TWI391226B - 真空形成設備及真空形成基板之方法 - Google Patents

真空形成設備及真空形成基板之方法 Download PDF

Info

Publication number
TWI391226B
TWI391226B TW098129976A TW98129976A TWI391226B TW I391226 B TWI391226 B TW I391226B TW 098129976 A TW098129976 A TW 098129976A TW 98129976 A TW98129976 A TW 98129976A TW I391226 B TWI391226 B TW I391226B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
molding die
vacuum
vacuum forming
substrate
resin
Prior art date
Application number
TW098129976A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201100226A (en
Inventor
Seung Joon Baek
Tae Wan Kim
Se Jin Choi
Original Assignee
Minuta Technology
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Minuta Technology filed Critical Minuta Technology
Publication of TW201100226A publication Critical patent/TW201100226A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI391226B publication Critical patent/TWI391226B/zh

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C33/00Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
    • B29C33/12Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor with incorporated means for positioning inserts, e.g. labels
    • B29C33/14Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor with incorporated means for positioning inserts, e.g. labels against the mould wall
    • B29C33/18Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor with incorporated means for positioning inserts, e.g. labels against the mould wall using vacuum
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C33/00Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
    • B29C33/34Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor movable, e.g. to or from the moulding station
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29LINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
    • B29L2007/00Flat articles, e.g. films or sheets
    • B29L2007/002Panels; Plates; Sheets

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)

Description

真空形成設備及真空形成基板之方法
本發明係關於一種用於製造光學基板或功能性基板之設備及方法,特別是關於一種能夠在大尺寸基板,例如背光單元之光導面板(LGP)上形成三維圖案之真空成形設備及真空成形方法。
光導面板係為用於液晶顯示裝置之背光裝置的一個元件,且其兩側或一側之上具有光學圖案,以用於將線光源,例如冷陰極螢光燈,或點光源,例如發光二極體轉換成面光源。
為了在光導面板上形成光學圖案,可使用多種方法,例如:射出成型法,使用反光型墨水之絲網印刷法,以及使用紫外線可固化樹脂(以下稱為UV樹脂)或熱固性樹脂之成型法。
射出成型法適用於形成精細結構,但成型時間及冷卻時間較長。絲網印刷法包含相對簡化的製程,但此方法不適於形成精細的光學圖案。由於這些原因,業內對於發展使用熱固性樹脂或UV樹脂在光導面板上形成光學圖案之方法進行了不懈的努力,這是因為該方法由於其相對簡化的製程及較短的固化時間而更加可取。
UV成型方法的進行可使得當壓模緊密地附著於塗覆有UV樹脂的大尺寸基板之上時,存在於基板與壓模之間的UV樹脂將被以一種無空隙的方式(沒有任何空白空間)來填充間隙,隨後UV樹脂將透過紫外線照射而被固化,並且壓模將被撤走,進而使雕刻於壓模上的光學圖案形狀轉移至基板上。此UV成型方法係利用了圖案可轉移性之特性。
然而,當於傳統的UV成型方法中使用滾筒式壓模或平板式硬質壓模時,其很難精確地控制介於大尺寸基板與壓模之間的平面度,因而會在壓模與基板之間出現不存在UV樹脂的空隙,進而很可能會發生諸如未成形區域及氣泡等缺陷。
此外,還可能會發生塗抹於基板之上的樹脂在緊密附著壓模之時被擠出基板邊緣之問題,由此會損壞基板之外觀。
在連續供應的薄板,例如作為背光單元的元件之一的稜鏡薄板之上使用UV樹脂形成光學圖案之方法係已經被用於大批量製造之場合。然而,使用UV成型方法在一塊薄板接一塊薄板供應(非連續供應)之基板上形成光學圖案之方法,由於存在上述的問題,因而還未能達到商業化之規模。
同時,對於在基板上塗抹UV樹脂之方法來說,可使用絲網印刷法,縫隙塗覆法,滾筒塗覆法等方法。然而,在透過絲網印刷法塗覆較高黏度(特別是具有100cps至10000cps之黏度)的UV樹脂之情況下,會由於絲網的細小柵格及UV樹脂的表面張力而產生細小的氣泡,並且會發生上述細小氣泡穿過絲網並被塗覆到基板上之問題,進而會影響基板之光學圖案。縫隙塗覆法的缺點在於由於縫隙塗布器價格昂貴因而經濟效益較低,而滾筒塗覆法的問題在於,由於其較低的製程穩定性及頻繁發生的缺損,因而存在無法用於大批量製造之缺陷。
因此,為了解決上述的習知技術之問題,本發明之一目的在於提供一種設計成用以允許絲網印刷UV樹脂之方法,並且提供了一種用於透過在真空腔室中使用透明及柔性成型模具來形成三維圖案之製程製造基板之方法及設備。
為了實現上述目的,本發明之真空成形方法及設備具有如下重要特徵:(1)使用透明及柔性成型模具;(2)在真空腔室中形成三維圖案;以及(3)允許成型模具本身形成雙真空腔室的一個側壁,以使得成型模具能夠因壓力差緊密地附著於基板。
本發明之要點如下:
(1)一種用於在塗覆有樹脂的基板上形成光學圖案之真空成形設備,該設備包含真空腔室主體,該真空腔室主體具有側壁,及分別用以封閉側壁之上部與底部的上蓋與底板,其中,真空腔室主體之內部配設有用以將三維圖案移轉至基板之上的成型模具,以及能夠上升和下降成型模具框架,藉以固定成型模具之邊緣,以及藉由上蓋、側壁及底板封閉之空間,係可由成型模具框架之下降而被劃分為上部腔室與下部腔室。
(2)根據(1)中所述的真空成形設備,其中成型模具在上部腔室與下部腔室之間形成有障壁。
(3)根據(1)中所述的真空成形設備,其中底板係與用於固定基板之夾具相接合。
(4)根據(1)或(2)中所述的真空成形設備,其中底板係配置成可分離的並且能夠上升和下降,並且在底板的最大上升位置處,該底板可用於封閉側壁之底部。
(5)根據(1)或(2)中所述的真空成形設備,其中上部腔室與下部腔室係能夠獨立地進行壓力控制。
(6)根據(1)或(2)中所述的真空成形設備,其中真空腔室主體具有分別安裝於上部腔室與下部腔室中的通風線路。
(7)根據(1)或(2)中所述的真空成形設備,其中成型模具係由柔性及UV可滲透塑膠材料製成。
(8)根據(1)或(2)中所述的真空成形設備,其中上蓋係由UV可滲透材料製成。
(9)根據(1)或(2)中所述的真空成形設備,其中上蓋的上部之上設置有紫外線燈台。
(10)根據(4)中所述的真空成形設備,其中側壁具有L形橫截面,藉以防止成型模具框架之上升與底板之上升之間發生相互干擾。
(11)一種用於在基板上形成光學圖案之真空成形方法,此方法包含:
(a)用樹脂塗覆基板;
(b)將基板放置於真空腔室內部並吸真空;
(c)在真空狀態下用成型模具接觸塗覆有樹脂的基板之一側;
(d)使成型模具之上部區域及下部區域相對於彼此處於氣密狀態;以及
(e)使用成型模具作為分界產生壓力差,藉以將成型模具附著於基板。
(12)根據(11)中所述的真空成形方法,其中於步驟(e)中,成型模具之下部區域將保持真空狀態,而成型模具之上部區域將脫離真空狀態。
(13)根據(11)或(12)中所述的真空成形方法,其中於步驟(e)之後還包含:
(f)固化樹脂;
(g)使成型模具之下部區域脫離真空狀態;以及
(h)將成型模具與基板分離。
(14)根據(11)或(12)中所述的真空成形方法,其中於步驟(e)中,成型模具之上部區域係受到大氣壓力作用。
(15)根據(11)或(12)中所述的真空成形方法,其中於步驟(b)中,真空壓力係設置為10-3torr至100torr。
(16)根據(11)或(12)中所述的真空成形方法,其中樹脂係為UV樹脂。
(17)根據(11)或(12)中所述的真空成形方法,其中成型模具係由柔性及UV可滲透塑膠材料製成。
(18)根據(16)中所述的真空成形方法,其中步驟(a)係透過絲網印刷製程於真空中進行。
(19)根據(16)中所述的真空成形方法,其中步驟(a)係透過使用絲網印刷設備進行,此絲網印刷設備配置有精密噴嘴,用以將UV樹脂噴射於絲網之上,UV樹脂的總量可允許其於基板上塗覆1至10次。
(20)根據(17)中所述的真空成形方法,其中於步驟(e)之後,基板將透過成型模具以紫外線射線進行照射。
依據本發明來說,雖然基板與成型模具之平面度沒有被精確地加以控制,但基板與成型模具能夠在均一的壓力之下被完全附著在一起。並且由於透過在真空中執行基板成形製程,因此無論多麼精細的三維圖案,都不會在成型模具與基板之間形成未成形區域,或能夠防止出現像空氣氣泡這樣的缺陷。此外,由於能夠形成均一的三維圖案,因而無論基板的尺寸或厚度為何,均可應用本發明之方法及設備來製造大尺寸的產品,且因此本發明相對於習知技術能夠產生巨大的有益效果。
以下,將結合「第1圖」至「第5圖」對本發明之較佳實施例進行描述。
「第1圖」為本發明一實施例之真空成形方法的流程圖;「第2a圖」及「第2b圖」為透過絲網印刷法於光導面板上塗抹樹脂後的表面狀態圖;「第3圖」為依據本發明一較佳實施例之用於在塗抹有樹脂的基板上形成光學圖案之真空成形設備的示意圖;「第4圖」為依據本發明另一較佳實施例之用於在塗抹有樹脂的基板上形成光學圖案之真空成形設備的示意圖;「第5圖」為「第4圖」所示之真空成形設備的操作示意圖。
如「第1圖」中所示,在本發明中,基板係透過於裸基板上塗抹樹脂之製程,以及在樹脂上形成三維圖案之製程來加以製造,且特別是要優選UV樹脂作為該樹脂材料。在下文中,將結合特定的實例對塗覆UV樹脂之製程及形成三維圖案之製程加以說明。
<塗抹UV樹脂之製程>
在塗抹UV樹脂之時,可使用絲網印刷法、縫隙塗覆法、滾筒塗覆法等方法,但依據本發明之實施例,所使用的是絲網印刷法。為了解決有關氣泡產生之問題,樹脂之塗覆係於真空腔室中進行。
真空腔室中係安裝有絲網及配置有兩個噴嘴以用於執行絲網印刷之輸送設備,並且真空腔室中的真空度可加以調整,以使得空氣氣泡之游離的真空度可依據UV樹脂的性質(黏度)及所使用的絲網之網目尺寸而加以確定。其結果如下表所示:
「第2a圖」及「第2b圖」為透過絲網印刷法在基板上塗抹黏度為100cps之UV樹脂後所獲得的UV樹脂之外觀照片,並且「第2a圖」及「第2b圖」分別表示了於大氣壓力環境下及真空度為400torr之環境下塗抹UV樹脂之表面狀態。
如「第2b圖」所示,當UV樹脂在依據絲網印刷之條件設定適當的真空度之後被塗抹於光導面板之上時,可以避免在UV樹脂中產生空氣氣泡。
在另一實施例中,所關注的是當絲網印刷於大氣壓力下進一步重複進行時,會更為嚴重地產生空氣氣泡。因而,安裝有精密的噴嘴,藉以能夠控制將要塗覆到基板上的UV樹脂的總量為一個小的數量,並且絲網印刷可以在大氣壓力下使用噴射總量為僅能夠塗覆1至10次的UV樹脂於絲網之上的方法來加以進行。在傳統的的UV樹脂之情況下,總量為能夠塗覆1至2次便適合了,但在使用具有極佳的去泡沫性質的UV樹脂之情況中,絲網印刷能夠在總量為可以塗覆10次或更多次時得以進行。
<形成光學圖案之製程>
在本發明之於基板上塗抹樹脂,以及隨後的於樹脂上形成光學圖案之製程中,係使用了一種透明及柔性成型模具(例如:由Minuta技術有限公司製造的Rigiflex模具),且此製程的特點在於成形係於真空腔室中進行。
「第3圖」表示了本發明一實施例之真空成形設備100,其借助於柔性成型模具20透過向塗抹於基板10之一側的樹脂(附圖中未示出)上施加壓力而形成三維圖案。
真空成形設備100包含真空腔室主體140,真空腔室主體140具有上蓋110、側壁120及底板130。
側壁120係為傳統之形式,例如圍繞一預定空間之矩形支柱或圓筒,且形狀並非以此為限。在「第3圖」之實施例中,底板130係從側壁120之底端一體化地伸出,且上蓋110覆蓋於側壁120之上部。因此,真空腔室150係由底板130、側壁120及上蓋110隔離而成。
側壁120上係配設有能夠開啟和閉合的入口(附圖中未示出),以使得塗覆有樹脂之基板能夠被輸送至真空腔室150之中並被放置於底板130之上。於此同時,係可較佳地採用一附著於底板130之夾具132來固定基板10。
上蓋110與側壁120之連接部分係設置有密封元件152,以使得真空腔室150可相對於外界保持氣密狀態。
在真空腔室150中,係設置有用於將三維圖案移轉至基板10之上的成型模具20,以及用於固定成型模具20之邊緣的成型模具框架170,並且成型模具框架170能夠藉由升降機180上升和下降。
成型模具20係由厚度大約為1mm或2mm之軟塑膠材料製成,並以榫合方式固定至成型模具框架170。成型模具框架170係較佳地由剛性材料,如金屬製成。
成型模具20係配置成當成型模具框架170下降至最低位置處且與底板130相接觸時,該成型模具20可接近基板10。於此同時,為了使由成型模具20、成型模具框架170及底板130所圍繞之空間能夠與包含成型模具20之上部區域的空間保持氣密狀態,係於成型模具20與成型模具框架170之固定部分,以及成型模具框架170與底板130之接觸部分設置有密封元件156及158。
真空腔室主體140係配置有兩條通風線路162及164,以使得當真空腔室150被分隔成上部腔室與下部腔室時,上部腔室與下部腔室中的真空度能夠被分別地控制。在「第3圖」所示之實施例中,通風線路162及164係設置於側壁120之上及底板130處,並且配置成可以分別為上部腔室與下部腔室通風。
現在將對使用具有上述相同構造之真空成形設備100將光學圖案移轉至基板10的製程加以描述。
基板10被輸送至真空腔室150中後,真空腔室150係被密封。隨後,將操作一真空泵(「第3圖」中未示出)將真空腔室150中的空氣通過通風線路162及164排出。其優選為將真空腔室150中的壓力保持於100torr或者更低,以能夠減少由殘餘壓力所產生之缺陷,並且在增大真空度之情況下,可以不需要昂貴的設備。因此,其優選為將壓力設置於10-3torr至100torr之範圍。
在真空腔室150抽真空之後,將操作升降機180藉以緩慢地降下成型模具框架170,並且固定至成型模具框架170之成型模具20將與塗覆有樹脂之基板10的一個表面相接觸。
於此同時,真空腔室150中包含成型模具20之上部區域的空間與包含成型模具20之下部區域的空間將透過介於成型模具20與成型模具框架170之間的密封元件156以及介於成型模具框架170與底板130之間的密封元件158相對於彼此保持於氣密狀態。也就是說,真空腔室150係被分隔成兩個彼此不相連的腔室,並且成型模具20作為兩個腔室之間的分界扮演了一個障壁的角色。
此後,將透過連接於成型模具20之上部區域的通風線路162使該上部區域脫離真空狀態,而成型模具20之下部區域將繼續保持於真空狀態。於是,由於具有用作分界的成型模具20,便會於其中產生壓力差,進而使成型模具20完全附著於基板10。舉例來說,當成型模具20之上部區域受到大氣壓力作用時,將會在成型模具20之上部區域與下部區域之間產生大約1大氣壓之壓力差。
當樹脂在被緊密地附著於成型模具20之狀態下加以固化時,雕刻於成型模具20之上的三維圖案將被移轉至基板10之上。當樹脂固化完成時,將透過連接於成型模具20之下部區域的通風線路164使該下部區域脫離真空狀態,且成型模具框架170將被升高,藉以將成型模具20與基板10分隔開。
依據本發明一個改良實施例之真空成形方法,其優選為使用塗覆有UV樹脂之基板10,且特別是,其更優選為使用在上述〞塗抹UV樹脂之製程〞中所述的製程。如此,該真空成形設備100可進一步包含一個紫外線燈台。
「第4圖」及「第5圖」表示了本發明另一實施例之真空成形設備100。在「第4圖」及「第5圖」所示的真空成形設備100之組成元件中,元件標號與「第3圖」中真空成形設備100中之元件標號相同的元件係為與之相同或相當的元件,並且將省略對這些重複構造的詳細說明。
該真空成形設備100包含真空腔室主體140,該真空腔室主體140具有上蓋110、側壁120及底板130,且真空腔室主體140之內部係配置有能夠上升和下降的成型模具框架170,並且成型模具框架170上固定有成型模具20。依據本發明而言,此真空成形設備100進一步包含用於固化UV樹脂之紫外線燈台190,以使得UV樹脂能夠被適用於在塗覆有UV樹脂之基板10上形成光學圖案之製程。
與「第3圖」之實施例中底板與側壁一體化形成不同,「第5圖」之實施例中的底板130係配置成可透過一可分離之升降機(附圖中未示出)向上和向下移動,並可在其最大上升位置處封閉側壁120之下部。由上蓋110、側壁120及底板130所封閉之空間便形成了真空腔室150。
側壁120包含一伸出部分122,該伸出部分122係大致以字母L之形狀伸出,以使得伸出部分122不會與成型模具20之升降機180相互干擾,並且底板130在上升之時係緊密地附著於側壁120之伸出部分122。
此外,側壁120係在兩個位置上配置有通風線路162及164藉以減小真空腔室150中的壓力或將空氣引入真空腔室150中。兩個通風線路162及164中的一個係設置於靠近側壁120之上部的位置處,而另一個通風線路係設置於靠近側壁120之下部的位置處。兩個通風線路162及164係配置成分別連接至兩個由真空腔室150分隔形成的腔室,且此構造將結合「第5圖」再次予以說明。
成型模具20係由具有紫外線光滲透性之柔性塑膠材料製成。此成型模具20可透過升降機180與成型模具框架170一同向上和向下移動。成型模具20與成型模具框架170之接觸部分設置有密封元件156,以使得成型模具20之下部的空間與其上部的空間分隔開並於成型模具框架170下降之時保持氣密狀態。側壁120之伸出部分122與成型模具框架170之接觸部分還設置有密封元件158。
接下來,將結合「第4圖」及「第5圖」對真空成形設備100之操作過程進行說明。
首先,使上蓋110分離,並降低底板130,藉以開放真空腔室主體140之上部與底部。將成型模具20固定至成型模具框架170,隨後關閉上蓋110,且之上安裝有基板10之夾具132將透過傳送機(附圖中未示出)被輸送至底板130之上。於是,如「第4圖」所示,為真空成形所作之準備工作已經就緒。
隨後,底板130將被升高以使底板130緊密地附著於側壁120之伸出部分122。而後,由上蓋110、側壁120及底板130所隔離之空間將被密封以形成真空腔室150,並且真空腔室150中的空氣將透過操作一真空泵(附圖中未示出)而經由通風線路162及164被排出。
真空腔室150將被處於真空狀態,而後將操作升降機180藉以緩慢地降低成型模具框架170,且固定至成型模具框架170之成型模具20將與塗覆有UV樹脂之基板10的一個表面相接觸。
於此同時,在真空腔室150中包含成型模具20之上部區域的空間與包含成型模具20之下部區域的空間將透過成型模具20與成型模具框架170之間的密封元件156及成型模具框架170與側壁120之伸出部分122之間的密封元件158而保持於一氣密狀態,且彼此不相連接。此操作狀態係表示於「第5圖」中,並且真空腔室150被分隔成上部腔室150a與下部腔室150b,而成型模具20係作為上部腔室150a與下部腔室150b之間的分界而扮演了一障壁之角色。
當上部腔室150a與下部腔室150b已經形成後,如果透過連接至上部腔室150a之通風線路162將上部腔室150a脫離真空狀態,而下部腔室150b仍保持真空狀態,則成型模具20將由於壓力差而完全附著於基板10之上。
當上蓋110開啟時,將透過紫外線燈台190經由透明的成型模具20進行紫外線照射,塗覆於基板10之上的UV樹脂在其緊密地附著於成型模具20之時將被固化,並且雕刻於成型模具20上的三維圖案將被移轉至基板10。在使用可透過紫外線光之堅硬材料,如石英作為上蓋110之情況中,可不需要進行開啟上蓋110之操作。
當UV樹脂之固化完成之時,下部腔室150b將被脫離真空狀態,且配設有成型模具20之成型模具框架170將被升高,以使得成型模具20與基板10脫離。
依據上述之進程,即使基板10之尺寸被擴大,且無論平面度如何,仍可防止出現例如產生空氣氣泡或未成形區域之缺陷。
雖然本發明以前述之實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明。在不脫離本發明之精神和範圍內,所為之更動與潤飾,均屬本發明之專利保護範圍。特別是,在本發明之實施例中,引入了可分離的基板夾具與可分離的上蓋以用於提高連續生產製程之效率,而引入基板之方法、真空腔室之構造等可依據本領域之技術人員的水平以各種方法加以更改。因此,本發明之保護範圍並不以上述實施例為限,關於本發明所界定之保護範圍請參考所附之申請專利範圍。
10...基板
20...成型模具
100...真空成形設備
110...上蓋
120...側壁
122...伸出部分
130...底板
132...夾具
140...真空腔室主體
150...真空腔室
150a...上部腔室
150b...下部腔室
152...密封元件
156、158...密封元件
162、164...通風線路
170...成型模具框架
180...升降機
190...紫外線燈台
第1圖為本發明一實施例之真空成形方法的流程圖。
第2a圖及第2b圖為透過絲網印刷法於光導面板上塗抹樹脂後的表面狀態圖。
第3圖為依據本發明一較佳實施例之用於在塗抹有樹脂的基板上形成光學圖案之真空成形設備的示意圖。
第4圖為依據本發明另一較佳實施例之用於在塗抹有樹脂的基板上形成光學圖案之真空成形設備的示意圖。
第5圖為第4圖所示之真空成形設備的操作示意圖。
10...基板
20...成型模具
100...真空成形設備
110...上蓋
120...側壁
130...底板
132...夾具
140...真空腔室主體
150...真空腔室
152、156、158...密封元件
162、164...通風線路
170...成型模具框架
180...升降機

Claims (20)

  1. 一種用於在塗覆有樹脂的基板上形成光學圖案之真空成形設備,該設備包含一真空腔室主體,該真空腔室主體具有側壁,及分別用以封閉側壁之上部與底部的上蓋與底板,其中,該真空腔室主體之內部配設有用以將光學圖案移轉至一基板之上的成型模具,以及能夠上升和下降成型模具框架,藉以固定該成型模具之邊緣,以及藉由該上蓋、側壁及底板封閉之空間,係可由該成型模具框架之下降而被劃分為一上部腔室與一下部腔室。
  2. 如請求項第1項所述之真空成形設備,其中該成型模具在該上部腔室與該下部腔室之間形成有一障壁。
  3. 如請求項第1項所述之真空成形設備,其中該底板係與用於固定該基板之一夾具相接合。
  4. 如請求項第1項或第2項所述之真空成形設備,其中該底板係配置成可分離的並且能夠上升和下降,並且在該底板的最大上升位置處,該底板可用於封閉所述側壁之底部。
  5. 如請求項第1項或第2項所述之真空成形設備,其中該上部腔室與該下部腔室係能夠獨立地進行壓力控制。
  6. 如請求項第1項或第2項所述之真空成形設備,其中該真空腔室主體具有分別安裝於該上部腔室與該下部腔室中的通風線路。
  7. 如請求項第1項或第2項所述之真空成形設備,其中該成型模具係由柔性及UV可滲透塑膠材料製成。
  8. 如請求項第1項或第2項所述之真空成形設備,其中該上蓋係由UV可滲透材料製成。
  9. 如請求項第1項或第2項所述之真空成形設備,其中該上蓋的上部之上設置有一紫外線燈台。
  10. 如請求項第4項所述之真空成形設備,其中所述側壁具有一L形橫截面,藉以防止該成型模具框架之上升與該底板之上升之間發生相互干擾。
  11. 一種用於在基板上形成光學圖案之真空成形方法,該方法包含:(a)用樹脂塗覆一基板;(b)將該基板放置於真空腔室內部並吸真空;(c)在真空狀態下用一成型模具接觸塗覆有樹脂的該基板之一側;(d)使該成型模具之上部區域及下部區域相對於彼此處於一氣密狀態;以及(e)使用該成型模具作為分界產生一壓力差,藉以將該成型模具附著於該基板。
  12. 如請求項第11項所述之真空成形方法,其中於步驟(e)中,該成型模具之下部區域係保持真空狀態,而該成型模具之上部區域係脫離真空狀態。
  13. 如請求項第11項或第12項所述之真空成形方法,其中該方法於步驟(e)之後還包含:(f)固化該樹脂;(g)使該成型模具之下部區域脫離真空狀態;以及(h)將該成型模具與該基板分離。
  14. 如請求項第11項或第12項所述之真空成形方法,其中於步驟(e)中,該成型模具之上部區域係受到大氣壓力作用。
  15. 如請求項第11項或第12項所述之真空成形方法,其中於步驟(b)中,該真空壓力係設置為10-3 torr至100torr。
  16. 如請求項第11項或第12項所述之真空成形方法,其中該樹脂係為UV樹脂。
  17. 如請求項第11項或第12項所述之真空成形方法,其中該成型模具係由柔性及UV可滲透塑膠材料製成。
  18. 如請求項第16項所述之真空成形方法,其中步驟(a)係透過一絲網印刷製程於真空中進行。
  19. 如請求項第16項所述之真空成形方法,其中步驟(a)係透過使用一絲網印刷設備進行,該絲網印刷設備配置有一精密噴嘴,係用以將UV樹脂噴射於一絲網之上,該UV樹脂的總量係可允許其於該基板上塗覆1至10次。
  20. 如請求項第17項所述之真空成形方法,其中於步驟(e)之後,該基板將透過該成型模具以紫外線射線進行照射。
TW098129976A 2009-06-26 2009-09-04 真空形成設備及真空形成基板之方法 TWI391226B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090057745A KR20110000309A (ko) 2009-06-26 2009-06-26 기판 진공성형 장치 및 진공성형 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201100226A TW201100226A (en) 2011-01-01
TWI391226B true TWI391226B (zh) 2013-04-01

Family

ID=43369415

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW098129976A TWI391226B (zh) 2009-06-26 2009-09-04 真空形成設備及真空形成基板之方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2011005845A (zh)
KR (1) KR20110000309A (zh)
CN (1) CN101930168B (zh)
TW (1) TWI391226B (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101672206B1 (ko) * 2015-05-28 2016-11-03 호승호 융합형 도광판 제조방법
WO2016190715A2 (ko) * 2015-05-28 2016-12-01 호승호 융합형 도광판 제조방법
CN107908080A (zh) * 2017-12-21 2018-04-13 昆山乐邦印刷器材设备有限公司 曝光机的真空曝光装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004288878A (ja) * 2003-03-20 2004-10-14 Shibaura Mechatronics Corp 真空処理装置及び真空空間の形成方法
TWI223114B (en) * 2003-08-07 2004-11-01 Chi Mei Optoelectronics Corp A vacuum assembly apparatus
JP2007204799A (ja) * 2006-01-31 2007-08-16 Showa Shinku:Kk 真空装置および成膜方法
TWI295617B (en) * 2006-06-23 2008-04-11 Walton Advanced Eng Inc Vacuum mold chase for transfer molding and its utilizing method
TWI309224B (en) * 2004-08-11 2009-05-01 Shimadzu Corp Vacuum treatment apparatus

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02226101A (ja) * 1989-02-27 1990-09-07 Mitsubishi Rayon Co Ltd レンズシートの製造方法
JP2006018977A (ja) * 2004-07-05 2006-01-19 Kawamura Seisakusho:Kk 転写印刷版用実装金型及び転写印刷方法
JP4729338B2 (ja) * 2005-05-10 2011-07-20 東芝機械株式会社 転写装置
JP2007226870A (ja) * 2006-02-22 2007-09-06 Sony Corp ディスク製造方法、転写装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004288878A (ja) * 2003-03-20 2004-10-14 Shibaura Mechatronics Corp 真空処理装置及び真空空間の形成方法
TWI223114B (en) * 2003-08-07 2004-11-01 Chi Mei Optoelectronics Corp A vacuum assembly apparatus
TWI309224B (en) * 2004-08-11 2009-05-01 Shimadzu Corp Vacuum treatment apparatus
JP2007204799A (ja) * 2006-01-31 2007-08-16 Showa Shinku:Kk 真空装置および成膜方法
TWI295617B (en) * 2006-06-23 2008-04-11 Walton Advanced Eng Inc Vacuum mold chase for transfer molding and its utilizing method

Also Published As

Publication number Publication date
CN101930168B (zh) 2012-12-05
TW201100226A (en) 2011-01-01
JP2011005845A (ja) 2011-01-13
CN101930168A (zh) 2010-12-29
KR20110000309A (ko) 2011-01-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101794077B (zh) 工作台及其自动安装垫片的方法
CN100533270C (zh) 精细图案的制作装置
TWI600058B (zh) 用於製造物件之壓印設備及方法
KR20160008307A (ko) 광학투명레진을 이용한 디스플레이 모듈 제조방법
TWI391226B (zh) 真空形成設備及真空形成基板之方法
CN104875391A (zh) 一种3d打印机及其料槽,及料槽的制作方法
KR100945846B1 (ko) 도광판 진공성형 장치 및 진공성형 방법
JPH0990377A (ja) 液晶パネルの製造装置
JP5706180B2 (ja) 封止方法およびその装置
CN204749281U (zh) 一种3d打印机及其料槽
KR101426463B1 (ko) 미세 패턴필름 제조장치 및 미세 패턴필름 제조방법
KR102534606B1 (ko) 글라스패턴형성방법, 이를 수행하는 글라스패턴형성장치 및 글라스패턴형성시스템
KR20120083039A (ko) 기판 진공성형 장치 및 진공성형 방법
KR100950745B1 (ko) 미세 패턴 임프린트 공정용 스탬프 공급 장치 및 방법
KR101190178B1 (ko) 도광판에 광학 미세 구조 무늬를 각인하는 방법과 장치
KR100913222B1 (ko) 임프린트 장치 및 임프린트 방법
KR102468739B1 (ko) 자외선 경화장치
KR101813896B1 (ko) 임프린트 장치
KR20100135353A (ko) 임프린트 또는 롤-프린트 리소그래피용 스탬프 제조장치 및 제조방법
KR101853871B1 (ko) 임프린트 리소그래피 장치 및 이를 이용한 임프린트 리소그래피 방법
KR101027470B1 (ko) 미세 패턴 임프린트 장치 및 방법
KR101834321B1 (ko) 두께 균일도 향상을 위한 인쇄용 블랭킷 제조 장치 및 인쇄용 블랭킷 제조 방법
KR20130078806A (ko) 유기물 증착방법
KR101063363B1 (ko) Uv 임프린팅 시스템의 유연척
KR101055609B1 (ko) 유연척을 이용한 uv 임프린팅 방법

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees