TWI269078B - Color filter substrate and fabricating method thereof - Google Patents
Color filter substrate and fabricating method thereof Download PDFInfo
- Publication number
- TWI269078B TWI269078B TW094147538A TW94147538A TWI269078B TW I269078 B TWI269078 B TW I269078B TW 094147538 A TW094147538 A TW 094147538A TW 94147538 A TW94147538 A TW 94147538A TW I269078 B TWI269078 B TW I269078B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- color
- light
- substrate
- layer
- shielding layer
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 43
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 25
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 4
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 claims 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 abstract 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 7
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/201—Filters in the form of arrays
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
- G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
12690 ^^ltwf.doc/006 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於一種彩色濾光基板，且特別是有關於 一種具有辨識標記之彩色濾光基板。 【先前技術】 由於顯示器的需求與日遽增，因此業界全力投入相關 顯示器的發展。其中，又以陰極射線管（CathodeRay Tube) 因具有優異的顯示品質與技術成熟性，因此長年獨佔顯示 器市場。然而，近來由於綠色環保概念的興起對於其能源 消耗較大與產生輻射量較大的特性，加上產品扁平化空間 有限，因此無法滿足市場對於輕、薄、短、小、美以及低 /肖耗功率的市場趨勢。因此，具有高晝質、空間利用效率 佳、低消耗功率、無輻射等優越特性之薄膜電晶體液晶顯 丁口：（ Thin Film Transistor Liquid Crystal Display， TFT-LCD)已逐漸成為市場之主流。 ’ 以薄膜電晶體液晶顯示模組（TFT-LCD m〇dule)而 ° 主要係由一液晶頒示面板（liquid crystal display panel)及一背光模組（backlightm〇dule)所構成。其中， 液晶顯不面板通常是由一薄膜電晶體陣列基板（thin mm transistor array substrate)、一彩色濾光基板（c〇1〇r substrate)與配置於此兩基板間之一液晶層所構成，而背 光模組用以提供此液晶顯示面板所需之面光源，以使液晶 顯示模組達到顯示的效果。 5 * J2690^8itwfd〇c/〇°6 就彩色濾光基板而言’為了區別各製造廠商所製造的 并> 色遽光基板’在基板上通常會以雷射方式形成辨識碼， 且此識別碼位於基板上之空白區域。此外，在單一基板上 通常會形成多個彩色濾光區塊，因此在彩色濾光基二與薄 膜電晶體陣列基板組立之後便行切割製程以形成多個液晶 顯示面板。值得注意的是，原先所形成的識別碼並不會存 在於切割後之彩色濾光基板中，因此在組立後之薄膜電晶 體，列基板上通倾需要㈣射料與餘彩色遽光基 板來源之辨識碼。然而，也可以以雷射方 區塊上形成辨識碼，但是無論是哪—種方式均會增 另外’製造人㈣需將辨識碼輸人電腦中才能得 其板慮光基板的製造廠商，因此辨識彩色濾、光 土板所為的工時也就增加。 【發明内容】 有鑒於此，本發明的目的就是在 板，^有辨認製造廠商或產品型__=色滤先基 製造方法，目的是提供—種彩色渡光基板的 基 ί 二出 基板，其包括—遮光層、 種彩色濾光 遮光層配置於m 色圖案層與—電極層。其中， 晝素區’且遮光層具有至上定義出多個次 在各次晝純置置 6 12690l^^ltwf.doc/006 12690l^^ltwf.doc/006 、線性條 依照本發明實施例，辨識標記可以是圖案、 碼、數字、文字或符號。 ‘遮光 依照本發明實施例，辨識標記之寬度可以是小於 之寬度。 \ 依照本發明實施例，辨識標記可以是遮光層之士 依照本發明實施例，辨識標記可以是位於 二f。 區的外圍。 二久晝素 素 區之間 依照本發明實施例，辨識標記可以是位於這些3金 戸。气。 思 基於上述目的或其他目的，本發明提出一種 基板的製造方法，其包括下列步驟。首先，在—義巴濾光 成-遮光層，以定義出多個次晝素區，其中遮光^上％ 少-辨識標記。然後，在各次晝素區_成—彩^圖安有至 接著，在基板上形成-電極層，以覆蓋遮光層‘木層。 層。 /巴圖案
依照本發明實施例，形成遮光層的方法可以B 板上形成一遮光材料層，然後對於遮光材料層進〜〜在基 化製程，以形成遮光層。 曰订〜圖案 依照本發明實施例，上述之圖案化製程可以H 影製程與蝕刻製程。 <包括微 依照本發明實施例，上述之圖案化製程可以B 光製程與顯影製程。 <包括曝 依照本發明實施例，形成遮光層的步驟更包 識標記為一圖案、線性條碼、數字、文字戋符號％成辨 7 12690^^ltwf.doc/006 識標記122為-圖案、線性條石馬、數字、文字或符號，如 圖2A至圖2E所示。或者’上述之形成遮光層12〇的步驟 也可以是形成辨識標記m於次晝素區之間，如圖2G所 示0 請參考圖3B，在各次晝魏施_成—彩色圖案 層，其中當彩色圖案層m之材f為光阻材料時，形成彩 ，圖案！ 130的方法可以是進行多次曝光製程與顯影製 私。當耗圖案層13G之材質為染料時，形成彩色圖案層 13〇的方法可以是喷墨製程。然後，在基板ιι〇上形成一 電極層140,以覆蓋遮光層12G與彩色圖案層13〇，如圖 1B所不’其中形成電極層14〇的方式可以是濺鍵製程。 ^由於遮光層120具有辨識標記122,因此製造人員可
Si ί目視枝_組立後之彩色濾光基板 廠商或產品型號。此外，由於彩色濾、光基板⑽上 辨識標記122,因此原本形成在薄膜電晶體陣列基 ^用以辨識彩色遽光紐1〇〇的製造薇商之辨識碼便可 由於辨=加可使用的區域或縮短辨識碼的長度。另外， 習知Γί ί122與㈣層12G為㈣形成，因此相較於 加額外的製程步驟。 方法亚不增 限定已崎佳實施_露如上’然其並非用以 和範_，技藝者，在不麟本發明之精神 _⑽後附之申請專利範騎界定者為準。 …1 【圖式簡單說明】 圖1A繪示依照本發明實施例之彩色滤光基板的俯視 圖。 . 圖1B繪示依照本發明實施例之彩色濾光基板的刮雨 - 0 0 、、圖2A至圖2G繪示依照本發明實施例之辨識枳飞、 ® 3A至圖犯繪示依照本發明實 9 ° 光基板 【主要元件符號說明】 100:彩色濾光基板 110:基板 110a :次晝素區 12G :遮光層 φ 122 ·辨識標記 130 :彩色圖案層 140 =電極層 12
Claims (1)
12690twf.d〇c/〇〇6 十、申請專利範圍： 1 · 一種彩色渡光基板，包括： -遮光層，配置於-基板上，其巾該遮光層在該基板 ^定義出多數個:欠晝素區’域輕層具有至少—辨識標 記； —彩色圖案層，配置在各該次晝素區中；以及 一電極層，配置在該彩色圖案層與該遮光層上。 2.如巾請專職圍第丨項所述之彩㈣光基板，其中 該辨識標記為圖案、線性條碼、數字、文字或符號。 今辨t中請，範圍第1項所述之彩色遽光“，其中 Θ辨識標€之寬度小於該遮光層之寬度。 兮辨!專利範圍第1項所述之彩色®、光基板，其中 巧辨識標記為該遮光層之切角。 註辨!ΐ申4專利範圍第1項所述之彩色濾、光基板，其中 μ辨識軚記位於該些次晝素區外圍。 該辨以==::之彩色濾繼，其中 7·—種彩色濾光基板的製造方法，包括· 提供一基板； ，該基板上形成-遮光層，以定 £，其中該遮光層包含至少一辨識標記. -言 次晝素區内形成—彩。案層；以及 圖案層Γ 形成—電極層’以覆蓋該遮光層與該彩色 12690凋 ltwf.doc/006 8·如申請專利範圍第7項所述之彩色濾光基板的製造 方法’其中形成該遮光層之步驟包括： 在該基板上形成一遮光材料層；以及 對於該遮光材料層進行一圖案化製程，以形成該遮光 9·如申請專利範圍第8項所述之彩㈣、絲板的製造 "中孩圖案化製程包括微影製程與姓刻製程。 # 、=·如ψ料利·第8項所述之彩色濾光基板的製 & 其中該圖案化製程包括曝光製程與顯影製程。 造方I如:請專利範圍第7項所述之彩色濾光基板的製 為-β/ ΐ形賴遮光狀步戰包括形錢辨識標記 為圖案、線性條碼、數字、文字或符號。 造方#職㈣7 _叙觀縣基板的製 於該些次晝素區外圍。 ㈣匕_成該辨識標記 造方叙耗μ基板的製 於該些次畫素區之間 肩更包括職該辨識標記
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW094147538A TWI269078B (en) | 2005-12-30 | 2005-12-30 | Color filter substrate and fabricating method thereof |
| US11/440,687 US20070154819A1 (en) | 2005-12-30 | 2006-05-24 | Color filter substrate and fabricating method thereof |
| JP2006254828A JP2007183567A (ja) | 2005-12-30 | 2006-09-20 | カラーフィルタ基板およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW094147538A TWI269078B (en) | 2005-12-30 | 2005-12-30 | Color filter substrate and fabricating method thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TWI269078B true TWI269078B (en) | 2006-12-21 |
| TW200724992A TW200724992A (en) | 2007-07-01 |
Family
ID=38224851
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW094147538A TWI269078B (en) | 2005-12-30 | 2005-12-30 | Color filter substrate and fabricating method thereof |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20070154819A1 (zh) |
| JP (1) | JP2007183567A (zh) |
| TW (1) | TWI269078B (zh) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103176306A (zh) * | 2013-03-22 | 2013-06-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩膜基板及其制作方法、液晶面板及显示设备 |
| US11668864B2 (en) * | 2016-12-22 | 2023-06-06 | Analog Devices, Inc. | Thin optical filter arrays |
| CN108572477B (zh) | 2017-03-08 | 2021-12-07 | 福州京东方光电科技有限公司 | 彩膜基板、显示面板及其检测方法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3332822B2 (ja) * | 1997-09-05 | 2002-10-07 | キヤノン株式会社 | カラーフィルタ基板の製造方法 |
| JP4384293B2 (ja) * | 1999-07-06 | 2009-12-16 | エーユー オプトロニクス コーポレイション | 液晶表示パネル、表示装置、識別マーク検出装置、検出表示システム、ｔｆｔアレイ・リペア装置及び識別マーク検出方法 |
| KR100603842B1 (ko) * | 2000-02-18 | 2006-07-24 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 확인용 인식마크를 포함하는 컬러필터 |
| JP2003107421A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Seiko Instruments Inc | 液晶表示装置用基板及び液晶表示装置の製造方法 |
| JP4409256B2 (ja) * | 2003-11-14 | 2010-02-03 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタ製造装置、及びカラーフィルタ製造方法 |
| JP4493374B2 (ja) * | 2004-03-09 | 2010-06-30 | 三菱電機株式会社 | カラーフィルタ基板の製造方法およびカラーフィルタ基板の検査方法並びに液晶表示装置の製造方法 |
| JP3714946B2 (ja) * | 2004-11-02 | 2005-11-09 | 大日本印刷株式会社 | アライメントマーク付きカラーフィルター |
-
2005
- 2005-12-30 TW TW094147538A patent/TWI269078B/zh not_active IP Right Cessation
-
2006
- 2006-05-24 US US11/440,687 patent/US20070154819A1/en not_active Abandoned
- 2006-09-20 JP JP2006254828A patent/JP2007183567A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2007183567A (ja) | 2007-07-19 |
| US20070154819A1 (en) | 2007-07-05 |
| TW200724992A (en) | 2007-07-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100787804B1 (ko) | 컬러 필터 기판 및 그 제조 방법 | |
| KR101678328B1 (ko) | 디스플레이 장치 및 디스플레이 장치 내에 마커를 제조하기 위한 방법 | |
| US7545466B2 (en) | Liquid crystal display device and substrate therefor | |
| US7014964B1 (en) | Color filter substrate and fabricating method thereof | |
| US20110249225A1 (en) | Active Array Substrate, Liquid Crystal Display Panel, and Manufacturing Method Thereof | |
| TW200905262A (en) | Color filter substrate and manufacturing thereof and liquid crystal display panel | |
| CN101477318B (zh) | 光掩模对位曝光方法及光掩模组件 | |
| TWI286224B (en) | Color filter substrate and fabricating method thereof | |
| CN100447628C (zh) | 彩色滤光层的制造方法 | |
| CN100405167C (zh) | 彩色滤光基板及其制造方法 | |
| US20050019679A1 (en) | [color filter substrate and fabricating method thereof] | |
| CN100397190C (zh) | 液晶显示设备 | |
| TWI269078B (en) | Color filter substrate and fabricating method thereof | |
| US20120224276A1 (en) | Color filter array and manufacturing method thereof | |
| CN100412657C (zh) | 液晶显示面板及彩色滤光基板的制造方法 | |
| CN104267526A (zh) | 一种显示面板及其制造方法 | |
| CN100380143C (zh) | 彩色滤光基板及其制造方法 | |
| CN106526957B (zh) | 彩膜基板及其制造方法、显示面板 | |
| JP2016004188A (ja) | 露光マスクおよび一括露光方法 | |
| JP2004361933A (ja) | カラーフィルタ基板およびその製造方法、ならびに表示装置 | |
| CN101639583B (zh) | 像素结构、彩色滤光基板及其相应的制造方法 | |
| CN101135847A (zh) | 彩色滤光基板的制造方法 | |
| CN104076553A (zh) | 基板结构与显示面板 | |
| KR20130013392A (ko) | 액정표시장치 및 그 제조방법 | |
| JP2007212663A (ja) | カラーフィルタ基板、カラー液晶表示装置及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |