TWI266694B - Structure comprising at least one polyethylene layer and at least one layer of barrier polymer - Google Patents

Structure comprising at least one polyethylene layer and at least one layer of barrier polymer Download PDF

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TWI266694B
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Fabrice Chopinez
Gaelle Bellet
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1266694 1 » (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種包含至少一聚乙烯層和至少一障礙 聚合物層之構件。這些構件係用於，如，製造其中障礙聚 ” 合物層與被儲存或運送的流體接觸的管、槽、瓶或容器。 ， 前述物件可藉由用以轉化熱塑性材料之一般技巧（如，共 擠壓或共擠壓吹塑）而製得。所謂，，障礙”是指，如，此層 • 使得車輛中所用的汽油無法通過或僅使得非常少量通過。 【先前技術】 聚乙烯具有障礙汽油的性質，但這些性質於許多用途 方面無法令人滿意。必須要使構件亦包含障礙聚合物層。 但大多數的障礙聚合物無法與聚乙烯相容。因此，必須要 將束縛層置於介於聚乙烯層和障礙聚合物層之間。帶有環 氧官能基的聚乙燒（如，（甲基）丙烯酸縮水甘油酯）能 籲 夠作爲介於聚乙烯和障礙材料（如，PPS或聚酯）之間之 束縛物。縮寫”PPS”是指聚（苯硫醚）。但有時難以共濟 壓這些材料且剝除強度有時過低。現在發現一種帶有壤氧 官能基的聚乙烯和與其相容之黏性聚合物之摻合物是極佳 的束縛物。 【發明內容】 發明簡述 本發明係關於一種構件，其依序包含：
§J -6- (2) 1266694 一聚合物障礙層， 一束縛層，其包含總計爲100%之： • 1至80%之至少一種帶有環氧官能基的聚乙烯， • 99至20%之至少一種與該帶有環氧官能基的聚乙烯 - 相容之黏性聚合物， . 一聚乙烯層， 各層以其各接觸區域黏合。 φ 根據另一形式，本發明係關於一種構件，其依序包含 一聚合物障礙層， 一束縛層，其包含總計爲1 0 0 %之： • 1至80%之至少一種帶有環氧官能基的聚乙烯， • 99至20%之至少一種可與該帶有環氧官能基的聚乙 烯相容之黏性聚合物， 一聚乙烯層， # 一束縛層，其包含總計爲100%之： • 1至80 %之至少一種帶有環氧官能基的聚乙烯， • 99至20%之至少一種可與該帶有環氧官能基的聚乙 烯相容之黏性聚合物， -聚合物障礙層， 各層以其各接觸區域黏合。 根據一較佳形式，此與帶有環氧官能基的聚乙燒相容 之黏性聚合物是聚乙烯。 根據本發明的另一形式，如果與帶有環氧官能基的聚 -7- 1266694 1 # (3) 乙烯相容之黏性聚合物是聚乙烯且如果此與帶有環氧官能 基的聚乙烯相容之黏性聚合物之摻合物具有足夠的機械強 度而能夠與該障礙聚合物共擠壓，則可分配與鄰近束縛層 的該聚乙烯層， • 亦即，此另一形式中，構件依序包含： 、一聚合物障礙層， 一束縛層，其包含總計爲100%之： # · 1至8 0 %之至少一種帶有環氧官能基的聚乙烯， • 99至20%之至少一種可與該帶有環氧官能基的聚乙 烯相容之黏性聚合物， 各層以其各接觸區域黏合。 或者： 一聚合物障礙層， 一束縛層，其包含總計爲100%之： • 1至80%之至少一種帶有環氧官能基的聚乙烯， #· 99至20%之至少一種可與該帶有環氧官能基的聚乙 烯相容之黏性聚合物， 一聚合物障礙層， 各層以其各接觸區域黏合。 此構件可用以製造用於儲存或輸送流體的裝置（特別 是在汽車中者）。本發明亦關於這些裝置。這些裝置可爲 其中障礙聚合物層與被儲存或運送的流體接觸的管、槽、 瓶或容器。這些構件可包含由其他物質所構成的其他層。 -8- 1266694 * * _ (4) 發明詳述 關於障礙聚合物，其可爲，如，PVDF。此處所謂的 ”PVDF”是指偏氟乙烯（VDF)均聚物和偏氟乙烯（VDF) 共聚物（其以包含至少5 0重量％ V D F和至少一種可與 ^ VDF共聚之單體爲佳）。此共聚單體以經氟化爲佳。其可 、 選自，如，氟乙烯；三氟乙烯（VF3 );氯三氟乙烯（ CTFE) ; 1，2-二氟乙烯；四氟乙烯（TFE );六氟丙烯（ ® HFP ):全氟（烷基乙烯基醚），如，全氟（甲基乙烯基 醚）（PMVE)、全氟（乙基乙烯基醚）（PEVE)和全氟 (丙基乙烯基醚）（PPVE) ，·全氟（1，3-二噁茂）；和全 氟（2,2·二甲基- i，3-二噁茂）（PDD )。視情況選用的共 聚單體以選自氯三氟乙烯（CTFE )、六氟丙烯（HFp )、 三氟乙烯（VF3)和四氟乙烯（TFE )爲佳。 較佳地，此PVDF包含至少50重量％VDF，至少75 重量％更佳，至少85重量％又更佳。此共聚單體以HFP爲 ®佳。 亦可爲聚酯，如，PBT (聚（對酞酸丁二酯））、 PEN (聚（萘酸乙二酯））和PBN (聚（萘酸丁二酯）） 〇 亦可爲聚酮、聚（二甲基酮烯）和PPS。聚（二甲基 酮烯）揭示於專利案EP 1 388 553、EP 1 002 819和WO 04/044030 。 此障礙聚合物不是PVC也不是聚丙烯。 此障礙聚合物可全數或部分經官能化；即，此障礙聚 -9- (5) 1266694 合物層包含總計爲100°/。之I至100%之經官能化的障礙聚 合物和99至0%之障礙聚合物。有利地，此障礙聚合物層 包含總計爲100%之1至40%之經官能化的障礙聚合物和 99至60%之障礙聚合物。較佳地，此障礙聚合物層包含總 - 計爲100%之15至40%之經官能化的障礙聚合物和85至 . 60%之障礙聚合物。 根據本發明之另一形式，該聚合物障礙層可由兩層所 # 構成，其一包含總計爲100%之1至100°/。之經官能化的障 礙聚合物和99至0%的障礙聚合物之摻合物，此層位於束 縛層上，而另一係由該障礙聚合物所構成。 根據本發明之有利形式，該聚合物障礙層係由兩層所 構成，其一包含總計爲100%之1至40%之經官能化的障 礙聚合物和99至60%的障礙聚合物之摻合物，此層位於 束縛層上，而另一係由該障礙聚合物所構成。 根據本發明之較佳形式，該聚合物障礙層係由兩層所 • 構成’其一包含總計爲100%之15至40%之經官能化的障 礙聚合物和85至60%的障礙聚合物之摻合物，此層位於 束縛層上，而另一係由該障礙聚合物所構成。 官能化的障礙聚合物是包含至少一個極性基團（如， 環氧基、酐基、酸基、源自酸基的鹽）鏈結至障礙聚合物 鏈。其例子爲經不飽和單體接枝的PVDF或VDF和至少一 種不飽和單體之共聚物（可能與另一共聚單體共聚，此時 ，此聚合物係三聚物）。 以不飽和單體接枝的PVDF可根據接枝法製得，其中 -10- (6) 1266694 « * a)氟化的聚合物與不飽和單體熔融摻合， b ) a)中得到的摻合物製成膜、片、顆粒或粉末， c)源自階段b)的產物於無空氣存在時，以光子射線 — (7 )或電子射線（冷）以介於1和1 5Mrad之間的劑量 • 照射， d ) c )中得到的產物選擇性地經處理以移除所有或一 ^ 部分未接枝至氟化聚合物之不飽和單體。 關於不飽和的接枝單體，其例有，羧酸和其衍生物， 如，酸酐、酸醯氯、異氰酸酯、噁唑啉、環氧化物、胺或 氫氧化物。較佳地，此不飽和單體含有僅一個C = C雙鍵， 以防止PVDF之任何交聯（此導致黏度提高及.材料擠壓之 潛在困難）。 不飽和羧酸的例子爲具有2至20個碳原子者，如， 丙烯酸、甲基丙烯酸、順·丁烯二酸、反-丁烯二酸和衣康 ^ 酸。這些酸之官能性衍生物包含，如，不飽和羧酸的酐、 酯衍生物、醯胺衍生物、醯亞胺衍生物和金屬鹽（如，鹼 金屬鹽）。亦可爲^--烯酸。 具有4至10個碳原子的不飽和二羧酸和它們的官能 性衍生物（特別是它們的酐）是特別佳的接枝單體。以 順-丁烯二酸酐爲佳，此因其均聚作用極微並提供良好黏 著値之故。順-丁烯二酸酐之接枝以VDF和順·丁烯二酸酐 之共聚反應爲佳，此因不易以目前的分散工業法（乳液或 懸浮液）進行之故。 -11 - 1266694 » * (7) 階段a )係於熱塑工業中使用的任何摻合裝置（如， 擠壓機或混合機）中進行。 至於氟化聚合物和不飽和單體之比例，有利地，氟化 聚合物的比例是90至99.9重量％，不飽和單體則是0.1 ^ 至重量％。較佳地，氟化聚合物的比例是95至99.9重 • 量％ ’不飽和單體則是0 · 1至5重量％。 階段a )終了時，察覺氟化聚合物和不飽和單體之摻 ^ 合物的損耗量相當於1 0至5 0%於階段a )開始時引入的不 飽和單體。此比例取決於不飽和單體的揮發性和本質。事 實上，此單體於擠壓機或混合機中脫氣並回收於抽氣管中 〇 關於階段C)，階段b )終了時回收的產物有利地封 裝於聚乙烯袋中，脫除空氣之後密封。關於照射法，可以 使用電子射線（常被稱爲Θ射線）和光子射線（常被稱爲 r射線），其間無區別存在。有利地，劑量介於2和 W 6Mrad之間，以介於3和5Mrad之間爲佳，照射源是鈷60 彈。 接枝法於”冷”（基本上低於l〇〇°C，或甚至低於5(TC )時進行，使得PVDF /不飽和單體化合物非處於熔融態 ，此與在擠壓機中進行之慣用接枝法相同。一個基本差異 在於，以半晶狀物爲例（如，使用PVDF時），接枝於非 晶相而非於晶相進行，反之，在擠壓機中熔融接枝時，發 生均勻接枝情況。因此，不飽和單體非沿著PVDF鏈分佈 ，此與在擠壓機中以射線接枝的情況不同。 -12- (8) 1266694 關於階段d )，未接枝的單體可藉任何方 枝的單體相對於階段c)開始時存在的單體之丨 和1 00%之間。可以對於氟化聚合物和接枝的 性的溶劑清洗。例如，順·丁烯二酸酐被接枝 ‘ 苯清洗。亦可更簡單地藉由使階段c)回收的 • 空下而脫氣。 關於束縛層和帶有環氧官能基的聚乙烯， # 官能基經接枝的聚乙烯或乙烯和不飽和環氧化 〇 關於乙烯和不飽和環氧化物之共聚物，其 ，乙烯、（甲基）丙烯酸烷酯和不飽和環氧化 或乙烯、飽和羧酸乙烯醋和不飽和環氧化物之 些共聚物可藉高壓聚合法（壓力高於1 000巴 氧化物的量可至高爲共聚物之1 5重量％，乙 5 0重量％。有利地，環氧化物的比例介於2和 β 間。有利地，（甲基）丙烯酸烷酯的比例介於 間，以介於5和3 5重量％之間爲佳。 有利地，其爲乙烯、（甲基）丙烯酸烷酯 氧化物之共聚物。較佳地，（甲基）丙烯酸烷 具有1至10個碳原子。 可使用之丙烯酸或甲基丙烯酸烷酯的例子 丙烯酸甲酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯 丙烯酸異丁酯或丙烯酸2 -乙基己酯。較佳地， 乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸甲酯或丙烯酸2-乙 式移除。接 比例介於5 0 官能基呈惰 時，可以氯 產物處於真 其可爲環氧 物之共聚物 例可爲，如 物之共聚物 共聚物。這 )製得。環 烯量是至少 1 2重量％之 0和40%之 和不飽和環 醋使得院基 特別是甲基 酸正丁酯、 其爲丙烯酸 基己酯。 -13- 1266694 - (9) MFI (熔流指數）（克/ 10分鐘， 下測量）可以是，如，介於0.1和5 0之 可使用之不飽和環氧化物的例子特 一 脂族縮水甘油酯和醚，如，烯丙基 • 基縮水甘油醚、順-丁烯二酸縮水甘油 ^ 油酯、丙烯酸縮水甘油酯和甲基丙烯酸 一 脂環族縮水甘油酯和醚，如，2-環 • 醚、環伸己基·4,5·二羧酸二縮水甘油f 酸縮水甘油酯、2 -甲基-5-原冰片烯-2-內-順-二環〔2.2.1〕伸庚-5-基-2,3-二 。以甲基丙烯酸縮水甘油酯爲佳，此因 展現良好化學反應性之故。 關於束縛層和與帶有環氧官能基的 聚合物，其例爲氫化的SBS嵌段共聚 EPR、EPDM和聚乙烯。此聚乙烯可烏 • HDPE和藉任何方法（於氣相、整體： Ziegler催化作用、藉自由基引發作用 (或單位址催化作用））製得的任何聚 相容的黏性聚合物之MFI (熔流指數， 斤下測量）介於〇 · 1和1克/ 1 0分鐘 和0.5之間爲佳。其以HDPE爲佳。 關於束縛層的構份比例，其爲： 1至80%之帶有環氧官能基的聚乙j 99至2 0%之可與該帶有環氧官能基 1 9 0 °C和2 · 1 6公斤 :間。 別是： 縮水甘油醚、乙烯 酯、衣康酸縮水甘 縮水甘油酯，和 伸己-1-基縮水甘油 贈、環伸己基-4-羧 羧酸縮水甘油酯和 羧酸二縮水甘油酯 其易與乙烯共聚並 聚乙烯相容之黏性 物（如，SEB )、 ;LDPE、LLDPE、 或於溶液中，及藉 或藉金屬催化作用 乙烯。有利地，此 於1 9 0 °C和2.1 6公 之間，以介於〇 . 1 5 的聚乙烯相容之黏 -14- ⑧ (10) 1266694 性聚合物。 有利地： 10至50 %之帶有環氧官能基的聚乙烯， 90至50%之可與該帶有環氧官能基的聚乙烯相容之黏 " 性聚合物。 • 較佳地： 1 〇至4 0 %之帶有環氧官能基的聚乙烯， ♦ 90至60%之可與該帶有環氧官能基的聚乙烯相容之黏 性聚合物。 有利地，束縛物的MFI (於19(TC和2.16公斤下測量 )介於0.1 5和1克/ 1 〇分鐘之間。 關於聚乙烯層，此聚乙烯可爲LDPE、LLDPE、HDPE 和藉任何方法（於氣相、整體或於溶液中，及藉Ziegler 催化作用、藉自由基引發作用或藉金屬催化作用（或單位 址催化作用））製得的任何聚乙烯。有利地者爲HDPE， ® 此因HDPE於溫度低至-50°C仍具有極佳抗張和衝擊性質 之故。 本發明之構件可包含其他層。 此構件可具有任何厚度。此厚度是，如，介於100微 米和2 5毫米之間。 關於交替形式，與該帶有環氧官能基的聚乙烯相容之 黏性聚合物是聚乙烯且此與該帶有環氧官能基的聚乙烯相 容之黏性聚合物之摻合物具有足夠的機械強度而能夠與該 障礙聚合物共擠壓時，則可分配與鄰近束縛層的該聚乙烯 -15- (11) 1266694 層。除非特別指定爲此交替形式，否則前述之任何者，特 別是束縛物之組成、障礙層（或多層）之組成及產物之本 質，可用於此另一形式中。事實上，於此交替形式中，與 該帶有環氧官能基的聚乙烯相容之黏性聚合物以HPDE較 爲有利。 【實施方式】 ®實例 使用下列聚合物：
Kynar®720 : PVDF 均聚物，得自 Atofina，其 MVI ( 熔融體積指數）是10立方公分/10分鐘（於230°C和5 公斤下測量）。 PVDF-1 ··以9000ppm順-丁烯二酸酐接枝的PVDF均 聚物（Kynar®72 0 )，其MVI (熔融體積指數）是7立方 公分/ 10分鐘（於23 0 °C和5公斤下測量）。此接枝係藉 ® 以鈷60彈照射Kynar720和順-丁烯二酸酐之混合物（使 用雙螺旋擠壓機於23(TC，150rpm和質流率10公斤/小 時而得）的方式進行。此照射係於3Mrad進行17小時。 照射步驟之後，產物於真空、1 3 (TC放置隔夜，以使得無 未接枝的順-丁烯二酸酐。以紅外光譜術測定經接枝的順-丁嫌二酸酐含量（ 9000ppm)。
Lotader⑧8840 :乙烯和甲基丙烯酸縮水甘油酯之共聚 物，得自Atofina，其MVI (熔融體積指數）是5立方公 分/ 10分鐘（於190°C和2.16公斤下測量）。其包含92 -16- (12) 1266694 重量％乙烯和8重量％甲基丙烯酸縮水甘油酯。
Finathene®3 802HDPE :高密度聚乙烯，得自 Atofina ，其MFI是〇·2克/ 10分鐘（於190 °C和2.16公斤下測 量）。其密度是0.938。
Fortron®〇214:聚（苯硫醚），得自 Ticona，其 MFI • 是57 (於315°C和5公斤下測量）。其密度是1.35。 ® 實例](根據本發明）： 於McNeil類型的擠壓機上製備三層構件，此構件由 內向外地包含厚度 300 微米之 30%PVDF-1 和 70%Kynar®720的摻合物層，其共擠壓於厚度1〇〇微米的 摻合物層（藉由在機械底部無水摻合 50 重量 °/〇Lotader®8 840 和 50%Finathene®3 802 HDPE 得到摻合物 )上。此層本身共擠壓於2.6毫米厚的Finathene®3802層 上。最終構件外徑32毫米，厚度3毫米。此共擠壓於240 ^ °C於所用的各個擠壓機和共擠壓頭進行。模具維持於2 5 0 °C。於t + 24小時剝除（即，擠壓之後24小時）得知黏著 強度爲60牛頓/公分。所得構件不具任何共擠壓缺陷； 內表面呈現完美的平滑狀態，沒有任何共擠壓起皴情況。 實例2 (比較例）： 於McNeil類型的擠壓機上製備三層構件，此構件由 內向外地包含厚度 3 0 0 微米之 30%PVDF-1 和 70%Kynar®720的摻合物層，其共擠壓於厚度100微米的 -17- (13) 1266694
Lotader®8 840層上。此層本身共擠壓於2.6毫米厚的 Finathene®3 802層上。最終構件外徑32毫米，厚度3毫 米。此共擠壓於240 °C於所用的各個擠壓機和共擠壓頭進 行。模具維持於2 5 0 °C。於t + 24小時剝除得知黏著強度爲 - 5 0牛頓/公分。內表面具有輕微共擠壓起皴情況。 實例3 (比較例）： 於McNeil類型的擠壓機上製備三層構件，此構件由 內向外地包含厚度3 00微米之Fortron®0214層，其共擠 壓於厚度100微米的Lotader®8 840層上。此層本身共擠 壓於2.6毫米厚的 Finathene®3 802層上。最終構件外徑 32毫米，厚度3毫米。進行共擠壓時，PPS擠壓機的溫度 是315°C，其他材料是240°C，共擠壓頭是24〇°C。模具維 持於3 1 5°C。於t + 24小時剝除得知黏著強度爲40牛頓/ 公分。內表面有輕微共擠壓起鈹情況。 實例4 (根據本發明）： 於McNeil類型的擠壓機上製備三層構件，此構件由 內向外地包含厚度3 00微米之Fortron®0214層，其共擠 壓於厚度100微米的摻合物層（藉由在機械底部無水摻合 50 重量 ％Lotader®8 840 和 5 0 % F i n a t h e n e ® 3 8 0 2 H D P E 得到 摻合物）上。此層本身共擠壓於 2.6.毫米厚的 Finathene®3802層上。最終構件外徑32毫米，厚度3毫 米。進行共擠壓時，PPS擠壓機的溫度是3151，其他材 -18- (14) 1266694 料是240°C，共擠壓頭是240°C。模具維持於3〗5°C °於 t + 24小時剝除得知黏著強度爲45牛頓/公分。所得構件 具有少量凝膠顆粒但沒有共擠壓缺陷；內表面呈現完美的 平滑狀態，沒有任何共擠壓起皺情況。 ， 實例5 (根據本發明）： 於McNeil類型的擠壓機上製備三層構件，此構件由 ϋ 內向外地包含厚度 300 微米之 30%PVDF-1 和 70%Kynar®720的摻合物層，其共擠壓於厚度1 〇〇微米的 摻合物層（藉由在機械底部無水摻合 30重量 %Lotader®8 840 和 7 0 % F i n at h e n e ® 3 8 0 2 HDPE 得到摻合物 )上。此層本身共擠壓於2.6毫米厚的Finathene®3 802層 上。最終構件外徑32毫米，厚度3毫米。此共擠壓於240 °C於所用的各個擠壓機和共擠壓頭進行。模具維持於250 °C。於t + 24小時剝除得知黏著強度爲65牛頓/公分。所 ® 得構件不具任何共擠壓缺陷；內表面呈現完美的平滑狀態 ，沒有任何共擠壓起皺情況。 實例6 (根據本發明）： 於McNeil類型的擠壓機上製備三層構件，此構件由 內向外地包含厚度 3 00 微米之 30%PVDF-1 和 70%Kynar®720的摻合物層，其共擠壓於厚度1〇〇微米的 摻合物層（藉由在機械底部無水摻合 15 重量 %Lotader®8 840 和 85°/〇Finathene®3 8 02 HDPE 得到摻合物 -19- 1266694 (15) )上。此層本身共擠壓於2.6毫米厚的Finathene®3 8 02層 上。最終構件外徑32毫米，厚度3毫米。此共擠壓於240 °(：於所用的各個擠壓機和共擠壓頭進行。模具維持於250 °C。於t + 24小時剝除（即，擠壓之後24小時）得知黏著 強度爲7〇牛頓/公分。所得構件不具任何共擠壓缺陷； 內表面呈現完美的平滑狀態，沒有任何共擠壓起皺情況。

Claims (1)

  1. (1) 1266694 十、申請專利範圍 1 . 一種構件，其依序包含： 一聚合物障礙層， 一束縛層，其包含總計爲100%之： 、 · 1至80 %之至少一種帶有環氧官能基的聚乙烯， • 99至20%之至少一種可與該帶有環氧官能基的聚乙 嫌相容之黏性聚合物， φ —聚乙烯層， 各層以其各接觸區域黏合。 2. —種構件，其依序包含： 一聚合物障礙層， 一束縛層，其包含總計爲100%之： • 1至80%之至少一種帶有環氧官能基的聚乙烯， • 99至20%之至少一種可與該帶有環氧官能基的聚乙 烯相容之黏性聚合物， ♦ 一聚乙烯層， 一束縛層，其包含總計爲1 0 0 %之： • 1至80%之至少一種帶有環氧官能基的聚乙烯， • 99至20 %之至少一種可與該帶有環氧官能基的聚乙 烯相容之黏性聚合物， 一*聚合物障礙層， 各層以其各接觸區域黏合。 3·如申請專利範圍第1或2項之構件，其中可與該 帶有環氧官能基的聚乙烯相容之黏性聚合物選自氫化的 -21 - (2) 1266694 SBS嵌段共聚物、EPR、EPDM或聚乙烯。 4 ·如申請專利範圍第3項之構件，其中可與該帶有 環氧官能基的聚乙烯相容之黏性聚合物是聚乙燒。 5· —種構件，其依序包含： 一聚合物障礙層， 一束縛層，其包含總計爲1 0 0 %之： • 1至80%之至少一種帶有環氧官能基的聚乙烯， • 99至20%之至少一種可與該帶有環氧官能基的聚乙 烯相容之黏性聚合物， 各層以其各接觸區域黏合， 或者， 一聚合物障礙層， 一束縛層，其包含總計爲100%之： • 1至80%之至少一種帶有環氧官能基的聚乙烯， • 99至20%之至少一種可與該帶有環氧官能基的聚乙 燦相容之黏性聚合物， 一聚合物障礙層， 各層以其各接觸區域黏合。 6. 如申請專利範圍第1、2和5項中任一項之構件， 其中可與該帶有環氧官能基的聚乙嫌相容之黏性聚合物是 HDPE 〇 7. 如申請專利範圍第1、2和5項中任一項之構件， 其中可與該帶有環氧官能基的聚乙烯相容之黏性聚合物的 MFI(於190°C和2.16公斤下）係介於0·1和1克/10分 -22- ⑧ (3) 1266694 鐘之間。 8 ·如申請專利範圍第7項之構件，其中可與該帶有 環氧官能基的聚乙烯相容之黏性聚合物的MFI (於190°C 和2 · 1 6公斤下）係介於〇 · 1 5和〇 · 5克/ 1 〇分鐘之間。 、 9 ·如申請專利範圍第1、2和5項中任一項之構件， • 其中於該束縛層中該帶有環氧官能基的聚乙烯是乙烯和不 飽和環氧化物之共聚物。 • 10·如申請專利範圍第1、2和5項中任一項之構件 ，其中該束縛物之比例爲： • 10至50%之帶有環氧官能基的聚乙烯， • 90至50%之可與該帶有環氧官能基的聚乙烯相容之 黏性聚合物。 1 1 ·如申請專利範圍第1 0項之構件，其中該束縛物 之比例爲： • 10至40%之帶有環氧官能基的聚乙烯， ® · 90至60%之可與該帶有環氧官能基的聚乙烯相容之 黏性聚合物。 12. 如申請專利範圍第1、2和5項中任一項之構件 ，其中該束縛物的MFI (於190 °C和2.16公斤下測量）係 介於〇. 1 5和1克/ 1 0分鐘之間。 13. 如申請專利範圍第1、2和5項中任一項之構件 ，其中該聚合物障礙層包含總計爲100%之1至100%之經 官能化的障礙聚合物和99至0%之障礙聚合物。 1 4 ·如申請專利範圍第1 3項之構件，其中該聚合物 -23- (4) 1266694 障礙層包含總計爲1 Ο Ο %之1至4 0 °/〇之經官能化的障礙聚 合物和99至60%之障礙聚合物。 1 5 ·如申請專利軔圍弟1 4項之構件，其中該聚合物 障礙層包含總計爲1 0 0 %之1 5至4 0 %之經官能化的障礙聚 合物和85至60°/。之障礙聚合物。 1 6 ·如申請專利範圍第1、2和5項中任一項之構件 ，其中該聚合物障礙層係由兩層所構成，其一包含總計爲 | 100%之1至100%之經官能化的障礙聚合物和99至0%的 障礙聚合物之摻合物，此層位於束縛層上，而另一係由該 障礙聚合物所構成。 1 7 ·如申請專利範圍第1 6項之構件，其中該聚合物 障礙層係由兩層所構成，其一包含總計爲1 〇 〇 %之1至 4 0%之經官能化的障礙聚合物和99至60%的障礙聚合物之 摻合物，此層位於束縛層上，而另一係由該障礙聚合物所 構成。 i 1 8 ·如申請專利範圍第丨7項之構件，其中該聚合物 障礙層係由兩層所構成，其一包含總計爲1〇0%之15至 40%之經官能化的障礙聚合物和85至60%的障礙聚合物之 摻合物，此層位於束縛層上，而另一係由該障礙聚合物所 構成。 19.如申請專利範圍第1、2和5項中任一項之構件 ’其中該障礙聚合物是PVDF。 20· —種用以儲存或運輸流體之裝置，其係由申請專 利範圍第1至1 9項中任一項之構件所構成，其中該聚合 -24- (5)1266694 物障礙層與被儲存或運輸的流體接觸。
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