CN100380143C - 彩色滤光基板及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种彩色滤光基板及其制造方法,所述彩色滤光基板包括一遮光层、一彩色图案层与一电极层。其中,遮光层配置于一基板上,而遮光层在基板上定义出多个次像素区,且遮光层具有至少一辨识标记,该辨识标记为该遮光层的切角的两侧边的比例。彩色图案层配置在各次像素区中,而电极层配置在彩色图案层与遮光层上。

Description

彩色滤光基板及其制造方法
技术领域
本发明是有关于一种彩色滤光基板及其制造方法,且特别是有关于一种具有辨识标记的彩色滤光基板及其制造方法。
背景技术
由于显示器的需求与日剧增,因此业界全力投入相关显示器的发展。其中,又以阴极射线管(Cathode Ray Tube)因具有优异的显示品质与技术成熟性,因此长年独占显示器市场。然而,近来由于绿色环保概念的兴起对于其能源消耗较大与产生辐射量较大的特性,加上产品扁平化空间有限,因此无法满足市场对于轻、薄、短、小、美以及低消耗功率的市场趋势。因此,具有高画质、空间利用效率佳、低消耗功率、无辐射等优越特性的薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display,TFT-LCD)已逐渐成为市场的主流。
以薄膜晶体管液晶显示模块(TFT-LCD module)而言,其主要是由一液晶显示面板(liquid crystal display panel)及一背光模块(back light module)所构成。其中,液晶显示面板通常是由一薄膜晶体管阵列基板(thin film transistorarray substrate)、一彩色滤光基板(color filter substrate)与配置于此两基板间的一液晶层所构成,而背光模块用以提供此液晶显示面板所需的面光源,以使液晶显示模块达到显示的效果。
就彩色滤光基板而言,为了区别各制造厂商所制造的彩色滤光基板,在基板上通常会以激光方式形成辨识码,且此识别码位于基板上的空白区域。此外,在单一基板上通常会形成多个彩色滤光区块,因此在彩色滤光基板与薄膜晶体管阵列基板组立之后便行切割制程以形成多个液晶显示面板。值得注意的是,原先所形成的识别码并不会存在于切割后的彩色滤光基板中,因此在组立后的薄膜晶体管阵列基板上通常还需要以激光方式形成代表彩色滤光基板来源的辨识码。然而,也可以以激光方式在各彩色滤光区块上形成辨识码,但是无论是哪一种方式均会增加成本与工时。另外,制造人员还需将辨识码输入计算机中才能得知相对应的彩色滤光基板的制造厂商,因此辨识彩色滤光基板所需的工时也就增加。
发明内容
本发明的目的是提供一种彩色滤光基板,其具有辨认制造厂商或产品型号的辨识标记。
本发明的再一目的是提供一种彩色滤光基板的制造方法,以制造出具有辨识标记的彩色滤光基板。
基于上述目的或其它目的,本发明提出一种彩色滤光基板,其包括一遮光层、一彩色图案层与一电极层。其中,遮光层配置于一基板上,而遮光层在基板上定义出多个次像素区,且遮光层具有至少一辨识标记,该辨识标记为该遮光层的切角的两侧边的比例。彩色图案层配置在各次像素区中,而电极层配置在彩色图案层与遮光层上。
依照本发明实施例,辨识标记可以是图案、线性条形码、数字、文字或符号。
依照本发明实施例,辨识标记的宽度可以是小于遮光的宽度。
依照本发明实施例,辨识标记可以是位于这些次像素区的外围。
依照本发明实施例,辨识标记可以是位于这些次像素区之间。
基于上述目的或其它目的,本发明提出一种彩色滤光基板的制造方法,其包括下列步骤:首先,在一基板上形成一遮光层,以定义出多个次像素区,其中遮光层具有至少一辨识标记,该辨识标记为该遮光层的切角的两侧边的比例。然后,在各次像素区内形成一彩色图案层。接着,在基板上形成一电极层,以覆盖遮光层与彩色图案层。
依照本发明实施例,形成遮光层的方法可以是先在基板上形成一遮光材料层,然后对于遮光材料层进行一图案化制程,以形成遮光层。
依照本发明实施例,形成遮光层的步骤更包括形成辨识标记为一图案、线性条形码、数字、文字或符号。
基于上述,本发明将因辨识标记整合至遮光层中,因此制造人员可以以目视方式辨识彩色滤光基板的制造厂商或产品型号。此外,相较于公知技术,本发明的彩色滤光基板制造方法同时形成遮光层与辨识标记,因此不会增加额外的制程步骤。
附图说明
图1A绘示依照本发明实施例的彩色滤光基板的俯视图。
图1B绘示依照本发明实施例的彩色滤光基板的剖面图。
图2A至图2G绘示依照本发明实施例的辨识标记的示意图。
图3A至图3B绘示依照本发明实施例的彩色滤光基板的制造方法的剖面图。
附图标记说明:
100:彩色滤光基板
110:基板
110a:次像素区
120:遮光层
122:辨识标记
130:彩色图案层
140:电极层
具体实施方式
图1A绘示依照本发明实施例的彩色滤光基板的俯视图,而图1B绘示依照本发明实施例的彩色滤光基板的剖面图。请参考图1A与图1B,本实施例的彩色滤光基板100包括:一遮光层120、一彩色图案层130与一电极层140。其中,遮光层120配置在基板110上,而遮光层120在基板110上定义出多个次像素区110a,且遮光层120具有至少一辨识标记122。此外,彩色图案层130配置在各次像素区110a中,而电极层140配置在彩色图案层130与遮光层120上。
更详细而言,基板100可以是玻璃基板、石英基板、塑胶基板或是其它透明基板。此外,遮光层120的材料可以是铬、其它金属或遮光性树脂。另外,彩色图案层130的材质可以是彩色光阻或染料,而电极层140材料可以是铟锡氧化物(indium tin oxide,ITO)、铟锌氧化物(indium zinc oxide,IZO)、锌铝氧化物(aluminum zinc oxide,AZO):或其它透明导电材质。
值得注意的是,辨识标记122也可以是图案、线性条形码、数字、文字或符号,以代表制造厂商或产品型号。本实施例的辨识标记122为矩形图案,以代表彩色滤光片制造厂商或产品型号。此外,其它类型的辨识标记122将进一步详述如后。
图2A至图2G绘示依照本发明实施例的辨识标记的示意图。请参考图2A至图2G,辨识标记122可以是图案标记,例如是三角形图案、圆形图案、十字形图案、禁止图案、闪电图案、矩形图案、平行四边形图案、爱心图案或其它图案,如图2A所示。辨识标记122也可以是各种型态的线性条形码,如图2B所示。辨识标记122也可以是数字标记,如阿拉伯数字或中文数字,如图2C所示。辨识标记122也可以是文字标记,如中文、英文、日文或其它语言,如图2D所示。辨识标记122也可以是符号标记,如问号、括号、罗马字母或其它类型的符号,如图2E所示。
在另一实施例中,辨识标记122也可以是遮光层120的切角,而切角的两侧边的特定比例也可以代表制造厂商或产品型号,如图2F所示。此外,辨识标记122的宽度可以是小于遮光层的宽度。在本实施例中,辨识标记122位于这些次像素区110a的外围(如图1A所示),然而辨识标记122也可以是位于这些次像素区110a之间(如图2G所示)。换言之,本实施例并不限定辨识标记122的配置位置、数量或形状。有关于本实施例的彩色滤光基板100的制造方式将举例于后,但不限定本实施例的彩色滤光基板100需采用下列方法形成。
图3A至图3B绘示依照本发明实施例的彩色滤光基板的制造方法的剖面图。请先参考图3A,本实施例的彩色滤光基板的制造方法包括下列步骤:首先,在基板100上形成一遮光层120,以定义出多个次像素区110a(如图1A所示),其中遮光层120包含至少一辨识标记122。在本实施例中,形成遮光层120的步骤更包括形成辨识标记122于次像素区外围。
更详细而言,形成遮光层120的方法可以是先在基板110上形成一遮光材料层(未绘示),然后对于此遮光材料层进行一图案化制程,以形成遮光层120。随着遮光层120的材质不同,形成遮光层120的方式也就不同。举例而言,当遮光层120的材质为金属时,形成遮光材料层的方式可以是溅射制程,而图案化制程包括光刻制程与刻蚀制程。或者,当遮光层120的材质为遮光树脂时,图案化制程包括曝光制程与显影制程。
然而,上述的形成遮光层120的步骤也可以是形成辨识标记122为一图案、线性条形码、数字、文字或符号,如图2A至图2E所示。或者,上述的形成遮光层120的步骤也可以是形成辨识标记122于次像素区之间,如图2G所示。
请参考图3B,在各次像素区110a内形成一彩色图案层,其中当彩色图案层130的材质为光阻材料时,形成彩色图案层130的方法可以是进行多次曝光制程与显影制程。当彩色图案层130的材质为染料时,形成彩色图案层130的方法可以是喷墨制程。然后,在基板110上形成一电极层140,以覆盖遮光层120与彩色图案层130,如图1B所示,其中形成电极层140的方式可以是溅射制程。
由于遮光层120具有辨识标记122,因此制造人员可采用光学检知系统或目视方式辨识组立后的彩色滤光基板的制造厂商或产品型号。此外,由于彩色滤光基板100上形成有辨识标记122,因此原本形成在薄膜晶体管阵列基板上用以辨识彩色滤光基板100的制造厂商的辨识码便可取消,以增加可使用的区域或缩短辨识码的长度。另外,由于辨识标记122与遮光层120为同时形成,因此相较于公知技术,本发明的彩色滤光基板100的制造方法并不增加额外的制程步骤。
虽然本发明已以较佳实施例揭露如上,然其并非用以限定本发明,任何熟习此技艺者,在不脱离本发明的精神和范围内,当可作些许的更动与润饰,因此本发明的保护范围当视权利要求书所界定者为准。

Claims (5)

1.一种彩色滤光基板,其特征是,包括:
一遮光层,配置于一基板上,其中该遮光层在该基板上定义出多个次像素区,且该遮光层具有至少一辨识标记,该辨识标记为该遮光层的切角的两侧边的比例;
一彩色图案层,配置在各该次像素区中;以及
一电极层,配置在该彩色图案层与该遮光层上。
2.一种彩色滤光基板的制造方法,包括:
提供一基板;
在该基板上形成一遮光层,以定义出多个次像素区,其中该遮光层包含至少一辨识标记,该辨识标记为该遮光层的切角的两侧边的比例;
在各该些次像素区内形成一彩色图案层;以及
在该基板上形成一电极层,以覆盖该遮光层与该彩色图案层。
3.如权利要求2所述的彩色滤光基板的制造方法,其特征是,形成该遮光层的步骤包括:
在该基板上形成一遮光材料层;以及
对于该遮光材料层进行一图案化制程,以形成该遮光层。
4.如权利要求3所述的彩色滤光基板的制造方法,其特征是,该图案化制程包括光刻制程与刻蚀制程。
5.如权利要求3所述的彩色滤光基板的制造方法,其特征是,该图案化制程包括曝光制程与显影制程。
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