TWI307185B - Dual plate type organic electroluminescent device and method of fabricating the same - Google Patents

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TWI307185B
TWI307185B TW095121446A TW95121446A TWI307185B TW I307185 B TWI307185 B TW I307185B TW 095121446 A TW095121446 A TW 095121446A TW 95121446 A TW95121446 A TW 95121446A TW I307185 B TWI307185 B TW I307185B
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Ahn Tae-Joon
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Description

1307185 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明涉及一種電致發光顯示裝置,更具體地涉及一種雙板 型有機電致發光顯示裝置及其製造方法。 【先前技術】
在平板顯示器(FPD)中,有機電致發光(EL)裝置在研究和開發 上尤其受到關注’因為它們與液晶顯示器(LCD)裝置相比是具有寬 角度和高對比度的高發射型顯示器。有機EL裝置與其他類型的顯 不裝置相比重1;輕且小,因為它們不需要背光。有機EL襄置具有 其他可取的特徵’例如低雜、高亮度和快速回應時間。當驅動 有機EL裝置時,健需要低的直流電流(Dc)。並且,能得到快速 回應間。不餘晶顯讀置’有機肛1置整卿成在固相穿置 中。因此,有機EL裝置足夠牢固能忍受外部碰撞和具有更大_ 作溫度範圍。並且,以包括少量製程步驟的相對簡單的製程製造 =肛裝置。因此’與生產LCD裝置或電聚顯示面板(卿目比 機虹^置更加廉價。_地,僅僅沉積和封裝製程對於製 造有機EL裝置是必要的。 、衣 ^ ^ 〜它从霄尤顯示裝置的示意性電路 圖。在圖1巾,·線和觀_此交以 電路 線平行於資料線且從資料線分開 Ά °電源 -元件連接到_和資料線⑽㈣ 5 l3〇7l85 D也連接到有機電致發光(EL)二極體£。 斤開關薄膜電晶體Ts調節驅動薄膜電晶體&的閑電極之電 =’且儲存電容CsT儲存用於驅賴膜電晶體。的㈣極 日電向電流供應給有機证二極體£的有機發光材料層 正 笔子通過電洞供應層的陽極和電子供應層的陰極穿過 八負(N)接面向彼此移動並複合。由於複合電洞—電子對具有比 刀開H電子較低的能量,從錢發光材料層發射出與複合 σ刀開的H電子對之間的能量差對應的光。 θ是示出了根據現有技術的有機電致發光顯示裝置的示音 ^截―面圖,圖2中,第—基板u和第二基板51面對且彼二 …沾13屯成在第一基板11的内表面上。相鄰子像素區 3处之間的邊界區域CA上,絕緣層π和隔離物20依次形成在 的第一電極H _ 光材辦Μ和第 2〇之間的子像素區域犯中,有機發 9矛弟一電極30依次形成。在製造製程中,有機發光 才才难23 %\i策—啼^ ^ 、 电杨30通過沉積製程獨立地形成在每個子像素 ♦- 隹琢沉積製程中隔離物20防止連續層的沉積。第一 包極13第一電極30和有機發光材料層25構成了有機電致發光 ^L)—極體Ε。雄然在圖2喊面圖中未示出’在平面圖中, 隔離物2G具有圍繞每個子像素區域SP的網格形狀。 包括薄膜電晶體(TFT ’未示幻陣列元件層Μ形成在第二 1307185 基板51的内表面上的每個子像素區域SP中。連接電極58也形成 在連接到陣列元件層55的第二基板51的内表面上。連接圖案7〇 軸在每個子像素區域sp中並連接第一基板n的第二電極%和 第二基板51的連接電極58。 密封圖案80形成在第一基板n和第二基板51的邊界區域 中因此’在第-基板Π和第二基板M之間的内部間隔由密封 圖案80密封。另外,在雜氣體或真空魏下馳和密封第一基 板11和第二基板51贿得畴職不暴制麟或空氣。 有機電致發光顯示(OLED)裝置!的隔離物2〇具有倒_ 形狀以使得有機發光材料層25和第二電極3〇獨立地形成在每個 子^素區域“SP”中。因此,靠近第一基板u的第一部分隔離物% 的寬度比遠離第-基板Η的隔離物2〇的第二部分的寬度更小, 隔離物20的寬度隨著距離第一基板u峨跑煙㈣減七在 製造製程巾’在隔雜2〇形成後,由蒸鍍有機發光材卿成有機 發光材料層25。通過沉積金屬材料形成第二電極3()。#由蒸鍛方 法形成時’錢發光材料層Μ的覆蓋步觀#由沉積方法形成時 的第二電極30的覆蓋步驟更好。因此,有機發光材料擴散得比金 屬材料更好。在每個子像素區域sp中,有機發光材料層25具有 比第二電極30的面積更大的面積。結果,有機發光材料層25的 邊緣部分被第二電極3〇暴露了。當有機發光材料層 25暴露時, 加速了有機發光材料層25的劣化。因此,即使當在第—基板^ 7 1307185 也細紐了 QLED裝置1崎命。 料排離物2G包括有機絕緣材料。當加熱時,有機絕緣材 有…蓋1=有機發光材料劣化。由於有機發光材料層25沒 4 η 的_,有觀輯料㈣緣部分暴露了。 二物2崎靖敍了錢並劣化了有機 货縮=_25。因此’由於排氣使得0LED裝置i的壽命進—步 【發明内容】 =,本發财及—種有機電致發光顯示裝置及其製造方 個問題:質上解决了由於現有技術的局限和缺點產生的一個或多 為了貝現le些和其他優點和根據本發明的目的,如體現和卢 战述的《,有機·發絲稀置包括彼絲對且分開的第 -勤反和第二基板。第一電極位於第一基板上,和包括第一部分 2弟二部分的隔離物位於第—電極上。第—部分和第二部分的每 一個具有向彼此投影的投影部件,和被投影部件局部封閉的區 域。有機發光層位於在子像素區域中的第 度。第t電極位於有機發光層上。陣列元件層位於第:= 包括職電晶體。連接_電連接第二電極和_電晶體。 ,在另—方面,製造錢電致發光顯示裝置財法包括在具有 子像素區域和圍繞子像素區域的邊界區域的第—基板上形成第一 8 1307185 電極。在邊界區域中的第—電極上形 七货厂+ 風、,色緣圖案,該絕緣圖案具 度。絕緣層形成在絕緣圖案上,該絕緣圖案具有第二厚 度蝕刻絕緣層以形成彼此分開的第一 杜㈣^影部件和第二投影部 ’心豪圖案通過彼此分開的第一投影邹件和第二投影部件 出:刻以形成彼此分開的第—區域和第二區域的縣, 第二區域相對於第—投影部件和第二投影部件/ 切。在子像素區域中的第一雷極 w ㈣紐切成有機發光層,和在有機發 曰形成紅電極。在第二基板上形成相元縣。 極和陣列元件層之一上形成 —冤 沾 搞成連接圖案,且第-基板和第二基板粘 …,以使得連接圖案電連接第二電極和薄膜電晶體。 •路 在另一方面,有機電致妓顯示裝置包括彼此分開的第—基 細第—基板’第一基板其上具有電極。隔離物覆蓋電極並在第 基板和第—基板上限定像素區域。隔離物包括限定電極的邊界 區或的=偶之第-部分和第二部分,每個部分包括覆蓋電極的區 /覆農第圖案的上表面且延伸在區域邊緣之外的投影部件。 有機發光層覆蓋電極和每—部分的投影部件。 在另-方面,製造用於有機電致發光顯示器的隔離物的方法 包括在基板上形成具有第—厚度的絕緣酸。在此絕緣圖案上形 成具有第二厚度的猶層。絕緣層以形成彼此分開且暴露絕 緣圖案的-部分㈣―投影部件和第二投影部件。朗絕緣圖案 以形成彼此分開且底切郷部件㈣—區域和第二區域,以使得 I3〇7i85 第一部分和第二部分凹陷在各 之下。 自的第一投影部件和第二投影部件
應$理解上述—般的描述和下面詳細的描述都是示例性的並 ^向於提供如申料利範圍所述發明的進-步轉。 【實施方式】 將對本發㈣優選實施例與在_巾描述的例子進行詳細說 圖3疋4 了根據本發明實補的雙板财機紐發光顯示 裝置的示意性戴面圖。 在圖3中,雙板型有機電致發光顯示(0LED)裝置1〇1包括 面對且彼此分開的第—基板lu和第二基板i5i。在第—基板⑴ 的内表面上形成有機電致發光(EL)二極體E,在第二基板⑸的内 表面上形成包括驅動薄膜電晶體TD的陣列元件層。連接圖案180 形成在第—基板111和第二基板⑸之間的子像素區域SP中。連 接圖案18G電連接到在第—基板m上的有訊二極體E和在第 二基板151上的陣列元件。 P使在圖3中未7,密封®案形成在第-基板111和第二 基板151的邊界區域中,以把在第一基板111和第二基板151之 間的内4間隙從外部空氣密封以枯貼第一基板⑴和第二基板 151通過⑨封_在分隔的間隙中形成真空。密爛案也可以是 以又密封ϋ案的形式’其帽由隨之間的小難分隔,以形成 兩個分開的圖案。 10 1307185 特別地,在第一基板⑴地内表面上 一 ::極山上的邊界區域CA中形成隔離物m。第一== 且有mr如氧化鋼锡(ίτο)和氧化鋼辞_)。隔離物^ ==的部分,該兩部分包括含有第—區域咖與第二區域 域】2〇一 第一投影部件125和第二投影部们26。第-區 二咏弟二區域隱包括無機絕緣材料如氮化石夕(购且彼此 /刀隔開。形成在第-電細上的第—區域i2Qa和第:區域隱 的每一個具有_表面、外側表面、接㈣_電極ιΐ3的底表面 和與底表_對_表面。第—投影料125和第二投影部件⑶ 包減機絕緣材料如氧切(Si〇2)和並分棚繞在第—區域哪 和第二區域120b。因此’第一投影部件125覆蓋第一區域咖 的頂表面和外側面’第二投影部件126覆蓋第二區域通的頂表 面和外侧面。 另外,隔離物130具有底切形狀’其中第一投影部件125和 第二投影部件126分別延伸到第一區域i施和第二區域丨施的 頂表面之外。因此,第一投影部件125包括接觸第一區域12〇&的 外側面的第一區塊125a和從第一區塊125a延伸的第二區塊 125b。第二部分125b覆蓋和延伸在第一區域12〇a的頂表面之上。 同樣地,第二投影部件126包括接觸第二區域i2〇b的外側面的第 二區塊126a和從第三區塊126a延伸的第四區塊126b。第四區塊 1307185 126b覆蓋和延伸在第二區域12% _表面之上。結 no具有欄杆形狀’其具有_空腔和在其職面具有開口。第— 區域120a和第二區域120b的内側面暴露。並且,在第—區域 和第二區域磁之間的第-距離以大於第二區塊挪和第四= 塊126b之間的第二轉d2。第-區域12〇a和第二區域㈣之間 的第-厚度ti可以等於或大於第一投影部件125和第二投影部件 126的第二厚度t2。例如,第一厚度tl和第二厚度可以在約 2000A至8000A的範圍内。 有機發光材料層135形成在被隔離物13〇圍繞的子像素區域 SP中的第-電極113上,第二電極140形成在有機發光材料層: 上。由於第二電極MG完全覆蓋有機材料層135,有機發光材料層 135沒有暴露且防止了有機發光材料層135的劣化。另外,由於即 使加熱時無機材料也轉職,餘防止了排氣,無機材料的隔 離物130不會排氣和劣化有機發光材料層135。第—電極113、有 機發光材料層135和第二電極14〇構成了有機肛二極體“E”。第 -電極U3可以具有比第二電極⑽更高的功函數。並且,有機 發光材料層135和第二電極14〇通過隔離物m單獨地在每 像素區域SP中形成。 ♦η在圖3中未不出’在第二基板151上的每個子像素區域 3中的陣列元件層包括多個薄膜電晶體。連接電極175連接到陣 列兀件層的驅動薄膜電晶體丁0上,且連接圖案180形成在連接電 12 1307185
極Π5上。驅動薄膜電晶體Td包括被閘絕緣層157覆蓋的閘電極 155。含有主動層160a與歐姆接觸層16%之半導體層1⑹被形成 在閘絕緣層I57上。源極區⑹和汲極區⑹覆蓋半導體層咖 的歐姆接觸層祕。-鈍化層170被形成在源雜165與及電極 167上。該鈍化層17〇有一曝露沒電極167之接觸孔,而在純化層 Π0上之連接電極175則透過該接觸孔與汲電極π?相連接。在子 像素區域的薄膜電晶體和驅動薄膜電晶體τ〇中,可以利用多晶 石夕、非晶矽和有機半導體材料製造導電層。 可以在第-基板m和第二基板151的其中一個的製造製程 期間,在第-基板m和第二基板151的其中—個上形錢接圖 案則。在另-實關情使設置連接圖案⑽以覆蓋在圖3中的 _物m,連接圖案⑽可以設置在子像素區域犯中且沒有覆 盍隔離物130。由於圖3的OLED裝置ιοί g = 衣i川1疋頂發射型,即使當 連接圖案180設置在子像素區域sp中且沒右 τ且/又有覆蓋隔離物13〇時, 也能防止顯示品質的劣化。 圖4Α至4Η是根據本發明實施例之用 %有機電致發光顯示裝 置的電致發光基板的製造製程之示意性截 了單子像素區域 戢囟圖。圖4Α至4Η示出 在圖4Α中 巴域仰# Ρ祕U1具有子像錢繞子像 ^ <邊界區域CA,航積透科電材料如氧化姻錫仰 和氧化鋅錫(ΙΖΟ)在第一基板lu上形成第1极⑴。 1307185 在圖4B中,在第一基板1 2 3上形成第一無機絕緣材料層(未 示出)’且在第-無機絕緣材料層上形成第一光阻(細⑽如, PR)層(未示出)。f 一無機絕緣材料層可以具有在約2〇〇〇A至約 8000A的範圍内的第-厚度tl,且可能包括氮化邦_。然後, 具有透過區域和阻播區域的第一遮罩(未示出)設置在第一光阻 層上’光通過第-遮罩輕照到第—光阻層上。在藉由顯影第一光 阻層形成第-光阻圖案(未示出)後,使用第—光阻圖案作為餘 刻遮罩侧第-無機絕緣材料,以在邊界區域CA巾形成第一無 機絕緣材棚案118。因此,第—無機絕緣材料_ ιι8可以且 在約聊A至8000A的範圍内的第一厚度u。由於第一無機絕緣 材料圖案118和覆蓋第一無機絕緣材料圖案118的彎曲圖案(在 圖中的125、126),用作有機發光材料層的隔離物,形成第一無 機^^材料職118以具有第—厚度u,其比有機發光材料層的 ^厚度t3更大(在圖3中的135)。另外,當在有機發光材 ^層上進—步形成附加層如電子注人層、電子傳輸層、電洞傳輸 14 1 和電洞注人相改善發射效树,形成第-無機絕緣材料圖案 2 、一有比所有層的厚度更大的厚度。無機發射材料層可以具 約l5〇〇A的第三厚度“t3” 。 3 案1在圖4C中,第二無機絕緣材料層122形成在第一無機絕緣圖 ” 18上。第二無機絕緣材料層丨22可以具有在約200oAi8〇〇〇A 之間的第二厚度t2,和可以包括氧化矽(Si〇2)。為了完全覆蓋第一 1307185 無機絕緣材料圖案118,第二無機絕緣材料層122的第二厚度口 可以等於或大於第一無機絕緣材料圖案118的第一厚度u。然後, 在第二無機絕緣材料層122上形成第二光阻層191。例如,第二光 阻層可以是其中暴露部分被除去的負型。然後,在第二光阻層⑼ 上設置具有透過區域τ和阻獅域B的第二遮罩19s,光穿過第 二遮罩195輻照到第二光阻層191上。
在圖仍巾,藉由顯影第二光阻層191 (圖4C)在第二無機 絕緣材料層122上形成第二光阻圖案192。 在圖犯巾藉由使用第二光阻圖案192作為姓刻遮罩钱刻第 ΐ無機絕緣材料層122 (_)形成_—投影部件和第 -投影部件126的第二無機絕緣_。彼此分開的第—投影部件 125和第二投影部件126設置在邊界區域a中 投影部件125和第二投影部件176 # 糟由弟 砍Ή〜 场卩件⑶^ —電極出暴露在子像素區 域处中务無機絕緣材料層118暴露在邊界區域a中。 暴露的^㈣^通過第—投影部件125和第二投影部件126 恭路的弟一有機絕緣材 第二區域㈣。由於第1 (圖4E)以形成第一區域咖和 投影部件125和第二 緣材料圖請(圖— 件有與弟—投影部件125和第-措旦,邱 =_率不同,率。例如 過:二 氣化兔)氣體的乾侧法細 CF4(E9 機絕緣材 13® 婉 1533 料圖案m (圖4E)和二氧切⑽2)的第一投影部件和第二 5影部件125和126,_ CF顧之氮切_軸刻率高於 ^❿氣體之__〇2)的侧率。因此,第—無機絕緣材 f圖案118 (圖4E)的關量大於第一投影部件⑵和第二投影 、6的钱刻量’並且餘刻第-無機絕緣材料圖案118 (圖4E) 以通過第-區域120a和第二區域·暴露第一電極⑴。另外, (由於第一區域120a和第二區域·被過_ 了,第一投影部件 125的第二區塊125b覆蓋並延伸出第—區域遍的頂表面,第二 投影部件126的第四區塊126b覆蓋並延伸出第二區域12%的頂 表面。、结果’第-區域12〇a和第二區域i2〇b相對於第一投影部 件125和第二投影部件126分別具有底切形狀。投影部件125包 覆第-區域120a的ϋ表面和側表面,投影部件126包覆第二區域 120b的頂和侧表面。 因此,第一區域120a、第二區域i2〇b、第一投影部件125和 第二投影部件126構成了具有兩個雙摺雙層結構的隔離物13〇。並 且’在第一區域120a和第二區域和i2〇b之間的第一距離“dl”大於 在第二部分125b和第四部分126b之間的第二距離“d2”。並且, 由於具有倒圓錐結構之第一投影部件125和第二投影部件126的 外侧面實質上分別地垂直於第一電極113,在不從第一投影部件 125和第二投影部件126的外表面分離的情況下,有機發光材料層 和第二電極完全接觸隔離物13〇的外表面。 16 .0®(7I«5533 在圖4G中’在通過灰化法或剝離法除去第二光阻圖案i92(圖 4F)後,在每個子像素區域SP中的第一電極上形成有機發光材料 層135。有機發光材料層135可以通過蒸鍍有機發光材料形成。由 於第一區域120a和第二區域120b相對於第一投影部件125和第 二投影部件126的底切形狀在第一投影部件125和第二投影部件 126之間切割有機發光材料135,在第一區域12〇a和第二區域12〇b 之間的第一電極113上形成為辅助有機發光材料圖案。因此,有 機發光層135藉由隔離物130分隔且在每個子像素區域sp中單獨 地形成。 在圖4H中,在每個子像素區域sp中的有機發光材料層135 上形成第二電極14〇〇可以通過沉積鋁(A1)和鋁(A1)合金如鋁鈥 (AINd)的其中一種形成第二電極14㈧例如,第一電極113可 具有南於第二電極140的功函數。類似於有機發光材料層135,第 二電極140藉由_物13G分取單獅形絲每個像素區域 “sp”中。另外,由於第一投影部件125和第二投影部件126的外 表面分別以倒圓錐結構垂直於第一電極113,第二電極14〇完全覆 蓋在每個子像素區域SP +的有機材料層135和在邊界區域CA中 的隔離物130。結果,有機發光材料層135沒有暴露並防止了有機 發光材料層135的劣化。第—電極出、有機發光材料層135和第 一電極140構成了有機乱二極體e。 根據本發明的另-方面’可以在第二電極14〇上形成吸氣材 17 08m«B533 '料或吸收層(未示出)。吸氣材料優選為金屬或類金屬材料如賊 來自兀素週期表中的HA族的另—元素。吸氣材料吸收水蒸汽和 其他氣體,如械示器_隙區域内產生的氧氣。 雖然在圖4A至4H中未示出,導電材料的連接圖案18〇⑽ 3)可以形成在第二電極⑽上。在另—實施例中連接圖案18〇(圖 3)可⑽成在姆的基板上。錢,在真空條件和惰性氣體條件 下的其中-種條件下使用密封圖案枯結具有有機EL二極體“£,,的 (第一基板111和具有陣列元件層的第二基板151,以使得連接圖案 180接觸第-基板111的第二電極14〇和第二基板151的驅動薄膜 電晶體Td。 隨後,在根據本發明的雙板型0LED裝置中,由於隔離物具 有雙擅雙層,有機發光材料層沒有通過第二電極暴露。因此防 止了有機發光材料層的劣化。另外,由於隔離物包括無機絕緣材 料,即使加熱隔離物也不會喷出氣體。因此,防止了由於噴出氣 (體產生的有機發光材料層的劣化。並且,由於包括tft的有機肛 二極體和陣列元件層分別形成在第一基板和第二基板上,改善了 產量且減小了製造成本。 本領域的技術人員很清楚在不脫離本發明的精神和範圍的情 況下’對有機電致發光顯示裝置和製造方法可以作出多種修改和 改動。因此,本發明傾向於覆蓋在所附申請專利範圍和等價物内 提供的本發明的修改和改動。 .wm^533 【圖式簡單說明】 圖1是根據蝴麟的有機f致發絲稍置細意性電路 平面圖 圖 圖2是&了根據侧技術的有機電致發細㈣置的示专座 示 是示出了娜本㈣實施儀雙板财機電致 裝置的示意性截面圖。 光顯 圖4A至4H是示出了根據本發明實施例的用於有機電致發光 顯示裝置的電致發光基板的製造製程之示意性截面圖。 【主要元件符號說明】 1 :有機電致發光顯示裝置 11 : 第一基板 13 :第一電極 17 : 絕緣層 2〇 .隔離物 25 : 有機發光材料層 30 :第二電極 51 : 第二基板 55 :陣列元件層 58 : 連接電極 70 :連接圖案 80 :密封圖案 101 ··雙板型有機電致發光顯示裝置 111 :第一基板 113 :第一電極 118 :第一無機絕緣材料圖案 122 :第二無機絕緣材料圖案12〇:區域 1307185 .200701533 165 :源極區/源電極 170 :鈍化層 180 :連接圖案 195 :第二遮罩 E:有機電致發光二極體 120a:第一區域 125 :第一投影部件 125b :第二區塊 126a :第三區塊 130 :隔離物 140 :第二電極 155 :閘電極 160 :半導體層 160b :歐姆接觸層 CA :邊界區域 Td :驅動薄膜電晶體 d2 :第二距離 120b :第二區域 125a:第一區塊 126 :第二投影部件 126b :第四區塊 135 :有機發光材料層 151 :第二基板 157 :閘絕緣層 160a :主動層 167 :汲極區/汲電極 175 :連接電極 191 ··第二光阻層 192 :第二光阻圖案 SP :子像素區域 dl :第一距離 tl :第一厚度 t2 :第二厚度 t3 :第三厚度 T :透過區域 B :阻擋區域 CST :儲存電容 Ts :開關薄膜電晶體

Claims (1)

  1. 7KS5533 十、申請專利範圍: 1、 一種有機電致發光顯示裝置,包括: 面對且彼此分離的第一基板和第二基板; 在第一基板上的第一電極; 包括在第一電極上的第一部分和第二部分的隔離物’第一部分 和第一部分的每一個具有彼此投影的投影部件,以及被投影部件 局部密封的區域; 在子像素區域中第一電極上且具有第一厚度的有機發光層; 在有機發光層上的第二電極; 在第二基板上的陣列元件層,該陣列元件層包括薄膜電晶體; 以及 電連接第二電極和薄膜電晶體的連接圖案。 2、 如申請專利範圍第1項之裝置,其中第二電極完全覆蓋有 機發光層。 3、 如申請專利範圍第丨項之裝置,其中第一部分和第二部分 的區域具有第二厚度,且藉由第一距離彼此分開。 4、 如申請專利範圍第3項之裝置,其中每個區域具有内侧表 面、與内侧面相對的外侧面、接觸第一電極的底表面和與底表面 相對的頂表面’且其中每個郷部件包括: 接觸區域的外側面的第一區塊;以及 從第一區塊延伸和接觸區域的頂表面的第二區塊。 5、 如申請專利範圍第4項之裝置,其中每個部分的第二區塊 21 1307185 由比第一距離小的第二距離彼此分開。 6、 如申請專利範圍第3項之裝置,其中投影部件和區域之每 —包括無機絕緣材料。 7、 如申請專利範圍第6項之裝置,其中區域包括氮化石夕,且 投影部件包括氧化矽。 8、 如申請專利範圍第3項之裝置,其中第二厚度大於第—厚 度。 9、 如申請專利範圍第1項之裝置,其中投影部件包括達成第 —蝕刻率的材料,該區域包括達成第二蝕刻率的材料,其中第二 蝕刻率高於第—蝕刻率。 — 10、 如申請專利範圍第3項之裝置,其中投影部件具有第三厚 度’其中第二厚度和第三厚度在約2_埃(A)至約8_埃(A)的範 圍内。 11、 如申請專利範圍第1項之裝置,其中薄膜電晶體包括多晶 石夕裳置、非晶石夕裝置或有機半導體裝置的其中一個。 12、 一種製造有機電致發光顯示裝置的方法,包括: 在具有子像素區域和圍繞子像素區域的邊界區域的第一基板 上形成第一電極; ^ 在邊界區域中的第—電極上形成絕緣圖案,該絕緣圖案具有第 一厚度; U 在絶緣圖案上形成絕緣層’該絕緣層具有第二厚度; 22 1307185 _絕緣層㈣成彼此分_第1 件,:案通過第—投影部件和第二投影部件暴露 部 私_案則彡成彼此分開科 一區域和第:卿目舞—鄕 域,其中第 , 矛苐一4又影部件启士τγ . ,子像素區域巾的第_電極上形成麵發光層;-, 在有機發光層上形成第二電極; 形成包括在第二基板上的薄膜電晶體的陣列元件層; 形成在第二電極和_元件層的其巾之— 第—基板和第二基板以使得連接圖案圖案:= 溥膜電晶體。 牧乐一电極和 L如巾請專利細第12項之方法,其怜—區域 切’且第一投影部件和第二投影部件包括氧切。 到第㈣12項之方法,糾利用第-_推 j弟U件和弟二投影部件,而利用第二_率钱刻絕緣圖 15、如申請專利範圍第〗4 -爛率。 貞之方去,其中弟二钱刻率高於第 b、如申請專利範圍第12項 於第-厚度。 〃中第-厚度等於或大 中第一厚度和第二厚 Π.如”專利範㈣16項之方法,其 度在約2000埃(輕_埃(A)的範圍内。 1307185 ^如帽專利翻第12項之方法,其t形成_元件層包 括形成薄臈電晶體,其中該薄膜電晶體包括多晶残置、非晶石夕 裝置或有機半導體裝置的其中一個。 0Θ 19、一種有機電致發光顯示器,包括: 彼此分離㈣-基板和第二基板,第—基板其上具有電極; 覆蓋電極且在第-基板和第二基板上限定像素區域的隔離 ’隔離物包括限定電極的邊界區域的對偶之第一部分和第二部 ^’、每個部分包括覆蓋電_輯和覆聽域的上表面且延伸到 區域的邊緣之外的投影部件;以及 覆蓋電極和每個部份的投影部件的有機發光層。 / '如申請專利範圍第19項之顯示器,其料個部分的區域 和投影部件包括不同的無機材料。 矽 21、如申請專利範圍第19 ’投影部件包括氧化石夕。 項之顯示n,其巾域包括氣化 心、如申請專利範圍第19項 月<顯不益,其中進一步包括 在有機發光材料層上的第二電極; 以及 在第二基板上的_元件層,該_树層包括薄膜電晶 %運接第 ’寻、电晶體的連接圖案。 23、如申請專利範圍第19 的 卹八 、之”.、員不态,其中第一部分和負 邛刀的區域由第一距離分開,复 再十第—部分和第二部分的投景 1307185 牛由i於第一距離的第二距離分開。 邱八2二如巾請專利_ 19項之顯示器,其中第-部分和第二 厚:/域具有第一厚度’有機發光層具有小於第-厚度的第二 25、如申請專利範圍第19項之顯示器,射進—步包 • ^^_膜電晶體’其中該薄膜電晶體包括多轉裝置、= 鲁 曰曰夕裝置或有機半導體裝置的其中—個。 非 勺括26、-種製造有機電致發光顯示裝置之隔離物的方法,該方、去 • 在帛基板上形成絕緣圖案,絕緣圖案具有第—厚度; 錢緣51案上形成絕緣層,該絕緣層具有第二厚声. _絕緣層以形成彼此分開的第一投影部件和又第二 ,且暴露絕緣圖案的一部分;以及 又衫部 • 飯刻緣圖案以形成彼此分開的第一區域和第 投影部件,物衫,和_域凹陷—^ ’且底切 件和第二投影部件之下。 的弟—投影部 27如申清專利範圍第26項之方法,其中 致發光顯示器’其包括在第二基板上的薄货^括有 晶體包括多晶石夕粟憂、非曰 曰體’其中薄 曰夕破置非aa残置或錢轉财置的其中一
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