TWI325066B - - Google Patents

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1325066 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種對來自指向性光源之φ % 元硌力D以規定之 光學裝置、與具有邊光學裝置之光照射梦署η 法。 衮置及光照射方 【先前技術】 於雷射或LED(Light Emission Diode;路伞 _ ，货尤一極體）等 向性光源中，藉由選定自其光源所出射之指 丨王死之光點 形狀、光點大小、光量以及能量分佈等， 期之光。 ❿了謀未形成預 例如，雷射光廣泛應用於半導體製造、液晶或有機電致 發光顯示器之製造中所使用之光罩缺陷修正，進而亦廣泛 應用於TFT基板之配線修正中所使用之雷射修復、雷二退 火、雷射清洗、以及雷射钱刻等各種加工，而雷射光束之 品質’於自光源出射之階段’未必經加工後成為 態。 例如，於光束内部之平面，即盥 I興尤路正父之面内，能量 強度存在較大不均時，由肤厍 , 田此原因而產生加工對象之雷射光 於被照射體之加工面内的， n的加工不均（加工速率之不均）。 對於έ玄問題’先前對雷私本由# τ 了田射先束於平面之能量強度分佈， 即能量分佈進行測定以彡乡, 旦 後精由狹縫等僅使光束剖面之能 量不均較少之部分通過，〜 或者错由透鏡等擴大光束寬度以 減緩不均，以此形成隆 、 7 ^降低此里不均之雷射光並進行照射， 並且使用於上述加工中。 108467.doc 1325066 然而’該等方法導致利用狹縫遮斷之光束部分之能量損 耗’或者擴大光束寬度而照射時所使用之雷射光之能量密 度下降等，使能量損失增大。 對此’提出有如下方法，即，使用稱為均質器之光學元 件，於例如使雷射光多次反射期間，使光束分佈平均化 等’藉此手法緩和雷射光束内能量分佈之不均（參照例如 專利文獻1至4)。 專利文獻1 :特開平8_338962號公報 專利文獻2 :特開平1 1-352419號公報 專利文獻3 :特開2〇〇 1_350 1 17號公報 專利文獻4 :特開2002-224877號公報 [發明所欲解決之問題] ，然而，-般由於均質器構造複雜，或者含有較多部件 等’而成為進行雷射加卫之光照射以’即光學系統結構 之成本上升之原因。 人’於光照射裝置中 田扣凡俯盟雄4指丨DJ,丨王尤郯所 μ置邻 光之光路上’設置有用以將光導向被照射體 二:：加工部的鏡面，或者用以集中光點之透鏡等各種 =件，而當均質器構造複雜時，例如因某些裝置故障 等)時二況/生變化(光束分佈形狀之變化/光軸偏離 統機構全體進行再調整，故無法在=;、=光學系 修，使裝置修復需要較長時間。^時間内完成故障檢 進而，光束狀況之變化情況，有時亦難以僅由調整光學 J08467.doc 規格，二： 必須改變或更換均質器本身之 規仁疋均質器之設計對應於構成上述光照射 向性光源或光照射裝置全體之結構，例如必須藉由= 光分佈之測定而對各雷射個體分別設計均質器， 預料光束狀況之變化而預先準備更換用均質器。因此難以 I此’特別理想的是’生產現場所使用之光照射裝置之 光學糸統盡可能具有簡單之構造。 、 本發明係馨於上述問題研製而成，其目的在於提供 可=學系統結構之複雜化’並且可形成預期指向性光 之=、ί裝置、構成該光照射裝置之光學裝置、以及使用 上述光照射裝置與光學裝置之光照射方法。 【發明内容】 本發明之光學裝置之特徵在於包括：光學部件，里 成為來自指向性光源之光的入射面及出射面之第一：第二 主面，且含有折射率大於1之材料；以及支持部件，其至 對於上述光學部件之搖動機構；並且可使藉由上述 持部件而進行摇動之上述光學部件之上述第—及第二主 面，對於來自上述指向性光源之光之光路傾斜。 即’本發明之光學裝置可彌補先前技術之缺點，例如於 雷射光加工時，自雷射光之振盪源至加工部的雷射光束之 光路途中h玻璃板等光學部件，於光照射時改變光學部 :光軸之角度，藉此有意偏離雷射光之光軸，並利用 使光學部件之角度自動搖動之機構，使指向性光源之光軸 對於加工面搖動。 108467.doc =發明之光照射裝置之特徵在於：至少具有指向性光源 ::定來自該指向性光源之光之光路之光學裝置，上述光 子裝置包括：光學部件，並且古 八/、有成為來自指向性光源之光 的入射面及出射面之第一及第- 及弟一主面，且含有折射率大於 之搖動機構；可使藉由上述支持^有對於上述光學部件 上述支持部件而進行搖動之上述光 學部件之上述第一及第二主& a 之光之光路傾斜。—對於來自上述指向性光源 本發明之光照射方法之牲 驟甘收 之特徵在於：含有光學部件配置步 驟，其將具有第一及第二主面且 ^ 之光學部件，配置為使上述第J折射率大於1之材料 ω 史上述第一及第二主面對於來自沪南 性光源之光之光路傾斜；以及… ㈣於來“向 ..., 及光照射步驟，其藉由利用上 迷光學部件之搖動’對來自上 二=上 以規定’以此進行特定之光照射。先源之先之先路加 [發明之效果] 〜件’其*有* 件’其含有對於該光學部件之率搖大動^之材料；以及支持部 件而進行搖動之光學部件之第動機構’可使藉由支持部 向性光源之光之光路傾斜，二一主面，對於來自指 雷射之光之光路形狀或方 ：向性先源’例如來自 以及能量分佈等之中至少任％狀、光點大小、光量 又，根據本發明之光照射求改善光學特性。 與規定來自該指向性光源 i^具有指向性光源 之光路之光學裝置，該光學 108467.doc ν)υ66 ^包括部件，其具有第—及第二主面，且含有折 /大於1之材料，以及支持部件，其含有相對於該光與 二件之搖動機構；可使藉由支持部件而進行搖動之^學： 斜=及第一主面對於來“曰向性光源之光之光路傾 '故可將例如以雷射光等指向性光之分佈不均句性為原 之照射能量對於加工面之不均勾性利用能量均化加以改 ，於使用雷射之加工中，可謀求提高加工精度與加工可 靠性，並且亦可謀求裝置結構，即製作成本之減少。 再者，根據本發明之光照射方&，因含有：光學部件配 置步驟，其將具有第一及第二主面且含有折射率大於k 材料之光學部件，配置為使第一及第二主面對於來 2源之光之光路傾斜；以及光照射步驟，其藉由利用曰光 子。ρ件之搖動，對來自指向性光源之光之光路加以規定， &此進行特定之光照射，故於產生光軸偏離或分佈變化 夺對於對應於此等而用以使光束均勻化之機構部分，即 光學部件，不必進行再調整。 因此，可縮短對生產現場所產生之裝置故障之處理時 P故J5早仏修時間’即使於量產方面亦可提昇生產性 等，根據本發明可產生重要且眾多之效果。 【貫施方式】 下述，參照圖式’就本發明之實施形態加以說明。 (光學裝置之實施形態） 首先’說明本發明之S學裝置之實施形態。 士圖】A所不’本實施形態之光學裝置】包括·光學部件 W8467.doc 1325066 2，其含有例如玻璃，以及支持部件4，其至少含有相對於 該光學部件2之搖動機構3。 光學部件2包括於本實施形態中大致相互平行之第一主 面5及第二主面6，其為來自下述雷射等指向性光源（未圖 示）之光的入射面及出射面，且含有折射率大於丨之材料， 進而藉由支持部件4，並經由搖動機構3 ,使第一及第二主 面5及6傾斜並支持於來自上述指向性光源之光的光軸。 於指向性光折射透過光學部件2之前後，在入射光^之 光軸與出射光L2之光軸之間，如圖2所示，對於光學部件2 中第-主面5之入射角以及來自第二主面6之出射^，產 生於光學部件2内之折射角β，並由此產生偏離寬度你。該 偏離寬度w可藉由例如選定第一主面5與入射光^之光軸之 角度、光學部件2之厚度、以及構成光學部件2之材料等， 而進行調整與選定。 即，相對於例如含有玻璃之光學部件2之表面即第一主 面5’以人射角為α之角度而人射之光，在玻璃與空氣之邊 界面產生折射，並且其前進方向朝向折射角為β之方向 另-方面，於玻璃板背面即第二主面6,再次向入射角為^ 之方向折射並出射。設空氣折射率為A、破璃折射率為Β 時，上述角度〇1與0可由[數丨]而規定。 此處，使相對於光學部件2之入射光角度， 少正交於光軸之面而士（例如_45。至+45。左右）搖動， 可出射光L2之出射光光轴搖動。出射二 幅即偏離寬度，可藉由光學部件2 干 < 搌 与厪、材料 '以及振 • η · 108467.doc 1325066 角度等進行調整，於雷射分佈不均稍有奮亂時，可使振 角度較小’而發生較大紊亂時，可使振動角度較大。、 [數1]

Sin(a)/Sin(p)=B/A

動 動 於該結構之光學裝置！中，藉由連接於例如馬達（未圓示） 之搖動機構3，以大致平行於入射光卜及出射仙之光路 ^搖動軸為中心，使光學部件2連續旋轉，即伴隨馬達之 旋轉，使光學部件2相對於雷射光軸之傾斜產生變化，故 折射透過光學部件2以後之光軸，在與光軸垂直相交之平 面’以固有之半徑作圓周運動。 藉由該圓周運動，使第一主面5及第二主面6搖動，如圖 1B所不，可獲得由入射光Li而產生之出射光^中具有不同 分佈之部分相重複之重複區域c。 該重複區域c藉由例如與光學裝置卜分開設置、並對出射 光L2之位置及剖面形狀之至少一方加以規定之狹縫等選定 機構（未圖示）而選擇取出，由此可獲得雷射光其抑制 光學特性下降或能量損& ’並且課求分佈之平均化。換言 之^由與該雷射光L3所對應之重複區域⑽持均衡，亦 可選定上述振動角纟、或光學部件之角度、厚度、以及材 將上述搖動機構插入光照射裝置内之光路途甲，由此可 產土光軸之搖g。根據該結帛，除可以㈣之構造獲得與 先：句貝器相同之效果以外’相對於光軸之搖動產生機構 女裝位置’無需嚴密之安裝位置精度，故安裝作業亦較 J08467.doc 為間早’在因故障而與預先調整之光軸產生偏離時，亦不 必對遠搖動機構進行嚴密之位置調整，因此可使搖動 對於光輪之位置關係之確認簡潔化。進而，於光束之分佈 、？化時’將其構成及設計為使光束之搖動振幅留有餘 裕，藉此亦可無需調整本身。 、 纟面5與入射光[1之光軸之角度’即光學部 :特角度係可變，即可調節，並且，可根據目標光 子例如光點半經或者欲平均化區域c之尺寸，適當 ^先學部件2之厚度或者與構成光學部件2 ::二於本實施形態中，較理想的是，入射机與出射 斜角2度。離寬度，於可確保重複區域。之程度内，選定傾 又’例如使搖動機構3及支持料4之任 =動即旋轉所不同之彎曲，藉此於獲得預丄： 先例如雷射光L3以後，可使光學部件2向入射认 以外移動’並且可使其構成為適 光學裝詈〗夕亦ss私 w个貫她形態之 :裝置!之先照射，例如雷射光分佈中之能量不 成為問題之用途中之光照射。 _ ’’未 動二：本實施形態中，對於光學裝置】中搖動機構3之搖 光…平行之情形加以說明，而本發 月之先學裝置並非限定於此，當構成為可課 ：： =分佈中能量平均化等，使光學特 := 即，例Μ構成為可使光學部=: 軸所成之角度產生變化時，致動器之種類、： i08467.doc 1325066 限定於以上所述。 例如，如圖3所示，光學部件2以大致垂直於入射光乙丨之 光路之搖動軸為中心，於不偏離入射光“之光軸之角度範 圍内進行往返旋轉動作’藉此結構亦可使第一主面5及第 一主面6搖動，並可獲得雷射光具有相互不同分佈之部分 相重複之重複區域’並且伴隨上述搖動而產生之平均化， 可降低雷射光能量分佈之不均。 | (光照射裝置之實施形態） 繼而，說明具有上述光學裝置！之本發明的光照射裝置 之實施形態。 如圖4所示，本實施形態之光照射裝置丨丨至少包括：光 學裝置1，其具有上述光學部件2(未圖示）；以及指向性光 源例如运射光源12 ’其產生指向性光’折射透過該光學裝 置1之光學部件2。 本實施形態之光照射裝置11係以雷射加工裝置為例，作 • 為本發明之光照射裝置之一例，其可對平臺18上之被照射 體19進行照射’並進行雷射加工，除光學裝置1與指向性 光源12以外’亦具有：選定機構’例如可變式狹縫13，其 規定折射透過光學裝置1之出射光La之位置與剖面形狀之 至少一方；光學元件，例如透鏡14 ,其用以將通過選定機 構13之光導向平臺18上被照射體19之配置部，即加工部； 鏡面15與物鏡16 ;以及照明17，其用以使狹縫13之辨認性 提高。 進而，於本實施形態中，亦可將觀察機構2〇及觀察用照 108467.doc 以）U66 明21與鏡面22一併設置，用以觀察對被照射體以之雷射照 射以及於被照射體]9之照射狀態。 於該結構中，與上述光學裝置之實施形態中同樣地，藉 由搖動機構3，使構成光學裝置丨之光學部件2，例如以大 致平行於入射光Ll及出射光光路之搖動轴為中心而連 續旋轉’以A於本實施形態巾，在A致相互平行之第一主 面及第一主面6產生搖動時，可根據入射光L〗，而獲得雷 • 射光具有不同分佈之部分相重複之重複區域。 進而，於本實施形態中，該重複區域^^藉由例如與光學 裝置1分開設置 '並對出射光之位置及剖面形狀之至少 一方加以規定之狹縫等選定機構13而選擇取出，以獲得指 向性光L3，並由此形成雷射光，抑制光學特性下降：能量 損耗，並且可謀求分佈之平均化。 # S < 1該情形時’ t自光源12發出指向性光，作為 入射光L,而入射至光學裂置1後，於光學裝置i内折射透過 .並作為L2而出射，進而經由選定機構13而成為雷射光L3， 謀求藉由平均化而抑制能量強度分佈即能量分佈之不均， 並且由光學元件而照射至被照射體19。 再者，與上述光學裝置中同樣地，在獲得預期指向性光 例如雷射光L3並進行例如雷射加工時，可使光學部件2(未 圖示)向入射光L】之光路以外移動，而本實施形態中，藉 由預先使光學裝置1本身為可拆卸之結構，在拆卸以後， 亦可使其構成為適合於例如雷射光分佈中能量不均並未成 為問題之光照射及雷射加工。又，於該情形下，亦可使其 108467.doc 丄325066 構成為’於光學裝置1之配置部 置其他光學元件。 又’如圖5A所示，將選定機構 微稱13δ又置於更加接近被照射 體19之位置，例如物鏡16面前，# & 〗精此可使照射至被照射體 19之指向性光，例如雷射光之輪愈 亢乙輪廓更加明晰，並且可將利 用光學特性例如能量之平均化而洋炎 叫°呆衣分佈改善之雷射光， 選擇性照射至僅被照射體19之預期位置。

除光學裝置1以外，可配 即，於該情形時，如圖5Α至圖5C所示，對於例如光學 部件2位於搖動即連續旋轉中#寺定位料，相冑於第—透 過光L2之光路a，以及位於另外位置(例如，自光路&形成時 之位置繞搖動軸旋轉180。後之位置)時，相當於第二透過光 乙2之光路b，分別僅有以虛線(1表示的選定機構U之開口部 所相當之成分到達物鏡16，故可將利用光學特性例如能量 之平均化而謀求分佈改善之雷射光引向被照射體Η之表 面’並可以優良精度對被照射體19之加工區域外形進行加 工 〇 (光照射方法之實施形態） 繼而，以上述實施形態中所說明之使用圖5所示的光照 射裝置11為例，對本發明之光照射方法之實施形態加以 明。 ° 首先，進行光學部件配置步驟，將具有光學部件2(未圖 不）之光學裝置1配置為，使本實施形態中大致相互平行之 第一主面5及第二主面6(未圖示）傾斜於來自指向性光源之 光的光路Lj。 108467.doc 丄 jzDuoe) 繼而，進行光照射步驟，藉由使上述光學部件2搖動， 而規疋來自指向性光源12之光的光路Li，作為預期光路 L2 ’進而根據須要，藉由可變狹縫等選定機構13，僅將預 /月之位置形狀選擇引導至透鏡14，並經由鏡面Η、物鏡 16，而對平臺18上之被照射體19形成預期之照射光，以對 被照射體19進行光照射。 根據该光照射方法，可使自光學部件2出射之雷射光 • L2 ’ 一直保持為與Li平行之光軸，並搖動而形成，並且可 使早位時間内賦予加工面之雷射照射能量，於被照射體Η 之加工面内均勻化。 再纟’較S想的是’於進行f亥光照射步驟以前，光學部 件2開始搖動’即光學部件2以大致平行於光路μ之搖動轴 為中開始進灯連續旋轉動作，或者以大致垂直於光路 動軸為中〜開始進行往返旋轉動作，以使構成光學部 牛之第主面5及第二主面6搖動，而形成相對於光軸之 鲁2度^ ’但是於並非特別須要考慮光學部件2之旋轉狀 ,:、定!生時’只要無特別障礙，亦可與光照射同時開 始’或者遲於光照射而開始。 光予。卩件配置步驟，於光學裝置丨可自光照射裝置 、j夸或者於構成光學裝置1之光學部件2可向光路1^ 、：動時’如本實施形態所說明，必須緊接於光照射步 丧护引^仃，而當構成為與光學裝置1一體設計而難以拆 °藉由裝置製造時光學部件之安裝，進行光學部件 108467.doc 1325066 (實施例） 以下說明本發明之實施例。 圖6A表示II由上述實施形態、中所說明之使用有本發明之 光學裝置的光照射方法，對500 nm厚度之鋁薄膜，以波長 携nm、脈衝寬度3皮秒_〇秒）、照射能量〇13 Μ,;之 條件進行雷射光照射，而實施開口形成加工之結果。

由該結果可知，考慮到光學部件2通過時之能量損失， 儘管實際照射能量為0.12m;W左右，仍可無膜殘留而進 行目標加工，而且基本未見伴隨加工而產生之粉塵。 與此相對’未經由本發明之光學裝置而使用先前之光照 射方法，樣之铭薄膜’以波長39〇⑽、脈衝寬度3 _秒、照射能量(M3錢條件進行雷射光照射，以 實施開口形成加工時，如圖6B所示，其中一部分可見有膜 殘留。 又，未經由本發明之光學襄置而使用先前之光照射方 法，對同樣之铭薄膜’以波長39〇⑽、脈衝寬度3 — 秒、照射能量(M5 mJW之條件進行雷射光照#，實施開 口形成加工時，雖不見膜殘留，但是可確認於加工所形成 之開口之周圍，附著有很多粉塵。 由以上結果可確認，根據使用有本發明之光學裝置之光 照射方法’即使於更少之照射能量下，藉由使用改善指向 性光之分佈即使能量均等化之雷射光，而可以更高精度與 可靠性進行雷射光照射及雷射加工。 如上實施形態所說明，根據本發明之結構，對於指向性 I08467.doc i 1325066 光源例如雷射光之光點形狀、光點大小、光量以及能量分 佈等中之至少任—纟，可謀求光學特性之改善，又，由於 指向性光之分佈不均勾性而引起對於加工面之照射能量之 不均勻性’可藉由能量均等化而改善，於使用雷射之加工 中’可媒求加工精度與加工可靠性之提高，進而，相比於 使用有例如均質器之結構，可謀求裝置結構即製作成本之 降低除此而外’於產生光軸偏離或分佈改變時，相比於 例如使用有均質器，可縮短故障檢修時間，並且於量產時 亦可提高生產性。 又’可避免使用狹縫遮斷之光束部分之能量損耗，或因 擴大光束寬度而使照射所用之雷射光之能量密度下降等， 以獲得更高能量利用率’除此而夕卜亦可利用光學部件之 搖動’擴大實效之光束光點半徑，以自由改變雷射光之尺 寸’並且根據用途’亦可不利用狹縫而獲得光束半 期之光學特性。 再者’於上述實施形態之說明所列舉之使㈣料及盆使 用量、處料間以及尺寸等數值條件，僅為適宜之例，、並 且亦為說明所使用之各圖中之大小形狀及配置關係之概略 情形。換言之’本發明並非限定於該實施形態。 例如’指向性光源可為LED，光照射之目的亦可 工’例如可適用於照明等，於該情形時，為形成預期： 路，構成光學部件之第一及第二主面亦可不必大致相互平 行0 又，例如 光源本身即使為非指向性，亦可於到達光學 l08467.doc -19· =以前賦予其指向性’關於上述連續旋轉動作及往返旋 作，既可增減旋轉速度，亦可與靜止狀態相組合。 又，對於人射光L1之波長或脈衝寬度亦無限制，但是例 如上述雷射光之加工’作為較好的波長範圍，可舉266⑽ 至⑽“m左右，作為較好的脈衝寬度，可舉飛秒級至奈 二及。再者’脈衝寬度較大時，出現粉塵之產生或再附著 :2傾向’但是於本發明之光照射方法中，根據構成被 之材料，亦可選定飛秒級至皮秒級之脈衝寬度。 又，被照射體之材料並非限定於紹，除所有金屬以外， ，可為氧化石夕、氮化石夕等，並且光學部件2之材料亦非限 2玻璃，根據目標波長之光之透過率及折射率，例如折 “可以1.4至2.2之範圍為中心’而適當進行選擇。 s又，於無須上述重複區域時’亦可例如以中央為空之圓 射光之光路’並進行光照射。 進而’光學部件2之形狀，亦可考慮搖動時之平衡而選 圓盤狀’除此而外，本發明只要不偏離上述入射光之光 路’亦可選定例如主面為正方形之板狀等，可進行各種變 形及變更。 【圖式簡單說明】 圖1 B刀別係表示構成本發明之光學裝置之一例 的：略結構圖、以及係用以對藉由本發明之光照射方法而 、付的私向性光之一例加以說明之模式圖。 圖係用以對構成本發明之光學裝置之光學部件加以說 明之模式圖。 l08467.doc 圖3係用u對本發明之光學裝置 例加以 。 ^ <祕式 圖4係表示構成本發明之光照射裝置之-例的概略結構 圖5 A至圖5C分別係表示本發明之光照射裝置之其他例 的概略結構圖、以及用以對該例中選定機構加以說明之第 一及第二模式圖。

之光照射方法所獲得的 圖6A至圖6C分別係根據本發明 方法所獲得之被照射體之 被照射體之照片、以及根據先前 第一及第二模式圖。 【主要元件符號說明】

1 光學裝置 2 光學部件 3 搖動機構 4 支持部件 5 第一主面 6 弟-.主面 11 光照射骏置 12 指向性光源 13 選定機構 14 透鏡 15 鏡面 16 物鏡 17 照明 108467.doc 1325066 18 平臺 19 被照射體 20 觀察機構 21 照明 22 鏡面 108467.doc ·Π·

Claims (1)

1325066 ^ 095113019號專利申請案 中文申請專利範圍替換本(98年10月） qp 十、申請專利範圍： L 一種光學裝置，其特徵在於包括： :學部件，其具有成為來自指向性光源之光的入射面 ::面之第一及第二主面’且含有折射率大於1之材 支持部件，其至少含有相對於上述光學部件之搖動機 ，並且可使藉由上述支持部件而進行搖動之上述光學 部件之上述第一及第二主面’對於來自上述指向性光源 之光之光路傾斜；且 上述第一及第二主面大致相互平行。 2·如請求項1之光學裝置，其中 可使至少上述光學部件向來自上述指向性光源之光之 光路以外移動。 3. 如請求項1之光學裝置，其中 使上述第一及第二主面對於上述光路之傾斜角度可 變。 4. 如請求項1之光學裝置，其中 上述指向性光源係雷射光源。 5·如請求項1之光學裝置，其中 上述搖動機構之搖動軸係上述光學部件之連續旋轉動 作之中心抽，且使其對於上述光路大致平行； 上述第一及第二主面之搖動係藉由上述搖動機構之旋 轉動作而進行。 6.如請求項1之光學裝置，其中 108467-981008.doc 之機構之搖動㈣上述光學料往返旋轉動作· 之中心轴，且使其對於上述光路大致垂直； 勒作 上述第一及第二主面之搖動係藉由上述搖動機椹 返動作而進行。 “動機構之往 7. 一種光照射裝置，其特徵在於：至少具 規定來自該指向性光源之光之光路之光學裝置；源與 上述光學裝置包括： 光學部件’其具有成為來自指向性光源之光的入射面 及出射面之第-及第二主面，且含的入射面 料；及 3有折射率大於1之材 支持部件，其至少合右斜私μ、+、μ w 構；並且 〇有對於上^學部件之搖動機 可使藉由上述支持部件而進行搖動之上述光學部件之 ^第—及第二主面，對於來自上述指向性光源之光之 光路傾斜；且 上述第一及第二主面大致相互平行。 8. 如請求項7之光照射襞置，其中 使上述光學裝置可拆卸。 9·如請求項7之光照射裝置，其中 設置有選定機構，其規定來自上述指向性光源之光的 位置及剖面形狀之至少一方。 10.如請求項7之光照射裝置，其中 設置有觀察機構，其係相對於來自上述指向性光源之 光之照射者。 108467-981008.doc 光照射方法’其特徵在於含有： 11.- 光學部件配置步驟，其將具有第一及第二主面且含有 折射率大於1之材料之光學部件，配置為使上述第一及 第一主面對於來自指向性光源之光之光路傾斜；及 光照射步驟，其藉由利用上述光學部件之搖動，對來 自上述指向性光源之光之光路加以規定，藉此進 之光照射；且 % 上述第一及第二主面大致相互平行。 1 2 如請求項1 1之光照射方法，其中 光照射後’使至少上述光學部件向來自上述指向性光 - 源之光之光路以外移動。 1 3 .如請求項1 1之光照射方法，其中 上述指向性光源係雷射光源；並且 藉由上述光照射而進行被照射體之加工。

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