丙烯酸脂、1,4－環己烷二丙烯酸脂、異戊四醇四(甲基)丙烯酸脂、異戊四醇三(甲基)丙烯酸脂、三甲基丙烷三(甲基)丙烯酸脂、三甲基丙烷三(甲基)丙烯酸脂、二異戊四醇四(甲基丙烯酸脂)、二異戊四醇五(甲基)丙烯酸脂、1,2,3－環己烷四(甲基)丙烯酸脂、聚氨基甲酸酯聚丙烯酸脂、及聚酯聚丙烯酸脂)、上述之改良乙烯氧化物產品、乙烯基苯及其衍生物(例如1,4－二乙烯基苯、2－丙烯醯基乙基4－乙烯基苯甲酸脂、及1,4－二乙烯基環己酮)、乙烯基碸(例如二乙烯基碸)、丙烯醯胺(例如亞甲雙丙烯醯胺)，以及甲基丙烯醯胺。這些單體可能被組合兩個或多個來使用。
以高折射率單體為具體實施例包含貳(4－甲基丙烯酸苯硫酯)(bis(4－methacryloylthiophenyl))硫化物、乙烯萘、乙烯基苯基硫化物、及甲基丙烯氧基苯基－4－甲氧基苯基硫醚，這些單體也可以被組合來使用。
這些聚化作用下之單體具有乙烯化不飽和族可以藉由暴露在離子照射下或加熱在目前光激發聚化作用初始者或熱激發聚合作用初始者形成。
因此，抗反射膜可以藉由製造塗布溶液形成，溶液包含具有乙烯化不飽和基之單體、光激發聚合作用初始者或熱激發初始者，表面粗糙之粒子及無機的填充料。應用塗布溶液在穿透的支持物上，然後藉由聚合作用反應來反應藉由暴露於離子照射或加熱來發生。光激發聚合作用初始者或其他已知相似方法都可以使用。
當聚合物具有聚乙醚鏈來當作主鏈於其中，開環聚合物之多官能基環氧化和物可以被實現藉由暴露於離子放射或藉由加熱在目前光酸產生器或熱酸產生器。
抗反射膜可以被形成藉由製造塗布溶液包含多官能基之環氧混合物、光酸產生器或熱酸產生器、表面粗糙之粒子、及無機之填充物，使用塗布溶液於穿透支持物，然後藉由聚合作用反應來反應藉由暴露於離子照射或加熱來發生。
代替或除了單體具有兩個或多個乙烯化不飽和基，可交聯官能基族可以被採用在聚合物具有使用單體具有可交聯官能基族，藉以交聯結構可以被採用在黏著劑聚合物藉由反應可交聯官能基基。
為了採用交聯結構，以可交聯官能基族為例包含異氰酸酯、環氧樹脂、氮雜環丙烷、唑、醛、羰基、聯氨、羧基、羥甲基及活潑的亞甲基。乙烯磺酸、酸酐、氰基丙烯酸脂衍生物、三聚氰胺、醚化之羥甲基、酯類及烏拉坦、及烷氧基金屬例如四甲氧基矽烷可以被使用來當作單體。由於分解反應官能基族表示交聯特性，例如一組異氰酸酯族，也可以被使用來當作交聯官能基族。在本發明中，可交聯官能基族不能表示反應但可能表示由於分解之反應結果。
在應用後黏結劑聚合物具有藉由加熱形成交聯結構之交聯官能基。
為了給予抗炫光特性的目的，表面粗糙之粒子具有平均粒子大小從1微米到10微米，最好從1.5微米到7.0微米，粒子大於填充物的粒子，舉例來說無機化合物粒子或樹脂粒子被包含在光散射層內。
較佳具體實施例為粗糙粒子包含無機混合物例如矽粒子及氧化鈦粒子、及樹脂粒子例如丙烯酸粒子、交聯丙烯酸粒子、聚苯乙烯粒子、交聯苯乙烯粒子、三聚氰胺樹脂粒子及苯胍胺(benzoguanmine)樹脂粒子。在這之中較傾向選擇交聯之苯乙烯粒子、交聯丙烯酸粒子、交聯丙烯酸苯乙烯粒子、及氧化矽粒子。
表面粗糙粒子不是球狀就是非結晶狀形式可以被使用。
進一步來說，可以一起使用兩個或多個表面粗糙不同粒子大小。藉由具有較大粒子大小之表面粗糙粒子給予抗炫光特性並且藉由具有較小粒子大小的表面粗糙粒子給予另一種光學特性係為可能。
表面粗糙之粒子大小的分佈最好為單一分散。所有粒子中粒子大小越均勻會越好。假定粒子具有粒子大小大於最少20%的平均粒子大小被定義為粗糙粒子，粗糙粒子的比例適合佔全部粒子的數目的1%或更小，最好為0.1%或更小，0.01%或更小仍然適合。表面粗糙粒子具有這樣的粒子分佈是可能的藉由分類在一般的合成反應之後。藉由增加分類的頻率或增加分類度，表面粗糙粒子具有更傾向被使用之粒子大小分佈可以被獲得。
表面粗糙粒子可以被加入在光散射層以致於包含在其中的總量適合為10到1000mg/m2 ，最好從100到700 mg/m2 在形成之後的總量方面而論。表面粗糙粒子之粒子大小分佈藉由自動粒子計數器技術及粒子大小分佈被量測因此量測值被轉換成粒子數目分佈。
為了增加光散射層折射率，和上述之表面粗糙粒子一樣之無機添加物適合被添加在其中。無機添加物包含金屬從鈦、鋯、鋁、銦、鋅、錫及銻之金屬氧化物，且具有平均粒子大小為0.2微米或更小，適合為0.1微米或更小，最好為0.06微米或更小。
在光散射層具有高折射率表面粗糙粒子，換句話說，為了維持散射層折射率在低水平之氧化矽可以適合被使用為了增加不同折射率介在散射層與表面粗糙粒子之間。較為傾向使用之粒子大小與上述之無機添加劑相似。
以用來使用在光散射層之無機添加誤為具體實施例包含二氧化鈦、二氧化鋯、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鋅、二氧化錫、三氧化二銻、透明電極及二氧化矽。在這之中，二氧化鈦及二氧化鋯較為傾向被選擇用來增加折射率。無機添加物的表面適合被提供為矽烷耦合處理或鈦耦合處理。較傾向選擇表面處理劑給予官能基與黏著劑對添加物的表面反應。
無機添加物被添加的量適合佔整個光散射層的從10到90%，最好為20%到80%，特別適合從30%到75%。
添加物並不會造成散射因為它的粒子大小跟光波長相較之下夠小且添加物在黏著劑具合物中的散佈當作光均勻物質來表現。
在光散射層中黏著劑與無機添加物的混合物具有折射率適合從1.48到2.00，最好為1.5到1.80。折射率可以被控制到上述的範圍之中只需藉由選擇黏著劑及無機添加物的種類及比例。其可以被很容易的選擇藉由做進一步的測試。
為了確保平面的均勻自由度對於塗布的不均勻、乾燥的不均勻及點的缺陷，光散射層包含氟表面活性劑或矽氧烷的表面活性劑或兩者在形成抗炫光層塗布合成物。特別傾向氟表面活性劑使用因為添加少量的氟表面活性劑對於減少平面問題，例如在本發明中抗反射層塗布的不均勻，對於乾燥的不均勻及點的缺陷是有效的。表面活性劑的添加物是為了增加生產率藉由將其造成適合高速應用當增加平面的平整。
(2)抗反射層具有穿透保護膜及中折射率，高折射率及低折射率根據上面的順序堆疊在一起。
抗反射層包含中折射率層、高折射率層、及低折射率層(最外層)根據上面的順序堆疊在基底上(基底指的是穿透保護層。在這裡"基底"、"基底材料"、或"穿透支持物"指的是穿透保護膜。抗反射膜指的是在基底具有抗反射層之薄膜)被設計具有折射率滿足下面描述之關係。
高折射率層之折射率大於低折射率層之折射率大於穿透支持物之折射率大於低折射率層之折射率。
硬塗膜層可能被提供介在穿透支持物與低折射率層之間。進一步來說，抗反射層可能包含中折射率硬塗布層，高折射率層，及低折射率層。
範例包含JP－A－8－122504、JP－A－8－110401、JP－A－10－300902、JP－A－2002－243906及JP－A－200－11706。各層可能具有其他的功能。抗污低折射率層及抗靜電高折射率層(在JP－A－10－20663及JP－A－2002－243906中被描述)可以被當作範例給予。
抗反射層具有適合霧度為5%或更小最好為3%或更小。由於根據JIS K5400之鉛筆硬度測試，薄膜強度適合為H或更高，最好為2H或更高，最佳為3H或更高。
<高折射率層及中折射率層>
具有高折射率之抗反射膜層由可反應膜包含最少超微小粒子之高折射率無機混合物，聚合物具有平均粒子大小為100奈米或更小及基質黏著劑所組成。
舉例來說，超微小粒子之高折射率無機混合物為無機混合物具有適合折射率為1.65或更大，最好為1.9或更大。舉例來說包含鈦、鋅、銻、錫、鋯、鈰、鉭、鑭及銦的氧化物，且包含這些金屬原子的氧化物混合物。
特別微小的粒子可以被獲得藉由使用表面處理劑處理粒子表面(舉例來說，具有矽烷耦合劑在JP－A－11－295503、JP－A－11－153703及JP－A－2000－9908中被揭露，具有無機化合物或有機金屬耦合物在JP－A－2001－310432中被揭露)，藉由具有高折射率粒子當作核心形成核心/外殼結構(JP－A－2001－166104)，或藉由使用具體分散劑所組成(舉例來說，JP－A－11－153703、U.S.專利6210858及JP－A－2002－2776069)。
舉例來說材料形成之基質包含習知上已知熱塑性樹脂及熱固性樹脂。
進一步來說，最少一合成物被選擇從多官能基－化合物－包含混合物具有最少兩個激發聚合基且/或陽離子聚合基，有機金屬混合物具有可水解基，及部分濃縮合成物被傾向選擇。舉例來說包含合成物在JP－A－2000－47004、JP－A－2001－315242、JP－A－2001－31871及JP－A－2001－296401中被描述。
進一步來說，硬化膜可以得到從膠狀的金屬氧化物得到從水解濃縮之金屬烷氧化物及金屬烷氧化物合成物都傾向被選擇。舉例來說，其在JP－A－2001－293818中被揭露。
高折射率層通常具有折射率從1.70到2.20。具有適合厚度從5奈米到10微米，最好從10奈米到1微米。
中折射率層具有折射率被調整介在低折射率層與高折射率。中折射率層具有適合折射率從1.50到1.70且厚度適合從5奈米到10微米，最好為10奈米到1微米。
<低折射率層>
低折射率層被堆疊在高折射率層。低折射率層具有折射率為1.20到1.55，最好為1.30到1.50。
低折射率適合被形成當作最外層具有耐刮傷及抗污的特性。添加滑動的特性於其表面大大地有效改善耐刮性。習知上已知的方法用來形成薄膜層例如採用矽或氟可以被應用。
含氟混合物具有適合折射率從1.35到1.50，最好從1.36到1.47。含氟混合物適合包含可交聯或聚合作用官能基族包含氟原子在總量為重量百分比從35到80質量%。
舉例來說包含混合物被描述在段落[0018]到[0026]在JP－A－9－222503中，JP－A－11－38202之段落[0019]到[0030]，JP－A－2001－40284及JP－A－2000－284102之段落[0027]到[0028]。
矽烷混合物在高分子鏈中適合具有具矽烷結構；包含可反應官能基族或聚合作用官能基族；且具有交聯結構於薄膜中。舉例來說包含易反應之矽烷(例如"Silaplane"商品名；Chisso Corporation公司的產品)，及聚矽氧烷包含矽醇基族在其兩端(例如JP－A－11－258403)。
含氟之交聯反應或聚合作用反應且/或矽氧烷聚合物具有交聯族或聚合作用族預先被形成藉由同時暴露於光或熱或立即在塗布合成物之後，形成最上層，包含聚合作用初始劑及感光劑被使用。
溶膠凝膠可反應膜溶膠凝膠可反應膜藉由有機金屬混合物濃縮反應來反應例如矽烷耦合劑及特殊的矽烷耦合劑包含氟及碳氫化合物族在目前的催化劑傾向被選擇。
舉例來說包含多氟烷酯－包含矽氧烷混合物或部分水解濃縮物(混合物在JP－A－58－142958、JP－A－58－147483、JP－A－58－147484、JP－A－9－157582及JP－A－11－106704被描述)，及矽氧基混合物包含聚(全氟烷基乙醚)族混合物為含氟長鏈族(混合物在JP－A－2000－117902、JP－A－2001－48590及JP－A－2002－53804中被描述)。
除了上述之添加物外，低反射率層可能包含低折射率無機混合物包含平均主要粒子大小從1到150奈米例如添加物(舉例來說，二氧化矽、含氟粒子(例如鎂化氟、鈣化氟及鋇化氟))，及有機微小粒子被描述在段落從[0020]到[0038]於JP－A－11－3820，矽氧烷耦合劑、潤滑劑及表面活性劑。
當低折射率層被形成當作最外面較低層，其可能被形成藉由氣相方法(例如真空沈積、濺鍍、離子怖植或電漿CVD)。應用的方法傾向被使用因為其可以形成在低價值。
低折射率層具有適合厚度為30到200奈米，最好為50到150奈米，最佳為60到120奈米。
(3)不同於抗反射層的層另外，硬塗膜層、前向散射層、基本層、抗靜電層、底塗布層及保護層可能被提供。
<硬塗膜層>
為了提供物理強度之目的至具有上述抗反射層的透明保護薄膜，硬塗膜層係提供在透明支撐表面上。硬塗膜層較佳的是插入在透明支撐及高折射層之間。
較佳地，硬塗膜層以交叉結合反應或光及/或熱固化聚合反應所形成。
如硬化官能基，較佳為光聚合功能族，以及如包括水解功能之有機金屬化合物，較佳為有機烷氧基矽基化合物。
這些化合物之具體實施例係近似於在高折射率層中敘述之具體實施例。硬塗膜層組成的組成物之實施例係包括敘述於JP－A－2002－144913、JP－A－2000－9908及WO 00/46617中之組成物。
高折射層亦可用以作為硬塗膜層。在這樣的情況下，可以根據在高折射率層描述的方法藉由加入微細分散粒子至硬塗膜層中而形成硬塗膜層。
硬塗膜層亦可藉由包含具有0.2至10微米平均粒子大小之粒子作為具有防眩光功能之防眩光層(稍後描述)。
根據使用目的可適當設計硬塗膜層之厚度。硬塗膜層具有較佳厚度為0.2至10微米，更佳的是0.5至7微米。
根據JIS K5400的鉛筆硬度測試的結果，硬塗膜層具有較佳的強度H或更高、更佳的是2H或更高及最佳的是3H或更高。在根據JIS K5400的整耗測試中，較佳的是在測試前後測試片之磨耗損失盡可能小。
<抗靜電層>
當提供抗靜電層，為10－8 (Q cm－3 )或更小的體積電阻率係較佳地作為如導電係數。可使用吸水性材料、水溶無機鹽、某些表面活性劑、陽離子聚合物、陰離子聚合物或矽酸膠給予為10－8 (Q cm－3 )或更小之體積電阻率。因為對溫度和濕度的依賴性大，在低濕度時無法給予足夠的傳導性。因此優先選擇金屬氧化物作為導電層材料。一些金屬氧化物被染色，而不優先選擇被染色的金屬氧化物是因為他們可能染色整個薄膜。可形成無染色的金屬氧化物的金屬舉例來說包括了鋅(Zn)、鈦(Ti)、鋁(Al)、銦(In)、矽(Si)、鎂(Mg)、鋇(Ba)、鉬(Mo)、鎢(W)及釩(V)。較佳的是使用主要由這些金屬組成之金屬氧化物。具體選擇的例子包括氧化鋅(ZnO)、二氧化鈦(TiO2 )、二氧化錫(SnO2 )、三氧化二鋁(Al2 O3 )、三氧化二銦(In2 O3 )、二氧化矽(SiO2 )、氧化鎂(MgO)、氧化鋇(BaO)、氧化鉬(MoO)、五氧化二釩(V2 O5 )及其氧化合物。其中特別優先選擇氧化鋅、二氧化鈦及二氧化錫。當金屬氧化物包含其它原子、加入鋁或銦之氧化鋅、加入銻(Sb)、鈮(Nb)或鹵素元素之二氧化錫、及加入鈮、鉭(Ta)之二氧化鈦是有效的。此外，可能使用藉由附著上述金屬氧化物至其他水晶金屬粒子或纖維狀物質(如鈦氧化物)而獲得之材料，如在JP－B－59－6235中描述。雖然體積電阻率及一面電阻率為不同物理值且無法輕易地比較他們，但是基本上調整導電層的面電阻率至10－8 (Q/□)或更小，更佳地10－8 (Q/□)或更小係為了確保10－8 (Q cm3 )或更小之體積電阻率如其傳導率。導電層之面電阻率之值必須被量測在當抗靜電層放置於最外層時，並且在如本說明書中描述的薄膜堆疊形成期間獲得此值。
[液晶顯示裝置]
本發明之液晶顯示裝置其特徵為具有液晶胞及二偏光板，偏光板係位於液晶胞之兩側並且至少偏光板為本發明之偏光板。
本發明之使用醯化纖維素薄膜之偏光板可進一步利用於液晶顯示裝置。本發明之偏光板可使用於多種顯示模式之液晶胞。包括現在提出顯示模式之例子。
扭曲向列型(Twisted Nematic,TN)、共面轉換(In－Plane Switching,IPS)、鐵電性液晶(Ferroelectric Liquid Crystal,FLC)、反鐵電性液晶(Anti－ferroelectric Liquid Crystal,AFLC)、光學補償彎曲(Optical Compensatory Bend,OCB)、超扭轉向列型(Super Twisted Nematic,STN)、垂直配向(Vertical Aligned,VA)及混合排列向列(Hybrid Aligned Nematic,HAN)。在這些模式中，本發明之偏光板適合使用在OCB模式或VA模式中。
OCB模式液晶胞係為使用彎曲定向模式液晶胞之液晶顯示裝置，其桿狀液晶分子實質上以相反方向(對稱地)定向排列於液晶胞較上端及較下端處。OCB模式液晶胞揭露於美國專利第4,583,825號及第5,410,422號中。當桿狀液晶分子對稱地定向排列於液晶胞之較上端及較下端處，彎曲定向模式之液晶胞具有自我光學補償功能。此種液晶模式稱為OCB(Optical Compensatory Bend)液晶模式。彎曲定向模式之液晶顯示裝置具有高反應速度之優點。
當沒有提供電壓時，在VA模式液晶胞中，桿狀液晶分子實質上垂直定向排列。
VA模式液晶胞包括(1)VA模式液晶胞，狹義來說係為當沒有提供電壓時，桿狀液晶分子實質上垂直定向排列，而當提供有電壓時，則實質上水平定向排列(如敘述於JP－A2－176625中)，(2)液晶胞(多象限垂直配向(Multi－domain Vertical Alignment,MVA)模式中)，其VA模式係改良為多象限型以增加視角(SID97,Digest of Tech.Papers(preprint),28,845(1997))，(3)模式(n－ASM模式)之液晶胞，當沒有提供電壓時，桿狀液晶分子實質上垂直定向排列，而當提供有電壓時，則實質上以多象限配向扭曲排列(Reprint of Nippon Ekiso Toronkai(Japan Liquid Crystal Symposium),58－59(1998))以及(4)SURVIVAL(Super Ranged Viewing by Vertical Alignment)模式之液晶胞(在LCD International 98中提出)。
OCB模式及VA模式之液晶顯示裝置可具有液晶胞及兩偏光板，其係放置於液晶胞之兩側。VA模式液晶顯示裝置可具有偏光板，其係放置於該晶胞之背光面。液晶胞在兩電極板間夾帶著液晶。
將配合所附之圖示說明本發明之液晶顯示裝置如下。
第1圖係說明了本發明之液晶顯示裝置示範例之示意圖；第2圖係說明了本發明之液晶顯示裝置另一示範例之示意圖；以及第3圖係說明了本發明之液晶顯示裝置又另一示範例之示意圖。
如第1圖所示之液晶顯示裝置，其係將上偏光板30黏貼至VA模式液晶胞31之一側並將下偏光板32黏貼至另一側。這些偏光板30及32係分別藉由黏貼醯化纖維素薄膜33至偏光片34之兩側而獲得。
如第2圖所示之液晶顯示裝置10，其係將液晶胞之上電極基板5及液晶胞之下電極基板8黏貼至液晶層7之兩側，藉以形成液晶胞。接著，將上偏光板1及下偏光板12黏貼至液晶胞之兩側。上偏光板吸收軸之方向2、上基板之定向控制方向6、下基板之定向控制方向9以及下偏光板吸收軸之方向13分別如第2圖所示。
第3圖係為應用本發明之具有光學補償片25偏光板之液晶顯示裝置之應用實施例。偏光板係具有光學補償片25，光學補償片25層疊於偏光片24之VA液晶胞側，並且層疊保護膜26於偏光片24之另一側，而使用時，此種偏光板係放置於背光側。在第3圖之實施例中，係在觀測者面(觀察面)使用"HLC2－5618"(商品名；SANRITZ CORPORATION之產品)如偏光板27，但偏光板並不侷限於此。
[實施例]
本發明之特徵以實施例及對照實施例更佳詳細地描述。然而需注意的是，下述實施例中材料、及其使用之份量與比例、處理細節及過程步驟可依需求而改變但不偏離本發明之範疇。本發明之範圍並不侷限於下述提出之實施例之限制。
[第一實施例]醯化纖維素薄膜101之製備
<醋酸纖維素之製備>藉由將下述之組成物在混合槽中通電及攪拌溶解其成分用以製備醋酸纖維素溶液101。
(醋酸纖維素溶液01之組成物)
<霧面劑溶液11之製備>藉由將下述組成物在分散機中通電並攪拌使其成分分散及混合，用以製備霧面劑溶液。
(霧面劑溶液11之組成物)
<紫外光吸收劑溶液21之製備>
藉由將下述組成物在混合槽中通電並加熱攪拌使其成分溶解，用以製備紫外光吸收劑溶液。
(紫外光吸收劑溶液21之組成物)TINUVIN171 10.0質量份TINUVIN109 10.0質量份二氯甲烷(第一溶劑) 67.2質量份乙醇(第二溶劑) 10.0質量份醋酸纖維素溶液01 12.8質量份
過濾每1.3質量份的霧面劑溶液及1.7質量份的紫外光吸收劑溶液之後，將其在直列混合器中混合。在直列混合器中混合後，加入97.0質量份的醋酸纖維素溶液至混合後之混合物。使用帶流延機(band casting machine)澆鑄混合後之混合物，並且在100℃下乾燥直到剩餘溶劑量減少至30%。將薄膜取下，並在大氣溫度140℃時，以在縱向方向20%及在橫向方向60%之拉伸率拉伸薄膜。當開始拉伸時，剩餘溶劑量為25%。移除剪下來的一部分後，以30℃乾燥薄膜40分鐘，藉以製備醯化纖維素薄膜101。因此醯化纖維素薄膜101具有0.1%之剩餘溶劑量及50微米之薄膜厚度。
[第二至第八實施例]醯化纖維素薄膜102至108之製備
除了改變如表1中醋酸纖維素溶液之種類、塑化劑之種類/份量、紫外光吸收劑之種類/份量及拉伸比例外，以製備醯化纖維素薄膜101近似方法製備醯化纖維素薄膜102至108。
[第一至第四對照實施例]醯化纖維素薄膜201至204之製備
除了改變如表1中醋酸纖維素溶液之種類、塑化劑之種類/份量、紫外光吸收劑之種類/份量及拉伸比例外，以製備醯化纖維素薄膜101近似方法製備對照實施例之醯化纖維素薄膜201至204。
[延遲之量測]利用"KOBRA WR"(商品名；Oji Scientific Instruments之產品)在446奈米、548奈米及629奈米處，測量製備之醯化纖維素薄膜的面內延遲Re以及厚度方向延遲Rth。
[霧度之量測]在25℃及60% RH時使用霧度計("HGM－2DP"，商品名；Suga Test Instruments之產品)測量40毫米×80毫米薄膜之霧度。
[纖維素分子鏈定向度之量測]當使用銅管為X射線光源時，由"RINT RAPID"(商品名；Rigaku Corporation之產品)在40kV－36mA時產生X射線。準直器的光束大小為0.8毫米，並且固定薄膜樣本至透射樣本架上。調整曝露時間至600秒。以測量薄膜面內定向度Po及厚度方向定向度Pth。
量測結果如表2所示。
表2之結果揭露了在本發明中Re及Rth皆有助於增加較長之波長以及獲得具有低霧度之醯化纖維素薄膜。
[第九實施例]偏光板101之製備
(醯化纖維素薄膜之皂化)將第一實施例中製備的醯化纖維素薄膜101浸到在55℃時每升1.3莫耳的水性氫氧化鈉2分鐘、在室溫的水沖洗槽中沖洗、以30℃時每升0.05莫耳的硫酸中和、在室溫的水沖洗槽中再次沖洗、以及以100℃的熱空氣乾燥。醯化纖維素薄膜101的表面係以上述的方法皂化，並且用以提供下述偏光板樣本之製備。
商品化之三醋酸纖維素薄膜("Fujitack TD80UF"，商品名；富士照相軟片(Fuji Photo Film)之產品)係以近似之條件皂化，並且用以提供下述偏光板樣本之製備。
(偏光片之製備)碘被吸收至拉伸聚乙烯醇膜用以製備偏光片。以醯化纖維素薄膜101製成之光學補償片，其係經由上述之皂化處理，光學補償片如透明保護膜黏著至偏光片的其中一面。其放置之位置使得偏光片的透射軸及醯化纖維素薄膜的慢軸彼此相互平行。
經由上述皂化處理之三醋酸纖維素薄膜以聚乙烯醇黏著劑黏著至偏光片之另一面，藉此製備偏光板101。
[第十實施例]偏光板102至108之製備
除了醯化纖維素薄膜102至108之使用外，以製備偏光板101所使用的近似方法分別製備偏光板102至108。
[第五對照實施例]偏光板201至204之製備
除了醯化纖維素薄膜201至204之使用外，以製備偏光板101所使用的近似方法分別製備偏光板201至204。
[第十一實施例]VA液晶顯示裝置之製備及評估1
(液晶胞之製備)加入了1質量份的氯化十八碳二甲基銨(octadecyl－dimethylammonium chloride)(耦合劑)至分為100質量份的3質量%水性聚乙烯醇溶液中。在160℃加熱處理後，將混合後之混合物旋轉塗布至配置有ITO電極之玻璃基板上。藉由摩擦處理製備用以垂直配向之定向膜。以彼此相反之方向摩擦兩玻璃基板。將這兩玻璃基板以5微米之晶胞間隙(d)相對放置。將主要成分為酯與乙烯之液晶化合物(△n：0.08)注入至細胞間隙中用以製備垂直配向模態之液晶胞。此△n之產品及晶胞間隙為410奈米。
將偏光板101黏著至垂直配向模態之液晶胞的每表面上，藉以製備液晶顯示裝置101。
除了使用對照實施例中的偏光板201、203外，以製備液晶顯示裝置101之近似方法分別製備液晶顯示裝置201、203。
(偏移色調的視角)由"Ezcontrast"(商品名；ELDIM之產品)在極角為60度處量測介於0度方向角及80度方向角之間的每液晶顯示裝置101、210、203之色調偏移，以及決定於XY色度圖上之色調偏移的前對比度與解析度△x及△y。然而液晶顯示裝置201具有低前對比度，而液晶顯示裝置203在兩視角間具有微小的色偏，但因為本發明之液晶顯示裝置101具有高前對比度及在兩視角間具有很小的色度偏移所以優先選擇本發明之液晶顯示裝置101。
[第十二實施例]具有光學補償功能之偏光板之製備具有光學各向異性層之光學補償片之製備
(醯化纖維素薄膜之皂化處理B)具有下述成份之皂化溶液，加入每平方公尺5.2毫升之份量至如第二實施例所製備之醯化纖維素薄膜中，接著在60℃下乾燥10秒。以流動的水沖洗醯化纖維素薄膜之表面10秒並且以25℃的空氣將其吹乾。
(皂化溶液之成分)異丙醇 818質量份水 167質量份丙二醇 187質量份"EMALEX"(商品名；日本乳膠之產品) 10質量份氫氧化鉀 67質量份
(定向膜之形成)具有下述成分之塗料溶液(每平方公尺24毫升)係藉由第14號環棒式塗布機(wire bar coater)塗布至醯化纖維素薄膜107上，使其皂化處理。處理後的膜片以60℃熱風乾燥60秒，再以90℃的熱風乾燥150秒。
在醯化纖維素薄膜107之拉伸方向(實質上等同於慢軸)成45度處施以摩擦處理。
(皂化溶液之組成物)具有下述結構之改性聚乙烯醇 20質量份水 360質量份甲醇 120質量份戊二醛(交聯劑) 1.0質量份
改性聚乙烯醇
(光學各向異性層之形成)溶解有214.2質量份的丁酮、91質量份具有下述結構之盤狀化合物、9質量份的環氧乙烷改性三甲基醇丙烷三丙稀酸脂("V#360"，商品名；大阪有機化學(Osaka Organic Chemical)之產品)、1.5質量份的乙基丁基纖維素("CAB 531－1"，商品名；伊士曼化學(Eastman Chemical)之產品)、3質量份的光聚合起始劑("Irgacure 907"，商品名；汽巴嘉基(Ciba－Geigy)之產品)、及1質量份的增感劑("Kayacure DETX"，商品名；日本化藥(Nippon Kayaku)之產品)之塗料溶液(每平方公尺5.2毫升)藉由第3號環棒式塗布機塗布至定向膜上。將處理後之膜片黏著至金屬框架並且以130℃的恆溫槽加熱2分鐘，使盤狀化合物定向。之後使用每公分120瓦高壓水銀燈將處理後之盤狀化合物在90℃下暴露於紫外光下1分鐘使其聚合，再將其降至室溫。而形成光學各向異性層並獲得光學補償片107。
盤狀化合物
(光學補償片之皂化處理)以如上述所述之醯化纖維素薄膜皂化處理B的近似方法，在醯化纖維素薄膜那面的光學補償片107表面上，也就是相對於形成有光學各向異性層的那面施以皂化處理。
(2)偏光板之製備(偏光片之製備)碘被吸收至拉伸聚乙烯醇膜用以製備偏光片。以聚乙烯醇黏著劑將醯化纖維素薄膜107那面的光學補償片107表面黏著至偏光片的面使得醯化纖維素薄膜107的慢軸與偏光片的透射軸相互平行。
在商品化之三醋酸纖維素薄膜("Fujitack TD80UF2"，商品名；富士照相軟片(Fuji Photo Film)之產品)上施以與第六實施例中應用相似的皂化處理，將處理後的膜片以聚乙烯醇黏著劑黏著至偏光片之另一面(即為光學補償片尚未黏著之那一面)。以這樣的方法，製備了橢圓偏光板107－2。
[第十三實施例]液晶顯示裝置之製備
[彎曲配向液晶胞之製備]在每配置有ITO電極之兩玻璃基板上放置有如定向膜之聚醯亞胺膜，並且在定向膜上已做了摩擦處理。使得兩玻璃板彼此相對使得定向膜之摩擦方向彼此平行。晶胞間隙設為5.7微米。在晶胞間隙中注入具有0.1396之折射率差之液晶化合物("ZLI 1132"，默克之產品商品名)，藉以製備彎曲配向液晶胞。
(液晶顯示裝置之製備)兩橢圓偏光板107－2之間夾有彎曲配向液晶胞用以使其彼此黏附。其放置之位置使得偏光板之光各向異性層面向晶胞基板及液晶胞之摩擦方向，並且面向液晶胞之光各向異性層的摩擦方向但不與液晶胞之摩擦方向平行。
已發現本發明之使用偏光板之液晶顯示裝置具有高對比度並且提供較佳之影像。
產業應用
本發明提供具有低霧度之一種醯化纖維素薄膜，其延遲之波長分散特性佳並且可以收集再回收；以及光學補償片，其使用上述之醯化纖維素薄膜。
偏光板之保護膜一般以醯化纖維素薄膜製成。本發明在偏光板之一面使用醯化纖維素薄膜作為保護膜，其可以在偏光板上加入光學補償功能而不會增加偏光板之組成物數量。
使用本發明之光學補償片以及使用本發明之光學補償片如保護膜之偏光板特別有益於VA模式及OCB模式之液晶顯示裝置。
在本次申請中已要求之每個國外專利申請之國外優先權權利其全部公開之內容併入本申請以做參考。
1．．．上偏光板
2．．．上偏光板之吸收軸方向
5．．．液晶胞之上電極基板
6．．．上電極基板之排列控制方向
7．．．液晶層
8．．．液晶胞之下電極基板
9．．．下電極基板之排列控制方向
10．．．液晶顯示裝置
12．．．下偏光板
13．．．下偏光板之吸收軸方向
21．．．VA模式之液晶胞
24．．．起偏器
25．．．光學補償片
26．．．保護膜
27．．．偏光板
28．．．觀察端
29．．．背光端
30．．．偏光板上側
31．．．VA模式之液晶胞
32．．．偏光板下側
33．．．醯化纖維素薄膜
34．．．起偏器
第1圖係為本發明之一種液晶顯示裝置說明實施例之示意圖。
第2圖係為本發明之另一液晶顯示裝置說明實施例之示意圖。
第3圖為本發明之另一液晶顯示裝置說明實施例之示意圖。

Claims (13)

  1. 一種醯化纖維素薄膜，其具有滿足下列(1)到(6)項的關係式之面內延遲值(Re)以及厚度方向延遲值(Rth)，並且具有30微米或以上但小於70微米之厚度：20nm<Re(548)<100nm (1) 100nm<Rth(548)<400nm (2) 0.5≦Re(446)/Re(548)≦0.90 (3) 1.05≦Re(629)/Re(548)≦1.50 (4) 0.5≦Rth(446)/Rth(548)≦0.95 (5) 1.05≦Rth(629)/Rth(548)≦1.50 (6)係包括複數個紫外光吸收劑，每紫外光吸收劑在250奈米或以上且380奈米或以下波長範圍內具有最大吸收值；其中複數個紫外光吸收劑包含至少一種具有25℃或以下之熔點的紫外光吸收劑；以及以該複數個紫外光吸收劑之總量為基準，該具有熔點為25℃或以下之至少一種紫外光吸收劑的質量百分比為80質量%或以上且100質量%或以下。
  2. 如申請專利範圍第1項之醯化纖維素薄膜，其係具有0.1或以上且0.8或以下之霧度。
  3. 如申請專利範圍第1項之醯化纖維素薄膜，其中假定整個薄膜厚度之醯化纖維素分子鏈之面內定向度為Po，以 及薄膜之醯化纖維素分子鏈之厚度方向定向度為Pth ，Po及Pth 滿足關係式(7)和(8)：0.040≦Po≦0.10 (7) 0.12≦Pth≦0.40 (8)。
  4. 如申請專利範圍第3項之醯化纖維素薄膜，其中在薄膜表面之醯化纖維素分子鏈之面內定向度Po與在整個薄膜厚度之該醯化纖維素分子鏈之面內定向度Po滿足關係式(9)：1≦[(薄膜表面之Po/整個薄膜厚度之Po)]≦1.5 (9)。
  5. 如申請專利範圍第1項之醯化纖維素薄膜，其係藉由拉伸之方式而獲得，在拉伸比為1%或以上且100%或以下時，在至少薄膜之行進方向及與其垂直之方向上，包含醯化纖維素之薄膜具有2.50或以上且2.90或以下之醯化度。
  6. 如申請專利範圍第1項之醯化纖維素薄膜，其中該醯化纖維素薄膜之醯化纖維素包含兩個或以上碳原子數目不同之醯基，並且假定具有最少碳原子數目之醯基稱為醯基A，而具有最多碳原子數目之醯基稱為醯基B，醯基A及醯基B之取代度滿足關係式(10)和(11)：0.1≦(醯基A之取代度)≦2.40 (10) 0.1≦(醯基B之取代度)≦1.50 (11)。
  7. 如申請專利範圍第6項之醯化纖維素薄膜，其中該醯基B包含芳香族結構。
  8. 一種光學補償片，其係包括如申請專利範圍第1項之醯化纖維素薄膜。
  9. 如申請專利範圍第8項之光學補償片，其進一步包括在醯化纖維素薄膜上之光學各向異性層。
  10. 一種偏光板，其係包括：偏光膜；以及二透明保護膜，其分別位在該偏光膜之兩側；其中在該二透明保護膜中至少有一透明保護膜為如申請專利範圍第8項之光學補償片。
  11. 一種液晶顯示裝置，其包括：液晶胞；以及二偏光板，其分別位在該液晶胞之兩側；其中在該二偏光板中至少有一偏光板為如申請專利範圍第10項之偏光板。
  12. 如申請專利範圍第11項之液晶顯示裝置，其中液晶顯示裝置之顯示模式為VA(垂直配向)模式。
  13. 如申請專利範圍第11項之液晶顯示裝置，其中液晶顯示裝置之顯示模式為OCB(光學補償彎曲)模式。
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