TWI293475B - Lithographic apparatus and device manufacturing method - Google Patents

Description

1293475 Ο) 客:發明說明 (發明說明應敘明：發明所屬之技術領域、先前技術、内容、實施方式及圖式簡單說明) 技術領域 本發明係關於導管，其係用以藉由電纜、軟管或管道向 一真空室中的一可移動組件提供諸如電力、水、控制作號 及氣體等之應用物。具體而言，本發明係關於在一微影投匕 影裝置中配置該類裝置，其包含： 一輻射系統，用於提供一輻射投影光束； -第-物件台，用以支撐圖案化構件，圖案化構件則用 來根據所需圖案將投影光束圖案化； 一第二物件台，用以支撐一基板； 具有第-氣體排出構件的-真空室，用以產生投影光束 的一真空光束路徑； -投影系統’用以將圖案化的光束投影在該基板的目標 部分上；以及 一導管， 提供應用物 用以向該真空室中以至少 一自由度移動的組件 此處所用術語「圖案化構件」應廣義解釋為可用以賦予 進入之輻射光束一圖案化之斷面的構件，該圖案化之斷面 係對應於需建立於基板目標部分的—圖案；本文中亦可使 用術語「光閥」。—般而言，該圖案係與建立於目標部分的 f置的一特別功能層有關，諸如—積體電路或其他裝置（詳 見下文）。此類圖案化構件的例子包括·· ——遮罩。遮罩的概念在微影術中廣為人知，它並包括 如-凡式、交替式相位偏移及衰減式相位偏移等遮罩 -7 - 1293475

(2) 形式’以及各種混合的遮罩形式。此種遮罩放在輻 射光束中，將導致照射在遮罩上的輻射依據遮罩上 圖案作選擇性透射（為透射遮罩時）或反射（為反射遮 罩時）°在遮罩的狀況中，第一物件台一般是一遮罩 台’其為確保遮罩可支撐於進入的輻射光束中一理 想位置，並於需要時相對於光束移動β 一可程式化鏡面陣列。該種裝置的一個例子為一矩陣 可定址表面，具有一黏彈性控制層及一反射表面。該 種裝置的基本原理為（例如）反射表面的已定址區域反 射入射光為繞射光，而未定址區域則反射入射光為非 繞射光。使用一適當的濾波器，該反射的光束可過濾 掉該未繞射的光線，而僅留下該繞射的光線；以此方 式’該光束根據該矩陣可定址表面的定址圖樣得以圖 樣化。一可程式化反射鏡面陣列的另外具體實施例使 用一微小反射鏡面的矩陣配置，藉由施加一適當的局 部電場或使用一壓電驅動裝置，各個反射鏡面可分別 繞一軸傾斜。再者，鏡面為可定址矩陣，使得該定址 鏡面以不同方向反射入射的輻射光束至未定址的鏡面 ，以此方法，根據矩陣可定址鏡面的定址圖案形成反 射光束圖案。可使用適當的電子構件，以執行所需的 矩陣定址。在上述兩種狀況下，該圖案化裝置可包括 或多個可程式化反射鏡面陣列。本文所述的反射鏡 面陣列的詳細資料，請參閱（例如）美國專利案號us 5,296,891 及 US 5,523，193 及 PCT 專利中請案號 W0 1293475

98/38597及WO 98/33096’此處以提及方式併入本文中 。就可程式化鏡面陣列而言，該支撐結構可以（例如）框 架或台面方式具體化，且視需要可為固定或移動式。 _ 一可程式化LCD陣列。這種構造的實例可於美國專利 案號US 5，229,872中找到，此處以提及方式併入本文中 。同上，在該實施例中，第一物件台可以（例如）框架 或台面方式具體化，且視需要可為固定或移動式。 基於簡化的目的，本文其餘部分將在特定位置專門探討 有關遮罩及遮罩台的實例，然而，此類實例中所探討=通 用原理應適用於較廣域的圖案化構件中。 先前技術 微影投影裝置可用於（例如）積體電路（ICs)的製造上。在 此情況中，圖案化構件可產生相關於Ic中單一層的電路圖 案，並可將此圖案映射於已塗佈一層輻射敏感材料（抗蝕劑 ，resist)之一基板（矽晶圓）上的目標部分（如包括一或多個晶 模(dies))。一般而t•，單晶圓可包含鄰近目標部分的整個 網路，該目標部分通過投影系統得以成功照射（一次一個） 。在現行裝置中，用一遮罩台上的遮罩以進行圖案化，在 兩類不同的機器中會有區別。在—種微影投影裝置中，一 次處理將整個遮罩圖案暴露於目標部分上，讓每—目標部 。在一替代裝置中（一般係指一步進掃描裝置），在一既定參 考方向（掃描方向）上用投影光束逐步掃描遮罩圖案，使每二 目標部分均照射到，而同時與該方向平行或反向平行掃描 1293475

(4) 基板台；一般而言，由於投影系統將有一放大倍率因數M (通常<1)，則基板台的掃描速度v為因數"乘以遮罩台的掃 描速度。有關上述微影裝置的進一步資訊可於（例如）us 6,046,792中收集到，本文中以提及方式併入。 在使用微影投影裝置的製造方法中，係在至少部分由 一層輻射敏感材料（抗蝕劑）覆蓋的基板上映射一圖案（例 如在一遮罩中）。在此成像步驟之前，基板可經各種程序 處理，例如打底（priming)、抗蝕劑塗佈及軟烘（s〇ft bake) 。曝光之後，該基板可接受其他程序處理，例如曝光後 供乾（post-exposure bake ; PEB)、顯影、硬烘（hard bake) 及測量/檢查成像之特徵。這一系列的程序係用來作為 一基礎，以圖案化一裝置（如IC)的單一層。接著，此一圖 案化層可再經過各種處理，例如钱刻、離子植入（摻雜）、 金屬電鍍、氧化、化學機械拋光等，所有步驟皆為各層表 面處理所需。如果需要許多層，則整個程序，或其一變化 步驟必須在每層中重覆。最後，在基板（晶圓）上將呈現一 系列的裝置。然後這些裝置將藉由一種技術來彼此分開， 例如切割或鋸開，然後將該個別的裝置安裝在一載具上， 連接到腳位等。關於這種製程的進一步資訊可由（例如） Peter van Zant所著「微晶片製造··半導體製程指南 (Microchip Fabrication: A Practical Guide to Semiconductor Processing)」（第三版，McGrawmilpubUshing 公司，Μ” 年，ISBN 0-07-067250-4) 一書中獲知，本文中以提及方式 併入0 -10- (5) (5)1293475 見，以下稱該投影系統為「透鏡」;不過，此術 乍廣義的解釋以包括各種投影系統，例如，包含折射 乜：―“射光學及反折射的系統。該輻射系統亦可包含根據 可设相型操作的組件，用以引導、塑造或控制輕射的 先束，且該組件以下也可以統稱或獨稱為「透鏡」。另 外，此微影裝置可兔_ Θ -JL-—. 為種具有兩個以上基板台（及/或兩個以

上遮罩台）的形式。在此種「多平台」裝置中，可以平行 使用額外台面’或在一或多個台面上進行準備步驟，而其 他或夕個口面則用於曝光。雙平台微影裝置在(例如)US 5,969,441及W0 98/40791中均有說明，此處以提及方式併 入本文中。 在微衫裝置中，可投射到基板上的圖案尺寸受投影輻 射波長的限制。為製造具有更高密度的裝置並因此有更快 #作速度的積體電路’需要能夠映射較小的圖案。同時， 最新的微影投影裝置中使用藉由水銀燈或準分子#射產生 的i外光，其建議使用13奈米左右的較短波輻射。這種輻 射稱作遠紫外光（extreme uitravi〇let ; EUV)或軟乂射線（_ x-ray),且其可能的光源包含由電漿源、放電電漿源、同步 加速器、或電子儲存環輻射產生的輻射。在JB Murphy等人 所著「用於投影式x射線微影的同步加速器輻射源及聚光器 (Synchrotron radiation sources and condensers for projection x-ray lithography)」（「應用光學」1993 年第 32 冊 24 號 6920 至6929頁）中說明了使用同步加速器輻射的一微影投影裝 置的綱要設計。 1293475

⑹ 其他已提出的輻射類型包含電子光束及離子光束。有關 在微影術中電子光束使用的進一步資訊可於（例如）us 5,〇79，112、US 5,260，151 以及ΕΡ-Α-0 965 888 中收集到。這 種光束的要求與EUV—樣，即光束路徑，包括遮罩、基板 及光學組件均應在一高度真空中。這可防止光束的吸收及 散射，由此對於這種帶電粒子光束而言，總壓力通常需小

於大約ΙΟ·6毫巴。另外，對於使用Euv輻射的裝置而言，所 需的總真空壓力僅在10-3至10-5毫巴之間。由於有碳層沈積 在光學元件的表面，可使用於EUV輻射的光學元件受損， 這就需儘量使碳氫化合物的分壓一般保持越低越好，例如 低於10·8或1〇-9毫巴。

在度咼真空下工作對必須放入該真空的組件產生了相 嚴苛的條件。對於真空室内的組件而言，應使用可將污 物及㈣漏（即材料本身的漏氣及其表面所吸收氣體的 出）最小化—或予以消除的材料。已知4 了物件台所需的活 程度，導管可用塑膠材料製得’使其有足夠的可撓性。 而’該類材料對於真空室内的真空係有害的，因為如上 :、會=:染物茂漏。有更適用於真空應用的塑膠(如鐵 月I)’但有大量電境及雷綠空吉 i及電線穿過真空，會呈現出很大 區域來洩漏污染物。獲得 八遞非堂隨 w于低於10或1〇9耄巴的碳氫化合; ;=:例如使用塑膠導管時。此外，導管_ 二板:.、ΓΓ。因此極需減少導管的使用。然而η •.充的基板麵及移轉台的設計非常複雜

的感測器及驅動器' 了大J 配置’14些均需要大量的導管以用於4 •12- 1293475

⑺ 及氣體的輸送，以及電線的保護。 為解決此問題，在购，993,696中提出使 製成的金屬營，田LV A 吉#四 生鱗材枓 …真空環境中輪入及排出工作液體 二。接著可藉由一接頭將兩個相鄰的管道相互以， "接頭可使兩管道相互繞動。該金 :仙氣。該類接頭的一個缺點為:报::二 =竟中對液體或氣體完全密閉的接頭。因此，氣體合： 接頭處$漏至真空環境而對真空環境造成污染。 在歐洲專”請案號1 〇52 549中提出了另 在該專利發表中，《與中空管相連，該中空管與= =:::台！牢：連:並將移動從一真空室的外部傳遞到 人 σ。故些管道係中空的，且其内部壓力與真办室的 外部壓力一致。該真处官辟另其、音辟 θ 、二至的 一 4具工至壁及官道壁之間使用差動地泵出 的㈣劑，以防止空氣_真空室，並同時使物 動。 0不夕 發明内容 ❿ 所本發明的一個目的係提供一種微影投影裝置，其可在實 貝上減少在_真空室中的導管由於其所用材 氣問題。 座生的漏 依照本發明所提供之一微影投影裝置包含： 輻射系統，用於提供一輻射投影光束； 第一物件台，用以支撐圖案化構件，該圖案化構件 則用來根據所需圖案將投影光束圖案化； 一 第二物件台，用以支撐一基板； 1293475

用以產生投影光 ⑻ 具有第一氣體排出構件的一真空室 束的一真空光束路徑； -投影系統’用以將圖案化的光束投影在該基板的目 標部分上；以及 一導管，用以在該真空室中向以至少一自由产 元件提供應用物，其特徵為該導管包含可挽性金^軟管。 該術語「導管」係指用以向可移動組件傳遞應用物的電 纔及管子等。具體而言，該術語「管道」係指如電力線、 信號載运器、充氣管（如用於將氣體送入物件台中的氣體轴 承）、冷卻劑管等類項目。真空室中的可移動組件包含遮罩 台及/或基板台及/或關聯馬達及/或感測器，該類組件可以 此方式連接於真空室外部的一框架。 可撓性金屬軟管實質上^氣密的，㈣時有足夠可挽性 以用於組件之移動。可撓性金屬軟管的金屬表面不會產生 漏且同時很容易進行清洗，因此不會在該可撓性金屬 軟&的表面產生任何污染。此外，具有可挽性金屬軟管的 導官與關專利申請案號4,993,696中提出的具有可移動式 接頭的管道及歐洲專利申請案號1 〇52 549中提出的差動地 果出的密封劑相比重量輕很多。比起上述先前技藝中所提 出的解決方案，該可撓性金屬軟管有更大的自由度。 在該導管的一部分可有固定彎頭，用以在組件移動中限 制忒導官其餘部分的彎曲量。如果可撓性金屬軟管在使用 時夕次彎曲，會降低其力度，並產生洩漏。在使用可撓性 金屬軟管時，藉由將彎曲量限制在最小半徑範圍以内可減 -14- 1293475 (9) ^題°對該軟管最小半徑範圍的要求會使該機器需要 大里工間來使用該軟管。藉由在該導管的一特定部分設置 一固定彎藤 一r奂 1在使用中限制該導管其餘部分的彎曲，而 放I對最小半;^範圍的要求。在該特定部分的大幅度彎曲 係固疋，使金屬軟管在該部分幾乎不會產生任何磨損。 / V I*可與減震構件相連，以減輕該導管内的震動。導 &内的震動會對可移動組件的位置產生影響，這種影響應 儘量予以避免。 根據本發明的第二項觀點，提供一裝置製造方法，其步 驟包括： 提供至少部分由一層輻射敏感材料所覆蓋之一基板； 在一真空室内提供一真空； 用一輻射系統穿過該真空室射出一輻射投影光束； 利用圖案化構件賦予投影光束一圖案式之斷面； 將圖案化之輻射光束投影至輻射敏感材料層之一目標 部分， 75 其特徵為該方法包含下列步驟：通過一導管向至少一 π件提供應用物，該元件至少在該真空室中的第一方向藉 由一可撓性金屬軟管移動。 曰 雖然本文中係將在Ic製造中使用本發明之裝置作為特定 >考但必須明白該裝置具有許多其他的應用。例如，可 用於製造整合式光學系統、磁性區域記憶體之導引及偵測 圖樣、液晶顯示器面板、薄膜磁頭等。專業人士應瞭解， 在這些其他應用的内容中，任何所使用的術語「主光罩 (10)1293475

、晶圓」或「晶模」 光罩」、「基板」及「 實施方式 必須分別考慮由更為一般性的術語 目標部分」所取代。 具體實施例1 的一微影投影裝置1之示意圖；該裝 圖1顯示使用本發明 置包括： 田射I，先LA、IL用於供應一轄射投影光束pB (如 或EUV輻射，電子或離子）； 第物件台（遮罩台说丁，具有支擇遮罩隐(例如一主光 罩）的第一物件（遮罩）支架，並與第一定位構件PM連接 以相對於項目PL將遮罩精確定位； •第,物件台（基板台）W2T，具有支撐基板^(例如一塗佈 了抗蝕劑的矽晶圓）的第二物件（基板）支架，並與第二定 位構件P2W連接以相對於項目pL將基板精確定位； •第二物件台（基板台）W3T，具有支撐基板W3(例如一塗佈 了抗蝕劑的矽晶圓）的第三物件（基板）支架，並與第三定 位構件P3W連接以相對於項目PL將基板精確定位；以及 • 技影系統（「透鏡」）PL(例如一繞射或反折射系統、一 鏡面群組或一場偏向器（field deflectors)陣列）以將遮 罩MA的一受照射部分成像於基板w的目標部分。 該輻射系統包含一照射源LA，其產生一輻射光束（如在一 儲存環或同步加速器、一電漿源、一電子或離子源、一水 銀燈或一雷射中，環繞於一電子光束路徑周圍之波動器或 擺動器）。使該光束穿過照明系統IL内的各種光學組件，因 1293475

此所得到的光束PB具有所需形狀，且在其斷面上有所需的 光度分佈。 隨後，該光束PB照射到在一遮罩台M丁上的一遮罩支架内 的遮罩MA上。藉由該遮罩“入進行選擇性的反射（或透射） ，光束PB穿過「透鏡」PL，其將該光束pB聚焦於基板w2 、W3的一目標部分。經由第二定位構件p2W、p3w以及干

/y 移位測疋（interferometric displacement measuring)構件 IF的幫助，可精確移動基板台W2T、W3 丁，（例如）在光束 的路徑上定位不同的目標部分。同樣，可用第一定位構件 PM及干涉移位測定構件IF以相關於光束ρβ的路徑精確定 位遮罩MA，（例如）自遮罩庫中機械性地取出遮罩μα之後， 或在掃描當中。在先前技藝中，物件台ΜΊΓ、W2T的移動一 般係藉由一長衝程模組（粗略定位）及一短衝程模組（精確定 位）的幫助，其未在圖丨中明確繪出。上述裝置可用於兩種 不同的模式：

•在步進模式中，該光罩台Μτ基本上保持靜止，而一整個 光罩影像在一次處理中（即一單一「閃光」）中投射到一 目標部分上。然後將該基板台W2T沿著又及/或¥方向偏 移，使不同的目標部分可受到該光束PB的照射； •在掃描模式中，大體上為相同狀況，但特定目標部分並 非在單一「閃光」中曝光。遮罩台MT可在一特定方向 (所謂的「掃描方向」，例如γ方向）以一速度v移動，使 投影光束PB掃描通過一遮罩影像，同時基板台W2T則與 之同向或反向以速度V = Mv移動，其中M為透鏡？[的放 (12) (12)1293475

大倍率（如Μ = 1/4或1/5)。以此方式，可曝光一相對大區 域的目標部分而不需犧牲解析度。 在依…、本發明的一微影投影裝置中，可在真空室中提 供至少第一及第二物件台之一。真空室20内的真空係用一 真空抽氣構件產生，如一泵。 圖2係顯不依照本發明的一導管之平面示意圖。兩導管C2 及C3刀別將基板台貿2丁及W3丁與其各自的電纜滑塊cS2及 CS3相連。藉由一偵測器，電纜滑塊CS2及CS3將在X方向 上跟隨其各自的基板台，該偵測器根據電纜滑塊檢測基板 台的位置，且如果基板台在χ方向離開電纜滑塊，該偵測器 使電繞滑塊調整其位置，使滑塊跟隨基板台。在Υ方向上， 導管C2及C3將允許基板台W2T及W3T的活動。基板台W3T 及W2T藉由一平面馬達的幫助定位，該馬達包含在磁板 ΜΡ内的一磁陣列及在基板台W2T及W3T内的線圈，用以使 5亥等基板台活動及漂浮。 如圖2所示，兩基板台均有一單一導管，然而兩根導管 更為有利，因為其可使設計簡單。為此，在所示之導管内 可安置額外的導管。兩導管均可在固定彎頭處相互耦合， 使它們在基板台的活動中保持相互隔離。 兩基板台W3T及W2T可藉由在γ方向上向各自的滑塊移 動並接著在χ方向相互移動而交換位置。在基板台的位置交 換當中，電纜滑塊也將在χ方向上移動。 該導管可藉由BR2及BR3在導管C2或C3的一特定部分 提供一固定彎頭，其用以在組件W2T或W3T的活動中限制 -18- (13) 1293475 鑪導管C2或C3其餘部分的彎曲量。如果可撓性金屬軟管在 使用時多次彎曲，會降低其力度，並會產生浪漏。在使用 可撓丨生金屬軟官時，藉由將彎曲量限制在最小半徑範圍以 内可減輕此問題。對於軟管需要的最小半徑範圍會使該機 口口中扃要大里空間來使用該軟管。藉由在該導管C2或C3的 特定部分BR2或BR3有一固定彎頭，可在使用中限制該導 官其餘部分的彎曲，而放鬆最小半徑範圍的要求。該固定 彎頭BR2或BR3的大幅度f曲係固定，使該金屬軟管在該部 刀成乎不會產生磨損。此點有助於防止磨損，同時放鬆在 非真空的微影投影裝置中使用的非金屬材料導管所需的 空間要求。該導管可用塑膠或橡膠製成。 藉由向‘管C2或C3提供銘材料可抑制導管内的震動。 4鋁材料的作用係一減震器，因為磁板的磁場會在鋁 材料内產生渴流，其可抑制導管。或。產生的震動，轉 而產生熱量。為此目的，固定彎頭BR2或聰可使用銘材 # 料。為此相同目的，將可撓性金屬軟管FB (見圖3)及導管 板CP相連的連接元件〇£亦可用鋁質材料製成。該連接元 件CE在導官C的z軸方向上增加剛性，可避免可撓性金屬 軟管FB的堆疊。 使用導官板CP用以在Z方向上提供有剛性的導管，而同 時在X及Y方向上提供可撓性。可改變導管板cp的長度以調 整導管C的局部可撓性。在導管c_特定部分内的導管板cp 的可撓性會影響方向上在該特定部分可挽性軟管FB 内的f曲程度。—般而言，可撓性軟管财其連接至固定 -19- (14) (14)1293475

4頭處附近有其最大_曲度，即基板台|2了或㈣滑塊⑶ 附近的導管C2。藉由向那些位置附近的導管⑽增加額外 的剛性’可在可撓性軟管叩的全長上較佳地分配彎曲量， 使得該y撓性軟管的磨損得以在該長度上較佳地分配，且 總使用壽命會更長。藉由改變該板的外部直徑，可使該導 管板CP增加額外的剛性，或藉由在導管板cp上打孔可使其 弱，。可進行試驗以敎沿導管C該可撓性軟管FB的最大 磨知處’且藉由在該等位置處使導管板cp增加剛性而使磨 損得以較佳地分配。 藉由一有較高導熱性的金屬（如鋁）製成的連接元件CE , 該連接70件可作為-散熱器使用。此時，同樣與連接元件 相連的銅線（其對於基板台的作用為電力線或信號線）所產 生的熱即可輕易地輸送至在—金屬軟管中流動的冷卻媒體 (如水）中。藉由沿導管使用一些連接元件CE，由於沿電線 的較小溫度差別而產生一規則的熱分佈模式，使得真空室 内的溫度得到較佳的控制。 圖4顯示根據本發明的可撓性金屬軟管FB的橫截面圖。在 忒軟官的内部BI可提供電線或一水管Ew。軟管本身可用一 為该軟管提供可撓性的波形WF材料製成。 可饋送預先補償，以抵銷導管（C1*C2)的質量在基板台 移動中的影響。其係藉由校準該力量的影響或建立一運算 去以计算此力量的影響。另外，可在基板台及導管之間使 用力感測器，其對基板台施加於導管上的力進行測量，並 藉由调整由定位構件施加的力回饋補償施加於導管上的力 -20- 1293475

(15) 。有關一回饋系統的進一步資訊可由為歐洲專利申請案號 EP 1 01 8 669中收集到，本文中以提及方式併入。 具體實施例2 圖5顯示本發明的第二項具體實施例。在此圖中，基板台 W2T及圖2的導管C2具有一副框SF。該副框SF係與基板台 W2T相連於旋轉點RP1，與固定彎頭BR2相連於旋轉點Rp2 且與電、纜滑塊CS2相連於旋轉點RP3。該副框SF包含兩腳， 其係圍繞RP2相互旋轉。該副框”在移動中以一種剛性的 方式將固定彎頭置於一特定位置處，使震動減少。 本發明係藉由較佳具體實施例進行說明，然而應明白本 發明不限於上述說明β具體而言，本發明係藉由在一真空 室中的一微影投影裝置的晶圓平台進行說明。然而，應明 白本發明同樣可應用於遮罩台或裝置内的可移動鏡面。 圖式簡單說明 本發明及其優點已參考示範性具體實施例及所附示意圖 說明如上，其中： 圖1顯示使用本發明的一微影投影裝置； 圖2顯示依照本發明使用一可撓性金屬軟管的一導管之 平面示意圖； 圖3係圖2中所示導管之透視圖； #圖4係依照本發明的可撓性金屬軟管及其在圖2及3的導 管中的使用之斷面圖，以及 圖5係依照本發明的第二項具體實施例的一導管之示意

-21- 1293475

(16) 圖示代表符號說明 1 微影投影裝置 20 真空室 LA 輻射系統（照射源） IL 照明系統（照明器） PL 投影系統（透鏡）

PB 投影光束 IF 干涉移位測定構件 MA 遮罩 MT 第一物件台（遮罩台） PM 定位構件 MP 磁板 BP (另指明） CS3 電纜滑塊 W2T 組件

W3T 組件 CP 導管板 FB 可撓性金屬軟管 C 導管 EW 水管 W2T 第二物件台（基板台） P2W 第二定位構件 W 基板 W2 基板 -22- 1293475

W3 基板 W3T 第二物件台（基板台） P3W 第三定位構件 BR2 固定彎頭 BR3 固定彎頭 C2 導管 C3 導管

CE 連接元件 CS2 電纜滑塊 WF 波形 BI 内部 W2T 基板台 RP1 旋轉點 RP2 旋轉點 RP3 旋轉點

SF 副框 -23-

Claims (1)

12934落&1134469號專利申請案

請專利範圍替換本(94年12月） 拾、申請專利範圍 1. 一種微影投影裝置，其包括： 一輻射系統，其用於提供-輻射投影光束； -第-物件台，其用以支撐圖案化構件，該圖案化損 件則用來根據一所需圖案將該投影光束圖案化； 一第二物件台，其用以支 具有-第-氣體排出構件的一真空室，其用以產生該 投影光束的一真空光束路徑； 一投影系統m將該圖案化的光束投影在該基板 的一目標部分上；以及 一導管’其用以在該真空室中為以至少—自由度移動 的組件提供應用物，其特徵為該導管包含一可样性金屬 軟管’其中該導管包含-可撓性板，其用以在=重力平 行的-第-方向支撐該可撓性金屬軟 方向垂直的-第二及第三方向上引導該軟管在…弟 2.如中請專利範圍第丨項之微影投料n中該導與包 連接元件，用以連接該可撓性板與該可撓性金：軟 官0 3·如申請專利範圍第2項之微影投影|置，其中該連接元 件係由具有一高導熱性的一金屬製成。 如申請專利範圍第卜2或3項之微影投影裝置，立中該 性板的可撓性在該第二及第三方向上 長度變化。 如申請專利範圍第1、2或3項之微影投影裝置，其中在 4. 1293475

，其用以限制該導管所 該導管的一部分包含一固定彎頭 需的空間。 6. ΠΓ利範圍第卜2或3項之微影投影襄置，其中該 咸震器構件相連，其用以減小該導管内的震動。 7·:申請專利範圍第6項之微影投影裝置，其中該減震構 糸渦流減震器，其係藉由在_磁板所提供的一磁場 的影響下進行減震。

I 2請專利範圍第1、2或3項之微影投影裝置，其中該 ¥官有一副框，用以防止該導管内的震動。 9· -種使用—微影裝置的裝置製造方法，其包括的步驟 有： 提供至少部分由一層輻射敏感材料所覆蓋之一基板； 在一真空室内提供一真空； 用一輻射系統穿過該真空室投射出一輻射投影光束； 利用圖案化構件賦予投影光束一圖案式之斷面；

將圖案化之輻射光束投影至輻射敏感材料層之一目 標部分， 其特徵在於該方法進一步包括以下步驟： 通過一導管為至少一組件提供應用物，該組件可在該 真空至中的至少一第一方向上藉由一可撓性金屬軟管 移動； 在平行於重力之一第一方向以一可撓性板支持該軟 管，並且在垂直於該第一方向之一第二及第三方向，以 該可撓性板導引該軟管。

1293475 10.如申請專利範圍第9項之方法，其中該方法包含用一減 震構件減小該導管震動的步驟。