TWI357096B - Lithographic apparatus and method - Google Patents

Description

1357096 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種微影裝置、一種用以偵測此微影裝置 中之圖案化設備之滑動的方法，及係關於一種圖案化設 備。 【先前技術】 微景;^裝置為將所要圖案施加至基板上（通常施加至基板 之目“區上）的機器《微影裝置可用於（例如）積體電路（ic) 之製造中。在該狀況下，圖案化設備（其或者被稱作光罩 或主光罩）可用以產生待形成於ic之個別層上的電路圖 案。可將該圖案轉印至基板（例如，矽晶圓）上之目標區⑽ 如，包括一個或若干晶粒之一部分）上。圖案之轉印通常 係經由成像至被提供於基板上之輻射敏感材料（抗蝕劑）層 般而。早基板將含有被相繼地圖案化之鄰近目 標區之網路。習知微影裝置包括：所謂的步進機，其中藉 由將整個圖案-次曝光於目標區上來照射每-目標區： 所之的掃描器，其,藉由經由輻射光束在給定 掃 描Y方向）上掃描圖案，同時平行或反平行於該方向而同 步地掃描基板來照射每-目標區。亦有可能藉由將圖串壓 印於基板上來㈣案自圖案化設備轉印至基板。、 在掃描型微影裝置中，弁置 ^ ^ ^ ^ 罩（或圖案化設備）由支撐件（亦 被稱作先罩台或圖案化設 ^ 4 ^ m * σ)承载。在基板之目標區上 產生圖案的同時，光罩台 杆播扣软么 早掃十田方向上沿移動線而執 订掃描移動，或沿移動续 線而在兩個（亦即，相對）方向上執 125534.doc 仃掃描。备發生方向反轉時 吏先罩η在相繼掃描移動之 間減速及加速。又，使光罩台 隹将疋方向上之母一掃描移 動之前及之後加速及減速。通赍， 、市以恆夂速度來進行掃描 :動。然而，亦可以變化速度來至少部分地進行掃描移 :，例如，包括減速及/或加速階段之至少-部分的移 勒0 先草台支樓（亦即，承載）光罩。其以視光罩之定向、微 影裝置之料及其他條件（例如，是否在真空環境中固持 光罩）而定的方式來固持光罩。光罩台可包括框架或台， 例如’其可根據需要而為固定或活動的。力罩台(及其控 制系统）可確保光罩處於（例如）相對於投影系統之所要位 光罩經由夾具而耦接至光罩台。通常，光罩經由真空夾 具而耦接至光罩台，該真空夾具可被實施為提供於光罩台 上之一或多個真空墊，其中光罩之圓周區域的至少一部分 固持於真空塾上。藉由夾具，產生光罩與光罩台之鄰近表 面之間的法線力，從而在光罩與光罩台之接觸表面之間導 致摩擦力。真空墊包括耦接至氣體放電及供應系統之一或 多個開口。替代光罩與光罩台之間的真空耦接，基於光罩 與光罩台之間的摩擦力之其他形式的耦接為可能的，諸 如，用以固持光罩抵靠光罩台之靜電或機械夾持技術。 在正在進行之開發中，對微影裝置所施加之不斷增加的 輸送量需求導致不斷增加之掃描速度。因此，光罩台之減 速及加逮會增加。在減速及加速階段中，增加的慣性力作 125534.doc 1357096 用於光罩台及光罩。 已知的是，作用於光罩台及光罩之慣性力可導致光罩與 光罩台相對於彼此滑動。該滑動通常為約奈米。對於相對 較低之減速及加速而言，滑動似乎為較低的且隨著時間而 為大致恆定的，從而隨著每一減速/加速階段而改變其方 向在此荨障;兄下，若滑動足夠低，則可忽略滑動，或可 藉由適合地校準控制光罩台及/或基板平臺之位置（且因 此，控制移動）的定位設備來補償滑動。 然而，在不斷增加之減速及加速的情況下，在光罩與光 罩台之間發生的滑動增加，且變得可變且無法預測。影響 滑動量之因素可包括（但可能不限於）彼此嚙合之光罩與光 罩台之表面的平坦度及粗糙度、處理光罩及光罩台所在之 乳氛的濕度、光罩或光罩台之污染物，及在由真空墊將光 罩固持於光罩台上時之真空度。因此，定位設備之校準將 不會引起光罩台及/或基板平臺在高慣性力之情況下的正 確定位。 不但移動速度及光罩台之加速可能傾向於增加，而且對 微影裝置之精確度需求可能變得更嚴格。因此，光罩之滑 動篗得較不可容許，因為光罩之滑動可導致投影於基板上 之圖案的位置誤差。 【發明内容】 需要偵測微影裝置中之圖案化設備的滑動。 根據本發明之一,實施例，提供一種微影裝置，該裝置包 括： 125534.doc 1357096 一照明系統，其經組態以調節輻射光束； 一支撐件，其經建構以支撐一圖案化設備，該圖案化設 • 備能夠在輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案以 形成一圖案化輻射光束； ·· 一基板台，其經建構以固持一基板；及 一投影系統，其經組態以將圖案化輻射光束投影至基板 之目標區上， • 微影裝置包括：一支撐位置感應器，其用以量測支撐件 相對於微影裝置之第一結構的位置；及一圖案化設備位置 感應器，其用以量測圖案化設備相對於微影裝置之第二結 構的位置，被影裝置之一控制設備經組態以自由支撑位置 感應器所量測之位置、由圖案化設備位置感應器所量測之 位置及第結構與第二結構之相互位置確定圖案化設備之 位置與支標件之位置之間的相關性。 在本發明之另一實施例中，提供一種用以在微影裝置中 • 制圖案化設備相對於支撐件之滑動之方法，該支撐件經 建構以支撐圖案化設備，該方法包括： 量測支撐件相對於微影裝置之第—結構的位置； : 量測圖案化設備相對於微影裝置之第二結構的位置； ·· 自支撐件之所量測位置、圖案化設備之所量測位置及第 -結構與第三結構之相互位置確定圖案化設備之位置與支 揮件之位置之間的相關性；及 自相關性導出圖案化設備相對於支撐件之滑動。 在本發明之又-實施例中，提供_種圖案化設備，其包 125534.doc -10- 1357096 含一用以與微影裝置之圖案化設備位置感應器合作的量測 圖案，該圖案化設備位置感應器用以量測圖案化設備之位 置。 【實施方式】 圖1示意性地描繪根據本發明之一實施例的微影裝置。 該裝置包括··-照明系統（照明器）IL，其經植態以調節韓 射光束例如，UV輻射或任何其他適合輻射）；一光罩支 揮結構（例如，光罩台）MT，其經建構以支樓—圖案化設備 (例如，光罩）MA且連接至第—定位設備⑽，該第一定位 設備PM經組態以根據某些參數來精確地定位該圖案化設 備。該裝置亦包括-基板台（例如，晶圓台赠或”基板支 芽件…!建構以固持一基板(例如，塗佈抗蝕劑之晶 圓）w且連接至—第二定位設備pw，該第二^位設備^經 組態以根據某些參數來精確地定位該基板。該裝置進一步 包括-投影系統(例如’折射投影透鏡系統)pl，其經組態 、藉由圖案化叹備MA來將被賦予輕射光束B 基心之目標區C(例如，包括—或多個晶粒）上。办至 照明系統可包括用於導向、成形或控制輻射之各種類型 的光學組件’諸如’折射、反射、磁性、電 他類型之光學組件，或其任何組合。 Ί 牵：2::構支_即，承載)圖案化設備。其以視圖 ^ ^ 谜影裝置之設計及其他條件（例如，是 化：ΓΓΓ固持圖案化設備)而定的方式來固持圖案 X先舉支揮結構可使用機械、真空、靜電或其他夾 125534.doc 1357096 符技術來固持圖案化設備。光罩切結構可為框架或么 例如，其可根據需要而為固定或活動的。光罩支掠結：可 確保圖案化設備處於（例如）相對於投影系統之所要位置 在本文中術語"主光罩"或”光罩"之任何❹可被視作與更 一般術語”圖案化設備，’同義。

本文中所㈣之術語”圖案化設備m乏地理解為指 代可用w在輻射光束之横截面中向該輻射光束賦予圖案以 便'基板之目標區中產生圖案的任何設備。應注意:、例 如’若圖案包括相移特徵或所謂的輔助特徵，則被賦予輕 射光束之圖案可能不完全對應於基板之目標區中的所要圖 案。通常，被賦予輻射光束之圖案將對應於設備中之在目 標區（諸如，積體電路）中被產生的特定功能層。 圖案化設備可為透射性或反射性的。圖案化設備之實例 匕括光罩、可程式化鏡面陣列及可程式化LCD面板。光罩 在微影方面為熟知的，i包括諸如二元、交變相移型及衰 減相移型之光罩類型，以及各種混合光罩類型。可程式化 鏡面陣列之-實例使用小鏡面之矩陣排列，此等鏡面中之 每一者可個別地傾斜，以便在不同方向上反射人射轄射光 束。傾斜鏡面在由鏡面矩陣所反射之輻射光束中賦予圖 本文中所使用之術語"投影系統"應被廣泛地理解為涵蓋 任何類型之投影系統，包括折射、反射、反射折射、磁 性、電磁及靜電光學系、统，或其任何組合，此適於所使用 之曝光輕射或適於其他因素（諸如，浸沒液體之使用或真 125534.doc -12· 使用）在本文中術語"投影透鏡"之任何使用可被視作 與更一般術語"投影系統"同義β 此處所描.會’該裝置為透射類型（例如，使用透射光 罩）。或者，該裝置可為反射類型（例如，使用上文所提及 之類型的可程式化鏡面陣列，或使用反射光罩)。 雙平臺）或兩個以上基板台或"基 板支樓件（及/或兩個或兩個以上光罩台或"光罩支#件 、類里纟此等多平臺"機器中，可並行地使用額外台或 支撐件’或可在-或多個台或支樓件上進行預備步驟，同 時將-或多個其他台或支撐件用於曝光。 微影裝置亦可為以下類型：基板之至少一部分可由具有 相對較高之折射率之液體（例如，水）覆蓋，以便填充投影 系統與基板之間的空間。亦可將浸沒液體施加至微影裝置 中之其他空間，例如，太出® w < 在光罩與投衫系統之間。浸沒技術 二用以增加投影系統之數值孔徑。本文中所使用之術語 ^又並不意謂使結構（諸如’基板）必須浸沒於液體中， 而是僅意謂在曝光期間使液體位於投影系統與基板之間。 參看圖卜照明IUL自輻射源⑽接收輻射光束。該源及 微影裝置可為獨立實體’例如，當該源為準分子雷射器 時。在此等狀況下，並不認為該源形成微影裝置之一部 分’且輻射光束借助於光束輸送系統肋而自源s〇傳遞至 照明器IL’該光束輸送系細包括（例如）適合之導向鏡及/ 或先束放大器。在其他狀況下’該源可為微影裝置之一整 體部分，例如，當該源為采燈時。源s〇及照明器化連同光 125534.doc •13· 1357096 束輸送系統BD—起（需要時）可被稱作輻射系統。 照明器IL可包括經組態以調整輻射光束之角強度分布的 調整器AD。通常，可調整照明器之曈孔平面中強度分布 之至少外部及/或内部徑向範圍（通常分別被稱作σ_外部及 • σ•内部）。另外’照明器IL可包括各種其他組件，諸如， 積光器以及聚光器CO。照明器可用以調節輻射光束，以 在其橫截面令具有所要之均一性及強度分布。 擊輻射光束Β入射至固持於光罩支撐結構（例如，光罩台 ΜΤ)上之圖案化設備（例如，光罩ΜΑ)上，且由圖案化設備 圖案化。在橫過光罩ΜΑ後，輻射光束Β穿過投影系統 PL，該投影系統PL將該光束聚焦於基板|之目標區匚上。 借助於第二定位設備PW及位置感應器IF(例如，干涉設 備、線性編碼器或電容感應器），基板台WT可精確地移 動，（例如）以便在輻射光束B之路徑中定位不同目標區c。 類似地，第一定位設備卩厘及另一位置感應器（其在圖丨中未 i 被明確地描繪）可用以（例如）在自光罩庫之機械擷取之後或 在掃描期間相對於輻射光束B之路徑而精確地定位圖案化 設備MA。一般而言，借助於長衝程模組（粗定位）及短衝程 - 模組（精定位）（其形成第一定位設備PM之一部分），可實現 -· 光罩台MT之移動。類似地，藉由使用長衝程模組及短衝 程模組（其形成第二定位器1>賈之一部分），可實現基板台 WT或"基板支撐件"之移動。在步進機之狀況下（與掃描器 相對），光罩台Μτ可僅連接至短衝程致動器或可被固定。 可使用光罩對準標記M1、M2及基板對準標κΡ1、P2來使 125534.doc 14 1357096 圖案化設備MA與基板w對準。儘管基板對準標記被說明 為佔據專用目標區，但其可位於目標區之間的空間中（此 等標記被稱作切割道對準標記）^類似地，在一 "'曰 θ 粒提供於圖案化設備或光罩MA上之情形中，光罩對準標 記可位於晶粒之間。 所描繪之裝置可用於以下模式中之至少一者中：

1.在步進模式中’使光罩台附或"光罩支撐件"及基板台 WT或"基板支#件"基本上保持㈣，同時—次將被賦予 輻射光束之整個圖案投影至目標區C上（亦即，單一靜態曝 光）。接著在X及/或γ方向上移位基板台寶丁或"基板支撐件，， 使得不同目標區C可得以曝光。在步進模式令，曝光場之 最大尺寸限制單-靜態曝光中所成像之目標^的尺寸。 2_在掃描模式中，同步地掃描光罩aMT或"光罩支撐件" 及基板台WT或"基板支撐件”，同時將被赋予輻射光束之

圖案投影至目標區C上（亦_ ’單一動態曝光）。基板台WT

或"基板支撐件”相對於光罩台MT4 "光罩支撐件"之速度及 方向可由投影系統PL之放大率（縮小率）及影像反轉特:確 定。在掃描模式中，曝光場之最大尺寸限制單—動態曝光 _目標區的寬度（在非掃描方向上），而掃描運動之長度蜂 定目標區之高度（在掃描方向上）。 3.在另一模式中，使光罩台逍或"光罩支揮件"基本上保 持固定’其固持可程式化圓案化設倩，且移動或掃描基板 台WT或”基板支撑件”，同時將被賦予輻射光束之圖案投 影至目標區C上。在該模式中’通常’在掃描期間，使用 125534.doc -15- 1357096 一脈衝式輻射源，且在基板台wt或"基板支撐件"之每一 後或在相繼輻射脈衝之間根據需要而更新可程式化 . _化設備。可易於將此操作模式應詩利用可程式化圖 案化设備（諸如，上文所提及之類型的可程式化鏡面陣列） . 之無光罩微影。 亦了使用對上文所描述之使用模式或完全不同之使用模 式的組合及/或變化。 φ 圖2及圖3各展示一固持圖案化設備或光罩MA2光罩台 ΜΤ»在操作中，可在由箭頭SD所指示之掃描方向上移動 光罩台。另外，圖2及圖3描繪投影系統p]L之上游透鏡ULE 及其座架MNT。圖2展示安裝有投影系統PL之度量學框架 MF。該度量學框架可充當微影裝置中之參考（亦即，參考 、’、α構）· 一方面，結構（諸如，在該實例中為投影系統）可與 其連接，而另一方面，可藉由將度量學框架用作參考來執 仃量測。在該實例中，後者為支撐位置感應器SPS之狀 _ 况該支撐位置感應器SPS量測支樓件相對於度量學框架 之位置。圖2進一步展示圖案化設備位置感應器pDps，其 經組態以量測圖案化設備或光罩相對於投影系統之位置。 : 當投影系統安裝至度量學框架時，此暗示圖案化設備或光 • 罩相對於投影系統之位置的量測亦提供關於圖案化設備或 光罩相對於安裝有投影系統PL之度量學框架之位置的資 訊。支撐位置感應器SPS以及圖案化設備位置感應器pDps 可包括任何適合類型之感應器’諸如，光學感應器（例 如，干涉儀或編碼器）、電感性、電容性或任何其他類型 125534.doc -16- 1357096 之感應器。用以量測光罩台之位置的現有光學感應器(例 如，編碼器、干涉儀）可包括於支撐位置感應器SPS中。 • 藉由量測圖案化設備或光罩相對於投影系統之位置且量 ㈣光罩台相對於參考（在該狀況下為安裝有投影系統之度 ·. 量予框架）之位置’可確定圖案化設備或光罩與光罩台相 對於彼此之位置。在參看圖2所描繪及描述之實施例中， 投影系統及度量學框架已被應用為量測位置所相對之結 • 構。一般而言，在此文獻之情形内，可相對於第一結構而 量測（藉由支撐位置感應器）支撐件之任何位置，而可相對 於第二結構而量測（藉由圖案化設備位置感應器）圖案化設 備之位置。因此，投影系統形成第二結構之實例，而度量 學框架形成第一結構之實例。如下文再更詳細地所闡釋， 第一結構及第二結構因此分別不限於度量學框架及圖案化 設備：第一結構及第二結構可包含微影裝置之任何其他參 考、樞架或元件。 # 投影系統（一般而言為第二結構）可與度量學框架（一般而 言為第一結構）互連，以藉此形成單一結構且可能省略由 (例如）結構位置量測系統Mrel確定（例如，量測）第一結構 : 相對於第二結構之位置的需要。或者，投影系統（一般而 : σ為第一結構）可能因各種原因而活動地連接至夫考框竿 (一般而言為第一結構）：例如，以允許度量學框架之振動 或其他移動的減幅《在活動連接之狀況下，微影裝置可綠 定投影系統與度量學框架相對於彼此之相互位置，且在確 定圖案化設備之位置與支撐件之位置之間的相關性時考慮 125534.doc •17- 1357096 相對位置。更進一步，第二結構可與第 立或活動連接<結構的狀況下，需要考:一=立。在獨 結構之相互位置。如在此獻、—結構與第二 等結構之相對位置”二:= 閣釋，可量測該 相對位置為微影裝置中之已::::置不會改變時’或當 定:=:Γ與一或多個先前量測或-或多個先前所確 :相對位置比較。圖案化設備或光罩相對於支推 與先前量測所比較之相對位置的差。相對位 參^/如 置與先前所確定之相對位置或任何其他 光果j 所要相對位置)之比較及圖案化設備或光罩與 CON執：間的’月動自該比較之導出可由圖2中之控制設備 微設備咖可形成現有控制設備（諸如， 〇、之微控制器、微處理器或其他控制設備）之-部 刀三可至少部分地由適合硬體形成以執行步驟。更一般而 二替代比較相對位置’可應用由圖案化設備位置感應器 測之位置與由支撐位置感應器所量測之位置之間的任 何相關性以確定滑動。 在已確定滑動後，控制設備可採取適當行動以補償此滑 動此等订動可包括在執行掃描移動時控制光罩台之位置 或位置時序、產生警報信號、停止微影裝置之掃描的 ' 等荨另外，可減少所施加之加速力以將滑動減少 至可接受限制内。 可將圖案化設備或光罩及光罩台之相對位置與先前已在 125534.doc 1357096 相同掃描方向上或在相反掃描方向上之移動期間所獲得之 相對位置比較。發明者認識到，當光罩台在交替方向上執 行（例如，掃描）移動時，圖案化設備或光罩可每次在移動 方向反轉時在兩個穩定位置之間滑動。此滑動可得自所確 疋之相對位置與光罩台在相反方向上之先前移動期間所獲 得之相對位置的比較。藉由比較在相同方向上之移動期間

所獲得之相對位置，可發現其他形式之滑動，諸如，圖案 化设備或光罩在一方向上之"浮動 圖案化β又備位置感應器可安裝至投影系統之任何適合部 分’例如’鄰近於其上游投影透鏡ULE、鄰近於此上游投 tx透鏡之座架MNT，藉此不干擾圖案化光束㈣至基& 上。另外，藉由將圖案化設備位置感應器安裝至投影系 統，可防止光罩台之額外複雜性，且藉此防止由光罩台所 =載之額外重i、額外體積’等等。藉此，關於光罩台之

冋掃描速度、尚加速等等的需求可能不受圖案化設備位置 感應器的不利影響。 如上文所閣釋，在以上實例中，圖案化設備位

、 —小〜p人問m罝執A 、及支撐位置感應器量測相對於連接至微影裝置之度, :架之投影系統的位置，藉此允許圖案化設備位置 疋位於投影系統上，從而提供上文所述之效應”戈者， 對於度量學框架而量測位置，或在另-實施例中，可相 於投影系統而量測該等位置中之—者（例如，光罩 同時可相對於度量學框架而量測㈣位置中之另—者< 如光罩口位置）。此等替代例取決於微影裝置中之現 I25534.doc -19- 1357096 位置感應器的可能使用，例如，用以量測光罩台相對於 (例如）度量學框架之位置的現有感應器。另外，更—般而 言’圖案化設備位置感應器以及支撐位置感應器可量測相 對於任何其他適合結構（例如，微影裝置之任何其他適合 部分）的位置。該結構可（例如）包括微影裝置之任何大體上 固定部分，亦即，微影裝置之任何非移動（例如，非掃描） 部分。藉由量測相對於大體上固定部分之位置，可提供穩 定且精確之量測，同時對應位置感應器可（至少部分地）安 裝至微影裝置之該固定部分，藉此可能防止微影裝置之活 動部分之質量及體積的增加。 參看圖2及圖3,圖案化設備或光罩MA2相對側區域在 其兩個相對側支撐件厘丁88處支撐於光罩台MT上。在彼此 嚙合之圖案化設備或光罩MA與光罩台厘丁之區域中，光罩 台MT具備提供於光罩台側支撐件MTSS之上表面中的真空 墊或其他附著設備（諸如，靜電夾具、機械夾具，等等）以 用於固持光罩MA抵靠側支撐件MTSS。圖案化設備或光罩 MA具備一具有表膜PE之表膜框架pF以使可能污染物保持 遠離光罩。作為此處所展示之實施例的替代，在光罩台之 不同實施例中，圖案化設備或光罩可應用於光罩台之底 側’而不是上侧。 如圖3所示，可提供複數個圖案化設備位置感應器（在該 實例中為3個感應器PDPS1、PDPS2及PDPS3)，其可具有 右干效應。首先，可應用複數個圖案化設備位置感應器以 在光罩台之不同位置範圍中沿其移動範圍執行位置量測： I25534.doc •20- 之其可擺脫該等位置感應器中之—或多者 =廄位置感應器現可允許利用其他圖宰化設備 位置感應器之其他可能效應。 文將描述複數個 在圖案化設備位置感應器包括編碼器之狀況下，編碼写 圖案可提供於圖荦化讯借4 '' ㈣η存 編碼器圖索可包括離 / ’’斋圖案(諸如，圖4中之圖案ρατι、ΡΑΤ2、ρ ，

亦可包括沿圖案化設備或光罩之-側(諸如，沿掃 °而U申之-側）而延伸的一或多個編碼器圖案，藉 t允許在光罩台之特定移動範圍内執行位置量測，此移動 1已圍=由編碼器圖案之長度尺寸確定。在離散圖案之狀況 下’ k號將僅在圖案處於編碼器之編碼器光束中時之時間 ㈣由編碼器提供，因此，編瑪器僅在光罩台之特定位^ 提供號X，可應用多個離散編碼器圖案，該等編碼

裔圖案係沿在光罩台之移動方向上延伸之圖案化設備的— 側而被遠離地布置。 在圖4中所描繪之圖案PAT1、pAT2&pAT3的情況下， 可以多個自由度來確定圖案化設備之位置。在投影系統上 使用二個對應編碼器後，可以多達三個自由度（當使用單 維編碼器時）或以多達六個自由度（當使用二維編碼器時， 例如，每一者以圖4之圖式平面中之維度以及垂直於圖式 平面之維度來提供位置）來確定圖案化設備或光罩之位 置。又，此處’可沿掃描方向而使編碼器圖案重複，以使 能夠沿掃描方向在支撐件之各種位置處利用編碼器來執行 125534.doc •21- 位置量測。以多個維度來 又木確疋圖案化设備或光罩之位置將 ::允許考慮圖案化設備或光罩在光罩台之移動方向上的 }月動，而且者磨.. '另一方向上的滑動（諸如，繞垂直於圖4 之圖式平面之軸線的旋轉）。 圖案化設備或光罩上之編碼器圖案可位於光罩之由表臈 所屏蔽的表面上或其外部。若位於由表膜所屏蔽之表面 則可^屏蔽表面之邊緣而定位編碼器圖案，在沿邊 、.時】條紋未由圖案化設備或光罩之圖案使用：歸因於 在圖案化設備上光束之高入射角，通常，條紋沿表臈框架 保持打開。又，編碼器圖案可置放於圖案化設備或光罩之 由表膜所屏蔽的表面外部，藉此，一方面，不干擾圖案化 光束投影至基板上’然@，另一方面，允許圖案置放於圖 案化設備之由表媒所屏蔽的表面外部，圓案化設備之由光 罩台側支料MTSS利持的—部分將可能f要被減少， 此可減少光罩上之固持力Q熟習此項技術者將瞭解，編碼 器圖案在光罩之表面之特定部分上的定位將需要編碼器在 投影系統上之對應定位。 本發明提供一種用以在微影裝置中偵測圖案化設備相對 於支撐件之滑動之方法，該支撐件經建構以支撐圖案化設 備，該方法包括：量測支撐件相對於微影裝置之第一結構 的位置；量測圖案化設備相對於微影裝置之第二結構的位 置，自支撐件之所1測位置、圖案化設備之所量測位置及 第一結構與第二結構之相互位置確定圖案化設備之位置與 支撐件之位置之間的相關性；及自相關性導出圖案化設備 125534.doc -22· 相對於支撐件之滑動。藉由此方法，可利用根據本發明之 微影裝置來獲得相同或類似益處及效應。又，可提供相同 或類似較佳實施例。 儘管可在本文中對微影裝置在1(:製造中之使用進行特定 參考，但應瞭解，本文中所描述之微影裝置可具有其他應 用，諸如，製造整合光學系統、用於磁域記憶體之導引及 偵測圖案、平板顯示器、液晶顯示器（LCD)、薄膜磁頭， 等等。熟習此項技術者應瞭解，在此等替代應用之情形 中在本文令術語"晶圓"或"晶粒"之任何使用可被視作分 別與更一般術語"基板"或"目標區"同義。可在曝光之前或 +光之後以（例如）軌道（通常將抗钱劑層施加至基板上且顯 影經曝光抗蝕劑的工具）、度量學工具及/或檢驗工具來處 理本文中所提及之基板。在可應用之處，可將本文_之揭 示内谷應用於此等及其他基板處理工具。另外，可不止一 次地處理基板，（例如）以便產生多層1C，使得本文中所使 用之術語基板亦可指代已經含有多個處理層之基板。 儘营上文已對本發明之實施例在光學微影之情形中的使 用進行特定參考，但應瞭解，本發明可用於其他應用（例 如，壓印微影）中，且在情形允許之處，不限於光學微 衫。在壓印微影中，圖案化設備中之構形界定在基板上所 產生之圖案。可將圖案化設備之構形壓於提供至基板之抗 钱劑層中’藉由施加電磁輻射、熱、壓力或其組合而將抗 蝕劑固化於基板上。在抗蝕劑固化之後，將圖案化設備移 出抗姓劑，從而在其中留下圖案。 I25534.doc -23- 1357096 本文中所使用之術語”輻射"及"光束"涵蓋所有類型之電 磁賴射’包括紫外（uv)輻射（例如，具有365、248、193、 157或 126 nm或約 3 65、248、193、157或 120 nm的波長）及 遠紫外（EUV)輻射（例如，具有5-20 nm之範圍内的波長）， • 以及粒子束（諸如，離子束或電子束）。 術語"透鏡"在情形允許之處可指代各種類型之光學組件 中的任何一者或其組合，包括折射、反射、磁性、電磁及 • 靜電光學組件。 儘管上文已描述本發明之特定實施例，但應瞭解，可以 不同於所描述之方式的方式來實踐本發明。舉例而言，本 發明可採用電腦程式之形式，該電腦程式含有描述如上文 所揭示之方法之機器可讀指令的一或多個序列，或一儲存 有此電腦程式的資料儲存媒體（例如，半導體記憶體、磁 碟或光碟）。 上文之描述意欲為說明性的而非限制性的。因此，熟習 • 此項技術者易於瞭解，在不脫離下文所陳述之申請專利範 圍之範疇的情況下，可對所描述之本發明進行修改。 【圖式簡單說明】 之一部分的 之支撐件、 之圖案化設 圖1描繪根據本發明之一實施例的微影裝置； 圖2描繪根據本發明之一實施例之微影裝置 示意圖（部分地以橫截面圖）； 圖3描繪根據本發明之一實施例之微影裝置 圖案化設備及投影系統的示意性橫戴面圖.及 圖4描繪根據本發明之一實施例之微影裝置 125534.doc -24- 1357096 備的高度示意性俯視圖。 【主要元件符號說明】 AD 調整器 B 輻射光束 BD 光束輸送系統 C 目標區 CO 聚光器 CON 控制設備 IF 位置感應器 IL 照明系統/照明器. IN 積光器 Ml 光罩對準標記 M2 光罩對準標記 MA 圖案化設備/光罩 MF 度量學框架 MNT 座架 Mrel 結構位置量測系統 MT 光罩支撐結構/光罩台 MTSS 相對側支撐件 PI 基板對準標記 P2 基板對準標記 PAT1 編碼器圖案 PAT 2 編碼器圖案 PAT 3 編碼器圖案 125534.doc -25- 1357096 PDPS 圖案化設備位置感應器 PDPS1 圖案化設備位置感應器 PDPS2 圖案化設備位置感應器 PDPS3 圖案化設備位置感應器 PE 表膜 PF 表膜框架 PL 投影系統 PM 第一定位設備 PW 第二定位設備 SO 輻射源 SPS 支撐位置感應器 ULE 上游透鏡 W 基板 WT 基板台 125534.doc •26-

Claims (1)

1357096 第096139706號專利申請案 中文申請專利範圍替換本(100年8月） 月Θ曰修正本 十、申請專利範圍： ι· 一種微影裝置，其包含： 一照明系統，其經組態以調節一輻射光束； 支撐件，其經建構以支撐一圖案化設備，該圖案化 設備能夠在該輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一 圖案以形成一圖案化輻射光束； 一基板台’其經建構以固持一基板； 一投影系統’其經組態以將該圖案化輻射光束投影至 該基板之一目標部分上； 支樓位置感應器，其用以量測該支撑件相對於該微 影裝置之一結構的一位置； 一圖案化設備位置感應器’其用以量測該圖案化設備 相對於該微影裝置之該結構的一位置；及 一控制設備，其經組態以確定該圓案化設備之該位置 與该支撐件之該位置之間的一相關性，並將該相關性與 一先剛移動之相關性比較，以估計該圖案化設備相對於 該支撐件之滑動。 2. 如請求項1之微影裝置，其中該結構包含該投影系統。 3. 如清求項1之微影裝置，其中該支撐件之該先前移動與 該支樓件之該移動係在一相同方向上。 4. 如睛求項1之微影裝置’其中該支撐件之該先前移動與 該支樓件之該移動係在相反方向上。 5 ·如明求項1之微影裝置’其中該圖案化設備位置感應器 女裝至該投影系統。 125534-1000819.doc 6. =項5之微影裝置，其中該圖案化設備位置感應器 至該投影系統之-上游投影透鏡的-座架。 置：：項5之微影裝置其中提供複數個圖案化設備位 =應器，該等圖案化設備位置感應器安裝於該投影系 統上之間隔開的位置處。 :::項1之微影裝置，其中該圖案化設備位置感應器 2 —編碼器量測頭以與該圖案化設備上之—編碼器圖 案合作^ 如請求項8之微影裝置，其中該编碼器量測頭包含一兩 個自由度編碼器量測頭。 =請，項8之微影裝置，其中提供三個圖案化設備位置 ’應态’每一圖案化設備位置感應器包含一兩個自由度 編碼器量測頭以提供一六個自由度圖案化設備位置信 1請求項8之㈣裝置，其巾該或每—編碼^量測頭經 疋位以沿該圖案化設備之由一表膜所屏蔽之一表面的一 側而偵測一編碼器圖案。 12.如請求項"之微影裝置，其中該側沿一圖案化設備掃描 方向而延伸。 .如吻求項11之微影裝置，其中該側大體上垂直於該圖案 化。又備掃描方向而延伸。 14·^請求項H)之微影裝置，纟中該或每—編碼器量測頭經 定位以在由該表膜所屏蔽之該表面外部偵測該圖案化設 備之—表面上的一編碼器圖案。 125534-10008l9.doc 15·:種在-微影褒置令仙卜圖案化設 動之方法，該支撐件經建構以支樓該 該方法包含： 茱化叹備， 量測該支樓件相對於該微影裝置之一結構的一位置； 量测該圖案化設備相對於該微影裝置之該結構的一位 確定該圖案化設備之該位置與該支撐件之該位置之間 的—相關性；及 ♦關丨生與一先前移動之相關性比較，以估計該圖 案化設備相對於該支撐件之滑動。 :求項15之方法，其中該結構包含一投影系統該投 影系，、先用以將—由該圖案化設備所圖案化之輻射光束投 影至基板之一目標部分上。 125534-1000819.doc