TWD230581S - 半導體製造裝置用反應管(二) - Google Patents

半導體製造裝置用反應管(二) Download PDF

Info

Publication number
TWD230581S
TWD230581S TW109306838F TW109306838F TWD230581S TW D230581 S TWD230581 S TW D230581S TW 109306838 F TW109306838 F TW 109306838F TW 109306838 F TW109306838 F TW 109306838F TW D230581 S TWD230581 S TW D230581S
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
design
article
gas
view
advocated
Prior art date
Application number
TW109306838F
Other languages
English (en)
Chinese (zh)
Inventor
城俊彥
坂下訓康
Original Assignee
日商東京威力科創股份有限公司 (日本)
日商東京威力科創股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商東京威力科創股份有限公司 (日本), 日商東京威力科創股份有限公司 filed Critical 日商東京威力科創股份有限公司 (日本)
Publication of TWD230581S publication Critical patent/TWD230581S/zh

Links

Images

TW109306838F 2020-06-15 2020-12-04 半導體製造裝置用反應管(二) TWD230581S (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020-011849 2020-01-28
JPD2020-11849F JP1679855S (enExample) 2020-06-15 2020-06-15

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TWD230581S true TWD230581S (zh) 2024-04-01

Family

ID=74665462

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW109306838F TWD230581S (zh) 2020-06-15 2020-12-04 半導體製造裝置用反應管(二)

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP1679855S (enExample)
TW (1) TWD230581S (enExample)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWD112939S1 (zh) 2005-02-28 2006-09-11 東京威力科創股份有限公司 半導體製造用反應管
TWD133945S1 (zh) 2008-05-30 2010-03-21 日立國際電氣股份有限公司 反應管
TWD133944S1 (zh) 2008-05-30 2010-03-21 日立國際電氣股份有限公司 反應管
TWD174924S (zh) 2015-02-23 2016-04-11 日立國際電氣股份有限公司 反應管
TWD175118S (zh) 2015-02-25 2016-04-21 日立國際電氣股份有限公司 反應管之部分

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWD112939S1 (zh) 2005-02-28 2006-09-11 東京威力科創股份有限公司 半導體製造用反應管
TWD133945S1 (zh) 2008-05-30 2010-03-21 日立國際電氣股份有限公司 反應管
TWD133944S1 (zh) 2008-05-30 2010-03-21 日立國際電氣股份有限公司 反應管
TWD174924S (zh) 2015-02-23 2016-04-11 日立國際電氣股份有限公司 反應管
TWD175118S (zh) 2015-02-25 2016-04-21 日立國際電氣股份有限公司 反應管之部分

Also Published As

Publication number Publication date
JP1679855S (enExample) 2021-02-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI681072B (zh) 進氣系統、原子層沉積設備和方法
TWD213081S (zh) 半導體製造裝置用反應管(一)
TWD182751S (zh) 半導體製造裝置用反應管
CN209260200U (zh) 一种横流式原子层沉积腔室
CN207097785U (zh) 一种密封加强的均匀喷淋光伏硅片石英扩散炉
CN113265646A (zh) 一种用于制备大尺寸c/c复合材料的cvd沉积炉装置
CN108091587A (zh) 一种工艺腔室
TWD196110S (zh) 晶舟之部分
CN204281857U (zh) 一种坩埚化学气相沉积用限气工装
CN208776871U (zh) 一种采用氢化物气相外延方法生长氮化镓材料的镓舟结构
TW201137941A (en) Epitaxial growth device, and method of manufacturing the same
JPS62199019A (ja) ウエハ処理装置
TWD213082S (zh) 半導體製造裝置用反應管(三)
CN107301964A (zh) 伯努利基座装置及沉积设备
CN115206845B (zh) 一种用于半导体反应设备的进气装置及半导体反应设备
TWI495510B (zh) Fibrous membrane reaction device
CN105070783B (zh) 一种用于高温扩散炉的喷淋管及其应用
TWD218015S (zh) 半導體製造裝置用反應管(二)
CN217378022U (zh) 基于改向结构的封装容器
TWD213065S (zh) 半導體製造裝置用反應管(一)
TWD218016S (zh) 半導體製造裝置用反應管(三)
CN109554685A (zh) 气体注入装置及高温炉管
TWD213083S (zh) 半導體製造裝置用反應管(四)
TWD218017S (zh) 半導體製造裝置用反應管(四)
CN109518166A (zh) 一种适用于超大规模原子层沉积的气体匀流系统