TWI270070B - Correcting stage, apparatus and method for laminating, and laminating-type recording medium - Google Patents

Description

(1) 1270070 • 九、發明說明 • 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種校正台，用以疊層之裝置及方 及疊層型記錄媒體，這些係用於製造光碟與磁性記錄 之光學記錄媒體。 【先前技術】 g 關於其中可以讀取資訊的光碟，資訊是藉由使用 光來記錄與淸除的，已經可以製造並販賣DVD與雷 片，作爲由疊層兩基底所製成的光碟。 這些光碟包含兩基底，及至少一反射層、一黏著 •一記錄層’這些層是放置在此兩基底之間。可用於此 '的材質範例包括聚碳酸酯樹脂以及丙烯酸樹脂（例如 基丙烯酸甲酯，PMMA )。可用於反射層的材質範例 Au，Ag，A1及其合金。可用於黏著層的材質範例包括 φ 硬化性黏著劑。 根據自由基UV法，此種方法是最常被採用爲製 知光碟的疊層方法，此疊層型光碟是藉由以下的方法 ，此方法包含以下步驟：使用一分注器將自由基UV 劑在基底碟片的幾個同心圓處滴於資訊用基底的表面 此基底內記錄有資訊且包含一記錄層與一反射層）； 外蓋用基底（是一透明單元，其功能在於保護資訊用 )放置在資訊用基底上，藉此可形成資訊用基底與外 基底之一複合基底；以一特定轉速旋轉此複合基底一 法， 媒體 雷射 射碟 層及 基底 聚甲 包括 UV 造習 製成 黏著 上（ 將一 基底 蓋用 段特 -4- (2) 1270070 ' 定時間，以便去除多餘的黏著劑；以及將此複合基底施以 • UV光照射，以便使UV黏著劑產生硬化。 在此自由基UV方法中，資訊用基底的翹曲（warpage )是與疊層的難易度成正比。換句話說，當彼此疊層起來 的兩基底之翹曲程度相同，且此兩基底彼此正對地疊層時 ，可以獲得一平衡且平坦層疊所製成的疊層記錄媒體。 然而，，由於在自由基UV方法中，無法校正這些疊層 g 基底的翹曲程度，所以翹曲程度（翹曲値R-tilt value )會 變大，特別是在疊層之後，如此一來其中會產生了許多缺 陷。 圖1A到1C是流程圖，顯示用於製造習知DVD-ROM •的疊層步驟。圖1A顯示一步驟，乃是將一基底放置在台 ~ 上且此基底塗上黏著劑。圖1B顯示一步驟，乃是將塗有 黏著劑的基底予以旋轉，以便在基底上處理一黏著層。圖 1C顯示一步驟，乃是在基底上的黏著層藉由照射UV光而 φ 硬化。在此習知的疊層方法中，其中一基底的正翹曲程度 與另一基底的負翹曲程度是平衡的，使得此疊層幾乎接近 平坦，所以可輕易獲得此兩基底，使得當一疊層台（校正 台）具有一簡單鏡面時，僅需藉由平衡兩基底的翹曲程度 ，已疊層的基底之翹曲程度就可以輕易調整在一有利的翹 曲程度上。在圖1A到1C中，參數1表示外蓋用基底，參 數2表示資訊用基底，而參數3表示UV照射單元，例如 UV燈。 在此，作爲使翹曲程度變成幾乎是零度之方法，以下 -5- (3) 1270070 ^ 乃是習知所採用的方法，藉由在已疊層的基底之一碟片表 • 面的一內圈部上放置一重物4，將此疊層基底擠壓到校正 台的鏡面上。 然而，習知的方法不能應付基底翹曲程度大幅變化的 情形，如圖2A到2C所示，這是由於基底熱變形所導致的 結果，熱變形的起因可藉由在製造可重寫記錄媒體（+/-RW，RAM )時於基底上製備幾層金屬層期間產生濺射；或 φ 者基底翹曲程度大幅變化的原因是由於基底的熱變形所導 致的結果，熱變形的起因可藉由將模升高，以便獲得一次 型寫入（+/- R )記錄媒體用的基底之模轉移特性，其中此 種一次型寫入記錄媒體具有一很深的溝紋，與基底的原型 (p r 〇 t 〇 t y p e )之模轉移特性具有類似的程度。 於是，在製造ROM以外的不同碟片時，只有資訊用 基底具有很大的翹曲程度，會使得這樣的碟片性能大爲受 損。由於其中反映出資訊用基底的翹曲程度之疊層基底的 % 翹曲程度具有很大的負翹曲程度，所以必須藉由一校正法 ，使得翹曲程度（翹曲値）能夠被控制在一有利範圍或標 準範圍內。 用於校正翹曲値的方法範例包括：在光照射期間，藉 由減少上頭放置基底的台座7之一內圏部的壓力，使台座 7的鏡面在台座的一夾鉗凸面部（此碟片的一內圈部）上 吸附基底；以及藉由在台座的內圈部中的一夾鉗凸面部， 放置重物4於基底上，將基底的整個表面擠壓至台座7的 鏡面。然而，藉由這些方法，雖然可以校正翹曲値，仍然 -6 - (4) 1270070 可能會產生一項問題，就是會擴大疊層型記錄媒體在旋轉 軸方向上的加速度（疊層型記錄媒體表面的每個部位在垂 直於疊層型記錄媒體的標準表面之方向快速移動的程度， 就是疊層型記錄媒體表面不均勻的程度）。 這類問題的起因包括：（i )在基底與台座之間的吸 附期間，具有大約20μηι以下的灰塵微粒或黏著劑附著於 基底與台座之間；（Π)台座上或台座一外圈部上的基底 毛邊產生硬化，使得在基底表面內產生一明顯的凹面；（ iii ) 一部分的基底被吸附到基底的表面，而另一部分的基 底則未被吸附到基底的表面，使得硬化的黏著劑層會具有 不均勻的波形；及（iv )當台座的鏡面具有吸附基底的一 開口時，疊層型記錄媒體也具有一形狀，包含有開口的形 狀。這些原因會不利地影響疊層型記錄媒體在旋轉軸方向 上的加速度。 早已提出一種方法，用以解決上述問題，此方法包含 以下步驟：將兩基底擠壓至（吸附用）台座上，此台座具 有一超級細微均勻的表面；恰好在開始硬化用的光線照射 之前，停止此吸附（參閱日本先行公開專利申請案1^〇.09_ 2 62 9 07 )。然而，根據此方法，在疊層一具有很大翹曲値 的基底之情形下，由於在停止吸附時，校正過的翹曲値很 可能返回原始値，因此無法獲得很大的校正效果。翹曲値 是以碟片半徑方向上的翹曲角度來表示的，且在使用具有 很大翹曲値的一基底時，會相當不利地影響記錄媒體的推 挽信號之偏移與振幅。 -7- (5) 1270070 _ 疊層型紀錄媒體在旋轉軸方向上的上述力α

方式如下，當在垂直於基底標準表面的方向上 加速度是位於 30Hz到 1 .5kHz的範圍內時， 1 8 00 rpm)的轉速進行測量。由於此測量的結 一基底，此基底由於碟片表面不平坦產生很大 時，則藉由上述負加速度會不利地影響聚焦伺 服之可信賴性、跟進特性及穩定性。 p 近年來，對於具有高速記錄速度的DVD 轉軸方向上的加速度品質是很重要的。根據 橘皮書（Orange Book)，在旋轉軸方向上的 由剩餘的聚焦/追蹤誤差來指定的，使得加速 2.1m/s2 以下。 因此，在 JP-A No.2000-2 1 5 524 號案中， ，藉由使用具有彈性係數〇 . 1 M p a到2 0 M p a的 座鏡面的材質，來抑制碟片表面與台座表面接 φ 加速度。然而，儘管有這樣的裝置，在旋轉軸 仍然超過2.1m/s2，且難以穩定地產生一製品 向上的加速度爲2.1 m/s2以下。 而且，從JP-A No.2000-2 1 5524號案之圖 顯看出，具有100 μπι以上尺寸的鏡面不平坦會 軸方向上產生2.1 m/s2以上的加速度，且當不 爲2 0 μιη以下時，在旋轉軸方向上的加速度就 到不利的影響。因此，在旋轉軸方向上的加速 地受到不利的影響，僅藉由幾μπι尺寸的灰麈 速度之測量 ，記錄層的 ，以 30Hz ( 果，當使用 的負加速度 服與追蹤伺 來說，在旋 D VD + R/RW 加速度係藉 度被要求在 揭示一裝置 材質作爲台 觸所引起的 上的加速度 ，其旋轉軸 1 1中可以明 對應在旋轉 平坦的尺寸 會很快地受 度就會很快 或黏著劑侵 -8- (6) 1270070 ^ 入基底與台座鏡面之間，藉由習知形式的台座，會很嚴重 -地影響合格製品（就是在旋轉軸方向上的加速度爲 2.1 m/s2以下）對於所有製品的比例以及裝備的操作效率 〇 灰塵會附著於台座表面的原因包括附著於基底上的灰 塵係被轉移且移動到台座表面上。影響記錄媒體製造的灰 塵之尺寸是幾μπχ而已，且問題出在基底從去除穩定運輸 g 與翹曲値用的保護層到疊層兩基底之間的停放時間是一天 以上，這段期間就導致灰塵的附著。 黏著劑附著於台座表面上的原因包括黏著劑滴出了碟 片外圈邊緣，以及在由於製造設備故障導致製造過程必須 中斷的期間，黏著劑會滴出碟片的內圈或外圈邊緣，使得 台座的表面被黏著劑污染。 JP-A No.2002-2603 0 1號案中揭示一種轉台，在此轉 台上透過一 UV硬化黏著劑，可以疊層兩製造光碟用的基 φ 底，這些基底的整個底面並未受到支撐，但是底面局部的 內圈與外圏則分別受到支撐。藉由使內圈部中的圓形支撐 表面高度以及外圈部中的圓形支撐表面高度之間產生差異 ，已疊層的基底會根據基底本身的重量而產生變形，使得 這些基底產生撓曲形狀，從外圈部到內圏部形成一凸面曲 線，因此會預先對所獲得的疊層基底產生一翹曲，此翹曲 是在記錄媒體的記錄期間，在記錄媒體中疊層基底的翹曲 方向之相反方向上產生的。而且，藉由控制上述高度之間 的差異，則可以改變所獲得的疊層基底之翹曲程度。然而 -9- (7) 1270070 ’僅藉由使上述高度之間產生差異，所獲得的基底翹曲之 " 校正能力非常不足。 JP-A No.2003 -59 1 1 9號案中揭示一種疊層裝置，用以 製造疊層型光碟，其中基底碟片是支撐在轉台的內圈部與 外圈部中之圓形凸面部上。JP-A No.20 0 1 - 1 76 1 5 8號案中 揭示一種光碟單元的記錄與再生單元，具有一記錄媒體碟 片的驅動單元，其中此記錄媒體碟片係支撐在轉台的內圈 φ 部與外圈部中之圓形凸面部上。而且，JP-A No.2003-203403號案中揭示一種疊層設備，用以製造一疊層型光碟 ，其中基底碟片僅支撐在轉台的內圈部中之圓形凸面部上 。然而，這些習知的專利案仍具有上述提到的問題。 JP-A No.9-265672號案中揭示一種方法，用以防止黏 著劑滴在疊層設備中，其中基底碟片是支撐在轉台的內圈 部與外圏部中之兩圓形凸面部上。此方法包含兩項處理， 分別是防止黏著劑滴出碟片的外圈部外之處理，以及防止 φ 黏著劑滴出碟片的內圈部外之處理，其中在前一個處理中 ，藉由縮小旋轉台的直徑，使其小於碟片的直徑，則可以 防止黏著劑（因離心力移動到外圈部）滴出旋轉台表面上 的碟片外圈部外，且透過旋轉台外圈部上設置的一真空吸 引開口，吸收已經洩漏出外圈部外的黏著劑。在後一個處 理中，藉由在台座內圈部中的凸面部頂表面中設置多數真 空吸引開口，則能防止被真空吸引的黏著劑堵塞住吸引開 口。然而，在此方法中，並未考量到真空吸引使基底碟片 撓曲所產生之變形，以及其相關預防處理。 -10- (8) 1270070 * 揭示在 JP-A No.2002-260301, 2003-59119， 2001- • 176158， 2003-203403與9-265672等專利案中之技術主要 是著重於校正基底碟片中所引起的翹曲。因此，並未考量 到以下的問題，就是在其中具有8到1 〇μπι的超微灰塵或 黏著劑附著於校正台與碟片之間的狀態下，藉由UV來硬 化的黏著劑所產生之缺點；以及在碟片旋轉軸方向上的加 速度會受到不利的影響（碟片表面的形狀會局部變成不均 φ 勻）。而且，黏著劑附著於碟片的外圈部之垂直側表面上 ，使得碟片旋轉軸方向上的加速度會受到不利地影響，上 述這些專利案件並未揭示或提出此項缺點的預防對策。 【發明內容】 本發明的目的是要提供一種校正台，上頭可以疊層兩 基底，不會因爲灰麈與黏著劑附著於此校正台的表面，而 減少在碟片旋轉軸方向上的基底之加速度，因此在疊層之 Φ 後，可以獲得在碟片旋轉軸方向上的基底之加速度爲 2· lm/s2以下。本發明亦提供一種記錄媒體的疊層裝置， 記錄媒體的疊層方法，以及疊層型記錄媒體。上述的、、光 碟〃包括光學記錄媒體，以及磁光記錄媒體（就是MO ) 〇 本發明的校正台，包含··環形凸面部，係位於支撐基 底的校正台之內圈部與外圈部中；一高度控制單元，其結 構能控制該內圈部中的環形凸面部之高度以及該外圈部中 的環形凸面部之高度之的至少一高度，及一固定單元，其 -11 - (9) 1270070 結構能藉由擠壓來固定該基底的內圏部，以便校正該基底 • 的翹曲’其中在外圈部內的高度控制單元之半徑是小於該 基底的半徑。 根據本發明，揭示一種用於製造記錄媒體的疊層裝置 ’包含：欲被疊層的兩基底；一塗層單元，係用以藉由一 紫外線光硬化性黏著劑來塗著於該兩基底的至少之一上； 一重疊單元，係用以將該兩基底中的一基底重疊在該兩基 φ 底的另一基底上，致使該黏著劑可以被放置在該兩基底之 間；一移除單元，係用以移除剩餘的黏著劑，藉此重疊的 基底會產生旋轉而利用旋轉的離心力使黏著劑散佈開來， 以便處理黏著劑層，且可以移除剩餘的黏著劑，·一硬化單 元’係用以藉由照射紫外線來硬化該黏著劑層，以及根據 本發明之校正台。 根據本發明，揭示一種用於製造記錄媒體的疊層方法 ，包含以下步驟：將該兩基底的至少之一塗上紫外線光硬 φ 化性黏著劑；將該兩基底中的一基底重疊在該兩基底的另 一基底上，致使該黏著劑可以被放置在該兩基底之間；移 除剩餘的黏著劑，藉此重疊的基底會產生旋轉而利用旋轉 的離心力使黏著劑散佈開來，以便處理黏著劑層，而且還 可以移除剩餘的黏著劑；以及藉由照射紫外線，使該黏著 層得以硬化，以及使用本發明校正台的疊層方法。 根據本發明，揭示一種疊層型記錄媒體，係藉由本發 明用於製造記錄媒體的疊層方法所製造出來的。 根據本發明，基底可以疊層起來，不會因爲灰麈與黏 -12- (10) 1270070 ^ 著劑附著於此校正台的表面，而減少在碟片旋轉軸方向上 * 的基底之加速度，因此在疊層之後，可以獲得在碟片旋轉 軸方向上的基底之加速度爲2.1m/s2以下。此外，根據本 發明，即使具有很大翹曲値的一基底在基底的模製過程中 無法控制得令人滿意，但是此疊層型記錄媒體的翹曲値仍 然可以被校正在-0.6°到+0.6^的標準範圍之間。至於在疊 層之後控制翹曲値，藉由根據一負翹曲値來控制外圈部內 φ 環形凸面部的高度，可以獲得如此極佳的效果，翹曲値不 僅可以被校正成0度，也可以被校正成一正的翹曲値。 因此，根據本發明，可以增進光學記錄媒體的產量， 且藉由以低成本稍微轉變製造設備，則可以將產品的品質 變化抑制到一很高的水準。 【實施方式】 (校正台） φ 本發明的校正台，包含··位於校正台之內圈部與外圈 部中的凸面部、一高度控制單元及內圈部的一固定單元、 一基底表面壓力的控制單元，及其他選擇性的單元。高度 控制單元可以控制外圈部中的環形凸面部之高度，使其高 於或低於內圈部中的環形凸面部之高度；或者可以控制內 圈部中的環形凸面部之高度，使其高於或低於內外圈部中 的環形凸面部之高度。 外圈部中的環形凸面部之半徑必須小於基底的半徑。 更明確地說，最好外圈部中的環形凸面部之形成方式乃是 -13- (11) 1270070 ^ 外圈部中的環形凸面部具有一半徑，係比該基底的半徑短 • 1 . 5mm 以上。 藉由基底內圈部的固定單元，基底的內圈部會被擠壓 固定製台座的內圈部上，以便校正基底的翹曲，且最好基 底內圈部的固定單元能以可拆卸的方式裝配至台座上。 基底內圈部的固定單元之較佳範例包括：一真空吸引 固定單元，其結構可藉由真空來吸引基底的內圏部，以便 φ 將內圈部固定至內圏部中的凸面部；一重物固定單元，其 結構可藉由重物來擠壓基底內圈部，以便將基底內圈部固 定至內圈部中的凸面部；及一浮凸部夾鉗單元，係用以夾 住校正台的浮凸部之根部，在基底內圈部擠壓到內圈部的 凸面部之後，此部位會被彈出得比基底還高。 藉由高度控制單元，可以控制該內圈部中的環形凸面 部之高度以及該外圈部中的環形凸面部之高度之的至少一 高度，且最好高度控制單元是一環，用於改變外圈部內的 φ 凸面部之高度，且最好用於改變外圈部內凸面部高度的環 係以可拆卸方式裝配至台座的外圈部。最好，用於改變外 圏部內凸面部高度的環之高度，可以從比內圈部中凸面部 高度小〇.3mm之高度，改變成比內圈部中凸面部高度大 0.3 mm之高度。 最好，校正台包含一基底表面壓力的控制單元，用以 校正基底。 最好，用於控制基底表面壓力的控制單元可以將內圈 部中的凸面部吸附到台座的內圈部中的一真空吸附部，且 -14- (12) 1270070 至少一表面壓力控制單元係裝配在台座的外圈部之環形凸 面部內。 (用於製造記錄媒體的疊層裝置與方法） 根據本發明用於製造記錄媒體的疊層裝置，包含：欲 被疊層的兩基底；一塗層單元，係用以藉由一紫外線光硬 化性黏著劑來塗著於該兩基底的至少之一上； 一 φ 重疊單元，係用以將該兩基底中的一基底重疊在該兩基底 的另一基底上，致使該黏著劑可以被放置在該兩基底之間 ;一移除單元，係用以移除剩餘的黏著劑，藉此重疊的基 底會產生旋轉而利用旋轉的離心力使黏著劑散佈開來，以 便處理黏著劑層，且可以移除剩餘的黏著劑；一硬化單元 ’係用以藉由照射紫外線來硬化該黏著劑層，以及本發明 的校正台，以及適當選定的其他單元，例如上述單元的控 制單元。 φ 本發明記錄媒體用的疊層方法，包含以下步驟：將該 兩基底的至少之一塗上紫外線光硬化性黏著劑；將該兩基 底中的一基底重疊在該兩基底的另一基底上，致使該黏著 劑可以被放置在該兩基底之間；移除剩餘的黏著劑，其中 重疊的基底會產生旋轉而利用旋轉的離心力使黏著劑散佈 開來，以便處理黏著劑層，而且還可以移除剩餘的黏著劑 ;以及藉由照射紫外線，使該黏著層得以硬化，以及適當 選定的其他步驟，例如上述步驟的控制步驟，且此疊層方 法使用本發明的校正台。 -15- (13) 1270070 * 根據本發明，用於製造記錄媒體的疊層方法可使用本 — 發明用於製造記錄媒體的疊層裝置，以便產生較佳的效果 。更明確地說，可以使用上述塗層單元來執行上述塗層步 驟，可以使用上述重疊單元來執行上述重疊步驟，可以使 用上述移除單元來執行上述移除步驟，也可以使用上述其 他單元來執行上述其他步驟。 B (重疊步驟及重疊單元） 藉由透過一黏著劑將一基底重疊在另一基底上，致使 記錄層係放置在此兩基底之間。 關於形狀、結構與尺寸，上述兩基底並未受到限制， 且可以根據應用方式而選自習知的基底。 第一基底（根據放置的順序有時稱爲 ''上基底〃）與 第二基底（根據放置的順序有時稱爲、'下基底〃）係個別 存放在一疊層形式的堆疊柱內。下基底包含放置在此下基 φ 底上的至少一記錄層，及以此順序放置在記錄層中的一反 射層、一保護層及一障壁層。 將基底塗上黏著劑的圖層方法並未受到限制，且可以 根據應用的方式來作適當的選擇。塗層法的較佳範例包括 一方法，其中藉由旋轉基底且開啓/關閉注射黏著劑用的 閥，使得基底以甜甜圈的形狀塗上黏著劑。 黏著劑並未受到限制，且可以根據應用的方式來作適 當的選擇。黏著劑的較佳範例包括一 UV硬化性黏著劑， 例如具有自由基聚合型的UV硬化性黏著劑，以及具有低 -16- (14) 1270070 ^ 黏性的陽離子聚合型的UV硬化性黏著劑。 •用於將下基底疊層在塗有黏著劑的上基底上之方法並 未受限，且可以根據應用的方式從習知方法中作適當的選 擇。用於將下基底疊層在上基底上之方法的較佳範例包括 不會使氣泡入侵黏著劑層內的方法，係揭示如EP 1 2 8 8 93 3A等的專利公告案（一種疊層基底的方法，不會使氣 泡入侵黏著劑層內，係藉由在黏著劑與基底接觸的位置上 _ 產生的氣流，利用添加劑的強迫變形）。 (移除步驟與移除單元） 多餘黏著劑的移除步驟，是一處理黏著劑層的步驟， 其中藉由旋轉重疊的基底，不僅可以利用旋轉的離心力使 黏著劑散佈開來，而且還可以移除多餘的黏著劑。 移除單元並未受到限制，且可以根據應用的方式來作 適當的選擇。移除單元的範例包括一旋轉塗佈機（spinner φ )。在旋轉塗佈機的情形中，疊層基底的旋轉速率並未受 到限制，且可以根據應用的方式來作適當的選擇。通常， 疊層基底的旋轉速率最好是從5 00rpm到4000rpm之間。 硬化步驟係藉由提供能量到重疊的上下基底而實施的 ，且透過黏著劑層的硬化可疊層兩基底，如此一來可將上 下基底整合起來。 用於硬化黏著劑的單元之範例包括一 UV燈及一 UV 照射裝置。 控制步驟係藉由控制每個上述步驟來實施的，且可以 -17- (15) 1270070 * 在一控制單元內實施。 - 控制單元並未受到限制，只要此控制單元能夠控制每 個上述的單元即可’且可以根據應用的方式來作適當的選 擇。控制單元的範例包括如定序器及電腦等之儀器。 最後’藉由旋轉校正台（轉台）將整合的基底運送至 一容納位置’藉由驅動基底的輸送搬運機，且將基底運送 到檢查傾斜値的一機器內，以便使基底進行傾斜値或外觀 馨 的檢查，以及卸下基底，如此可製造出疊層型記錄媒體。 根據本發明實施例型態的疊層步驟之一連串流程係如 上所述’且藉由重複此系列流程，可以有效地製造具有高 品質的疊層型記錄媒體。 ' ,· (疊層型記錄媒體） 本發明的疊層型記錄媒體係根據本發明用於製造記錄 媒體的疊層方法而製成的。 φ 此疊層型記錄媒體的製造方式如下，係藉由一黏著劑 來疊層上述兩基底，使得記錄層係放置在兩基底之間，且 可包含其他層。 在此情形中，疊層型記錄媒體的範例包括一光學記錄 媒體及一磁光記錄媒體。 光學記錄媒體的範例包括：僅用於再生的記錄媒體， 例如CD記錄媒體、CD-ROM記錄媒體與DVD記錄媒體； 記錄型記錄媒體，例如CD-R記錄媒體與DVD-R記錄媒體 :以及可再寫入型記錄媒體，例如CD-RW記錄媒體、 -18- (16) 1270070 • DVD-RW記錄媒體、DVD + RW記錄媒體與DVD-RAM記錄 _ 媒體。 磁光記錄媒體的範例包括一迷你碟（M D )及一磁光 碟（ΜΟ)。 最好在疊層型記錄媒體的旋轉軸方向上之加速度爲 2.1m/s2 以下。 最好疊層型記錄媒體的翹曲値係位於-0.6°到+0.6。的 _ 標準範圍之間。 旋轉軸方向上的加速度與翹曲値係使用一機械性質的 測量裝置來進行測量的（此測量機器例如爲Dr. Schenk GmbH所製造與販售且商號爲Birf-126P之機器）。 以下，將參考圖1 A到1 1，來說明校正台、疊層裝置 與疊層方法。如圖4所示，以下是用於解決上述工作所採 行的步驟。 (I) 關於製造光碟所用的疊層裝置，其中信號記錄 φ 用的基底以及保護用的基底，均具有一中心孔，且此兩基 底是藉由黏著劑而彼此黏結起來，基底並未由校正台的鏡 面之整個表面來支撐，卻是由台座的內外圈部之兩個環形 凸面部（i )來支撐的。最好凸面部在其頂部具有一平坦 表面。這些措施是用來防止具有幾μηι尺寸的灰塵或黏著 劑會附著於校正台的表面上，或是被放置在校正台表面與 基底之間等缺點，使得在旋轉軸方向上的加速度會減少， 而超過記錄媒體碟片的標準。換句話說，由於基底並未接 觸校正台的鏡面之整個表面，所以可防止由於灰塵與黏著 -19- (17) 1270070 ^ 劑附著於校正台的表面上，而減少了在旋轉 速度。 (II ) 如圖4與5所示，外圈部內的 部之半徑是比基底的半徑小了 1.5mm以上（ 可防止以下的情形，就是由於黏著劑滴出基 在外圈部內的凸面部上，黏著劑會附著到台 防止黏著劑在外圈部的凸面部上附著於台座 p 止在旋轉軸方向上加速度的減少。 (III) 校正台包含高度控制單元，藉 外圈部中凸面部的高度之至少一高度。例如 ，在支撐基底用的台座之外圈部內的環形凸 高度的控制單元6，此控制單元可允許被移 底碟片的一支撐器（iii)。高度的控制單元 單元或多數單元。當此單元包含多數單元時 元可以是一連串高度的控制單元，且這些單 φ 有彼此不同的高度，以便改變凸面部的高度 部放大剖面圖所示，上述多數單元可以是一 單元6 a及一高度輔助控制單元6 b之組合， 制單元可以具有不同的高度。這樣的高度控 被安裝在台座的環形內圈部中之凸面部上。 (IV ) 用於改變外圈部內凸面部高度 可以從比內圈部中凸面部局度小0.3 m m之筒 內圈部中凸面部高度大0.3 mm之高度。如圖 ，用於改變外圈部內凸面部高度的環之高度 軸方向上的加 上述環形凸面 i i )。因此， 底外緣，使得 座表面。藉由 表面，可以防 此可以控制內 ，如圖4所示 面部上，安裝 除且亦做爲基 6可以包含一 ，這些多數單 兀每一個均具 。如圖4的局 高度主要控制 且高度輔助控 制單元亦可以 的環之筒度， 度，改變成比 7 C與8所示 ，係改變成使 -20- (18) 1270070 ' 此高度比內圈部中的凸面部之高度小〇.3mm， 一 〇 . 1 mm，或者此高度比內圈部中的凸面部之高度： 〇.2mm或0.3mm (iv)。藉由此步驟，可以控制！ (V ) 本發明的一特徵在於：校正台的內 底（光碟）的內圈部之一固定單元，其中基底的 受到擠壓固定以便校正翹曲且內圈部的固定單元 由安裝與移除的（v)。固定單元的範例包括一 | 的固定單元（vl)，其中（光碟的）基底之內圈 吸引以擠壓方式固定至台座內圈部中的凸面部之 藉由重物的固定單元（v2);以及藉由夾住台座 之固定單元（v3 )。 以下，將說明基底內圈部的固定單元，藉此 部可受到擠壓固定來校正基底的翹曲。 (VI ) 藉由真空吸引的固定單元（vl )例 圖6所示的一真空吸附方法。然而，藉由真空吸 φ 單元（v 1 )之範例包括一真空吸附方法，其中只 內圈部的凸面部上之基底才會受到真空吸引，藉 基底擠壓至台座內外圏部中的凸面部來校正翹曲 吸引方法（v4 )是本發明的一特徵，且執行方式 用校正台環形外圈部中的凸面部之結構，其中從 甜甜圈狀的凸面部開始，具有寬度2mm的四件 在校正台周圍上的四點處被切開，其中此四點的 校正台的周圍上與另一點均相隔90度角，使得 有一部位，在周圍的上述四點處，校正台（圖6 0.2mm 或 0.1mm. 1曲値。 圈部、基 內圈部是 是可以自 真空吸引 部是藉由 鏡面上； 的浮凸部 基底內圈 如可以是 引的固定 有在台座 此透過將 値。真空 乃藉由使 校正台的 矩形固體 每一點在 校正台具 中的8 ) -21 - (19) 1270070 ‘ 的環形外圈中不具有凸面部，就是其中無 - 基底作用之處，且因此僅在台座內圈部中 以執行基底的真空吸附。 如圖3所示，當校正台（圖6中的！ 不具有凸面部的部位，就是去除吸附基底 不存在時，藉由在施加於內圈部上的基底 外圈部的基底壓力產生差異，可以使基底 g ( VII ) 如圖7A，7B與7C所示，取 面部的上述部位（圖6中的8 )，在照射 生硬化的期間，藉由將重物放置在台座內 基底表面上，此基底碟片就被擠壓到台座 凸面部，就可以執行翹曲値的校正。 (VIII ) 根據本發明，如圖7C所示 碟）內圈部的固定單元，其中基底的內圈 定校正台的內圏部，用以校正基底的翹曲 φ 固定單元（v2)包含重物（4)，藉此基 部係受到擠壓固定至校正台的內圏部，藉 底內圈部的固定單元可以被安裝成一固定 地安裝與移除。 (IX) 根據本發明，如圖6所示， 的固定單元（v)，可以安裝藉由夾住台 定單元（v3)，其中在將基底內圈部擠壓 鏡形凸面部以便校正翹曲之後，此浮凸部 出得比基底表面更高）會被夾住。藉由夾 法產生真空吸附 的凸面部，才可 )的環形外圏中 用的真空之部位 壓力以及施加到 變形。 代形成不具有凸 光線使黏著劑產 圏部中凸面部的 的內外圈部中之 ，做爲基底（光 部係受到擠壓固 ，基底內圈部的 底（光碟）內圈 此校正翹曲，基 單元，可被自由 做爲基底內圈部 座的浮凸部之固 至台座內圈部的 9的根部（會彈 住台座的浮凸部 -22- (20) 1270070 * 之固定單元（v3 )最好包含一具有碗狀的撓性材質1 0 ;具 - 有類似台子形狀的材質，係在材質1 〇的兩頂點處黏接到 材質1 〇 ;且包含一彈簧1 1，係黏接到具有台子形狀的材 質上，可以藉由擠壓材質1 0的底部來夾住台座的浮凸部 。藉由夾住台座的浮凸部之固定單元（V3 )可以個別使用 ，或與基底內圈部的固定單元（v2) —起組合使用，其中 基底內圈部的固定單元（v2)包含真空吸引的固定單元（ φ vl)與重物4的至少之一，且當藉由夾住台座的浮凸部之 固定單元（v3 )被使用於上述組合時，本發明的效果可以 被更加強烈地展現出來。 以下，將說明製造記錄媒體用的基底疊層方法。 首先，如圖7A所示，資訊用的基底細藉由真空而吸 附到校正台的表面上，使得藉由濺射處理的資訊用基底內 之記錄層看起來是朝上的，且同時以每分鐘幾十轉的轉速 旋轉校正台，將具有黏度爲5 00cp的UV硬化性黏著劑透 φ 過一分注器而滴在此基底表面上，使得此黏著劑會在基底 的表面上描繪出一半徑大約爲3 0mm的圓形。其次，如圖 7B所示，將外蓋用基底疊層到塗有黏著劑的資訊用基底 內之記錄層表面上，且以每分鐘幾百轉到幾千轉的轉速旋 轉校正台，藉此將黏著劑散佈到基底的內外邊緣。之後， 如圖7C所示，已疊層的基底會被運送至光線照射階段。 在此，如圖6所示，校正台具有一真空吸附用的開口 ’使得藉由真空（例如50kPa )使內圈部中一夾鉗部位的 疊層基底被吸附至校正台，且藉由照射UV光以便使此黏 -23- (21) 1270070 著劑產生硬化，如此可以製造疊層型記錄媒體。 圖1 1是一平面圖，槪略地顯示本發明的疊層 一範例。疊層裝置100是 疊層型光學記錄媒體的製造裝置，而疊層型光 媒體係藉由以下方是製造的，就是將包含至少記錄 基底（以下稱爲、、下基底〃）與一透明基底（以下 上基底〃）透過黏著劑層而疊層起來。 如圖11所示，此疊層裝置100包含：下基底 一引入台座、上基底107的一引入台座、淸潔單元 1 09、黏著劑塗層部1 1 0、翻轉單元1 1 1、重疊單元 除旋轉塗佈機1 3、一零星物品移除單元5 0、一連 14及輸送臂15，16與17。 欲被疊層的上下基底係分別存放在一疊層結構 柱內，且此堆疊柱與基底一起引入到基底40的一 內。 下基底106的一引入台座與上基底107的一引 分別具有至少兩組基底支撐部1 9。 淸潔卓兀108與109具有一*旋轉塗佈機20與 抗靜電的淸淨機2 1。 一黏著劑塗層部110具有一碟片轉台22及一 塗層單元23。 翻轉單元11 1具有一外圈部用的夾頭2 4、黏著 單元2 3及一旋轉直到1 8 〇度的翻轉單元2 5。 重疊單元12包含一轉台26、安裝在此轉台26 裝置之 學記錄 層的一 稱爲'' 106的 108與 12、移 結單元 的堆疊 引入機 入台座 —包含 黏著劑 劑塗層 上的多 -24- (22) 1270070 ^ 組（例如3組）校正台2 7、安裝在黏著劑塗層部Π 〇 —側 •邊內的一輸送臂28及安裝在翻轉單元丨丨〗一側邊內的一 輸送臂2 9。至於校正台的細節，先前已經提過。 連結單元1 4包含一轉台3 0，例如四組碟片支撐部3 1 及一 UV照射單元。 輸送臂15將放置在下基底引入台座106內的下基底 透過淸潔單元108而輸送至黏著劑塗層部11〇，且安置此 • 基底。 輸送臂16將放置在下基底引入台座1〇7內的下基底 透過淸潔單元1〇9而輸送至翻轉單元111。 輸送臂15將疊層在重疊部12內的上下基底輸送至移 除旋轉塗佈機1 3，藉此決定安置位置並安置此基底，且進 一步輸送至判斷爲連結單元14的引入位置之碟片支撐部 3 1，藉此決定安置位置並安置此基底。 以下，將參考圖形說明本發明的一些範例。 (範例1 ) 使用資訊用基底（半徑60mm)及外蓋用基底（半徑 60mm)來執行此實驗，這些基底均爲用於DVD + RW的材 質。 如圖7A，7B與7C所示，當執行基底的疊層步驟與硬 化步驟而並未使用一校正台時，其中此校正台根據本發明 僅在內外圈部中具有凸面部，如此一來，基底會在附著於 台座鏡面上的灰塵或黏著劑侵入基底之狀態下產生疊層， -25- (23) 1270070 ^ 使得灰塵或黏著劑入侵的基底表面會產生很大的不平坦’ ' 如此將導致基底加速度的減少。藉由使用上述步驟（I ) 來解決上述難題，如圖9所示，便可以獲得大致上不具有 不平坦之處的極佳記錄媒體（碟片）。 在範例1中，內圈部中的環形凸面部之半徑（R )是 21.5mm ( R = 21.5mm)，外圈部中的環形凸面部之半徑（R )是 57.0mm 到 57.5mm (R = 57.0mm 到 57.5mm)。與基底 φ 接觸之台座外圈部中的凸面部表面因而具有一平滑且稍微 呈圓弧狀的表面。 在圖9中，顯示出所製造的疊層型記錄媒體的基底半 徑與旋轉軸方向上的加速度兩者之間的關係。在圖1 〇中 ，顯示出基底半徑與所製造的疊層型記錄媒體的翹曲値兩 者之間的關係。 在旋轉軸方向上的加速度及翹曲値係使用一機械性質 的測量裝置來進行測量的（此測量機器例如爲Dr. Schenk φ GmbH所製造與販售且商號爲Birf-12 6Ρ之機器）。 在圖9與圖10中，A是針對單一資訊用基底做爲參 考所獲得之測量結果。 B與C是針對本發明的疊層方法所製成之疊層型記錄 媒體所獲得之（兩次）測量結果。 D與E是針對使用上面附著有毛邊的習知台座疊層而 製成的疊層型記錄媒體所獲得之（兩次）測量結果。 F是針對使用習知台座疊層而製成的疊層型記錄媒體 所獲得之測量結果’其中此台座上面附著有黏著劑且黏著 -26- (24) 1270070 劑已經滴出記錄媒體的外圈邊緣。 (範例2 ) 使用資訊用基底（半徑60mm) 6 0mm )來執行此實驗，這些基底均爲 質。 藉由使用裝備有環形凸面部（在 其半徑比基底外徑小 1.5mm以上，彳 解決上述難題，如圖5所示，可以防 外圈部中的凸面部上，因而可以防止 旋轉軸方向上的加速度之減少。 (範例3 ) 使用資訊用基底（半徑60mm) 6 0 m m )來執行此實驗，這些基底均爲 • 質。 以下將說明根據步驟（III )與（ 之範例。 爲了使疊層基底獲得有利的翹曲 受到平常的疊層與硬化，很重要的一 坦越好的基底，且將兩基底疊層起來 底是越平坦越好。由於對DVD-ROM 別的步驟就能滿足疊層型記錄媒體的 圖1 A到1 C所示，在藉由旋轉基底而 及外蓋用基底（半徑 用於DVD+RW的材 外圈部內）校正台， 系根據步驟（Ο以便 止黏著劑附著於台座 由於黏著劑入侵導致 及外蓋用基底（半徑 用於 DVD+RW的材 V )來解決上述難題 値，其中此基底係已 點是盡可能使用越平 ，以至於所重疊的基 來說，不需要採用特 翹曲標準。例如，如 移除多餘的黏著劑之 -27- (25) !27〇〇7〇 後，可以獲得大致想要的基底翹曲値。因此，在此情形中 ’就不一定需要將校正台的鏡面上之翹曲進行校正，且可 以輕易執行疊層。 然而，對於+/-RW、+/-R與RAM來說，兩基底之間 的資訊用基底在前一個處理中承受了一熱負荷，且具有 (-)翹曲（參閱圖1A，就是向下的翹曲），且在藉由圖 2A到2C所示的旋轉來移除多餘的黏著劑之後，使用這樣 φ 的資訊用基底所製成的疊層基底便獲得（-)翹曲。另一 方面，藉由使用9g到33g的重物僅在台座內圈部中的凸 面部上擠壓基底，無法獲得任何校正翹曲的效果。 因此，如圖8所示，使用在外圈部中具有凸面部的台 座來執行（+)側的翹曲校正。 疊層基底的樣本之製造方式如下，係藉由根據下列三 種條件使用1 0個資訊用基底與外蓋來進行疊層，其中所 有的基底與外蓋在每一條件下均具有相同的翹曲値。 φ ( 1 ) 可使用一鏡面台座做爲校正台，且重物係使用 於內圈部中（此乃習知方法，參閱圖2A到2C )。 (2 ) 可使用在外圏部中具有半徑5 5 mm且高度 0.3 mm的環形凸面部之台座，來做爲校正台（參閱上述步 驟（IV))，且在內圈部中使用重物（重物33g，參見圖 4中的重物4)(第一型） (3) 可使用在外圈部中具有半徑58mm且高度 0.2mm的環形凸面部之台座，來做爲校正台（參閱上述步 驟（IV))，且在內圈部中使用重物（重物33g，參見圖 -28- (26) 1270070 7 A到7 C中的重物4 )(第二型）。 對於所製成的樣本來說，翹曲値係使用一機械性質的 測量裝置來進行測量的（此測量機器例如爲Dr. Schenk GmbH所製造與販售且商號爲Birf-〗2 6P之機器）。此測 量結果係顯示於表1。最好翹曲値係位於-0.6。到+0.6°的 標準範圍之間，或者其角度越接近〇度越好。 表1 疊層轉台 轉台尺寸 在 疊層之後的翹曲値 R (mm) H (mm) R23(mm) R35 (mm) R58 (mm) (1)習知轉台 — 0 -0.1 -0.2 *-0.7 到-0.8 (2)外圈部中具 55 0.3 *+0.6 *+0.7 +0.2 有凸面部的轉台 (3)外圈部中具 58 0.2 +0.3 +0.1 +0.2 PJ-0.2 有凸面部的轉台

其中'、*"表示NG ( no good不好），且'、R"與、、Η 分別表示外圈部中的凸面部之、、半徑〃與 '、高度〃。 在使用上述條件（3 )來進行基底的疊層時，基底的 形狀係受到校正台上支撐的基底之光照射硬化而固定，其 中此校正台在外圈部中具有一凸面部（+0.2mm)。不論重 物是否被放置在基底上都不重要，且即使基底並未被擠壓 至台座內外圈部中的凸面部上，均可以獲得一極佳的翹曲 値。 -29 - (27) 1270070 範例3的結果如下： ' (1 )根據一習知方法，做爲疊層用材質的一基底在 台座外圈部上具有很大的（_)翹曲，且使用上述基底所 製造出來的疊層基底便因此獲得令人不滿的翹曲，且尙未 受到校正。 (2)已經使用一台座來執行此疊層，其中此台座在 外圈部中具有一凸面部，其半徑（r )爲5 5 mm (係位於從 φ 台座外緣開始稍微裡面的一點上之凸面部），且由於台座 的凸面部之高度，使得基底的內圏部被抬起，如此一來， 基底便被固定成碗狀。 (3 ) 已經使用一台座來執行此疊層，其中此台座在 外圈部中具有一凸面部，其半徑（r )爲58m且高度爲 0.2 mm，這是改良自條件（2)中的高度〇·3 mm，且可獲得 的翹曲値係位於- 0.3°到+ 〇.3。的範圍之間，這是比- 〇·6。到 + 0.6°的標準範圍更爲有利。 φ 在範例3中，係藉由在台座內圈部中的夾鉗部放置重 物到基底上，來執行校正；然而，在根據疊層裝置的種類 而決定的習知方法中，係藉由在台座內圈部中的夾鉗部真 空吸附基底來執行校正。然而，在此情形中，當校正係根 據上述步驟（I )來執行時，在此步驟中基底係藉由台座 的內外圏部中之凸面部所支撐的，會由於在台座內圈部中 的夾鉗部洩漏的真空，使得基底產生凹面狀的變形，伴隨 此變形的情況下執行疊層。 在範例4中，校正係根據上述步驟（VI )來執行的， -30- (28) 1270070 _ 其中在台座內圈部中的環形凸面部具有四個切開的部位。 ， 根據步驟（VI )，即使當真空從台座內圈部中的夾鉗部洩 漏到台座表面與台座的下表面之間的空間時，由於在疊層 期間，真空是在外圈部內產生洩漏，所以僅能在台座的內 圈部上藉由真空來吸附基底。因此，在範例4中，可獲得 類似於範例3中所獲得之極佳翹曲値，其中校正係藉由以 重物擠壓基底來執行的。 (範例5 ) 使用DVD-ROM用的基底（半徑60mm)來進行此實 居双。 在範例·3與4中，關於具有很大（-)翹曲値且做爲 疊層用材質的基底之校正，以下將提供其相關說明。在其 中將具有翹曲値0.6°以下的基底予以疊層之情形下（例如 用於製造DVD-ROM的基底），可以僅藉由控制台座外圈 φ 部中環形凸面部的高度，就可以執行校正，以便使翹曲値 變成接近〇度，且不需要在內圈部中夾鉗部上的真空吸附 以及藉由重物擠壓來進行校正。在範例5中，係針對具有 翹曲値0.6°以下的基底來進行疊層，而不需要台座內外圈 部中的凸面部及重物的校正，因此可以獲得的疊層基底， 係具有與所使用的基底相同之翹曲値以及旋轉軸方向上相 同之加速度。在外徑中的凸面部半徑爲57mm。 在上述範例中，關於製造光碟所用的基底之疊層，以 下將提供其相關說明。然而，這些範例並未用以侷限本發 -31 - (29) 1270070 明之範圍，且本發明可以被應用至要求高等級的翹曲値的 ’ 其他種類記錄媒體及其製造方法。 根據本發明，可以獲得以下的極佳效果。可以執行疊 層且不會因爲灰塵與黏著劑附著於此校正台的表面，而減 少在旋轉軸方向上的加速度，且對於所疊層的基底來說， 可以獲得在旋轉軸方向上的加速度爲2.1m/s2以下。即使 具有很大翹曲値且在模製期間無法校正之一基底被用來疊 p 層時，此疊層好的基底之翹曲値仍可以被校正至-0.6°到 + 〇 · 6°的標準範圍之間。關於於此疊層基底的翹曲値之校 正，本發明能產生極佳的效果，這是根據做爲製造記錄媒 體材質且用於疊層的基底之（-)翹曲値（參閱圖1A，向 下翹曲），藉由控制台座外圈部中凸面部的高度而獲得的 ，因此（-)翹曲値可以被校正至〇度，（+)翹曲値（參 閱圖1A，向上翹曲）則剛好相反。 因此，根據本發明，不僅可以提升光學記錄媒體的產 φ 量，而且可以低成本的製造系統簡單轉變而成，用以將產 品品質的變化抑制到很高的準確度。 【圖式簡單說明】 圖1A槪略地顯示用於製造 DVD-ROM的基底之習知 疊層方法的一步驟，其中將一基底放置在台座上且塗上黏 著劑，然後將另一基底重疊在此基底上。 圖1B槪略地顯示用於製造 DVD-ROM的基底之習知 疊層方法的一步驟，其中此疊層基底與台座一起旋轉，藉 -32- (30) 1270070 " 此將黏著劑層放置在兩基底之間。 -圖1C槪略地顯示用於製造 DVD-ROM的基底之習知 疊層方法的一步驟，其中藉由照射紫外線光’使黏著劑層 產生硬化。 圖2A槪略地顯示用於製造 RW碟片或DVD碟片的 基底之習知疊層方法的一步驟，其中將一基底放置在台座 上且塗上黏著劑，然後將另一基底重疊在此基底上。 g 圖2B槪略地顯示用於製造 RW碟片或DVD碟片的 基底之習知疊層方法的一步驟，其中此疊層基底與台座一 起旋轉，藉此將黏著劑層放置在兩基底之間。 圖2C槪略地顯示用於製造RW碟片或DVD碟片的基 底之習知疊層方法的一步驟，其中藉由照射紫外線光，使 黏著劑層產生硬化。 圖3槪略地顯示用於在台座上製造光碟的基底之變形 ，這是由於施加在基底碟片內圈部上的壓力與施加在基底 φ 碟片外圈部上的壓力，兩者之間產生差異的緣故。 圖4是一槪略圖形，顯示基底的疊層裝置之範例，包 含本發明的校正台以及其局部放大剖面圖。 圖5是圖4的放大剖面圖以外的另一個放大剖面圖。 圖6槪略地顯示含有一校正台的疊層裝置之範例。 圖7A槪略地顯示一步驟，用以根據本發明在製造 RW碟片或DVD碟片的疊層方法中，藉由在台座上放置基 底，將黏著劑塗在基底上。 圖7 B槪略地顯示一步驟，用以根據本發明在製造r w -33- (31) 1270070 ^ 碟片或DVD碟片的疊層方法中，藉由與台座一起旋轉基 ‘底，將黏著劑層放置在兩基底之間。 圖7C槪略地顯示一步驟，用以根據本發明在製造RW 碟片或DVD碟片的疊層方法中，藉由照射紫外線光，將 黏著劑層予以硬化。 圖8是圖7 C中部位A的一放大槪略圖。 圖9是一圖表，顯示在旋轉軸方向上所測量到的小加 p 速度（就是基底沒有不平坦之處），此加速度係針對本發 明的疊層型記錄媒體而測量的。 圖1 〇是一圖表，顯示所測量到的小翹曲値（就是基 底沒有翹曲之處），此翹曲値係針對本發明的疊層型記錄 媒體而測量的。 圖11是一槪略平面圖，顯示本發明的疊層裝置之一 範例。 φ 【主要元件符號說明】 1 外蓋用基底 2 資訊用基底 3 UV照射單元 4 重物 6 高度控制單元 6a 高度主要控制單元 6b 高度輔助控制單元 7 台座 -34- (32) 1270070 9 浮凸部 10 撓性材質 11 彈簧 12 重疊單元 13 移除旋轉塗佈機 5 0 零星物品移除單元 14 連結單元 15, 16，1 7, 28, 29 輸送臂 1 9，3 1 支撐部 20 旋轉塗佈機 2 1 淸淨機 22 碟片轉台 23 黏著劑塗層單元 2 4 夾頭

2 5，1 1 1 翻轉單元 26, 3 0 轉台 27 校正台 40 基底 1 〇〇 疊層裝置 106 下基底 107 上基底 1 08, 1 09 淸潔單元 no 黏著劑塗層部 -35

Claims (1)

1. (1) 1270070 十、申請專利範圍 第94 1 03445號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國95年9月13日修正 1. 一種校正台，包含： 環形凸面部，係位於支撐一基底的一校正台之內圈部 # 與外圈部中； 一高度控制單元，其結構能控制該內圈部中的環形凸 面部之高度以及該外圈部中的環形凸面部之高度之的至少 一高度，及 一固定單元，其結構能藉由擠壓來固定該基底的內圈 部，以便校正該基底的翹曲， 其中在外圈部內的高度控制單元之半徑是小於該基底 的半徑。 • 2.如申請專利範圍第1項之校正台，其中該高度控 制單兀能控制外圈部中的環形凸面部之高度，以便高於或 低於該內圈部中的環形凸面部之高度。 3 ·如申請專利範圍第1項之校正台，其中該高度控 制單元能控制內圈部中的環形凸面部之高度，以便高於或 低於該外圈部中的環形凸面部之高度。 4 ·如申請專利範圍第1項之校正台，其中在該外圈 部中的環形凸面部具有一半徑，係比該基底的半徑短 1 . 5 m m以上。 (2) (2) 9a 9. 13 1270070 5 ·如申請專利範圍第1項之校正台，其中該固定單 元係以一可拆卸的方式裝配至該校正台。 6 ·如申請專利範圍第1項之校正台，其中該固定單 元是一真空吸引固定單元，其結構能藉由真空吸引住該基 底的內圈部，且將該基底的內圈部固定至內圈部的凸面部 〇 7·如申請專利範圍第1項之校正台，其中該固定單 I 兀是一重物固定單元，其結構能藉由該重物而擠壓該基底 的內圈部，且可以將該基底的內圈部固定至內圏部中的凸 面部。 8 ·如申請專利範圍第1項之校正台，其中該固定單 元是一浮凸部夾鉗單元，其結構能夠在將基底的內圈部擠 壓至內圈部中的凸面部之後，將彈出得比基底更高之該校 正台的浮凸部之一根部予以夾住。 9. 如申請專利範圍第1項之校正台，其中該高度控 ® 制單元是至少一環，用以改變在外圈部內的凸面部之高度 〇 10. 如申請專利範圍第9項之校正台，其中用以改變 外圈部內凸面部的高度之該環係以可拆卸的方式裝配至校 正台。 1 1 ·如申請專利範圍第9項之校正台，其中用以改變 外圈部內凸面部的高度之該環的高度’係從比內圈部中凸 面部的高度小〇.3mm之高度，變化至比內圈部中凸面部的 高度大〇.3mm之高度。 -2 - (3) (3) 1270070 年’月ΕΙ修(更)正替換頁丨 12.如申請專利範圍第1項之校正台，其中該基底是 一資訊用的基底，至少包含在該基底上的記錄層。 1 3 .如申請專利範圍第1項之校正台，進一步包含一 控制單元，其結構能控制該基底的表面壓力，以便校正該 基底的翹曲。 14.如申請專利範圍第13項之校正台，其中用以控 制該基底的表面壓力之該控制單元能吸附位於內圈部中凸 • 面部上的基底。 1 5 ·如申請專利範圍第1 3項之校正台，其中用以控 制該基底的表面壓力之至少一控制單元係定位於外圈部內 16· —種用於製造記錄媒體的疊層裝置，包含： 欲被疊層的兩基底； 一塗層單元，係用以藉由一紫外線光硬化性黏著劑來 塗著於該兩基底的至少之一上； 一重疊單元，係用以將該兩基底中的一基底重疊在該 兩基底的另一基底上，致使該黏著劑可以被放置在該兩基 底之間； 一移除單元，係用以移除剩餘的黏著劑，藉此重疊的 基底會產生旋轉而利用旋轉的離心力使黏著劑散佈開來， 以便處理黏著劑層，且可以移除剩餘的黏著劑； 一硬化單元，係用以藉由照射紫外線來硬化該黏著劑 層，以及 一校正台，該校正台包含： -3- 1270070 (4)

   環形凸面部，係位於支撐該基底的該校正台之內圈部 與外圈部中； 一高度控制單元，其結構能控制該內圈部中的環形凸 面部之高度以及該外圈部中的環形凸面部之高度之的至少 一高度，及 一固定單元，其結構能藉由擠壓來固定該基底的內圈 部，以便校正該基底的翹曲， ® 其中在外圈部內的高度控制單元之半徑是小於該基底 的半徑。 17. 一種用於製造記錄媒體的疊層方法，包含以下步 驟： 將該兩基底的至少之一塗上紫外線光硬化性黏著劑； 將該兩基底中的一基底重疊在該兩基底的另一基底上 ，致使該黏著劑可以被放置在該兩基底之間； 移除剩餘的黏著劑，藉此重疊的基底會產生旋轉而不 ^ 僅利用旋轉的離心力使黏著劑散佈開來，以便處理黏著劑 層，而且還可以移除剩餘的黏著劑；以及 藉由照射紫外線，使該黏著層得以硬化， 其中該校正台包含： 環形凸面部，係位於支撐該基底的該校正台之內圈部 與外圈部中； 一高度控制單元，其結構能控制該內圈部中的環形凸 面部之高度以及該外圈部中的環形凸面部之高度之的至少 一高度，及 -4- (5) 1270070 一該基底的內圈部之固定單元，能藉由擠壓來固定該 基底的內圈部，以便校正該基底的翹曲， 其中在外圈部內的高度控制單元之半徑是小於該基底 的半徑。 1 8 ·如申請專利範圍第1 7項之用於製造記錄媒體的 暨層方法，其中該記錄媒體在旋轉軸的方向上具有 2.1m/s2以下的加速度。 19.如申請專利範圍笫17項之用於製造記錄媒體的 疊層方法，其中該記錄媒體具有一翹曲値在_〇·6。到+〇 6。 的範圍之間。