TWI258640B - Lithographic apparatus and device manufacturing method - Google Patents
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Description
1258640 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明整體而言係關於微影之領域。更具體言之,本發 明係關於一微影投影裝置之投影系統的安裳。 【先前技術】 本說明書所述,,圖案形成元件(patterning device)”應廣義 解釋為意指能用來使一入射輻射束具備一符合一欲產生於 一基板目標部分内之圖案之有圖案橫剖面的元件;就此而 論亦可使用"光閥(Ught valve)"—辭。整體而言,該圖案會 符合欲在該目標部分產生之一元件之一特定功能層,例如 一積體電路或其他元件(參見下文此等圖案形成元件的 實例包含: 光罩。光罩的概念在微影範蜂中在 礼可甲為人所熟知,且其 包含如二元型、交替相移型、牙 和哀減相移型光罩,以 及各種混合型光罩。將此一光罩晉 尤卓置入輻射束内導致照 到該光罩上之輻射依據該光罩上的圖案選擇性透射 (該光罩為-透射型光罩的情況)歧射(該料為一反 射型光罩的情況)。在具有一光罩的 二 平7滑况中,支撐結構 大致會是—光罩平台,此結構確保能將光罩保持在入 相對於光束移 …式化反射鏡陣列。此一元件之_實例為一且有 一黏彈性控制層和一反射層之可矩 —^ 平疋址表面。此一 π件背後的基本原理(舉例來說)是該反射表面之已定 97526.doc 1258640 射I::射光反射成繞射光,而未定址區將入射光反 、卢 凡射光。利用-適當濾光片,能將該未繞射光 濾離反射光束,僅窃 光;依此方式,光束依據 /口巨尸疋址表面之定址圖案變得圖案化。一可程式 化反射鏡陣列之一替代實施例可運用一小型反射鏡矩 車卜歹】型反射鏡得藉由施予一適當局部電場 或藉由使用塵電致動元件的方式使其個別繞一軸線傾 斜。再次地,這些反射鏡是可矩陣定址的,使得已定 址反射鏡會以-不,未定址反射鏡的方向反射-入 射輻射束;依此方式,反射光束依據該等可矩陣定址 反射鏡之定址圖案變得圖案化。所需矩陣定址作業得 利用適當電子元件進行。在以上所述兩種情況中,圖 案形成元件得包含-或多個可程式化反射鏡陣列。有 關此處所述反射鏡陣列之更多資訊舉例來說能從美國 專利第5,296,891號和5,523,193號及pcT專利申請案 W0 98/38597號和W0 98/33096號中得知,該等專利案 以引用的方式併入本文中。在一可程式化反射鏡陣列 的情況中’該支撑結構舉例來說可為實施成一框架咬 一平台面,其可視需要是固定的或可動的;及 -一可程式化LCD陣列。此構造之一實例見於美國專利 第5,229,872號’该案以引用的方式併入本文中。如上 所述,此情況中之支撐結構舉例來說可為實施成一框 架或一平台面,其可視需要是固定的或可動的。 為求簡化’本說明書其他部分可能在某些地方明顯指向 97526.doc 1258640 涉及光罩和光罩平台之實例;然而在此等案例中論述的 通用原則應著眼於如以上所述圖案形成元件的較廣泛意 涵。 微影投影裳置舉例來說能用在積體電路(ICs)之製造中 在此種案例中,圖案形成元件可產生—相當於積體電路 獨立層之電路圖案’且能將此圖案成像在基板(石夕晶圓)上已 塗佈一層ϋ射敏感材料(抗㈣)之—目標部分(例如包括一 或夕個曰曰粒)上。一般而言’一單一晶圓會含有一次一個接 續地經投影系統輻照之相鄰目標部分的一完整網絡。在各 今裝置中’能以運用—鮮平台上—光㈣成㈣的方^ 在兩類不同機&之間做出區隔。在—類微影裝置中,每— 目標部分藉由在單次行程中將整個光罩圖案曝照在目標部 分上的方式受輻照;此—裝置通常稱為晶圓步進器(wafer
StePPer)。在另一類一般稱為步進掃描(step and scan)裝置之 裝置中,每一目標部分是藉由在投射光束下以一給定參考 方向(掃描方向)逐漸掃過光罩圖案同時同步以平行或平行 反向於該方向的方向掃動基板的方式受輻照;因為一般而 言、,投影系統會有-放大因子M(通常㈣),基板平台之掃 動速度V會是光罩平台掃描速度之縣。更多關於此處所述 U置之貝。fL舉例來說能自美國專利第◎紙號中得 知,該案以引用的方式併入本文中。 曰在-使用-微影投影裝置之製造程序中,將一圖案(例如 是一光罩的圖案)成像在—至少局部受-層韓射敏感材料 (抗姓劑)覆蓋的基板上。在此成像步驟之前,該基板可能經 97526.doc 1258640 過各種處理,例如上底漆(pdming)、 烘烤作鞏。美姑户s 災Μ和一軟性 ^ 土板在曝光後可能經過其他處理,例如眼亦德 烘烤(PEB)、顯像、 *先後 尤、烤及成像後圖案測量/檢驗。此 系列處理過程係作為對一 成图宏夕_^ 、 几件(如積體电路)之一獨立層形 J 。然後此等有圖案層可能經過各種處理,例 ,刻、離子植入(摻雜)、金屬化處理、氧化處理、化學機 、研磨處理等所有程序均要將—獨立層磨掉。若要求有 數層,則必須將整個程序或其變異對每一新層重複。最後 會在基板(晶圓)上出現一系列元件。然後以切粒或分錯方式 使该等X件各自分開,個別儀器自此可安裝到載體上或連 接之插腳等。更多關於此種程序之資訊舉例來說可參見 McW Hill „Micr〇chip pabricati〇n: a
OmdetoSemiconductorProcessing-t , ^ ^ ^ Peter van Zant > 1997 年第三版,ISBN0 07 067250 4。 為求簡化,投影系統在下文中可簡稱為,,透鏡(1印#,;但 該辭應廣義解釋為包含各類投影“,例如包括折射光學 件、反射光學件以及折射反射系統等。該輻射系統亦可包 括依據指向、造型、或控制輻射投影束等任一設計類型運 作之組件或光學凡件,且此等組件在下文中亦可集體或單 獨稱為”透鏡(lens)”。此外,該微影裝置可為具有兩或多個 基板平台(及/或兩或多個光罩平台)之類型。在此種"多平台,, 裝置中,額外平台可並聯使用,或者可在一或多個平台進 行曝光之同時在一或多個其他平台上進行準備步驟。雙平 台微影裝置舉例來說見於美國專利第5,969,441號和國際專 97526.doc 1258640 利W09_791號,該等專利案則丨㈣方式併人本文中。 上述的投影系統通常包含-或多個(例如六個)光學元 件,諸如透鏡及/或面鏡。該等光學元件導引該投影束通過 投影系統且將其投影在目標部分上。在㈣系統供應題 輻射之投影束的例子中,應使用面鏡來取代透鏡來導引投 影束,因為透鏡無法使EUV輻射穿透。 當使用遠紫外線來投影較小圖案時,針對投影系統與精 確度有關的要求會較高。例如,一定位成具有】毫微米誤差 之面鏡會造成在晶圓上大約為4毫微米的投影誤差。 用於投影-遠紫外線投影束之投影系統包含例如六個面 鏡。通常,該等面鏡中之一面鏡係具有一固定的空間方位, 而其他五個則被安裝在例如洛仁子(L〇rentz)力致動之安裝 件上。k些安裝件較佳可針對每一面鏡使用六個洛仁子力 馬達而在/、個自由度上調整該等面鏡的方位安裝 件)。該投影系統進一步包含用以測量該等面鏡之空間方位 的感測器。 該投影系統藉由例如柔順的安裝器件而被安裝在一參考 或度量框上。這些安裝器件具有低通特徵、具有例如大約 為30 Hz之截止或本徵頻率。這可以穩定該投影系統,且使 其隔絶來自於環境(諸如鄰近的系統)之振動及擾動。接著, 该參考框架經由一極柔軟的安裝件而被安裝在一所謂的基 座框架,在傳統微影裝置中稱之為一”空氣安裝件”。這些 安裝件具有低通特徵,且具有大約0.5 Hz的本徵頻率。在該 參考標架上’其亦安裝有干涉儀晶圓平台定位測量系統。 97526.doc -10- 1258640 在投影系統中之該等面鏡必須相對彼此剛地定位,而 晶圓平台及主光罩平台必須再次相料該組面鏡而極精確 地定位。 目前’將該等面鏡相對於彼此定位可以藉由將—面鏡固 定地附接至該投影系統之-框架上,在下文中稱之為投影 光學盒或POB。其他的面鏡則相對該p〇B主動地定位。定位 精確度取決於_的擾動值。目前,該p〇B的擾動值過高而 無法將POB牢固至參考框架。針對擾動的可能原因為: -基座框架運動。該參考框架經由彈簣而被安裝在此基 座框架上,該等彈簧極為柔軟但仍有某些程度的剛 性。所以,基座框架的振動會造成某些外力擾動被引 入至參考框架。此基座框架接著會直立在地板上,因 此會受到地板的振動。再者,在平衡之後所餘留的平 台加速力亦會作用在此基座框架上,再次造成振動; -空氣安裝件噪聲。這會在參考框架上造成類似噪聲的 外力擾動; -來自於水冷卻的噪聲。可以預料的是該參考框架的冷 卻係有必要或需要的。這將藉由水冷卻來完成。水^ 經管路及管件的流動亦會造成外力噪聲作用在該參: 框架上;及 / -參考框架之内部動態模組或附接至參考框架之其他模 組。 、 由於目前定位系統使用被動元件,諸如柔軟安裝件,來抑 制在投影系統中的振動,然而來自—參考或度量衡框架之 • η - 97526.doc 1258640 振動仍會影響安裝於其上之投影系統。 【發明内容】 本發明之實施例之一態樣係要提供一種投影系統,其對 於其周圍環境之振動及擾動較不敏感。 此一及其他態樣可以藉由本發明之實施例所達成,其係 關於一種微影投影裝置,其包含:一照明系統,其提供一 輻射束以照射一圖案形成元件;一第一支撐件,其支擇該 圖案形成元件,該圖案形成元件可以圖案化該輻射束;一 第一支樓件,其支撐一基板;及一投影系統,其用以將圖 案化之輻射束投影在該基板之一目標部分上,以及一用於 定位該投影系統之定位模組。 在至少一實施例中,該微影投影裝置之特徵在於該定位 模組配置成可以主動控制該投影系統之位置及方位之至少 其中之一。藉由主動地控制該投影系統之位置及/或方位, 该投影糸統便可以被安裝在任意的框架上,且甚至可以被 安裝在一工作地板上。再者,若投影系統可免於振動,則 不需要諸如面鏡及透鏡之個別投影元件之位置及/或方位。 本發明之另一態樣係要提供一種微影投影裝置,其包括 一照明系統,其提供一輻射束以照射一圖案形成元件,以 及一第一支撐件,其支撐該圖案形成元件。該圖案形成元 件可以圖案化該輻射束。該裝置亦包括一第二支撐件,其 支撐一基板,一投影系統,其用以將圖案化之輻射束投影 在該基板之一目標部分上,以及一投影系統定位模組,其 根據该才又衫糸統之一速度及一加速度之至少立中之一來控 97526.doc -12- 1258640 制該投影系統之一位置及一方位的至少其中之一。 本發明之又-態樣係要提供一種微影投影裝置。,其包括 一照明系、统’其提供-㈣束以照射_圖案形成元件,以 及-第-支撐件,其支撐該圖案形成元件。該圖案形成元 件可以圖案化該輕射束。該裝置亦包括一第二支撐件,其 支撐-基板,-投影系、统’其用以將圖案化之輕射束投影 在該基板之-目標部分上,以及―投影系統定位模組,其 在圖案化輻射束投影在該基板之目標部分期間控制該投影 系統之一位置及一方位的至少其中之一。 本發明之又另一態樣係要提供一種元件製造方法,其包 含·提供一輻射束’·圖案化該輻射束;及將該圖案之輻射 束投影在一輻射敏感材層之一目標部分上;測量該投影系 統之一速度及-加速度之至少其中之及藉由根據該速 度及該加速度之至少其中之一來控制該投影系統之一位置 及一方位之至少其中之一而定位該投影系統。 在一實施例中,該裝置包含用以測量該投影系統之速度 及加速度之至少其中之一並且輸出可表示測量值之感測信 號的感測器,其中該感測器利用一慣性原理。獨立的速度 及/或加速度感測器,例如地下傳音器及加速度計可被安裝 在該投影系統上。利用此等感測器可造成該投影系統之絕 對且靜止的定位,這可以更容易地控制該裝置之其他元件 相對於投影系統的位置。 在另一實施例中,上述之定位模組包含:用以相應於一 驅動控制信號來調整該投影系統之該位置及該方位之至少 97526.doc -13- 1258640 其中之一的界面;及一第一控制器,其可相應於該等感測 仏號來產生驅動控制信號,以校正該投影系統之該速度及/ 或該加速度。 在又另一實施例中,上述之裝置進一步包含一基座框 架,其中該投影系統藉由該等界面而被安裝在該基座框架 上。在此例中,沒有參考框架振動需要被補償。 車乂仫地,上述投影系統以六個自由度被安裝,且該等感 測器配置成可以在六個自由度中測定該投影系統之該速度 及/或該加速度。 在又另貝施例中,該界面被配置成可以在六個自由度 中調整該投影系統之該位置及/或該方位。 本發明進一步關於上述之一種元件製造方法,其特徵在 於··測量該投影系統之速度及加速度之至少其中之一,且 藉由主動控制该投影系統之一位置及方位之至少其中之一 來定位該投影系統。 在至少一實施例中,針對該投影系統來提供一動態安裝 模組,其中洛仁子(Lorentz)致動器係用以將該投影系統連 接至其環境。該洛仁子致動器可以藉由一使用來自於該投 影系統之速度及/或加速度資訊的控制器所控制。可以使用 所明的丨貝性感測态’諸如地下傳音器,以測量一,,絕對速 度。在此方式中,该投影系統可被控制而無需參考其(可 能會造成振動的)環境。 儘管在本說明書中可能特別就依據本發明裝置在積體電 路(ICS)製造當中之使用作參考,應明白瞭解到此一裝置有著 97526.doc -14- 1258640 T夕其他可行應用。舉例來說,其可用於積體光學系統、磁 區5己憶體之導引和伯測圖案、:夜晶顯示面板、薄膜式磁頭等 的製造。熟習此技藝者會理解到本說明書在有關此等可能應 :的娜述中對’’主光罩(reticle),,、,,晶圓(wafer)”或”晶粒(die)” 等辭的使用當分別視為以更—般性的用語”光罩(咖吵,、”基 板(substrate)和”目標部分(target_ti〇n)"取代。 在本5兒明書中,以,’輕射(radiation),,和,,光束(beam),,用辭 涵蓋所有類型的電磁輕射,包括紫外線(UV)輻射(例如波長 :248 193、157或126毫微米的輻射)和遠紫外線(EUV) 輻射(例如波長在㈣毫微米内),以及粒子束,諸如離子束 或電子束° L貫施方式】 本么明之貫施例將在下文中參考隨附之圖式來加^ 二中在圖式中對應之參考符號標示對應之部件。 間略緣出-依據本發明之—特定實施例的微影招
=1。該裝置包含-輻射源Ex、IL,其用來供應一投景 、束B(例如EUV輻射)。在本特定例巾,該輻射源亦包 幸田射源LA。該裝置進一步 第-支律件MT,及一支一支律一圖案形成元件 一 支撐一基板之第二支撐件WT。該 ,支撐件應廣義解釋為包括分別支撐任何類型之 2成C基板之任何切件。舉例來說 件可以為一光罩孚A 牙夂 __ ° /、具備一用來支承一光罩MA(例 主忐罩)之光罩支架,且 台,其具有一基板支;4:支撐件可以為-基板 支承一基板W(例如一塗佈抗蝕 97526.doc -15- 1258640 =:=)。亦提供-投影系統PS(例如,面鏡群),以將星 二案:'之輕射束成像在該基❹之一目標部分c(· 广括―或多個晶粒)上。該光罩平台Μτ被連接至—第 位袭置m以相對於該投影系統㈣精確定位該圖 凡件,且該基板平台资被連接至—第二定位裝置pwj 相對於該投影“PS來精確定位該基板。 此處所述裝置為一反射型裝置(例如有一反射型光罩)。 1整體而言,舉例來說其亦可為-透射型裝置(具備—透射 型光罩)。或者’該裝置可使用其他類型的圖案形成元件, 〇汝别文提及之一可程式化反射鏡陣列類型。 該源LA(例如EUV源)產生一輜射束。該光束或者立即或 ^在越過限制元件(例如-光束擴展iiEx)之後便被送入一 照明系統(照明器)IL。該照明器IL可包括用於設置該束之強 度分佈之外部與内部輻射程度(通常各自指σ_外部與^_内 部)之調整元件AM。另外,其通常包括多個其它元件,如 積分器IN與聚光器C0。如此,照射到光罩MA之光束柯在 其橫截面上便具有一所需要之一致性與強度分佈。 關於圖1應注意到輻射源LA可位於該微影投影裝置之殼 體中(例如,當源LA係水銀燈時經常如此),然而它亦可遠 離該微影投影裝置。可將其產生之輻射束引入該裝置(例 如,借助於該光束傳送系統);當源LA係一準分子雷射時常 係後種情況。 光束PB隨後與光罩μA交會,該光罩支承在一光罩平台 MT上。光束pb經光罩MA選擇性反射後通過投影系統ps, 97526.doc -16 - 1258640 而將光束PB聚焦在基板w之目標部分c上。藉由第二定位元 件PW(及干涉測量元件IF)之協助,基板平台WT得以精確移 動:例如藉此將不同目標部K定位於光束PB之路徑内。 同樣地,第-定位元件PM例如能在光罩MA自一光罩庫機 械性回收後或在—次掃描期間將光罩Μ A相對於光束P B之 路k精確疋位。整體來說,物件平台]VIT和WT之移動能以 一長行程模組(粗定位)和一短行程模組(細定位)來協助瞭 解’此在圖1中並未詳細繪出。然而,在-晶圓步進器(與 v進掃描策置相反)之例子中,光罩平台Μτ可為僅連接至 短行知致動器’或者其可為固定的。可用光罩對準記號 Ml、M2與基板對準記號^、p2來對準光罩ma與基板%。 所述裝置能以兩種不同模式使用: 、1.在步進模式中,光罩平台河丁保持為實質靜止,且整個 光罩影像一次(亦即單次”閃光")投射在一目標部分C上。然 後基板平台WTM及/或Y方向移位使-不同目標部分C能、 受光束PB輻照;及 2.在掃描模式中,本質上運用相同方案,差別在於—給 疋目‘ 4为C並非單次"閃光"曝光。取而代之為光罩平台 MT可在一給定方向(習稱之"掃描方向”,例如y方向)以一= 度v私動,使知投影束pB掃過一光罩影像;在此同時,基板 平台wt同時沿相同或相反方向以速度v=Mv移動,其中μ 為投影系統PS之放大率(通_=1/4或1/5)。依此方式讓較 大目標部分C能受到曝光而無須犧牲解析度。 圖2顯示-習知的投影系統p s ’如剛才上文所述。該投影 97526.doc -17- 1258640 系統ps包含一投影光學盒(以下稱之為p〇B)8,該p〇B包括 數個面鏡(未圖示)。該投影系統PS係藉由所謂的,,柔軟安裝 件”(亦即,30 Hz安裝器件21)而被安裝在一參考或度量衡框 架20。該參考框架20係經由所謂的,,空氣安裝件”25而由一 基座框架24所支承。這些空氣安裝件乃包含極為柔軟的懸 吊元件。空氣安裝件25的頻率範圍可例如為大約〇·5至大約 1.0 Hz之間。該基座框架24由一工作地板26所直接支承。在 工作狀態下,即使來自於工作地板26之振動亦可能會干擾 到一製紅。這就是為何要使用一極柔軟的空氣安裝件。 圖3顯示依照本發明之一實施例之微影裝置之一 poB 30。該POB 30藉由界面32(諸如洛仁子致動器)而由一基座 框木38所支撐。為了簡化圖3,僅示出在又及丫兩方向上之 安裝及測量。然而,應瞭解,該p〇B3〇亦可被安裝在z方向 上。在POB 30上,慣性感測器34、%被配置成可以測定該 POB 30之速度及/或加速度。 依照一實施例,該等感測器34、36被配置成可決SP0B 3〇 φ 之速度及/或加速度。在特定實施例中,該等感測器34、36 被配置成可在六個自由I上測定速度及/或加速度。該等感 U 4 3 6可包含地下傳音器以測量速度,且其亦可包含 加速度計(未圖示)以測量該p〇B 3〇之加速度。該地下傳音 ^ 36白包含一外殼,其中在複數個磁鐵之中央處從一 彈簧懸垂-線圈。當該外殼移動時,線圈之質量傾向於保 ㈣狀(慣性),藉此當移動通過磁場時,在線圈中可引致小 電飢在此方式中,該等地下傳音器34、%可測量出該 97526.doc 18 1258640 於測量該ΡΟΒ 30之 周圍環境(最可能產 30之運動速度。一地下傳音器尤其適用 速度’因為地下傳音器不需要被定至一 生擾動)處。 由於投影系、統之速度可利用慣性原理來測量,因此其可 呈現出宛如一”絕對”速度(亦即,參考,,天空”之速度被 量。藉由-驅動控制信號來將此”絕對,,速度回饋至該界面 32 ’例如洛仁子致動器,便可產生一#,,天鉤阻尼器 (Skyhook damper)"。此原理為業界人士所熟知。不同於物 理阻尼器,似乎-天鉤阻尼器僅以—側附接至該p〇B %, 而另一側則附接至一"絕對"及固定不動的參考點,亦即”天 空”。 圖4a、4b及4c顯示本發明之一較佳實施例2p〇B 3〇的不 同視圖。該P0B 30具有一長方形頂面及底面。圖牦顯示該 POB 30之一俯視圖。圖4b顯示該p〇B 3〇之側視圖。該p〇B 30包含一呈盒狀之中間部分。該p〇B3〇之諸壁係從ρ〇β3〇 的上面至下面呈漸為收歛狀。在其頂面,該p〇B 3〇係藉由 洛仁子致動42、43、44所安裝,每一致動器被定位在p〇B 30之頂面的平面中。該洛仁子致動器42、43、料係指向三 個不同方向。較佳地,在垂直於致動器方向之諸平面之間 的角度α為大約120度。
除了在Ρ0Β 30之頂部上的三個致動器42、43、44以外, 尚有另三個致動器46、47、48被連接至該Ρ〇Β 30。圖4b顯 示POB 30之側視圖,其中可以看到兩個致動器,亦即致動 器46及47。該致動器46、47、48係被連接至位在該P〇B 97526.doc 30 -19- 1258640 之側壁上的連接點。為了補償重力,三個重力補償器%、 57、58係平行於該等致動器而裝設。該等重力補償器%、 57、58可包含極柔軟的靜力彈簧。或者,該等補償器在特 性上可為氣動式或磁性。其可以補償作用在p〇B 3〇上的大 ϊ重力。藉由使用額外的重力補償器,該等洛仁子致動器 46、 47、48將被釋壓而使得在該等洛仁子致動器中產生較 小的熱量。圖4c顯示POB 3〇之仰視圖。在此視圖中,亦可 看到該洛仁子致動器48及重力補償器58。 幸乂仫地,被附接至該p〇B 3〇之底部的三組界面、56 ; 47、 57 ’ 48、5 8之每一組係指向相同的一點F,如圖朴所示。 4點F相當於在第二物件平台上之一晶圓上的聚合點。再 者,當從頂部沿著對應至一輻射束之方向的光學中心軸的 方向觀看時,該三組界面係等距隔開的。 在貝鈿例中,投影裝置之定位模組包含一控制器6〇, 如圖5所不,以產生一驅動控制信號來校正該%之速度 及/或加速度。圖5顯示P〇B3〇,如剛才在圖3中所示者。該 感測器34及36係被配置成可輸出感測信號。這些感測信號 被輸入至控制器60中。該控制器6〇配置成可以產生一驅動 控制信號,其被傳送至該界面32。該等感測器34、%測量 POB 30之速度及/或加速度。該控制器6〇使用該等感測信號 來測疋忒驅動控制信號。較佳地,該控制器60從所有感測 為34 36接收该等感測信號以測定所有六個自由度(D〇F) 的驅動控制信號。該控制器6〇可被配置成如同一電腦裝 置,其方式為習於此技者所清楚的。該控制器6〇可包含一 97526.doc -20- 1258640 微處理器,其配置成可以與一記憶體裝置及一 1/〇裝置相聯 繫。该I/O裝置配置成可接收及傳送上述該等信號。該記憔 體裝置包含與POB 30之理想空間方位有關的資訊,且因 此,處理裝置可以在連續時間點上計算出投影裝置1〇在理 想及實際空間方位之間的差異。 圖6顯示本發明之另一實施例。一支承一光罩乃之光罩平 台78以及一支承一晶圓73(亦即,基板)之晶圓平台u之定位 係分別藉由驅動器80、75所完成。驅動器75、8〇可例如為 洛仁子馬達。為精確定位該晶圓73及光罩平台Μ,一控制 器90具有與這些平台72、78相關的資訊。因此,平台μ、 78之位置可分別藉由支撐件感測器82、74所測量。在圖6 中,該支撐件感測器82、74可測量平台72、78相對於ρ〇Β 3〇 ,位置。該支撐件感測器82、74可包含干涉儀,其可測量 該光罩平台78相對於ροβ 3G之頂部的位置,及晶圓平台相 對於POB 30之底部的位置。或者,額外的感測器可附接至 該POB 30以直接測量該光罩平台的位置。 由於POB 30可被動態地控制成絕對靜止,因此相較於習 知技術’其可以簡化㈣平台72、78相對於卿%的調校。 ’、、、;本么月之特疋貫施例已詳述如上,’然而應瞭解,本 發明亦能以不同於上述之方式來實施。上述之說明並非用 以限制本發明。 【圖式簡單說明】 、圖1係依照本發明至少一實施例之微影投影裝置之概要 97526.doc 1258640 依照習知方式被安裝之投影系統的概要視圖; 旦係依本發明之一實施例安裝之微影投影裝置 影系統的概要視圖; 之一投 圖4,包括圖4a、圖4b及圖4c係圖3之光學盒可定位在六 個自由度之概要視圖; 圖5係圖3之投影糸統之另一^實施例的概要視圖;及 【主要元件符號說明】 Ex(IL) 幸虽射糸統 AM 調整元件 LA 幸®射源 PS 投影糸統 C 目標部分 IF 干涉測量元件 IL 幸虽射系統 Ml 光罩對準記號 M2 光罩對準記號 MA 光罩 MT 光罩平台 PI 基板對準記號 P2 基板對準記號 PB 投影光束 PL 透鏡單元 WT 基板平台 97526.doc -22. 晶圓 第一定位元件 第二定位元件 微影投影裝置 投影光學盒 參考框架 安裝器件 基座框架 空氣安裝件 工作地板 投影光學盒(POB) 界面 感測器 感測器 基座框架 致動器 致動器 致動器 致動器 致動器 致動器 重力補償器 重力補償器 -23 重力補償器 控制器 晶圓平台 晶圓 支撐件感測器 驅動器 光罩平台 光罩 ⑩ 驅動器 支撐件感測器 控制器
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Claims (1)
1258640 十、申請專利範圍: L 一種微影投影裝置,其包含: 了明系統,其提供一輻射束以照射一圖案形成元件; 第支撐件,其支撐該圖案形成元件,該圖案形成 元件可以圖案化該輻射束; 、 一第二支撐件,其支撐一基板;及 一投影系統,其用以將圖案化之輻射束投影在該基板 之一目標部分上,其特徵在於 一投影系統定位模組,其根據該投影系統之一速度及 速度之至少其中之一來控制該投影系統之一位置及 一方位的至少其中之一。 2·如睛求項1之裝置,其進一步包含用以測量該投影系統之 速度及加速度之至少其中之一並且輸出可表示測量值之 感測信號的感測器,其中該感測器利用一慣性原理。 • 士明求項2之裝置,其中用以測量該投影系統之速度的該 專感測器包含一地下傳音器。 4·如請求項2之裝置,其中投影系統定位模組包含·· 用以相應於一驅動控制信號來調整該投影系統之該位 置及該方位之至少其中之一的界面;及 一控制器,其可相應於該等感測信號來產生驅動控制 仏號,以校正該投影系統之該速度及該加速度之至少其 中之一。 5·如請求項4之裝置,其進一步包含一基座框架,其中該投 影系統藉由該等界面而被安裝在該基座框架上。 97526.doc 1258640 6.如請求項9 妒。、衣置,其中該投影系統以六個自由度被安 7 · 如請求3® < +趾 由产、衣,其中5亥專感測斋配置成可以在六個自 又中娜定該投影系統之該速度及該加逮度之至少其中 之一 ° ^ 、、員ό之焱置,其中該界面被配置成可以在六個自由 度中凋整該投影系統之該位置及該方位之至少其中之 -^· 〇 9.如請求項4之裝置,其中該等界面包含洛仁子α〇她)致 動裔以作為彈簧·阻尼器組合。 月长員4之1置,其中該等界面包含靜力彈簧以作 力補償器。 ...... 11·如睛求項1之裝置’其進一步包含一支撐件定位模組,其 中該支撐件定位模組包含·· 支撐件感測器,其配置成可以測定該第一及該第二支 撐件之至少其中之一之一位置及一方位之至^其I之 一,亚且輸出可表示其測量值之支撐件感測信號; 支推件驅動器’其配置成可以相應於一支撐件驅動信 號來該第一及第二支撐件之至少其中之一之一位置及一 方位之至少其中之一; -控制g ’其可相應於該等支撐件感測信號來產生該 支撐件驅動信號,以校正該第一及第二支撐件之至少其 中之一之該位置及該方位之至少其中之一。 12.如請求項丨丨之裝置,其中該支撐件感測器配置成可以測 97526.doc 1258640 疋δ亥第一及第二支撐件之至少其中之一相對於該投影系 統之一位置及—方位之至少其中之一。 13· —種微影投影裝置,其包含: …、月系統’其提供一輻射束以照射一圖案形成元件; 第一支撐件,其支撐該圖案形成元件,該圖案形成 元件可以圖案化該輻射束; 一第二支撐件,其支撐一基板;及 一投影系統,其用以將圖案化之輻射束投影在該基板 之一目標部分上,其特徵在於 一投影系統定位模組,其在圖案化輻射束投影在該基 板之目標部分期間控制該投影系統之一位置及一方位的 至少其中之一。 I4· 一種元件製造方法,其包含: 提供一輻射束; 圖案化該輻射束;及 將該圖案之輻射束投影在一輻射敏感材層之一目標部 分上;該方法之特徵在於·· 測嚴5亥投影系統之一速度及一加速度之至少其中之 一;及 精由根據該速度及該加速度之至少其中之一來控制該 投影系統之一位置及一方位之至少其中之一而定位該投 影系統。 1 5.如請求項14之方法,其進一包含: 貝J疋苐一及弟一支撐件之至少其中之一相對於該投 97526.doc 1258640 影 該 至 少 系統之位置及方位之至少其中之一;及 调整該第一及第二支撐件之至少其中之一之該位置及 方位之至少其中之一,使得在該第一及第二支撐件之 ^八中之相對於該投影系統之該位置及該方位之至 其中之-的變化可以最小化。 97526.doc
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