1277134 (1) 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於平面載台裝置。 【先前技術】 過去已知有一種平面載台裝置，該平面載台裝置具有 設置成棋盤狀的凸極的平面之板狀的平台，而且在該平台 的平面上，對於藉由空氣之作用而呈浮起的狀態的移動體 施加磁力，藉由使在該移動體與平台上的凸極之間的磁場 變化，使移動體在平台上移動之構成（例如參照專利文獻 1 ) ° 此外，具有如此構成的裝置有時也稱爲表面電動機載 台裝置（surface motor stage)、受亞電動機載台裝置（ sawyer motor stage) ^ 〇 近年來，平面載台裝置與使用滾珠螺桿之構成的載台 裝置等不同，並不使X載台、Y載台及Θ載台重疊成複數 個載台，而是在由平台之平面所構成的一個載台上使移動 體自由移動，而且可使其進行Θ旋轉，因此適合用來作爲 將具有分割成複數個曝光區域之曝光面的工件，例如載置 於移動體上而使其移動，同時在各曝光區域依序進行曝光 處理的逐次曝光裝置的工件載台。 使用平面載台裝置作爲工件載台的逐次曝光裝置當中 ，是冀望由於工件載台的構成單純，因此可謀求工件載台 的小型輕量化。 -4- 1277134 (2) 然而’將平面載台裝置適用在用來對於例如一 1 m以上的印刷基板等之大型工件進行曝光處理的逐 光裝置的情況下’移動體本身會隨著所載置的工件之 而變大，其質量也會變大，因此載置有工件的移動體 下亦稱爲「工件載置移動體」）的總質量會變得極大 一方面，構成平面載台裝置的平台是由三個支持構件 就是由三點支持，因此尤其在平台之厚度較小的情況 會因爲例如工件載置移動體移動至平台之平面上由支 件所形成的支持點之正上方位置以外的位置而產生大 曲，而有無法獲得平台之良好平面度穩定性的問題。 因此，將平面載台裝置用來作爲工件載台的逐次 裝置是如第8圖所示，相對於載置於移動體44上的 (未圖示）的光軸L的位置會因爲在藉由三個支持 4 3 (第8圖中僅顯示三個當中的雨個）得到三點支持 台41發生撓曲而下降，使投影透鏡45的焦點45 A 位於工件上，因此無法以高的曝光精度對於工件進行 處理，因而無法獲得曝光處理的可靠性。 第8圖當中，符號47是配置有平面載台裝置的 ，46是曝光用遮罩，並且以虛線表示沒有撓曲之狀 平台4；[及該平台41上的移動體44。 而且’追種平台之撓曲的發生是即使使用例如三 上的複數個支持構件，最後平台還是會在由複數個支 件當中的任三個支持構件所形成的支持點而受到三點 ，讓距離配置有平面載台裝置之面的高度及水平度固 邊爲 次曝 大小 (以 ，另 ，也 下， 持構 的撓 曝光 工件 構件 的平 不會 曝光 底板 態的 個以 持構 支持 定， 1277134 (3) 因此無法藉由所使用的所有支持構件確實形成支持點，所 以無法充分抑制撓曲的發生。 於是’在用來對於大型工件進行曝光處理的逐次曝光 裝置當中是如第9圖所示，雖然使用一種具有將平台41 一體配置於例如岩石工作平台、桁架構造體等具有高平面 度（平面精度）的基座49上之構成的平面載台裝置，但 在這種構成的平面載台裝置當中，裝置本身會隨著基座 49變大而大型化並且重量化，而且需要有爲了確保所需 之基座49之平面度的高加工精度，因而有高成本化的問 題。 第9圖當中，符號42A是在平台41的平面42上設 置成棋盤狀的凸極，42B是形成在相互鄰接之凸極42A間 之間隙所構成的凹部，並且由非磁性樹脂所構成的層。 〔專利文獻1〕 日本特開平09-2 3 689號公報 【發明內容】 〔發明所欲解決之課題〕 本發明是根據以上的情況而硏創者，其目的在於藉由 容易的手法提供一種具有平台之良好平面度穩定性的小型 平面載台裝置。 〔用以解決課題之手段〕 本發明的平面載台裝置是具有平面的平台，由三個支 -6- 1277134 (4) 持構件所構成的固定式支持體；以及藉由該固定式支持體 之支持點以外的位置形成支持點，並藉由朝向垂直於平台 之平面的方向伸縮而變位，同時藉由可保持所選擇之一個 變位狀態的變位式支持體所支持。 在本發明的平面載台裝置當中，變位式支持體最好是 保持著僅由固定式支持體支持之因應於無負荷狀態的平台 的變位狀態。 本發明的平面載台裝置亦可具有在平台之平面上移動 的移動體。 〔作用〕 根據本發明的平面載台裝置，由於在藉由固定式支持 體讓使距離配置有該平面載台裝置之面的高度及水平度固 定的狀態的平台，可藉由變位式支持體在利用固定式支持 體的支持點以外的位置，形成對應於所使用的變位式支持 體之個數的數量的支持點，因此可藉由三點以上的複數個 支持點確實地支持平台，所以不會產生裝置本身大型化的 弊端，而可抑制由於對於平台施加荷重而發生的撓曲所導 致的平台平面之平面度的變動。 而且，變位式支持體是具有藉由朝向垂直於平台之平 面的方向伸縮而變位，同時可保持所選擇之一個變位狀態 之構成，因此可選擇因應於平台之狀態的變位狀態而加以 保持，所以對於藉由固定式支持體來形成有支持點的狀態 的平台並可容易且確實形成新的支持點。 1277134 (5) @此，根據本發明的平面載台裝置，可藉由容易的手 法獲得平台的良好平面度穩定性，且可將裝置本身小型化 【實施方式】 以下，針對本發明的實施形態加以詳細說明。 第1圖是本發明平面載台裝置之一構成例的說明用平 面圖’第2圖是顯示第1圖之平面載台裝置的說明用側面 圖’第3圖是顯示構成第1圖之平面載台裝置的平台之背 面的說明用平面圖。 此平面載台裝置適合用來作爲逐次曝光裝置當中的工 件載台，且具備有：具有例如將凸極（未圖示）設置成棋 盤狀之平面（以下亦稱爲「特定平面」）1 1 A的平台1 1 ;以及在平台11之特定平面11A上移動的移動體17而 構成，並且該平台1 1具有由三個支持構件2 1所構成的固 定式支持體20;以及具有特定構造，並且利用在由固定 式支持體20的支持點以外的位置來形成支持點的變位式 支持體3 0所支持的構成。 在此圖面的例子當中，平面載台裝置是配置在消震裝 置（未圖示）上所設置的底板18上。 平台11是由鐵等的金屬所構成，且具有其全體形狀 爲箱狀的平台主體12，並且在該平台主體12之頂面板13 的外表面形成有特定平面11A而構成。 此圖面的例子是在平台11之特定平面11A上由相互 -8 · 1277134 (6) 鄰接的凸極間之間隙所構成的凹部是形成有由非磁性樹脂 所構成的層（參照第9圖），而且，藉由在由平台主體 1 2的頂面板1 3、以及在該頂面板1 3之周緣部垂直延伸的 肋部1 4所包圍的空間是設置有用來增大平台1 1之機械性 強度的樑1 5。 在平台11的特定平面11A當中，由凸極之表面所形 成的頂面的平面度是在該平台11爲無負荷的狀態下，通 常是設定在士 Ιμπι至士 ΙΟμιη的範圍內。 此處所謂的「無負荷的狀態」是下述（1)或（2 )的 狀態。 (1) 在平台11的特定平面11Α上未配置有移動體 1 7的狀態。 (2) 在平台11的特定平面11Α上由固定式支持體 20所形成的任一支持點的正上方位置配置有移動體]7的 狀態。 平台11是最好具有100至200 mm的厚度Η，另外平 台主體12之頂面板13的厚度最好是10至20mm。 在此圖面的例子當中，平台1 1的特定平面1 1 A是雖 然具有長1500mm、寬1200mm的大小，但是並不限定於 此’例如可因應平面載台裝置的用途等而設定成適當的大 小。 在平台1 1當中是如第3圖所示，在平台1 1的背面（ 在平台主體1 2是頂面板1 3的內表面）1 1 B側形成有藉由 固定式支持體2 0所形成的共計三個的支持點（以下亦稱 -9- 1277134 (7) 爲「固定式支持點」）A ;以及藉由變位式支持體30所 形成的複數個（第3圖中爲1 8個）支持點（以下亦稱爲 「變位式支持點」）B。 三個固定式支持點A是使連結各固定式支持點a的 三角形之重心形成在與平面載台裝置中的平台11上之重 心一致的位置。 在第3圖中，在平面載台裝置中的平台n上之重心 是由於具有用來支持曝光裝置之其他構成要素，例如投影 透鏡或保持曝光用遮罩之遮罩載台等的光學框架19而存 在於從平台1 1上之中心偏移的位置。 變位式支持點B是在形成有固定式支持點a以外的 位置’均等地形成在包含平台1 1之背面：[i B之緣部的該 背面1 1 B的全面。 在此，變位式支持點B的形成位置是例如考慮所要使 用的變位式支持體3 0之個數等而進行構造計算，藉此決 定可縮小由於移動體1 7在平台1 1的特定平面1 1 a上移 動而在該平台1 1所產生的撓曲量，且可獲得所需之平面 度穩定性的位置。 固定式支持體20是由三個支持構件21來構成，藉由 這些各個支持構件2 1來形成有固定式支持點a (共計三 個）。 藉由此固定式支持體2 0，讓相對於平台1 1的底板1 8 的高度及水平度固定。 在本實施例是使用如第4圖所示之在前端部22 A設 -10- 1277134 (8) 置有球體23的公螺絲22所構成的球尖螺栓作爲支持構件 2 1。根據此球尖螺栓，可調整相對於形成在底板1 8的支 持構件用貫穿孔1 8 A的螺栓旋入深度，且可藉由利用螺 帽24固定該螺栓旋入深度的高度調整機構，調整平台i i 相對於該底板1 8的高度及水平度。 此外，球尖螺栓是在決定並固定有平台1 1之相對於 底板1 8的高度及水平度的狀態之中，並不會朝向垂直於 該平台11之特定平面11A的方向變位。 變位式支持體30是藉由朝向垂直於平台11之特定平 面11A的方向（第2圖中的上下方向）伸縮而變位，同 時可保持所選擇的一個變位狀態（以下亦稱爲「特定變位 狀態」）。 變位式支持體3 0可適宜使用具有如第5圖所示之構 成者。 此變位式支持體3 0是在內部具有剖面形狀爲矩形的 塊狀體配置用空間3 2，並且具有：形成有貫穿其頂面板 3 1 A而與塊狀體配置用空間3 2連通之引導孔3 8的支持體 主體3 1 ;以及在其中一端連結有經由支持體主體3 1之引 導孔3 8插入塊狀體配置用空間3 2的圓盤3 4 A，在另一端 形成有使其表面與平台1 1的背面1 1 B抵接之支持台3 4 B 的支柱3 4。此支柱3 4是使一端連接於支柱3 4的支持台 34B，使另一端連接於支持體主體31，而且藉由設置成捲 繞在該支柱34之外周面的壓縮彈簧35來對於支持體主體 3 1控制並支持其狀態。 -11 - 1277134 Ο) 在支持體主體3 1的塊狀體配置用空間3 2內，讓分別 抵接於該塊狀體配置用空間32之頂面32A及底面32B的 滾輪37A、37B設置在其上端部及下端部，並且有平行於 平台1 1之特定平面Π A，且讓相對於支柱34的圓盤34 A 可朝前進及後退方向（第5圖中爲左右方向）滑動的固定 用塊狀體3 6，配置成其一側面相對向於圓盤3 4 A的狀態 〇 此固定用塊狀體3 6是藉由經由空氣配管3 9從空氣供 應裝置（未圖示）所供應的氣體之作用而滑動，該空氣配 管39是藉由經由該固定用塊狀體36與支柱34之圓盤 3 4 A相對向的開口而與塊狀體配置用空間3 2連通。 在變位式支持體30當中，支持體主體31及固定用塊 狀體3 6是由不銹鋼構成，而且支柱3 4的圓盤3 4 A必須 由例如不銹鋼、磷青銅等伸長率較小的材料構成。 在這種構成的變位式支持體3 0當中，如在第5圖所 示之固定用塊狀體36與支柱34之圓盤34A分開的可自 由變位的狀態之中，當從上方對於支持台3 4 B施加荷重時 ，則如第6圖所示，變位式支持體3 0是伴隨壓縮彈簧3 5 變形並且支持台34朝下方（第6圖中爲下方）移動而變 位成讓圓盤34A深深插入塊狀體配置用空間32內的狀態 。然後，如第7圖所示，在某個變位狀態之中，從空氣供 應裝置經由空氣配管3 9讓空氣供應至塊狀體配置用空間 32內時，固定用塊狀體36會朝圓盤34A前進的方向（第 7圖中爲左方向）滑動，使該圓盤3 4A由固定用塊狀體 -12- 1277134 (10) 3 6及構成塊狀體配置用空間3 2的內壁面來挾持，藉此固 定支持台3 4B的位置。如上所述，在變位式支持體3 0即 可保持所選擇的特定變位狀態。 變位式支持體30最好具有24 5N以下的荷重變動所 導致的變位狀態之變化量（例如支持台34B的變位量）在 1 μπα以下的變位狀態保持性能。 作爲用來獲得此變位狀態保持性能的變位式支持體 3 0之構成條件的一例是將利用空氣供應裝置的空氣之供 應壓力設定爲490kPa，將圓盤34Α的挾持面之大小設定 爲對應於直徑 70mm之圓面積的大小，將固定用塊狀體 36的保持壓力設定爲19.6MPa。 在具有這種構成的平面載台裝置當中，變位式支持體 3 0是保持著僅由固定式支持體2 0所支持之因應於無負荷 狀態的平台1 1的變位狀態。 具體而言，平面載台裝置的平台11在特定平面11A 是雖然具有所希望的平面度，但在背面；I 1 B是由於自重而 產生自然撓囲的狀態，因此變位式支持體3 0是以特定變 位狀態保持因應於此平台1 1的背面Π B之自然撓曲的變 位狀態，並且形成變位式支持點B。 變位式支持體3 0的變位式支持點B是藉由下述的方 法所形成。 首先，準備一個具有用來作爲特定平面之平面狀表面 的平台材，並藉由固定式支持體2 0在無負荷狀態的平台 材的背面形成三個支持點，藉此利用該固定式支持體20 -13- 1277134 (11) 的高度調整機構來調整平台材之相對於底板1 8 水平度的同時加以支持，並且僅由此固定式支持 支持，且藉由硏磨處理僅由於自重而產生自然撓 的平台材的表面來進行平面加工，並獲得具有所 面度的特定平面11A的平台11。 接下來，在支持台34B抵接於產生自然撓 1 1之背面1 1B的狀態下，使配置在預定位置之 位的狀態的變位式支持體3 0保持因應於平台1 1 曲的變位狀態，藉此形成對應於所使用的變位 3 0之數目的變位式支持點B。 此外，變位式支持體3 0亦可在對於平台材 加工之前進行配置，或是在對於平台材進行平面 進行配置。 移動體17是經由臂部17B對於該移動體17 ，並且與施加磁力的移動體控制部1 7 A連接而 而且在平台11的特定平面11A上，藉由空氣的 於例如從特定平面1 1 A浮起數μιη至數十μιη的 動體1 7施加磁力，而且使該移動體1 7與平台： 之間的磁場產生變化，藉此在該特定平面1 1 Α上 在此圖面的例子當中，在移動體1 7的各側 光學感測器（未圖示），藉由此光學感測器的作 實防止移動體1 7從平台1 1的特定平面1 1 A上脫 根據以上構成的平面載台裝置，由於在藉由 持體20使距離底板1 8之高度及水平度固定的狀 的高度及 體20所 曲的狀態 希望之平 曲的平台 可自由變 之自然撓 式支持體 進行平面 加工之後 供應氣體 構成者， 作用，對 狀態的移 .1的凸極 移動。 面設置有 用，可確 離。 固定式支 態的平台 -14- 1277134 (12) 1 1，可藉由變位式支持體30在固定式支持點A以外的位 置，來形成對應於所使用的變位式支持體3 0之個數的數 目的變位式支持點B，而不會使平台1 1的狀態（高度、 水平度及平面度）改變，因此可藉由三點以上的複數個支 持點確實支持平台1 1，所以不會像例如使用岩石工作平 台及桁架構造體所構成的基座之構成的平面載台裝置，產 生其質量或外觀尺寸變大以致裝置本身大型化的弊端，即 使在移動體1 7移動至固定式支持點A之正上方位置以外 的位置的情況下，也可抑制平台1 1之撓曲的發生，因此 可抑制因爲此撓曲之發生所導致的平台1 1之特定平面 1 1 A之平面度的變動。 實際上，根據此平面載台裝置，可將例如外徑1 m的 大型工件載置於平台11的特定平面11A上，並且將使其 總重量爲5 0kg的移動體移動時所產生的平台1 1的最大撓 曲量設定在3μηι以下。 而且，由於變位式支持體30具有藉由朝向垂直於平 台1 1之特定平面1 1 Α的方向伸縮而變位，同時可保持所 選擇之一個變位狀態的構成，因此可選擇因應於平台！] 之狀態的變位狀態而加以保持，所以對於藉由固定式支持 體2 0形成有固定式支持點A而受到三點支持的平台i】 可容易且確實形成變位式支持點B。 因此，根據平面載台裝置，可藉由容易的手法獲得平 台之良好的平面度穩定性，同時可使裝置本身小型化。 再者’平面載台裝置是使構成固定式支持體20的各 -15- 1277134 (13) 個支持構件2 1及變位式支持體3 0可個別調整其高度，因 此即使在底板1 8的表面存在有例如0.1 mm程度的凹凸的 情形，也可獲得平台1 1之所希望的平面度，且可獲得良 好的平面度穩定性。 將這種平面載台裝置用來作爲工件載台的逐次曝光裝 置是藉由將具有分割成複數個曝光區域之曝光面的工件載 置於移動體17上，然後使其在平台11的特定平面11A 上移動而在各曝光區域依序進行曝光處理，即使在使例如 載置大型工件的移動體17移動至固定式支持體20之固定 式支持點A的正上方位置以外的位置的情況下，也可抑 制平台U之撓曲的發生，所以載置於移動體1 7上的工件 相對於光軸的位置不會有太大的變動，因此能以高曝光精 度對於工件進行曝光處理，該結果即可獲得曝光處理之良 好的可靠性。 而且，在此逐次曝光裝置當中，由於工件載台的構成 單純，而且不需要爲了獲得高平面度穩定性而在平面載台 裝置使用大型的基座，因此可謀求工件載台的小型輕量化 〇 以上，雖然具體說明了本發明的平面載台裝置，但本 發明並不限定於以上的例子，而可進行各種變更。 例如，平面載台裝置並不限定於具有移動體的構成， 亦可爲只是使具有平面的平台由固定式支持體及變位式支 持體所支持的構成。這種構成的平面載台裝置是適合用來 作爲各種測量裝置當中的測量基準面等。 -16- 1277134 (14) 而且’平面載台裝置爲了獲得平台的高平面度穩定性 ’雖然最好是使用複數個變位式支持體的構成，但亦可爲 使用一個變位式支持體的構成。在這種情況下，比起僅藉 由固定式支持體所支持之構成的平面載台裝置，仍可獲得 較高的平面度穩定性。 這種平面載台裝置除了可用來作爲逐次曝光裝置的工 件載台之外，也適合用來作爲例如測量裝置當中的測量基 準面、光學測量用工作平台等。 以下’針對爲了確認本發明之作用效果所進行的實驗 加以說明。 〈實驗例1〉 根據第1圖的構成，製作出使具有尺寸爲長1 800mm 、寬 1 000mm、厚度 150mm (平台主體之頂板的厚度 2 0mm)之平台主體所構成的平台，由具有第4圖之構成 的三個支持構件所構成的固定式支持體、以及具有第5圖 之構成的變位式支持體所支持，並且使具有長6 0 0 m m、 寬600mm之尺寸，且質量爲50kg的移動體在該平台的特 定平面上移動之構成的平面載台裝置（以下亦稱爲「平面 載台裝置（1 )」。 此平面載台裝置（1)是藉由以下方法製作而成：準 備一個具有用來作爲特定平面之平面狀表面的平台材，並 藉由固定式支持體在無負荷狀態的平台材的背面形成三個 支持點，藉此利用該固定式支持體的高度調整機構調整平 -17- 1277134 (15) 台材之相對於底板的高度及水平度同時加以支持，並且僅 由此固定式支持體所支持，且藉由硏磨處理僅由於自重而 產生自然撓曲的狀態的平台材的表面來進行平面加工，並 獲得特定平面具有平面度爲db 1 〇 μ m之範圍內的平台，然後 ’將共計1 8個的變位式支持體配置在預定的位置（參照 第3圖），使支持台抵接於此平台之產生自然撓曲的背面 ’並且使其保持因應於平台之背面之自然撓曲的變位狀態 而利用變位式支持體形成共計1 8個的變位式支持點。 將外徑1 m的工件載置於平面載台裝置（！）的移動 體上’並且測量使載置此工件之總重量爲5 0 k g的移動體 在平台的特定平面上移動時所產生的平台的最大撓曲量時 爲 3 μιη 〇 〈比較實驗例1〉 在貫驗例1除了不使用變位式支持體以外，其餘皆利 用與實驗例1相同的方法製作出平面載台裝置（以下亦稱 爲「比較用中·面載台裝置（1)」），除了使用所製作的 比較闱平面載台裝置（1 )以外，其餘皆利用與實驗例1 同樣的方法測量平台的最大撓曲量時爲2 Ο μιη。 從以上的結果可知，實驗例（1 )的平面載台裝置（j )具有良好的平面度穩定性。 而且，製作出在平面載台裝置（1)除了不便用固定 式支持體及變位式支持體，而是將平台一體配置於由岩石 工作平台所構成的基座上（參照第9圖）以外，其餘皆具 -18- 1277134 (16) 有與平面載台裝置（1)同樣的構成，同時具有與該平面 載台裝置（1)相同程度之平面度穩定性的平面載台裝置 時，尤其岩石工作平台所導致的質量之增加極大，此平面 載台裝置會變得大型，而且不容易以高精度進行加工而得 到爲了獲得所希望之平面度穩定性所需的基座的平面度。 〔發明之效果〕 根據本發明的平面載台裝置，由於在藉由固定式支持 體使距離配置有該平面載台裝置之面的高度及水平度固定 的狀態的平台，可藉由變位式支持體在固定式支持體所形 成的支持點以外的位置，形成對應於所使用的變位式支持 體之個數的數目的支持點，因此可藉由三點以上的複數個 支持點確實支持平台，所以不會有裝置本身大型化的弊端 ，而可抑制由於對於平台施加荷重時而產生之撓曲所導致 的平台平面之平面度的變動。 而且，變位式支持體具有藉由朝向垂直於平台之平面 的方向伸縮而變位，同時可保持所選擇之一個變位狀態的 構成，因此可選擇因應於平台之狀態的變位狀態而加以保 持，所以對於藉由固定式支持體來形成有支持點的狀態的 平台並可容易且確實形成新的支持點。 因此，根據本發明的平面載台裝置，可藉由容易的手 法獲得平台的良好平面度穩定性，而且可將裝置本身小型 化。 而且，本發明的平面載台裝置即使具有使移動體在平 -19- 1277134 (17) 台之平面上移動的構成，也可抑制由於該移動體之移動所 導致的平台之撓曲的發生，因此可獲得良好的平面度穩定 性。 【圖式簡單說明】 第1圖是顯示本發明平面載台裝置之一構成例的說明 用平面圖。 第2圖是第1圖之平面載台裝置的說明用側面圖。 第3圖是顯示構成第1圖之平面載台裝置的平台之背 面的說明用平面圖。 第4圖是顯示適合用來作爲構成第1圖之平面載台裝 置的固定式支持體的支持構件的說明圖。 第5圖是顯示適用於第1圖之平面載台裝置的變位式 支持體的說明圖。 第6圖是顯示第5圖之變位式支持體的某個變位狀態 的說明圖。 第7圖是顯示第5圖之變位式支持體保持某個變位狀 態時的說明圖。 第8圖是顯不使用習知平面載台裝置的曝光裝置之一 例的說明圖。 第9圖是顯示習知平面載台裝置之一例的說明圖。 〔符號說明〕 11 平台 -20· 平面（特定平面） 背面 平台主體 頂面板 肋部 樑 移動體 移動體控制部 臂部 底板 支持構件用貫穿孔 光學框架 固定式支持體 支持構件 公螺絲 前端部 球體 螺帽 變位式支持體 支持體主體 頂面板 塊狀體配置用空間 頂面 底面 -21 - 1277134 (19) 34 支 柱 34A 圓 盤 34B 支 持 台 35 壓 縮 弓早 簧 36 固 定 用 塊 狀 髀 37A 、3 7B 滾 輪 3 8 引 導 孔 39 空 氣 配 管 4 1 平 台 42 平 面 42A 凸 極 42B 層 43 支 持 構 件 44 移 動 體 45 投 影 透 鏡 45 A 焦 點 46 曝 光 用 遮 罩 4 7 底 板 49 基 座
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