TWI275775B - Acoustic wave touch detecting apparatus - Google Patents

Description

1275775 玖、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關藉由超音波方式之觸控式面板等類，用於以聲 音檢測接觸位置之聲波型接觸檢測裝置。 【先前技術】 藉由超音波之聲波型接觸檢測裝置係使用於例如··個人電腦 之操作晝面、車站之車票自動販賣機、設置於便利商店之影印機 或者金融機構之無人終端機等。此等聲波型接觸檢測裝置使用包 含配置於玻璃等基板上之壓電振動器（壓電（piez〇)元件）之 轉換器（Transducer)。此轉換器係作為體波之產生手段而使用， 同時亦作為感測器，檢測藉由觸碰觸控式面板之手指等而被散亂 之聲波。 作為體波而產生之超音波振動轉換為藉由聲波產生手段而 傳播於基板上之表面彈性波。且，此表面彈性波係藉由手指等被 散亂，該散亂則藉由檢測手段檢測。被檢測出之信號與控制器之 日守鉍“號對照，特別指定出表面彈性波被散亂之位置。 藉由上述聲波產生手段轉換為表面彈性波之際，並非全部轉 換為表面彈性波，附帶產生由未轉換為表面彈性波之體波、及透 過反射陣列或者於反射陣列朝特定方向以外反射之表面彈性波 所組成之所謂雜波。此雜波若於基板上一面反射，一面傳播而到 達感測器側之轉換器，將產生使此轉換器振動之電壓。此電壓係 作為雜訊而接收’擾亂控制器之正常判定。 ’ 因此，為了吸收產生之雜波，於基板上設置防振材料或吸收 材料（例如：特開昭6-324792號公報（第2頁、第一圖）、特 開昭6卜239322號公報（第U頁、第二圖））。此等防振材料、 吸收材料通常以樹脂製之膠帶等所構成，貼附於基板上。到達此 膠帶之雜波被吸收並衰減。 1275775 以往之技術必須將防振材料、吸收材料均貼附於基板上，此 貼附作業以人工作業進行，故耗費工數，生產性低。又，其結果 具有製造成本變高的問題。 【發明内容】 本發明係有鑑於以上問題點而實現者，其目的在於提供一種 可使雜波有效地散亂並消去，同使可使生產性提升，製造成本減 低之聲波型接觸檢測裝置。 本發明之聲波型接觸檢測裝置，其具備：基板，其係具有聲 波所傳播之表面；聲波產生手段；反射陣列，其係使產生之聲波 沿著基板表面傳播；檢測手段，其係檢測藉由在表面之物體之接 觸所造成之聲波之變化；及作為控制手段之控制器；其特徵在 於：聲波產生之際，使於表面附帶產生之雜波散亂之雜波散亂手 段係形成於基板。 又，雜波散亂手段係由與前述基板相同之材料所形成之反射 陣列組成。 並且，聲波產生手段及雜波散亂手段可藉由印刷或蝕刻形 成。 在此所謂聲波，其係除了傳播於基板表面上之彈性表面波以 外，亦包含沿著基板表面傳播於薄基板内之超音波。 又，聲波產生手段可包含模式轉換要素及超音波振動器。 又，檢測手段可為轉換器。 在此所謂轉換器，其係將超音波振動轉換為電氣信號，或者 將電氣信號轉換為超音波振動之要素。 雜波散亂手段亦可為擴散光柵。 【發明效果】 本發明之聲波型接觸檢測裝置係聲波產生之際，使於表面附 帶產生之雜波散亂之雜波散亂手段形成於基板，故藉由雜波散亂 1275775 手段，可有效地使雜波散亂。 又，雜波散亂手段係由與基板相同之材料所形成之反射陣列 構成之情況，可有效地使雜波散亂。 並且，聲波產生手段及雜波散亂手段藉由印刷而形成之情 況，可有效地使雜波散亂，同時可使印刷自動化而有效率地生 產，故可提升生產性且減低製造成本。並且，聲波產生手段及雜 波散亂手段藉由蝕刻形成之情況，亦可有效地使雜波散亂，以相 同方法形成，故可提升生產性且減低製造成本。 【實施方式】 以下，參考附圖說明本發明之聲波型接觸檢測裝置（以下僅 稱裝置）之較佳實施例。 第一圖為使用於裝置1之觸控式面板3之正面圖。如第一圖 所示，觸控式面板3係由矩形玻璃基板所構成之基板2、安裝於 此基板2之FPC (可撓性印刷電路）4、及與此FPC4電氣連結之 控制部（控制器）6所構成。 FPC4分支為沿著基板2之寬度方向，亦即圖中箭頭χ所示之 X軸方向之分支線4a，及與X軸正交之沿著箭頭γ所示之γ軸方 向之分支線4b。FPC4係安裝產生超音波之轉換器（體波產生手 段）8、10 ’及成為感測器之轉換器（檢測手段）12、14。 又，沿著Y軸由多數傾斜之斜線16所組成之反射陣列18形 成於基板2之表面、亦即第一圖之前側，與此反射陣列18相對， 由多數之斜線20所組成之反射陣列22形成於基板2之側緣44 附近。並且，多數之斜線26所組成之反射陣列28形成於沿著χ 軸、基板2之上緣24附近，與此反射陣列28相對之多數之斜線 30所組成之反射陣列32形成於基板2之下緣45附近。此等反射 陣列18、22、28、32之圖案係揭示於特開昭61_239322號及特 開200卜14G94號之各公報。再者，反射陣列18、22、28、犯總 1275775 括稱為反射陣列33。藉由此反射陣列33,聲波被反射並傳播於 基板2之表面上。 前述轉換器8、10、12、14接著於基板2之背面，對應此轉 換器8、10、12、14，基板2之表面分別形成模式轉換要素（光 柵）78、80、82、84。關於此構成，參考第十一圖，將舉出模式 轉換要素80作為代表而進行說明。第十一圖為第一圖之基板2 由箭頭A方向所見之部分概略放大圖。第十一圖之模式轉換要素 80係由燒結玻璃糊而形成於基板2上、互相隔離之平行複數突條 80a所構成。第十一圖所示之突條80a實際上延伸於與紙面正交 之方向。 此突條80a係設定寬度約400微米，高度約35微米以上。 藉由改變此突條80a之相互間隔，體波之反射方向改變。本實施 型態中，突條80a之正側面係形成產生表面彈性波之間隔。於此 模式轉換要素80之相反側，轉換器10係連接於基板2，且藉由 焊錫5而電氣連接於FPC4之分支線4b。 其他模式轉換要素78、82、84亦具有相同的構成。模式轉 換要素78、80、82、84中，78、80所示之模式轉換要素（聲波 產生手段）係將傳送側之轉換器8、10所產生之體波轉換為表面 彈性波。然而，模式轉換要素82、84係將傳播於基板2表面之 表面彈性波（聲波）再度轉換為體波。 當由轉換器10所發出約5. 5MHz之超音波振動（體波）經由 基板2之背面，通過内部到達位於基板2表面之模式轉換要素80 時.，藉由模式轉換要素80而被轉換為表面彈性波，並往與模式 轉換要素80之突條80a垂直之反射陣列32之方向傳播（反射）。 且，藉由反射陣列32之朝内側傾斜之多數斜線30而反射，朝著 反射陣列28而傳播於基板2之表面，到達反射陣列28之朝内側 傾斜之斜線26。 Ϊ275775 於模式轉換要素78、8G，未轉換為表面彈性波而殘留之體波 朝特定方向放射，以模式轉換要素78、8G為中心而朝四面八 Z播。其體波之-部分若傳至轉換器12、14，則成為可能妨礙 之化號檢測之雜波。又，模式轉換要素78、8()係由前述複 ，之突條所構成，基本上對於此等突條正交之方向將產生表面 $ ’然而得知於非意圖之方向產生些社表面波。此表面波亦成 為可能妨礙信號檢測之雜波。當此等雜波到達 將使轉換器12、丨4產生雜訊信號。 到達反射陣列28之表面彈性波進—步被反射，朝模式轉換 要素84而傳播。到達模式轉換要素84之表面彈性波藉由此模式 轉換要素84轉換為體波，其振動被傳播至位於基板2之背面、 錢感測器之接收側之轉換器14，藉由轉換器14而轉換為電氣 信號。 由轉換器8所發出之超音波振動（體波）亦同樣地藉由模式 轉換要素78而轉換為表面彈性波，、經過反射陣歹j 18及反射陣列 22 ’入射模式轉換要素82。表面彈性波藉由此模式轉換要素82 而轉換為體波，傳播至成為感測器之轉換器12，轉換為電氣信號。 如此，表面彈性波平均地傳播至藉由反射陣列18、22、找、 32所涵蓋之基板2上之全部區域，故於此區域内，例如：當藉由 手指（物體）接觸（觸碰）基板2時，藉由此手指所遮蔽之表面 彈性波則消失或者衰減，且，伴隨此表面彈性波之變化之信號變 化係由作為感測器之轉換器12、14，送至與感測器組合之控制器 6的時間電路（未圖示），藉由控制器6，決定手指所接觸之位 置的幾何學座標。 表面彈性波藉由反射陣列33之各斜線16、2〇、26、3〇之各 條而反射，一條斜線反射到達之表面彈性波之〇·5%〜1%，其他則 朝向鄰接之後續的斜線而透過，於後續之斜線依序反射。 1275775 裝置1中，為了減低前述雜訊，使雜波散亂並消去之雜波散 亂手段，亦即擴散光栅係形成於基板2之表面。第一圖中，此擴 散光栅包含34、36、38所表示之矩形部分、沿著上緣24之斜線 40、42所組成之擴散光栅43及沿著側緣44之斜線46、48所組 成之擴散光柵49。此等斜線40、42、46、48構成與前述反射陣 列18、22、28、32具有不同機能之第二反射陣列。又，擴散光 栅34、36、38内亦構成第二反射陣列（第七圖）。關於此等擴 散光柵34、36、38、43、49之詳細有待後述。再者，擴散光柵 係總括以5 0表示。 其次，參考第二圖至第四圖，說明接著於基板2之FPC4。第 鲁 二圖係表示接著於基板2之FPC4之正面圖。FPC4接著於基板2 之背面，然而為了方便起見，第二圖係以實線表示。再者，第二 圖中省略反射陣列33及擴散光柵50。第三圖係表示FPC4全體之 概略平面圖。第四圖為放大第三圖之B所表示之部分之FPC4之 部分放大圖。第三圖及第四圖所示之FPC4係分別對應第二圖中 由基板2之背面所看到之FPC4之狀態。 如第三圖及第四圖所示，FPC4係一端具有分別對應成為感測 器之轉換器12、14之電極52、54。如前述，此等電極52、54由 上方藉由焊接、銀糊等導電氣接著劑、或者異方導電氣接著劑等 ® 連接於接著於基板2之轉換器12、14。亦即，轉換器12、14位 於FPC4及基板2之背面之間。FPC4係由前述之分支線4a、4b及 連接於控制器6之連結線4c所構成。 連結線4c及分支線4a具有相同長度，形成一體之帶狀（第 三圖）。連結線4c及分支線4a藉由於該等之間之長度方向所形 成之孔狀接線56而可分離。分支線4a之另一端形成連接轉換器 8之電極58,連結線4c之另一端形成連結於控制器6之電極60。 又，分支線4b之另一端形成連接於轉換器10之電極62(第三圖）。 10 !275775 如第四圖所示，連接於控制器6之連結線4c之印刷配線64 係形成十條印刷配線 64a、64b、64c、64d、64e、64f、64g、64h、 64i、64j。在此，重要點在於以連接於作為感測器之轉換器12、 U、成為接收線之4條印刷配線64d〜64g構成信號線群，此信 號線群之兩側配置接地用之印刷配線64c、64h。 且’此接地用之印刷配線64c、64h之外側配置成為信號線 之印刷配線64b、64i，其係分別連接於傳送用之轉換器8、1〇 ; 並且其外側分別配置接地用之印刷配線64a、64 j。此係表示成為 接收線（信號線）之印刷配線64d〜64g被接地線64c、64h所包 圍’成為傳送線（信號線）之印刷配線64b、64i分別被接地線籲 64a、64c及64h、64j所包圍而形成屏蔽。於分支線“、4b亦維 持此關係。藉此，印刷配線64b、64d、64e、64f、64g、64i所 構成之信號線群難以受到來自外部之電磁波的影響，又，相反地 具有難以對外部產生電磁波之效果。藉由上述構成，在沿著基板 2配設FPC4，並拉長接收線之情況，耐EMI性變得特別有效。 再者，圖中66、68係表示分支線4b之彎曲線。分支線扑 沿著此彎曲線66，朝第四圖之紙面的前側彎曲一次，為了使相反 側之電極62 (第三圖）朝向轉換器1 〇，故進一步沿著彎曲線⑽， 朝紙面之反面側彎曲。此彎曲部係於第二圖以69表示。如此，_ 分支線4b沿著基板2之側緣44而配置。再者，FPC4係藉由接著 劑（未圖示）等接著固定於基板2。 其次’第五圖係僅表示前述反射陣列33之配置。第五圖為 對應第一圖所示之反射陣列33之反射陣列33正面圖，省略其他 雜波散亂手段之擴散光栅34、36、38等。各反射陣列18、22、 28、32之斜線16、20、26、30具有45。之傾斜，將表面彈性波 朝相對之反射陣列而反射。此等反射陣列33係將鉛玻璃之微細 粉末之糊狀藉由絲網印刷等印刷於基板2之表面，以約500。(：燒 11 1275775 結而形成。再者’圖中以25部分表示基板2之角隅。又， 陣列之材料亦可使用添加紫外線硬化型之有機系油墨，或者為了 使有機系油墨之反射率提升之金屬粉末所組成之填料。 由於表面彈性波之強度隨著通過斜線16、2〇、26、3〇而衰 減，為了彌補此衰減量，於基板2之表面平均傳播表面彈性波，、 故斜線16、20、26、30之間隔隨著遠離傳送側之轉換器8、ι〇 而變窄，黯變高。再者，反射陣列22、28配置於基板2之上 緣24、側緣44 (第一圖）之稍微内側。此理由係為了使後述之 擴散光栅50之斜線40、42、46、48可配置於其外側。 其次，參考第六圖說明成為雜波散裹手段之擴散光拇5〇。第 六圖係同時表示對應第一圖之擴散光柵5〇及模式轉換要素Μ、 80、82、84之正面圖。構成前述第二反射陣列之斜線4〇、42係 於基板2之上緣24附近，以互相逆向之角度而形成。且，該角 度係於基板2之巾央部附近幾乎垂直形成，隨著往基板2之端部 而逐漸、交化為小角度。又，構成第二反射陣列之其他斜線邮、Μ 亦同樣具有相反之斜率而形成，並且該角度逐漸變化。此理由係 為了不使雜波朝同一方向反射，而朝各種方向擴散，亦即使其亂 反射。 此等斜線40、42、46、48位於以往之膠帶（tape)等所貼 附的部分。亦即，斜線40、42、46、48係應置換膠帶而形成之 部分。到達此區域之雜波藉由此等斜線4〇、42、46、48而被亂 反射，以使不到達接收側之轉換器12、14。超音波振動能量之衰 減因超音波之頻率、振動模式及玻璃種類而不同。代表性之鈉鈣 玻璃之約5·5ΜΗζ之表面彈性波若於基板2傳播4〇cm，其強度將 約衰減為1/10程度。 又，矩形之擴散光柵34、36、38係由具有45。或_45。之相 異角度、互相隔離之突條亦即斜線聚集複數個而形成。參考第七 12 1275775 3圖6及3第形狀。第七圖及第人圖係同時表示各擴散光拇 明顯顯-Ψ 士狀#刀放大圖。第七圖係表示擴散光栅36， 出相較於反射陣列18、32之各斜線16，，斜線36a 擴散光:=°又’第八圖係表示同樣具有大角度之斜線38a之 、此寺擴散光柵36、38係亦為了使傳播於基板2表面之雜波， 二45或-45、外之角度朝外側亂反射而消去。關於擴散光柵 雖未放大表示，但具有相同形狀及機能。又，擴散光拇^ ，線’擴放光栅36、38之斜線36a、38a於相同擴散光栅内， 亦可平仃或角度逐漸不同。擴散光柵34、38亦具有阻斷由特定 方向偏離而傳播之表面彈性波，到達接收側之轉換器12、14之 路徑之機能。 與反射陣列33相同，此等擴散光柵5〇係以鉛玻璃之微細粉 末之糊狀為油墨，印刷於基板2上。故，形成反射陣列33時可 同時印刷，生產性提升，亦可降低製造成本。 圖示之擴散光柵36、38之斜線36a、38a係由複數之突條所 組成者，然而未必限定於突條，亦有各種變形例。此變形例表示 於第九圖。第九圖係表示擴散光柵之變形例之放大圖。此擴散光 栅51藉由平面看來為菱形之多數突起5ia之集合所構成。於此 等突起51a所構成之區域内，到達此擴散光柵51之雜波係於突 起51a之間重複反射而衰減。突起之形狀並不限於菱形，平面看 來為矩形、三角形等多角形或橢圓等任意形狀均可。 其次，第十圖係以正面圖表示形成於基板2表面之擴散光柵 50及反射陣列33之相對位置關係。圖中明顯表示斜線4〇、42位 於反射陣列28之外側，斜線46、48位於反射陣列22之外側。 擴散光栅34、36、38係使反射陣列33未反射而透過之聲波（表 面彈性波）在透過後，立即朝與反射陣列33所反射之方向不同 1275775 之方向反射而配置。 更具體而言，例如：在轉換器8及模式轉換要素78所產生 之表面彈性波係於通過反射陣列18之期間，朝反射陣列22反 射。然而’在反射陣列18並未被反射，透過反射陣列μ之表面 彈性波到達擴散光栅36。如第七圖所示，擴散光柵36產生機能， 以使表面彈性波朝基板2之外側反射。亦即，使其反射往相反於 原來之反射方向，以使產生雜訊之超音波振動不致到達接收側之 轉換器12。 /σ考暴板Z之緣井形成之擴散光柵50之斜線40、42、 =、48係使傳播於基板2表面上之體波亂反射並衰減而構成。通 ¥，藉由杈式轉換要素78、80，體波被轉換為表面彈性波，然而， 未100%轉換而殘留之體波係傳播至特定方向以外，故為了使此等 不需要之體波衰減而使用。 、 ^又，於模式轉換要素78、80轉換為表面彈性波之際，由特 定方向偏離而傳播之表面彈性波亦藉由此等斜線40、42、46、48, 朝各種方向離散而被亂反射。藉由此離散之反射，可減低不需要 之超音波，動到達接受側之轉換器12、14而成為雜訊之可能性。 ^又，第十圖中，斜線4〇、42之間，以及斜線46、48之間， 的圖旦82係與斜線4〇、42、46、48同樣被印刷’此種圖畫 亦有效減低雜訊。此等圖^ 82之外周由曲線所構成，到達此 圖m料體波或表面彈性波被反射至各種方向而衰減。此 ，右為相由曲面所構成，或者外周具有使雜波朝各種方向爾L 反射之角度，任何圖畫或花紋均可。 ΐ。二細明本發明之實施型態，然而，並不限定於上述 :、'悲。歹’如：擴散光栅5◦亦可藉由使用氟酸等之餘刻而形 开4或ί!可藉由雷射、噴砂或削切等化學或物理之除去加工‘ 、口之，亦可形成凹槽以取代突出部。 1275775 又，本實施型態係說明使用具有模式轉換要素78、80、82、 84之所謂光栅類型之表面彈性波產生手段之情況，然而，並不限 定於此實施型態。例如：亦可適用於以使用丙稀酸系之稜鏡（未 圖示）之楔型轉換器（未圖示），使表面彈性波產生之方式之聲 波型接觸檢測裝置。或者，亦可適用於使用不具有光柵或楔、形 成於超音波振動器上之1對梳狀電極之方式之聲波型接觸檢測裝 置。 又，本發明所使用之FPC4亦可以任意之接著劑接著於基板 2，然而，壓電振動器之接著宜使用紫外線硬化型接著劑。此理 由在於可以決定轉換器8、10、12、14對於模式轉換要素78、80、 · 82、84之暫時位置，並確定最適之表面彈性波產生後，照射紫外 線使接著。 又，如上述說明，雜波散亂手段亦可為使亂反射並衰減之方 式。再者，本實施型態中，兩個接收側轉換器12、14係鄰近配 置，然而，亦可交替置入傳送側轉換器8、10，互相隔離配置接 收側轉換器12、14。此時，由於鄰近位置沒有另一方之接收側轉 換器14或12，故可抑制由一方之接收側轉換器12或14漏出之 表面彈性波被另一方拾取之雜訊。又，可縮短由控制器6至傳送 側轉換器8、10之電氣路徑，故可抑制由此電氣路徑放射不需要 ® 之輻射，亦即電磁波。 又，上述實施型態係說明使用FPC之情況，然而，亦可使用 FFC，亦即可撓性排線取代FPC。使用FFC之情況，轉換器8、10、 12、14電氣連接於FFC之導線。又，與FPC4之情況相同，FFC 係接著於基板2而安裝於基板2。 15 1275775 【圖式簡單說明】 第一圖為本發明之聲波型接觸檢測裝置所使用之觸控式面 板之正面圖； 第二圖係表示接著於基板之Fpc之正面圖； 第三圖係表示FPC全體之概略平面圖； 第四圖為放大第三圖之B所示之部分之FPC之部分放大圖； 第五圖為對應第一圖所示之反射陣列之反射陣列正面圖； 第六圖係同時表示對應第一圖之擴散光栅及模式轉換要素 之正面圖； 第七圖係同時表示擴散光柵及反射陣列之部分放大圖； 第八圖係同時表示擴散光柵及反射陣列之部分放大圖； 第九圖係表示擴散光柵之變形例之放大圖； 第十圖係表示擴散光柵與反射陣列之相對位置關係 圖； ’、 第十一圖係表示由箭頭A方向所見之第一圖之基板之部八 略放大圖。 〇刀 [主要元件符號對照說明] I··聲波型接觸檢測裝置 2…基板 6···控制器 8、U···轉換器（體波產生手段） 12、14···轉換器（檢測手段） 34 Ν 36、38、43、49…擴散光柵（雜波散亂手段） 78、80…模式轉換要素（聲波產生手段） 16

Claims (1)

1275775 拾、申請專利範圍： 1. 一種聲波型接觸檢測裝置，包含：基板，其係具有聲波所傳 播之表面；聲波產生手段；反射陣列，其係使產生之前述聲波 沿著前述基板表面傳播；檢測手段，其係檢測藉由在前述表面 之物體之接觸所造成之前述聲波之變化；及作為控制手段之控 制器；其特徵在於： 前述聲波產生之際，使於前述表面附帶產生之雜波散亂之 雜波散亂手段係形成於前述基板。 2. 如申請專利範圍第1項之聲波型接觸檢測裝置，其中前述雜 波散亂手段係由與前述基板相同之材料所形成之反射陣列組 成。 3. 如申請專利範圍第1或2項之聲波型接觸檢測裝置，其中前 述聲波產生手段及前述雜波散亂手段係藉由印刷所形成。 4. 如申請專利範圍第1項之聲波型接觸檢測裝置，其中前述聲 波產生手段及前述雜波散亂手段係藉由蝕刻所形成。

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