TWI342302B - A substrate splitting apparatus and a mehtod for splitting a substrate - Google Patents

Description

1342302 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明侧於-種基板分裂裝置及其使用之基板分裂方 法；具體而言，本發明係關於—種玻璃基板分裂裝置及其使 之玻璃基板分裂方法。 【先前技術】

玻璃板材、錢聚合物婦及各式板材係敍廣㈣ 液晶=面齡裝置及其他平面_裝置巾。姆之應用係包力 作為薄膜電晶體之基板、作為—般之基板、作為光學元片 或其他之應用。為配合不同尺寸之顯示裝置生產，需將整塊之 板材裁切成各種不同之尺寸。此外，在進行板材裁切時需考慮 各式板材之材雛質，域!_碓之靖結顧度，以雜 產品之良率。

以玻璃基板之裁切為例。圖i所示為傳統對玻璃基板進行 裁切之機台設備示意圖。如圖丨所示，裁切機台包含有台面 70。台面70上係由流片輸送設置載入玻璃基板2〇。機台刊 上並架設。支㈣下相掛财基板職5G。基板 裂塊50係可相對於支架3G上下移動，並對應於玻璃基㈣ 底面之-縣紋(树示）。基板職5G之上方係設有一鐘擊 裝置’當錘健置向下擊落時，基板· 5()即向下移動，並 錘擊玻璃基板20頂社相騎預做之 2〇則自預驗之物柯制並分為料，料 6 1342302 基板20之目的。 然而在此一切割方式中，由於錘擊使基板裂塊5〇產生之速 度較快，因此容易造成玻璃基板2〇之破裂。未減少破片之狀 ’況，需將賴紋之深度加深。細賴紋之位置係為未來切割 J $成後㈣絲2G之邊賴在。於加深職纟树，由於其加 工方式係對之玻璃基板20之結構造成影響，因此同時會影響 切割後玻璃基板之邊緣結構強度。 ® 【發明内容】 本發明之一目的在於提供一種基板分裂裝置及其使用方 法，供提升分割後基板邊緣之結構強度。 、 本發明之另一目的在於提供一種基板分裂裝置及其使用方 法’可提升產品之良率。 本發明之另一目的在於提供一種基板分裂裝置及其使用方 法，可配合較薄基板之切割製程。 • 絲分裂裝置包含伺服馬達、傳動裝置、基板縣塊及機 台。其中機台具有一機台台面’飼服馬達、傳動裝置及基板壓 裂塊均設置於機台台面上方。傳動裝置之一端係直接或間接連 接於伺服馬達’供輸出伺服馬達之動力。基板壓裂塊係直接或 ^接連接於傳動裝置之另—端。機台之機台台面係相對於基板 f裂塊’且舰馬義藉⑽_置驅祕板縣塊朝向機台 口面移動。基板係設置於機台台面上’且其底面係形成有預裂 紋。基板壓裂塊之延伸方向係與預裂紋相同 ，且伺服馬達係驅 7 1342302 動基板壓裂塊在朝向或遠離預裂紋之方向上移動。 本發明之基板分裂方式係包含下列步驟：首先於基板上形 成預裂紋。接著控制伺服馬達驅動基板壓裂塊朝基板移動。最 後控制基板壓裂塊自預裂紋對應位置壓迫基板。其中伺服馬達 控制步驟係包含當基板壓裂塊於不同行程位置時，改變伺服馬 達之驅動速度；以及藉由壓力感測裝置偵測基板之頂面位置， 以決定改變伺服馬達速度之位置。此外，基板壓迫步驟包含藉 由壓力感測裝置感測基板壓裂塊上之壓力值；當壓力值到達一 預設壓力值時，即停止基板壓裂塊之前進。 【實施方式】 本發明係提供一種基板分裂裝置及其使用之基板分裂方 法。此處所言之基板係較佳係為平面顯示裝置基板；然而在不 同實施例中，基板亦可為電路基板、晶圓基板及其他各式基 板。此外，在較佳實施例中，基板之材質係為玻璃材質；然而 在其他實施例中，基板亦可以有機樹脂或其他不同材質所形 成。 在圖2所示之實施例中，基板分裂裝置包含伺服馬達丨⑼、 傳動裝置300、基板壓裂塊500及機台7〇〇。其中機台7〇〇具 有一機台台面710，而伺服馬達100、傳動裝置3〇〇及基板壓 裂塊500均設置於機台台面710上方。伺服馬達1〇〇較佳係指 得控制速度或驅動路徑之馬達1〇〇，其種類包含定速伺服馬 達、變速伺服馬達、直流伺服馬達、交流伺服馬達及其他型式 8 1342302 之伺服馬達。 如圖2所示，傳動裝置之一端係直接或間接連接於飼 服馬達100，供輸出飼服馬達⑽之動力。在圖2所示之實施 例令，傳動裝置300具有動力輸入端⑽及動力輸出端聊， 其令動力輸人端310魅接或間接連接於錬馬達⑽。舰 馬達副&含有轉動螺桿11G，而傳動裝置咖之動力輸入端 310設有相應之螺孔。螺孔係套合轉動螺桿11〇。當轉動螺桿 11〇轉動’並同時限制動力輸入端310不作相應之旋轉時，即 可驅動傳動裝置_沿轉動螺桿UG轴向之方向產生位移。 基板縣塊500係連接於傳動裝置剔，且較佳 接地連接於傳動裝置之動力輸出端^此外，基板壓^ 塊500亦可採可分離的方式與傳動裝置3〇〇連接；亦即基板壓 裂塊與傳動裝錢〇間亦可有相對位移之產生。如圖2及 圖3所示，基板壓裂塊500係呈一長條狀設置，且横切 台面710。基板壓裂塊5⑼之材質較佳係為有機樹脂丨缺^ 不同實施例中，亦可採用金屬或其他材f。 … 如圖2及圖3所示，機台之機台台面？1〇係相對於基 板壓裂塊50G ’且伺服馬達⑽係藉由傳練置3祕二 壓裂塊500朝向機台台面训移動。基板200幸交佳解=基Ϊ 片機構(未繪示)傳送至機台台面71〇上。基板之 係形成有預裂紋’其形成方式包含_、鑽 雷射或化學加工方式。基板壓裂塊咖之延伸方向係與H 210 _ ’且伺服馬達1〇〇係驅動基板壓裂塊5〇〇在朝向或遠 9 1342302 離預裂紋之方向上移動。 如圖2及圖3所示，基板分裂裝置並包含有導軌400。傳動 裝置300與基板壓裂塊500係設置於導轨4〇〇上。導執400較 佳係垂直於機台台面710 ;換言之，導執4〇〇係導引傳動裝置 300與基板壓裂塊500在接近及遠離機台台面710之方向上移 動’並限制傳動裝置300與基板壓裂塊5〇〇在其他方向上之位 移或轉動。導轨400係直接設置於機台7〇〇上；然而在不同實 例中’導軌400亦可以懸吊方式設置於機台台面71〇上方。 在如圖4a所示之實施例中，傳動裝置3〇〇與基板壓裂塊5〇〇 在導軌400上亦可產生相對位移。換言之，傳動裝置3〇〇係以 可刀離方式與基板壓裂塊5〇〇連接。如圖处所示，當傳動裝 置300受伺服馬達1〇〇驅動沿導執4〇〇接觸基板壓裂塊5〇〇 時’傳動裝置300之動力輸出端330即推動基板壓裂塊5〇〇朝 機台台面710前進。 如圖5a所不，以基板壓裂塊5〇〇之底面為參考點而言，基 板壓裂塊500係具有第一行程61〇及第二行程62〇，其中第二 行程620係較第一行程61〇接近機台台面71〇。以圖5a之角 度觀之，基板壓裂塊500係經由第一行程gig進入第二行程 620後始得靠近機台台面71〇並與其上設置之基板2〇〇接觸。 在較佳實把例中’第二行程62〇之起始位置與基板2〇〇表面之 距離係小於2腦；換言之，機台台面71()之距離係小於2職加 上基板200之厚度。第二行程62〇之起始位置即等同於第一行 程610之結束位置。在較佳實施例十，基板慶裂塊5〇〇於此一 1342302 位置時，係已完成減速過程，將下降速度由第一速度減至第二 速度。 如圖5a所示’當基板壓裂塊500在第一行程610之範圍内 時’词服馬達1〇〇驅動基板壓裂塊500前進之速度係為第—迷 度。如圖5b所示’當基板壓裂塊500在第二行程620之範圍 内時’彳司服馬達100驅動基板壓裂塊500前進之速度係為第二 速度。在此實施例中，第一速度係大於第二速度，以節省製程 之整體時間；然而在不同實施例中，伺服馬達100亦可自始至 終均驅動基板壓裂塊500維持一定速前進。此外，第二速度較 佳係小於l〇mm/s ;然而在更佳實施例中，第二速度係小於 2麵/s。當以較慢之第二速度作為與基板200之接觸速度時， 基板壓裂塊500之緩壓作用即可將具有較淺預裂紋21 〇之基板 200分裂，以增加分裂後基板200之邊緣結構強度。特別是針 對厚度較薄之基板200，基板壓裂塊500需使用較慢之第二速 度進行壓裂。例如當基板200厚度小於〇. 3麵時，第二速度較 佳係小於2mm/s。 在圖6a及圖6b所示之實施例中，基板分裂裝置另包含連 接軸750。傳動裝置500係藉由連接軸75〇軸接基板壓裂塊5〇〇 之中段部分，且連接軸750係垂直於傳動裝置5〇〇之移動方 向。在此實施例中，連接軸750係橫切基板壓裂塊500，並與 機台台面710平行。當基板壓裂塊500與基板200接觸時，如 圖6b所示，可能因基板厚度不均或其他原因，導致基板壓裂 塊500之底面與基板2〇〇表面未能平行。此時連接軸wo即允 1342302 許基板壓裂塊500略旋轉至與基板200表面平行之狀態，以避 免產生因應力集中造成之良率下降。 在圖7所示之實施例中，基板分裂裝置進一步包含吸震裝 置Ή0。吸震裝置770係設置於連接軸750之外側，亦即與連 ‘ 接軸75〇位於不同鉛直線上。吸震裝置770係位於傳動裝置 500與基板壓裂塊500之間；當基板壓裂塊5〇〇相對於連接軸 750旋轉時，吸震裝置770即可吸收轉動帶來的能量，並減緩 $ 基板廢裂塊500轉動之速度。在此較佳實施例中，吸震裝置 770係成對設置於連接軸750之兩側；然而在不同實施例中， 吸震裝置770亦可僅設置於連接軸750之一側。此外，吸震裝 置770較佳係包含阻尼裝置，供轉化基板壓裂塊5〇〇旋轉產生 、 之動能；然而吸震裝置770亦可包含彈簧等彈性元件。 .. 如圖8a所示，基板分裂裝置另包含伺服處理器910及壓力 感測裝置930。伺服處理器91〇係訊號連接於伺服馬達1〇〇， 供控制伺服馬達100之輸出功率或速度。壓力感測裝置的〇係 % 直接或間接連接於基板壓裂塊500，並訊號連接於伺服處理器 910。在圖8a所示之實施例中，壓力感測裝置93〇係直接設置 於基板壓裂塊500之頂端’並對應於傳動裝置3〇〇之動力輸出 端330。當傳動裝置300下壓使動力輸出端33〇接觸基板壓裂 塊500之頂端時，t先壓迫壓力感測裝置93〇方能驅動基板壓 塊500。此時壓力感測裝置930係以與基板壓裂塊5〇〇串聯之 方式感測基板壓裂塊500上之壓力。然而在不同實施例中，如 圖8b所示，壓力感測裂置930，亦可設置於傳動裝置之動 12 厂、輪出端330上。當動力輸出端330壓迫基板壓裂塊500時， 墼力感測裝置930亦可偵得基板壓裂塊5〇〇上之壓力。此外， • Φ力感測裝置930亦可與基板壓裂塊5⑼以並聯方式連接。 ‘ α在圖9所示之實施例中，傳動裝置3GG包含分離之動力輸 入4 301及動力輸出部3〇3。動力輪入部3〇1係可移動地連接 於伺服馬達1〇〇,其中動力輸入端31〇係設置於動力輸入部3〇1 動力輸出部303係與基板壓裂塊5〇〇連動，亦即基板壓裂 • 塊500係藉由連接軸750軸接於動力輸出部303上。吸震裝置 0係°又置於動力輸出部303頂端之凸緣與基板壓裂塊500之 間。動力輸入部301及動力輸出部3〇3較佳均設置於導執4〇〇 上，並可沿垂直機台台面71〇之方向產生相對位移。 ' 如圖9所示’壓力感測裝置930係設置於動力輸入部301 • 及動力輸出部3G3之間，且位於動力輸出部303上。，然而在不 同實施例中’壓力感測裝置_亦可設置於動力輸入部301 上。此時壓力感測裝置930係間接與基板壓裂塊5〇〇連接。在 鲁 _ 9之實施例令，當飼服馬達⑽驅動傳動裝置3〇〇之動力輸 入部301時’動力輸入部301即驅動壓力感測裝置93〇以推動 動力輸出部303。此時麼力感測襄置93〇即可谓得基板壓裂塊 500上承受之壓力。 在圖10所示之實施例中，本發明之基板分裂方式較佳包含 步驟1010 ’於基板200上形成預裂紋21〇。預裂紋21〇之形成 方式包含切削、鑽孔或其他機械、雷射或化學加工方式。步驟 1030為控制伺服馬達1〇〇驅動基板壓裂塊5〇〇朝基板2〇〇移 13 L在較佳實施例中，舰馬達⑽輸出之轉動動力係經由傳 動裝置·觀域_力後始細驅祕板縣塊5⑼。步 ，_包含控觸_塊刷自紋21_位置塵迫 基板·基板塊_之延伸方輪⑽平行於預裂紋21〇 之方向。此外，由於預裂紋21G較佳係形成於基板之底面， 而基板壓賴_健縣板之咖，耻基板廢裂塊 500較佳係壓迫預裂紋21〇之對面。 在圖11所示之實施例中，飼服馬達控制步驟删包含步 驟聰，於基減裂塊5〇〇於第一行程61㈣時，控制基板 壓裂塊500以第-速度前進；以及步驟則，於基板麼裂塊 500於第二行程62〇内時，控制基板壓裂塊5〇〇以第二速度前 進。第一订程620係較接近基板2GG，且第-速度係大於第二 速度。然而在獨實施例巾，錬馬達丨⑽亦可控制基板壓裂 塊500維持-固定速度移動。第二速度較佳係小於腕/s ; 然而在更佳實關巾’第二速度係小於2mm/s。#以較慢之第 二速度作為與基板200之接觸速度時，基板壓裂塊5〇〇之緩壓 作用即可將具有較淺預裂、纹21〇之基板2〇〇分裂，以增加分裂 後基板200之邊緣結構強度。特別是針對厚度較薄之基板 200，基板壓裂塊5〇〇需使用較慢之第二速度進行壓裂。例如 當基板200厚度小於〇. 3刪時，第二速度較佳係小於2歷/5。 如圖U所示，伺服馬達控制步驟1030更可包含步驟1035 以壓力感測裝置930偵測基板2〇〇之頂面位置。此一步驟通常 於整批基板200中之第一片基板2〇〇載入時。在此步驟中，伺 1342302 服馬達驅動基板壓裂塊500下降與基板200接觸。當壓力感測 裝置930起始偵得基板壓裂塊5〇〇之壓力值時，即可定位為當 時基板壓裂塊500之底面位置為基板200之頂面位置。步驟 1037包含根據頂面位置決定第二行程620之起始位置。在較佳 ‘ 實施例中’第二行程620之起始位置與基板200頂面位置之距 離係小於2mm。此外，在圖11所示之實施例中，亦可省略步驟 1035及步驟1037。頂面位置之定位及第二行程62〇之起始位 置係可由直接手動設定伺服處理器910以控制伺服馬達丨00之 方式代替。 在圖12所示之實施例中，基板壓迫步驟1〇5〇包含步驟 1051，設置壓力感測裝置930直接或間接連接基板壓裂塊 . 500。其中壓力感測裝置930與基板壓裂塊5〇〇之連接方式係 , 包含串聯連接及並聯連接。步驟1053包含藉由壓力感測裝置 930偵測基板壓裂塊500承受之壓力。此一壓力係為基板壓裂 塊500壓迫基板200時產生之反力所形成。因此當基板壓裂塊 _ 500壓迫基板200越多時，此一壓力值亦隨之增加。 步驟1055包含當壓力達到一預設壓力值時，即停止基板壓 裂塊500之前進。由於基板200之厚度及預裂紋21〇之深度均 可事先設定，_可藉由實贼其齡析对得知造成基板 200上預裂紋210位置斷製時所需之壓力。此一壓力即可設定 在伺服處理器910中作為預設壓力。當壓力感測裝置93〇 _ 基板壓裂塊500上之壓力達到此一預設壓力時，即可判斷基板 200已於預裂紋時斷裂。此時伺服處理器91〇即控制飼服馬達 1342302 100停止輸出動力或反向輸出動力，以停止基板壓裂塊5〇〇之 前進。 基板分裂方式更可包含設置吸震裝置770於傳動裝置300 與基板壓裂塊500間。藉由此吸震裝置770之設置，可吸收基 板壓裂塊500與基板200接觸時產生之震動。此外，亦可以連 接軸750軸接基板壓裂塊500。當基板壓裂塊500與基板2〇〇 頂面非平行時，連接軸750使基板壓裂塊500旋轉以平均基板 壓裂塊500與基板200接觸時之應力分佈，並進而增加生產之 良率。 本發明已由上述相關實施例加以描述，然而上述實施例僅 為實施本發明之範例。必需指出的是，已揭露之實施例並未限 制本發明之範圍。相反地，包含於申請專利範圍之精神及範圍 之修改及均等設置均包含於本發明之範圍内。 【圖式簡單說明】 圖1為傳統基板分裂裝置之示意圖； 圖2為本發明基板分裂裝置之實施例正視圖； 圖3為圖2所示實施例之侧視圖； 圖4a為傳動裝置與基板壓裂塊分離之實施例示意圖； 圖4b為圖4a所示實施例之作動示意圖； 圖5a為基板壓裂塊位於第一行程之實施例示意圖； 圖5b為基板壓裂塊位於第二行程之實施例示意圖； 圖6a為包含連接軸之實施例示意圖；

16 1342302 圖6b為含連接軸之基板壓裂塊與基板接觸之實施例示意圖； 圖7為包含吸震裝置之實施例示意圖； 圖8a為包含伺服處理器及壓力感測裝置之實施例示意圖； 圖8b為壓力感測裝置之另一實施例示意圖； 圖9為傳動裝置之另—實施例示意圖， 圖10為本發明基板分裂方法之實施例流程圖； 圖11為基板分裂方法之另一實施例流程圖。 圖12為基板分裂方法之另一實施例流程圖。 【主要元件符號說明】 1〇〇伺服馬達 110轉動螺桿 200基板 210預裂紋 300傳動裝置 301動力輸入部 3〇3動力輸出部 31〇動力輸入端 330動力輸出端 400導執 500基板壓裂塊 610第一行程 620第二行程 17 1342302 700機台 710機台台面 750連接軸 770吸震裝置 910伺服處理器 930壓力感測裝置

Claims (1)

1. ^342302

   '申請專利範圍： 一種基板分裂裝置，包含： η η —伺服馬達，包含一轉動螺桿； 一傳動裝置’該傳動裝置之一端係連接該伺服馬達，其中 該傳動裝置係輸出該伺服馬達之動力，該傳動裝置包含： 一動力輸入端，係可軸向移動地連接該轉動螺桿，該動 力輸入端具有一螺孔，該螺孔係套合該轉動螺桿；以 及 一動力輸出端’係對應驅動該基板壓裂塊產生位移； 一基板壓裂塊，係連接於該傳動裝置；以及 一機台台面，係設置相對於該基板壓裂塊；其中該伺服馬 達藉由該傳動裝置驅動該基板壓裂塊朝向該機台台面移動。 2.如申凊專利範圍第1項所述之基板分裂裝置，進一步包含一導 執，其中該傳動裝置及該基板壓裂塊係設置於該導執上，該導 執導引該傳動裝置及該基板壓裂塊在接近及遠離該機台台面 之方向上移動。 3·如申請專利範圍第1項所述之基板分裂裝置，其巾該基板麼裂 塊相對該機台台面具有-第一行程及一第二行程，該第二行程 車乂該第一行程接近該機台台面，當該基板壓裂塊移動於該第一 行程内時，該伺服馬達驅動該基板壓裂塊移動之速度為一第一 速度；當該紐縣塊移動於該第二行程㈣，湘服馬達驅 動該基板壓裂塊移動之速度為一第二速度，該第一速度係大於 該第二速度。 4,如申請專利範圍第3項所述之基板分裂裝置，其中該第二行程 19 之起始位置與該機台台面之5巨離係小於2刪加上一基板厚 度。 如申明專利範圍第3項所述之基板分裂裝置，其中該第二速度 辞小於10 min/s。 g •如申請專利範圍第3項所述之基板分裂裝置，其中該第二速度 係小於2 mm/s。 η ’如申請專利翻第1機述之基板分裂裝置，進—步包含一連 1輪，其中該傳難置藉由該連接軸轴接該基板壓裂塊之-中 段部分，該連接軸係垂直於該傳動裝置之移動方向。 如申明專利範圍第7項所述之基板分裂裝置，進一步包含一吸 震裝置，設置於該連接轴之外側，其中該吸震裝置係位於該傳 動裝置與該基板壓裂塊之間。 .如申5青專利範圍第8項所述之基板分裂裝置，其中該吸震裝置 係包含一阻尼裝置。 10. 如申請專利範圍第1項所述之基板分裂裝置，進一步包含： 一伺服處理器，係訊號連接該伺服馬達；以及 一壓力感測裝置，該壓力感測裝置係直接或間接連接該基 板壓裂塊，並訊號連接於該伺服處理器； 其中，該壓力感測裝置係偵測該基板壓裂塊上之一壓力， 並轉換為訊號傳送至該伺服處理器。 11. 如申請專利範圍第10項所述之基板分裂裝置，其中該壓力感 測裝置係以並聯方式連接於該基板壓裂塊。 12. 如申請專利範圍第1〇項所述之基板分裂裝置，其中該麗力感 20 1342302 分， * ^ 測裝置係以串聯方式連接於該基板壓裂塊。 13. 如申請專利範圍第12項所述之基板分裂裝置，其中該傳動裝 置包含： 一動力輸入部’係可移動地連接該伺服馬達；以及 .， 一動力輸出部，係與該基板壓裂塊連動；其中該壓力感測 裝置係設置於該動力輸入部及該動力輸出部之間，該動力輸入 部係驅動該壓力感測裝置以驅動該動力輸出部。 14. 如申請專利範圍第12項所述之基板分裂裝置，其中該壓力感 測裝置係設置於該傳動裝置及該基板壓裂塊之間，該動力輸入 部係驅動該壓力感測裝置以驅動該基板壓裂塊。 15. —種基板分裂方法，包含下列步驟： 於一基板上形成一預裂紋； . 控制一伺服馬達驅動一基板壓裂塊朝該基板移動；以及 控制該基板壓裂塊自該預裂紋對應位置壓迫該基板； 其中該伺服馬達控制步驟包含： 於該基板壓裂塊於一第一行程内時，控制該基板壓裂塊以一 第一速度前進；以及 於該基板壓裂塊於一第二行程内時，控制該基板壓裂塊以一 第二速度前進；其中該第二行程係較接近該基板，且該第 一速度係大於該第二速度。 16_如申請專利範圍第15項所述之基板分裂方法，其中該第二速 度係小於10 mm/s。 17.如申請專利範圍第μ項所述之基板分裂方法，其中該第二速 21 度係小於2細/s。 18. =申凊專利範圍第15項所述之基板分裂方法其中該第二行 &之起始位置與該機台台面之距離係小於2_加上一基板厚 度。 19. 如申請專利顧第15項所述之基板分裂方法其巾該飼服馬 達控制步驟包含： 以壓力感測襄置偵測該基板之-頂面位置；以及 根據該頂面位置決定該第二行程之一起始位置。 20. 如申請專利範圍第15項所述之基板分裂方法 ，進一步包含設 置一吸震裝置機傳練置無基板壓裂塊間 ，以吸收該基板 壓裂塊與該基板接觸時產生之震動。 21. 如申請專利範圍第15項所述之基板分裂方法，進一步包含以 一連接軸軸接該基板壓裂塊，以平均該基板壓裂塊與該基板接 觸時之應力分佈。 22. 如申請專利範圍第15項所述之基板分裂方法，其中該基板壓 迫步驟包含： 設置一壓力感測裝置直接或間接連接該基板壓裂塊； 藉由該壓力感測裝置偵測該基板壓裂塊承受之一壓力；以 及. 當該壓力達到一預設壓力值時，停止該基板壓裂塊之前進。 23. 如申請專利範圍第22項所述之基板分裂方法，其中該壓力感 測裝置設置步驟包含以串聯方式連接該壓力感測裝置及該基 板壓裂塊。 22 1342302 24. 如申請專利範圍第22項所述之基板分裂方法，其中該壓力感 測裝置設置步驟包含以並聯方式連接該壓力感測裝置及該基 板壓裂塊。 25. 如申請專利範圍第15項所述之基板分裂方法，進一步包含限 制該基板之厚度小於0. 3mm。 23