TWI235085B - Substrate cleaning device and substrate processing facility - Google Patents

Description

1235085 玖、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一基板清洗裝置及一基板處理設備。詳言 之，本發明係關於一用來清洗用於一顯示面板（例如，一液 晶顯示裝置之液晶顯示面板等）之基板（例如玻璃基板等）表 面的基板清洗裝置，及一包含該基板清洗裝置之基板處理 設備。 【先前技術】 一液晶顯示裝置之通常的液晶顯示面板包含一對透明基 板（例如玻璃基板等）。薄膜電晶體（TFT)被配備於該對玻璃 基板中的一個之表面上，而一彩色濾光器被配備於另一玻 璃基板之表面上。該等兩個玻璃基板彼此連接。此外，在 該等兩個玻璃基板之間夾入液晶。以此方式，生成一液晶 顯示面板。 在一液晶顯示面板製造廠中，被引入該製造廠中的玻璃 基板在其表面被清洗之後，被供應至各種處理步驟。在該 等處理步驟中，在該等玻璃基板中的一些上形成TFT ;在 琢等玻璃基板中的一些上形成一彩色濾光器；及類似步 驟。在每個處理步騾中，該玻璃基板之表面在一特定處理 <岫JL即被清洗。因此，液晶顯示面板製造廠需要用來清 洗用於液晶顯示面板中的玻璃基板之表面的若干個裝置。 圖9顯示用來處理在一液晶顯示裝置製造廠中的玻璃基 板之裝置的示例性佈置的正視圖。圖1〇係圖9裝置之俯視 圖0 89324 1235085 一用於在玻璃基板上執行預定處理的處理裝置52被配備 於一潔淨室5 1中。在該潔淨室5丨之較上部分，複數個高效 能過滤器53被配置於一水平方向。每個高效能過濾器53供 應向下流至該潔淨室5 1中之清潔空氣。 在該潔淨室51中，該處理裝置52配備有一用於傳送玻璃 基板之裝載裝置55。該裝載裝置55在一沿該處理裝置52之 線性方向上傳送玻璃基板。待用於液晶顯示面板之複數個 玻璃基板被引入該潔淨室51中，其中該等玻璃基板被封裝 於多個盒40中。該等盒40沿該裝載裝置55之傳送方向（意即 縱向方向）且在該裝載裝置55之一侧被置放。用於自該玻璃 基板移除灰塵或其類似物之清洗裝置56被配備於鄰近該裝 載裝置55之一端處。 在每個盒40中，被水平定向之複數個玻璃基板被垂直堆 疊，以適當的間距間隔開來。該裝載裝置55配備有一具有 一對平行平面吸墊之玻璃基板吸手，其自r沿該裝載裝置 5 5之側面被引入」的該等盒40中的一個中挑選出一玻璃基 板。該玻璃棊板吸手可關於該裝載裝置55被垂直或縱向移 動。 已經被該裝載裝置55乏玻璃基板吸手挑選出之玻璃基板 被向下傳送至該清洗裝置56 ’其中該玻璃基板被依次置 放。在該清洗裝置56中之該玻璃基板的表面藉由清洗裝置 5 6而被清洗。该清洗過之玻璃基板藉由該裝載裝置η之玻 璃基板吸手從該清洗裝置56中被挑選出來，並被傳送至該 處理裝置52之一預定位置。 89324 -6- 1235085 該玻璃基板 洗裝置5 6之實例在（例如）日本專利特許公 開案第6-165960號中有揭示。在此裝置中，一待清洗之玻 璃基板被水平置放於其中；空氣之脈波自一吹氣噴嘴被吹 至該玻璃基板之一表面（上表面），使得附著於該表面上之 灰塵被移除；且該基板藉由一吸嘴被吸住。 近來，顯示面板包含一厚度約〇·7 mm或更小的玻璃基 板。隨著顯示面板被擴大，被引入液晶顯示面板製造廠中 的玻璃基板之尺寸被增加成其一侧為約1 ·3 m或更大的矩形 玻璃基板。 如上所述，1在液晶顯示面板製造廠中採用若干個清洗裝 置56(圖9及圖1〇)。當具有一較大面積之玻璃基板被處理 時’遠清洗裝置5 6需被增大以使得該大尺寸玻璃基板可被 水平置放於其中。在此情況中，該清洗裝置56不利地佔據 了一較大區域。因為液晶顯示面板製造廠需要若干個清洗 裝置56，所以該製造廠需要一較大區域，可能會導致成本 效率的降低。 【發明内容】 根據本發明之一態樣，提供一基板清洗裝置，其包含： 一第一清洗室，其包括一用於清洗被置放於其中之基板的 第一清洗部分；一第二清洗室，其包括一用於清洗被配備 於其中之基板的第二清洗部分。該第一清洗室被堆疊於該 第二清洗室上，使得該第一清洗室之至少一部分重疊該第 一清洗室之至少一部分。 在本發明之一實施例中，該基板清洗裝置進一步包含一 89324 1235085 被配備於該弟一清洗室與該第二清洗室之重豐區域的過滤 器。 在本發明之一實施例中，在該第一清洗室中配備一第一 台，且該第一台隨著被置放於該第一清洗室中、該第一台 上的基板而滑動；且在該第二清洗室中配備一第二台，且 該第二台隨著被置放於該第二清洗室中、該第二台上的基 板而滑動。 在本發明之一實施例中，該第一清洗室係開放的，使得 清潔空氣流入該第一清洗室中。 在本發明之一實施例中，在該第一清洗室之側壁上配備 一第一開口部分；且在該第二清洗室之側壁上配備一第二 開口部分。 在本發明之一實施例中，配備有該第一開口部分之第一 清洗室之側壁與配備有該第二開口部分之第二清洗室之側 壁相對。 在本發明之一實施例中，該第一清洗部分包含一具有一 第一吹氣部分及一第一吸氣部分之第一噴嘴頭，該第一吹 氣部分用於將氣體吹至置放於該第一清洗室中的基板上， 該第一吸氣部分用於吸取該第一清洗室中之氣體；且該第 二清洗部分包含一具有一第二吹氣部分及一第二吸氣部分 之第二噴嘴頭，該第二吹氣部分用於將氣體吹至置放於該 第二清洗室中的基板上，該第二吸氣部分用於吸取該第二 清洗室中之氣體。 在本發明之一實施例中，該第一清洗室及該第二清洗室 89324 1235085 被配置成使得當該第一清洗室及該第二清洗室被投影至與 一垂直方向正交的平面上時，其在該平面上之影像的重疊 區域之面積被最大化。 根據本發明之另一態樣，提供一基板處理設備，其包含 一潔淨室。在該潔淨室中配備一基板清洗裝置。該基板清 洗裝置包含：一第一清洗室，其包括一用於清洗被置放於 其中之基板的第一清洗部分；及一第二清洗室，其包括一 用於清洗被配備於其中之基板的第二清洗部分。該第一清 洗室被堆疊於該第二清洗室上，使得該第一清洗室之至少 一部分重疊該第二清洗室之至少一部分。 在本發明之一實施例中，在該第一清洗室中配備一第一 台，且該第一台隨著被置放於該第一清洗室中、該第一台 上的基板而滑動；且在該第二清洗室中配備一第二台，且 該第二台隨著被置放於該第二清洗室中、該第二台上的基 板而滑動。 在本發明之一實施例中，在該潔淨室中配備一用來將該 基板置放於該第一清洗室中的第一台上之第一裝載裝置， 及一用來將該基板置放於該第二清洗室中的第二台上之第 二裝載裝置。 在本發明之一實施例中，將該第一裝載裝置及該第二裝 載裝置與被夾在該潔淨室中之該第一裝載裝置與該第二裝 載裝置之間的基板清洗裝置配置在大體上一條線上。 因此，本文所描述之本發明可能實現以下益處：（1)提供 一具有較小佔據面積且能有效清洗一基板的基板清洗裝 89324 -9- 1235085 置及（2)k供-具有較小佔據面積且使用該基板清洗裝置 來有效處理基板的基板處理設備。 參照隨附圖式，根據下面的詳細描述，熟悉此項技術者 將會瞭解本發明之該等及其他益處。 【實施方式】 下文中，將參照該等隨附圖式藉由例示性實例來描述本 發明。 圖1係顯示根據本發明之一實施例之示例性基板清洗裝 置10之正視圖。圖2及圖3分別為該基板清洗裝置1〇之側視 圖及俯視圖<- 钂基板清洗裝置1 0被配備於（例如）一液晶顯示面板製造 嚴I潔淨室中，且被用於在玻璃基板上執行一特定處理之 前立即清洗該等玻璃基板。 本發明之基板清洗裝置1〇在其較低部分包含一呈矩形稜 鏡狀的基底部分11。在該基底部分丨丨上之空間整個被一側 壁12包圍。在該基底邵分11上之空間的頂端係開放的，使 得清潔空氣自頂篷（ceiling)向下流入並進入該空間。 圖4及圖5分別為顯示該基板清洗裝置1 〇之内部之橫截面 的正視及側視圖。圖6為取自圖4之線A-A段之橫截面俯視 圖。 該基底部分11之頂側為水平矩形形狀，且具有一面積使 得待清洗之兩個矩形玻璃基板可並排置放。該基底部分11 上被側壁12包圍之空間為空心矩形稜鏡形狀。該矩形稜鏡 部分被分成一較高清洗室13及一較低清洗室14。因此，該 89324 -10- 1235085 車父问 > ㈣洗皇13及该較低清洗室14被垂直堆疊，大體上無水 平位錯。在實際操作中，該較高清洗室丨3及該較低清洗室 14被投影於一與其垂直軸正交之平面上，且該垂直堆疊之 較高清洗室13與較低清洗室14被調整以最大化其在該平面 上影像之重疊面積。 複數個向效率特殊空氣過遽為（high efficiency particular air filter，”HEPA過濾器”）23被水平配置於大體上該較高 清洗室13與該較低清洗室14之間的整個區域。每個HEPA過 濾器包含一風扇部分。 每個HEPA過濾器23包含一在其較高部分之風扇部分及一 在其較低邵分之過滤器邵分。該風扇部分自該較高清洗室 13吸取氣體（例如，空氣等），同時該過濾器部分清洗該氣 體並將該氣體供應至該較低清洗室14中。 一較低開口邵分12a被配備於該較低清洗室14之縱向側之 侧壁12之一邵分上，藉此一待清洗之玻璃基板被插入該較 低清洗室14中，同時將該玻璃基板保持在一水平位置（圖 1)。 在該較低清洗室14中，一滑動台15A(其上水平置放有該 插入之玻璃基板）被配備於該基底部分丨丨上。該滑動台i 5 A 之較南側為具有大體上與一被插入該較低清洗室14中的玻 璃基板相同之面積的矩形形狀。 如圖5所示，一滾珠螺桿16Aa沿該基底部分之縱向方向 (側向）被配備於該基底部分11之頂側。一連接於該滑動台 15A之滾珠螺母19Aa藉由一螺旋連接與該滾珠螺桿i6Aa搞 89324 -11 - 1235085 接。一導軌16Ab平行於該滚珠螺桿16Aa被配備於該基底部 分11上之頂侧。一連接於該滑動台15A之滑動導承19Ab滑 動地與該導軌16Ab嚙合。 一馬達17A被配備於該基底部分11上，其藉由向前或向 後旋轉該滚珠螺桿16Aa來導致該滑動台15A沿該滾珠螺桿 16Aa及該導軌16Ab往復滑動。藉由該馬達17A使該滑動台 1 5 A自該基底部分11之一側滑至其縱向方向中之另一側， 越過該滑動台15 A之縱向長度或更多的距離（意即，1節距 (pitch)或更多），且此後返回至一等待位置。 一噴嘴頭18A被配備於該較低清洗室14中，其作為用來 清洗被置放於該滑動台1 5 A上之玻璃基板的表面（頂側）之清 洗部分。該噴嘴頭18A被定位於該滑動台15A可滑動之區域 的中間。該噴嘴頭1 8 A在與該滑動台1 5 A之滑動方向垂直的 方向中延長。該噴嘴頭1 8 A之長度稍微長於被配置於該滑 動台15A上與該滑動台15A之滑動方向垂直的方向中之玻璃 基板之長度。藉由滑動該滑動台1 5 A，置放於該滑動台1 5 A 上之玻璃基板之整個表面可面對該噴嘴頭1 8 A。 該噴嘴頭1 8 A在其面對該滑動台丨5 a之底侧上、沿與該滑 動台15A之滑動方向垂直的方向上具有一吹氣出口。空氣 藉由該吹氣出口被吹至該玻璃基板之表面上。該喷嘴頻 1 8A具有一鄰近且平行於該吹氣出口配備之吸氣進口。被 吹至該玻璃基板上之空氣藉由該吸氣進口被吸取。該吹乳 出口及該吸氣進口被配置在該滑動方向之垂直方向上’大 體上越過該滑動台1 5 A之全長。 89324 -12- 1235085 藉由該喷嘴頭18A吹至該玻璃基板表面上之氣體除了空 氣之外，還可為惰性氣體（例如氮氣等）、離子化氣體、超 聲波振動氣體或其類似物。 一用來將供清洗該玻璃基板用之空氣供應至該吹氣出口 之空氣供應管道21A與該喷嘴頭18A耦接。一空氣排氣管道 22A亦與該喷嘴頭18A耦接，該空氣排氣管道22A用來移除 已被吹至一玻璃基板上且已被該吸氣進口吸取之清洗空 氣。該空氣供應管道21A及該空氣排氣管道22A被並排配 置，且在其縱向方向上被耦接至該喷嘴頭18A之中間部 分。該空氣供應管道21A及該空氣排氣管道22A自該噴嘴頭 1 8 A垂直向上延伸，且在該較高清洗室1 3與該較低清洗室 14之間的區域被彎曲，沿該HEPA過漉器23向該基板清洗裝 置10之外部延伸。 一較高開口邵分12b(藉由其插入一基板）被配備於在該 HEPA過濾器23上之較高清洗室13之一側的側壁12之一部分 上（圖1)。在該側壁12中，該較高清洗室13之其上配備有該 較高開口部分12 b的一側與該較低清洗室14之其上配備有 該較低開口部分12a的一側相對。一玻璃基板通過該較高開 口部分12b被水平插入該較高清洗室13中。 其上水平置放有一玻璃基板之滑動台15B被配備於該較 高清洗室13中，如在該較低清洗室14中一樣。藉由一螺旋 連接與滾珠螺桿16Ba耦接的滾珠螺母19Ba及一與該導軌 16Bb滑動地嚙合的滑動導承19Bb(其均被配備在該HEPA過 濾器23之上方），被連接至該滑動台1 5B上。該滾珠螺桿 89324 -13- 1235085 16Ba藉由一馬達17B被向前或向後旋轉。如該較低清洗室 14中之滑動台15A—樣’該滑動台15B藉由該馬達17B沿該 滾珠螺桿1 6 B a及該導軌1 6 B b往復移動。 如該較低清洗室14中之滑動台15A—樣，該滑動台15B藉 由該馬達17B自該較高清洗室13之一側滑至其縱向方向中 之另一側，越過該滑動台1 5B之縱向長度或更多的距離（意 即，1節距（pitch)或更多），且此後返回至一等待位置。 如該較低清洗室14 一樣，該較高清洗室丨3配備有一噴嘴 頭18B，該噴嘴頭18B作為用來清洗被置放於諄滑動台15B 上之一玻璃基淑的表面（頂側）之清洗部分。該喷嘴頭1 8B具 有與該較低清洗室14中之噴嘴頭18A大體上相同的結構。 一吹氣出口及一吸氣進口被配備於該嘴嘴頭1 8B之一底側 上。一空氣供應管道21B及一空氣排氣管道22B分別與該吹 氣出口及該吸氣進口耦接。 該較高清洗室13之頂侧係開放的。用於離子化所供應之 空氣的複數個集塵裝置24被水平配備，覆蓋該較高清洗室 13之頂側之一部分。該集塵裝置24藉由離子化被供應至該 潔淨室中之清潔空氣來自該空氣收集灰塵。 具有上述組態之基板清洗裝置丨〇被配備於一被安裝於液 晶顯示面板製造廠中的基板處理設備中。 圖7係顯示本發明之一基板處理設備6〇之示例性佈置的 正視圖。圖8係顯示本發明之基板處理設備6〇之示例性佈 置的俯視圖。 該基板處理設備60具有一潔淨室3〇，其中配備了用於以 89324 •14· 1235085 一預定方式來處理玻璃基板之複數個處理裝置32。本發明 之基板清洗裝置1 〇被配備於該潔淨室3 〇中。在圖7中，示 意性的顯不了該基板清洗裝置1 〇，其具有該較高清洗室 13、該較低清洗室14、及該等HEPA過濾器23。 複數個HEPA過濾器3 1被水平地並排配備於該潔淨室3〇之 較高部分。藉由該等HEPA過濾器3 1清洗之空氣向下流入該 潔淨室30中。 在該潔淨室30中，配備有用於將一玻璃基板傳送至一預 走處理裝置32之一對裝載裝置35A及35B。該裝載裝置35A 及該裝載裝置35B與其間所插入之基板清洗裝置1〇被置放 在大體上一條線上。該等裝載裝置35A及35B每個均傳送一 玻璃基板。被封裝於該等個別盒4〇中的複數個玻璃基板被 送至該潔淨室30中。該等玻璃基板被用於液晶顯示面板。 複數個盒40沿該等裝載裝置35a&35B之傳送方向被置放於 該等裝載裝置35 A及3 5B中每一個的一侧。 在每個盒40中，被水平定向之複數個玻璃基板被垂直堆 疊’以適當的間距間隔開來。該等裝載裝置35 A及35B每個 均配備有一具有一對平行平面吸墊之玻璃基板吸手，其自 「沿該等裝載裝置35A及35B之側面被置入」的該等盒40中 的一個中挑選出一玻璃基板。該玻璃基板吸手可關於該等 裝載裝置35A及35B垂直或縱向移動。 該等裝載裝置35A及35B中的每一個之玻璃基板吸手將該 自該盒40挑選出之玻璃基板傳送至該基板清洗裝置1〇，並 將該玻璃基板置放於該基板清洗裝置丨〇之較高清洗室丨3或 89324 -15- 1235085 較低清洗室14中之該等滑動台15A或15B上。該玻璃基板藉 由該基板清洗裝置1 0被清洗，且其後，藉由該裝載裝置 3 5 A或3 5B之玻璃基板吸手自該較高清洗室13或較低清洗室 14被移除。 用於在一玻璃基板上執行預定處理之複數個處理裝置32 被配備於該等裝載裝置35 A及35B的「與其配備有該等盒4〇 之一側相對的」一側。將已經藉由該等裝載裝置35A及35B 之玻璃基板吸手自該基板清洗裝置1 〇之較高清洗室丨3或較 低洗主14中所挑選出之一玻璃基板置放於「被配備在該 裝載裝置35Α或35Β之一側的」該處理裝置32中的一預定位 置。 該處理裝置32可為在被配備在該裝載裝置35Α或35Β之一 側、由該裝載裝置35A或35B所供應之玻璃基板上執行一預 定處理之任何裝置。該預定處理並無特定限制。被配備於 該等裝載裝置35A及35B之側面的該等處理裝置無需具有相 同的功能。用於執行相同或不同處理之複數個處理裝置32 可被配備於該等裝載裝置35 A及3 5B之側面上。 在該具有上述組態之潔淨室30中，已經藉由一個裝載裝 置（例如該裝載裝置35B)之玻璃基板吸手自盒4〇中被移除之 一玻璃基板，通過該基板清洗裝置10之較高清洗室13的側 面上之較高開口部分12b，被轉移至該較高清洗室丨3中， 且被置放於該較高清洗室1 3之滑動台1 5B上。 另一方面，已經藉由另一裝載裝置（例如該裝载裝置35A) 之玻璃基板吸手自盒40中被移除之一玻璃基板，通過該基 89324 -16- 1235085 板清洗裝置10之較低清洗室14的侧面上之較低開口部八 12a，被轉移至該較低清洗室14中，且被置放於該較低清洗 室14之滑動台15A上。 當一玻璃基板被置放於該較高清洗室13之滑動台丨5β上 時，該滑動台15B沿一水平方向自等待位置滑動。藉此， 被置放於該滑動台1 5B上之玻璃基板被傳遞經過在該較高 清洗室13中噴嘴頭18B下的一區域。 該喷嘴頭18B吹出自該空氣供應管道21B被供應的空氣， 使空氣.通過被配備在其底側之該吹氣出口。該空氣被吹至 一在該噴嘴頭18B下經過的玻璃基板上。同時，該已經被 吹至該玻璃基板上之空氣藉由該噴嘴頭18B之吸氣進口被 吸取，且藉由該空氣排氣管道22B被排至該較高清洗室13 之外部。 該喷嘴頭1 8B面對在其下滑動之玻璃基板的整個上部表 面，其中該面對方向垂直於該滑動方向。藉由使一玻璃基 板在一水平方向滑過1節距或更多，該玻璃基板之整個上 部表面被清洗。在該整個玻璃基板已經通過該噴嘴頭1 8B 下之後，使該滑動台1 5B在相反方向滑動，以再次清洗該 玻璃基板。 被配備於該較低清洗室14中之滑動台15A具有與被配備 於該較高清洗室13中之滑動台1 5B大體上相同的功能。 當一破璃基板被置放於該較低清洗室14中之滑動台15A 上時，該滑動台1 5 A以一水平方向自等待位置滑動。藉 此，被置放於該滑動台15A上之玻璃基板被傳遞經過在該 89324 -17 - 1235085 較低清洗室1 4中噴嘴頭1 8 A下的一區域。 該喷嘴頭1 8 A吹出自該空氣供應管道21A被供應的空氣， 使空氣通過被配備在其底側之吹氣出口。該空氣被吹至一 在該噴嘴頭1 8A下經過的玻璃基板上。同時，該已經被吹 至該玻璃基板上之空氣藉由該噴嘴頭18A之吸氣進口被吸 取，且藉由該空氣排氣管道22A被排至該較低清洗室14之 外部。 該噴嘴頭1 8 A面對在其下滑動之一玻璃基板的整個上部 表面，其中該面對方向垂直於該滑動方向。藉由使一破璃 基板在一水平方向滑過1節距或更多，該玻璃基板之整個 上部表面被清洗。在該整個玻璃基板已經通過該噴嘴頭 18A下之後，使該滑動台15A在相反方向滑動，以再次清洗 該玻璃基板。 在該基板處理設備60中，藉由被配備於該潔淨室30之頂 部之HEPA過濾器3 1所清洗之空氣直接或藉由該集塵裝置24 而流入該較高清洗室13中。因此，基本上不存在由於空氣 流入該較高清洗室13中而導致污染該較高清洗室13中之滑 動台15B上的一玻璃基板的危險。因此，一玻璃基板被可 靠地清洗。 在空氣流入該較低清洗室14之前，藉由該較高清洗室13 與該較低清洗室1 4之間的HEPA過滤器23 ’自流入該較低清 洗室14之空氣收集灰塵。因此’基本上不存在由該較高清 洗室13中之滑動台15B、滾珠螺桿16Ba及其類似物所產生 之灰塵會流入該較低清洗室14中的危險。因此，在該滑動 89324 -18- 1235085 台1 5 A上之一玻璃基板在該較低清洗室1 4中之清潔空氣中 被清洗。由此，玻璃基板可在該較低清洗室1 4中被可靠地 清洗。 因此，當該滑動台1 5 A被往復移動且被返回至該等待位 置時，被置放於該滑動台15A上之一玻璃基板藉由該裝載 裝置3 5 A之玻璃基板吸手，通過該較低清洗室14之側面上 的較低開口部分12a，而自該較低清洗室14被移除。其後， 該玻璃基板藉由被置放於與該處理裝置32相對應之預定位 置，而被傳送至該裝載裝置35A之側面的該預定處理裝置 32中。 類似地，當該滑動台15B被往復移動且被返回至該等待 位置時，被置放於該滑動台1 5B上之一玻璃基板藉由該裝 載裝置35B之玻璃基板吸手，通過該較高清洗室13之側面 上的較高開口部分12b，而自該較高清洗室13被移除。其 後，該玻璃基板被傳送至該裝載裝置35B之側面的一預定 處理裝置32中，且被置放於該處理裝置32之一預定位置。 如上所述，該較高清洗室13與該較低清洗室14被垂直堆 疊於該基板清洗裝置10中，使得可減小被該基板清洗裝置 10所佔據的面積。詳言之，即使增加一待清洗之玻璃基板 之面積，但被該基板清洗裝置10所佔據的面積之增加卻被 抑制。因此，顯示面板（例如液晶顯示面板或其類似物）之 製造廒的佔據面積可被減小。 此外，玻磉基板可在被垂直配置之該較高清洗室13盘該 較低清洗室14中被同時清洗，藉此㈣改良清洗玻璃基板 89324 -19- l235〇85 之效率。 上述之基板清洗裝置1 0包含垂直配置的兩個清洗室（該較 高清洗室3與該較低清洗室14)。然而，本發明不限於此一 組態。上述之基板清洗裝置10可包含三個或更多清洗室， (例如）其中之至少兩個被垂直堆疊。在此情況中，該基板 清洗裝置之佔據面積可被減小。 在上述之基板清洗裝置1 0中，該較高清洗室i 3及該較低 清洗室14被垂直配置，而在水平方向無位錯。本發明不限 於此一組態。或者，該較高清洗室13及該較低清洗室14可 在一水平方向，中彼此移位，使得該較高清洗室13與該較低 清洗室14彼此部分地重疊。當該基板清洗裝置1〇包含三個 或更多清洗室時，被垂直配置之該等清洗室中的至少兩個 可彼此移位，而彼此部分地重叠。 藉由垂直配置兩個或兩個以上的清洗室而使其彼此重 登’可減小該基板清洗裝置之佔據面積。 當被垂直配置之兩個清洗室在水平方向被彼此移位時， 一過濾器（例如該HEPA過濾器23或其類似物）可僅被配備在 該等兩個清洗室所重疊之區域中。在此情況中，在水平位 置相對於一較高清洗室移位並重疊該較高清洗室之一較低 清洗室，除了其中配備有該HEPA過濾器23之重疊區域外係 向上開放的。清潔空氣無需該過濾器或其類似物而藉由該 開放邵分直接流入該較低清洗室中。 根據本發明，提供一基板清洗裝置，其包含具有一用於 清洗基板表面之清洗部分的至少兩個清洗室。該等清洗室 89324 -20 - 1235085 被垂直堆疊，同時至少部分地彼此重疊。因此，可減小該 基板清洗裝置之佔據面積。此外，可有效地清洗基板。一 過滤器被配備於兩個垂直堆疊清洗室之重疊部分，藉此基 本上/肖除了在該較高清洗室中產生之灰塵或其類似物流入 該較低清洗室中的危險。 根據本發明，提供一種基板處理設備，其具有一較小的 佔據面積且可有效地處理基板。 熟悉此項技術者在不脫離本發明之精神及範圍之内，可 瞭解且不難作出各種其他修改。因此，不應以本文所陳列 <描述來限制隨附至此之申請專利範圍，而應廣泛地理解 該等申請專利範圍。 【圖式簡單說明】 圖1係顯示根據本發明之一實施例之示例性基板清洗裝 置之正視圖； 圖2係圖1之基板清洗裝置之側視圖； 圖3係圖1之基板清洗裝置之俯視圖； 圖4係顯示^之基板清洗裝置之内部的橫截面正視圖； 圖5係顯示^之基板清洗裝置之内部的橫截面側視圖； 圖6係取自圖4之線a-A段之橫截面俯視圖； 圖7係顯示本發明之一基板處 避主叹備 < 不例性佈置之正 視圖； 圖8係顯示圖7之基板處理設備之示例性佈置之俯視圖； 圖9係顯示-習知之基板處理設備之示例性佈置之正視 89324 -21 - 1235085 圖10係圖9之習知基板處理設備之俯視圖。 【圖式代表符號說明】 10 基板清洗裝置 11 基底邵分 12 侧壁 12a 較低開口部分 12b 較高開口部分 13 較高清洗室 14 較低清洗室 15A 滑動台 15B 滑動台 16Aa 滾珠螺桿 16Ab 導軌 16Ba 滾珠螺桿 16Bb 導執 17B 馬達 18A 喷嘴頭 18B 噴嘴頭 21B 空氣供應管道 22B 空氣排氣管道 19Aa 滚珠螺母 19Ab 滑動導承 19Ba 滚珠螺母 19Bb 滑動導承 89324 -22-

空氣供應管道 空氣排氣管道 HEPA過濾器 集塵裝置 潔淨室 HEPA過濾器 處理裝置 裝載裝置 裝載裝置 盒

潔淨室 處理裝置 南效能過滤裔 裝載裝置 清洗裝置 基板處理設備 -23-

Claims (1)

1235085 拾、申請專利範圍： L 一種基板清洗裝置，其包含： 一第一清洗室，其包括一用於清洗被置放於其中之 一基板的第一清洗部分；及 一第二清洗室，其包括一用於清洗被配備於其中之 一基板的第二清洗部分， 其中該第一清洗室被堆疊於該第二清洗室上，使得 該第一清洗室之至少一部分重疊該第二清洗室之至少 一部分。 2. 如申請專利範圍第1項之基板清洗裝置，進一步包含一 被配備於該第一清洗室與該第二清洗室之重疊部分上 的過濾器。 3. 如申請專利範圍第1項之基板清洗裝置，其中： 在該第一清洗室中配備一第一台，且該第一台隨著 被置放於該第一清洗室中、該第一台上的該基板而滑 動；及 在該第二清洗室中配備一第二台，且該第二台隨著 被置放於該第二清洗室中、該第二台上的該基板而滑 動。 4. 如申請專利範圍第1項之基板清洗裝置，其中該第一清 洗室係開放的，使得清潔空氣流入該第一清洗室中。 5 ·如申請專利範圍第1項之基板清洗裝置，其中： 在該第一清洗室之一側壁上配備一第一開口部分；及 在該第二清洗室之一側壁上配備一第二開口部分。 89324 1235085 6. 如申請專利範圍第5項之基板清洗裝置，其中配備有該 第一開口部分之該第一清洗室之側壁與配備有該第二 開口部分之該第二清洗室之側壁相對。 7. 如申請專利範圍第1項之基板清洗裝置，其中： 該第一清洗邵分包含一具有一第一吹氣部分及一第 一吸氣部分之第一噴嘴頭，該第一吹氣部分用於將氣 體吹至置放於該第一清洗室中的該基板上，該第一吸 氣部分用於吸取該第一清洗室中之該氣體；及 該第二清洗部分包含一具有一第二吹氣部分及一第 二吸氣部分之第二噴嘴頭，該第二吹氣部分用於將氣 體吹至置放於該第二清洗室中的該基板上，該第二吸 氣部分用於吸取該第二清洗室中之該氣體。 8. 如申請專利範圍第1項之基板清洗裝置，其中該第一清 洗室及該第二清洗室被配置成使得當該第一清洗室及 該第二清洗室被投影至與一垂直方向正交的平面上 時，其在該平面上之影像的重疊區域之面積被最大 化。 9. 一種基板處理設備，其包含一潔淨室，其中·· 在該潔淨室中配備一基板清洗裝置；且 該基板清洗裝置包含： 一第一清洗室，其包括一用於清洗被置放於其中 之一基板的第一清洗部分； 一第二清洗室，其包括一用於清洗被配備於其中 之一基板的第二清洗部分； 89324 -2- 1235085 其中該第一清洗室被堆疊於該第二清洗室上，使 得該第一清洗室之至少一部分重疊該第二清洗室之至 少一部分。 1 0.如申請專利範圍第9項之基板處理設備，其中： 在該第一清洗室中配備一第一台，且該第一台隨著 被置放於該第一清洗室中、該第一台上的該基板而滑 動；及 在該第二清洗室中配備一第二台，且該第二台隨著 被置放於該第二清洗室中、該第二台上的該基板而滑 動。 1 11. 如申請專利範圍第10項之基板處理設備，其中在該潔 淨室中配備一用來將該基板置放於該第一清洗室中的 該第一台上之第一裝載裝置，及一用來將該基板置放 於該第二清洗室中的該第二台上之第二裝載裝置。 12. 如申請專利範圍第10項之基板處理設備，其中將該第 一裝載裝置及該第二裝載裝置與被夾在該潔淨室中之 該第一裝載裝置與該第二裝載裝置間的基板清洗裝置 配置在大體上一條線上。 89324