TWD226182S - 基板處理裝置用氣體供給噴嘴之部分 - Google Patents

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TWD226182S
TWD226182S TW110306334F TW110306334F TWD226182S TW D226182 S TWD226182 S TW D226182S TW 110306334 F TW110306334 F TW 110306334F TW 110306334 F TW110306334 F TW 110306334F TW D226182 S TWD226182 S TW D226182S
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TW
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gas supply
substrate processing
supply nozzle
design
case
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TW110306334F
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English (en)
Inventor
加賀谷徹
永冨佳将
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日商國際電氣股份有限公司
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Abstract

【物品用途】;本設計的物品係基板處理裝置用氣體供給噴嘴，是一種使用於對於在反應管內部的垂直方向上被保持成多段的基板進行處理的基板處理裝置之氣體供給噴嘴。;【設計說明】;圖式所揭露之虛線部分，為本案不主張設計之部分。;圖式所揭露之一點鏈線，係界定本案所欲主張之範圍，該一點鏈線本身為本案不主張設計之部分。

Description

基板處理裝置用氣體供給噴嘴之部分
本設計的物品係基板處理裝置用氣體供給噴嘴，是一種使用於對於在反應管內部的垂直方向上被保持成多段的基板進行處理的基板處理裝置之氣體供給噴嘴。
圖式所揭露之虛線部分，為本案不主張設計之部分。
圖式所揭露之一點鏈線，係界定本案所欲主張之範圍，該一點鏈線本身為本案不主張設計之部分。
TW110306334F 2021-06-16 2021-11-22 基板處理裝置用氣體供給噴嘴之部分 TWD226182S (zh)

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