TW594333B - Method for fabricating a color filter - Google Patents
Method for fabricating a color filter Download PDFInfo
- Publication number
- TW594333B TW594333B TW091137836A TW91137836A TW594333B TW 594333 B TW594333 B TW 594333B TW 091137836 A TW091137836 A TW 091137836A TW 91137836 A TW91137836 A TW 91137836A TW 594333 B TW594333 B TW 594333B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- color filter
- manufacturing
- scope
- patent application
- item
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 69
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 121
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 50
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 44
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims abstract description 34
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 claims abstract description 26
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 61
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 45
- 239000005871 repellent Substances 0.000 claims description 37
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 32
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 30
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 30
- 238000004040 coloring Methods 0.000 claims description 25
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 14
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 13
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 6
- 239000004575 stone Substances 0.000 claims description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 abstract description 6
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 abstract description 5
- 239000000049 pigment Substances 0.000 abstract description 4
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 abstract 2
- 206010053317 Hydrophobia Diseases 0.000 abstract 1
- 206010037742 Rabies Diseases 0.000 abstract 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 14
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 5
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000218691 Cupressaceae Species 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- 230000003054 hormonal effect Effects 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000003016 pheromone Substances 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/201—Filters in the form of arrays
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Description
594333 五、發明說明（1) [發明所屬之技術領域] 本發明是有關於一種彩色漶光片（c ο 1 〇 r f i 1 t e r )的製 造方法，特別是針對利用喷墨法製作彩色濾光片的方法。 利用斥水性材料在斥水性表面上，其表面張力小，而斥水 性材料在親水性表面上，其表面張力大的原理。藉由將畫 素表面區域處理成斥水性表面，及將非晝素表面區域處理 成親水性表面的方法，避免相鄰之他色著色材料發生色之 相滲混合現象，以製得色再現性良好之彩色濾光片。 [先前技術] 一般而言，液晶顯示裝置之主要構件係由各自具有由 電極形成之相互對向配置之畫素（pixel)之兩片電極基板 在具間隙之下對向配置，在此間隙之周圍封邊而包夾液晶 層所構成。 在液晶顯示裝置中，特別是可顯示任意彩色影像晝面 之液晶顯示裝置中，一般會使用彩色濾光片。彩色濾光片 係在兩片電極基板之任一片基板上具備R、G、B (紅、綠、 藍）之三原色或對應於各畫素之可彩色之多色色相染色元 素之配置。
594333 五、發明說明（2) 彩色濾光片之製造方法中，有在被著色層上分散顏料 : 以形成彩色濾光片之顏料分散法、在被著色層上分散染料 · 以形成彩色濾光片之染料分散法、或以電著形成彩色濾光 -片之電著法、或以凹版或平版之印刷版將彩色濾光片用之 著色染料作成之油墨印刷在基板上以形成彩色濾光片之印 刷法均已商品4匕。 但是，在此類先前製造方法中，因為全部彩色濾光片 製造工程中均使用多次之微影製程（L i t h 〇 g r a p h y process )及蝕刻製程，彩色濾光片之製程含有極為煩雜 之問題。而為了對應愈來愈微細化之畫素尺寸，進一步要 _ 求微影及蝕刻製程之精度，而存在不易同時達成此優異精 度及高良品率之問題。且此微影及蝕刻製程至少需重複三 次以上，以製造出R、G、B三色的彩色濾光片，故製程繁 雜且成本亦隨之增加。 另外在印刷法中，在形成彩色濾光片時雖然不直接運 用蝕刻技術，因為有製造印刷版之煩雜而產生與前述相同 _ 之問題。而且在印刷法中，對應更為精細之晝素尺寸以形 成精確彩色濾光片具有實際上之困難問題。 近來，有人使用喷墨法（Ink jet printing) 製造彩色 · 濾光片。但是在此類以喷墨方式製造彩色濾光片之場合 中，一般投射過之著色材料在已被著色部份之周圍會與相
第7頁 594333 五、發明說明（3) 鄰之他色著色材料最後發生色之相滲混合，而存在鮮明色 再現困難之問題。因此即使藉喷墨裝置可能達成製造彩色 濾光片之良好生產量，所得之彩色濾光片其色再現性低。 因此使用此喷墨方式之彩色濾光片之液晶顯示裝置中具有 彩色影像之色再現性及顯示品質低下之問題。 [發明内容]
鑒於上述之發明背景中，習知使用喷墨法（I n k j e t printing) 製造彩色濾光片，著色材料在已被著色部份之 周圍會與相鄰之他色著色材料發生色之相滲混合，而存在 鮮明色再現困難之問題。本發明提供一種新的彩色濾光片 的製造方法，避免上述情形產生。 本發明的一個目的，在於提供一種彩色濾光片的製造 方法。藉由將晝素表面區域處理成斥水性表面，及將非畫 素表面區域處理成親水性表面的方法，避免相鄰之他色著 色材料發生色之相滲混合現象，以製得色再現性良好之彩 色濾光片。
本發明的又一個目的，在於提供一種彩色濾光片的製 造方法。藉由二氧化矽材料經紫外線照射會呈現親水性， 而多晶矽或非晶矽材料經紫外線照射會呈現斥水性的特
第8頁 594333 五、發明說明（4) 性，以避免柏 以製得色再現色著色材料發生色之相渗混合現象 兄r生良好之彩色濾光片 根據以上所、+、 之製造方法，包二之目的，本發明提供了一種彩色濾光片 複數條掃描線及】叙形成一層間絕緣層於一基板上；形成 義複數個晝素p上數條訊號線於該層間絕緣層上，用以定 複數個晝素區二]=一非晝素區域；形成一斥水性表面於 用喷墨法將一斤’卜％成一親水性表面於非晝素區域；及利 水性著色材料投射於複數個晝素區域。 互垂直。Λ述構想，其中複數條掃描線及複數條訊號線相 體 根據上述構想，其中基板包含複數個薄膜電晶 it # ί 3康上述構想，其中複數條掃描線及福I π 禝數個溥膜電晶體電性連接。 、裏及设數條訊號線與 之f :^上：f之目的，本發明提供了 -種〜& = = 該層間絕緣層 形成 Ί ί ί二包含：形成一層間絕緣層於一ί Γ色據光片 Ji iStL tJ^r ^ rrt .. 泰板上 、售奴7 4 域和一非畫素區域；形成一:上，用以定 複數個畫素區域；形 ^ . 成一^親水+ 用哈罢土:成一斥水性表面於非蚩I性表面於 用’墨法將一親水性基A 息素區：. 兄a改者色材枓投射於複數個奎=埤，及利 思素區域。
第9頁 五、發明說明（5) ，據上述構， 垂直。 旻數條掃描繞S it ^ 線及稷數條訊號線相 根據上述構想，其中義你^ 根據上、f * L含複數個薄膜電晶體。 複數個薄膜㊁f : *十複數條掃描線及、1 导娱電晶體電性連接。V ^線及稷數條訊號線與 光片Ϊ ί : 士所述之目的，本發明接征_ 成複數侔W ☆，包含··形成1 5二J :種一種彩色濾 義禮ί Ϊ Γ線及複數條訊號緩二t 層於基板上，·形 是數個畫素區一 4於層間絕緣層 層間絕绦馬L · 非畫素區域·你士 — 用以疋 於二^1，以紫外線照射二气儿7成一 一氧化矽層於 =乳化秒層上；以紫外線照:=亡梦層；形成一遮蓋層 :^ :遮蓋層以露出二氧化；：遮”’·去除位於非畫素 王者色材料投射於複數個畫素^域及利用噴墨法將一斥水 根據上述構想，其中 互垂直。 L掃描線及複數條訊號線相 根據上述構想，其中基 攸包含後數個薄膜電晶體。 根據上述構想，其中複 條知描線及複數條訊號線與 第10頁 1 594333 五、發明說明（6) 複數個薄膜電晶體電性連接。 根據上述構想，其中以紫外線照射二氧化矽層的步驟 包含：在基板之主面側插入一第一光罩；及透過第一光罩 以紫外線照射二氧化矽層。 根據上述構想，其中第一光罩於複數個晝素區域上方 的圖案具不透光性。 根據上述構想，其中遮蓋層之材質係從下列族群中選 出：多晶矽和非晶矽。 根據上述構想，其中以紫外線照射遮蓋層的步驟包 含：在基板之主面側插入一第二光罩；及透過第二光罩以 紫外線照射遮蓋層。 根據上述構想，其中第二光罩於非晝素區域上方的圖 案具不透光性。 根據以上所述之目的，本發明提供了一種彩色濾光片 之製造方法，包含：形成一層間絕緣層於基板上；形成複 數條掃描線及複數條訊號線於層間絕緣層上，用以定義複 數個畫素區域和一非晝素區域；形成一二氧化矽層於層間 絕緣層上；形成一遮蓋層於二氧化矽層上；去除位於非晝
第11頁 594333 五、發明說明（7) 素區域的遮蓋層以露出二氧化矽層；以紫外線照射基板； 及利用喷墨法將一斥水性著色材料投射於複數個晝素區 域。 根據上述構想，其中複數條掃描線及複數條訊號線相 互垂直。 根據上述構想，其中基板包含複數個薄膜電晶體。 根據上述構想，其中複數條掃描線及複數條訊號線與 複數個薄膜電晶體電性連接。 根據上述構想，其中遮蓋層之材質係從下列族群中選 出：多晶矽和非晶矽。 根據上述構想，其中去除位於非晝素區域的遮蓋層以 露出二氧化矽層的步驟包含：塗覆一光阻層於遮蓋層；圖 案化光阻層；及蝕刻未被光阻層所覆蓋的遮蓋層。 根據以上所述之目的，本發明提供了一種彩色濾光片 之製造方法，包含：形成一層間絕緣層於基板上；形成複 數條掃描線及複數條訊號線於層間絕緣層上，用以定義複 數個晝素區域和一非畫素區域；以紫外線照射該基板；及 利用噴墨法將一親水性著色材料投射於該複數個畫素區
第12頁 594333 五、發明說明（8) 域。 根據上述構想，其中該複數條掃描線及該複數條訊號 線相互垂直。 根據上述構想，其中該基板包含複數個薄膜電晶體。 根據上述構想，其中該複數條掃描線及該複數條訊號 線與該複數個薄膜電晶體電性連接。 根據上述構想，其中該層間絕緣層為二氧化矽。 [實施方式] 本發明的一些實施例會詳細描述如下。然而，除了詳 細描述外，本發明還可以廣泛地在其他的實施例施行，且 本發明的範圍不受限定，其以之後的專利範圍為準。 本發明的第一個實施例請見第一圖彩色液晶顯示器之 平面圖及第二圖彩色液晶顯示器之剖面圖。又第三圖A、B 係製程之概要示意圖。首先，在玻璃基板2 0上形成薄膜電 晶體 13 (TFT :Thin Film Transistor)，此薄膜電晶體 1 3可運用一般之半導體製程方法而被製得。接著，形成大
第13頁 594333 五、發明說明（9) 致全面覆蓋之層間絕緣膜2 1於玻璃基板2 0和薄膜電晶體1 3 上，然後配置掃描線1 2及垂直掃描線1 2之訊號線1 1於層間 絕緣膜2 1上且呈矩陣狀，其中掃描線1 2、訊號線1 1與薄膜 電晶體1 3電性連接。接著，如第三圖A所示，在層間絕緣 膜2 1形成一二氧化矽層2 3，然後在玻璃基板2 0正面插入一 光罩3 1而照射紫外線3 3。此時，經光罩3 1製成覆蓋晝素區 域15之遮光圖案，因此，僅在該遮光圖案之未遮光而露出 部份之二氧化矽層2 3選擇性地照射紫外線3 3。二氧化矽層 經紫外線的照射，將形成親水性表面（h y d r 〇 p h i 1 i c surface )，故非畫素區域的二氧化石夕層都將因紫外線的 照射而形成親水性表面。接著，如第三圖B所示，二氧化 石夕層2 3上形成一多晶石夕層（ρ ο 1 y s i 1 i c ο η )或非晶石夕層 (amorphous silicon )24，依然在玻璃基板20正面插入 一光罩3 2而照射紫外線3 3。此時，經光罩3 2製成覆蓋非晝 素區域之遮光圖案，因此，僅在該遮光圖案之未遮光而露 出部份之多晶矽層或非晶矽層2 4選擇性地照射紫外線3 3。 多晶矽層或非晶矽層經紫外線的照射，將形成斥水性表面 (hydrophobic surface )，故晝素區域15的多晶石夕層或 非晶矽層2 4都將因紫外線的照射而形成斥水性表面。下一 步驟是將非晝素區域的多晶矽層或非晶矽層去除，以露出 已經過紫外線照射的二氧化矽層。再接著，採用喷墨裝置 利用喷墨法將R . G，B三色著色材料投射於前述晝素區域 1 5，藉此，玻璃基板2 0之被塗覆部份被著色，而形成彩色 濾、光片2 5 。
594333 五、發明說明（ίο) 由於斥水性材料在斥水性表面上，其表面張力小故易 -覆蓋在斥水性表面。另一方面，斥水性材料在親水性表面 上，其表面張力非常大，故非常不容易覆蓋在親水性表 面。此時，各色著色材料為斥水性材料，經由前述紫外線 照射晝素區域的多晶矽層或非晶矽層而形成斥水性表面。 另一方面，非晝素區域亦以紫外線照射二氧化矽層而形成 親水性表面。因此，喷墨裝置利用喷墨法將R. G，B三色著 色材料投射於前述晝素區域時，將因畫素區域表面已處理 成斥水性表面而特別容易覆蓋，但非畫素區域則因表面已 處理成親水性表面而非常不容易覆蓋。如此可抑制各畫素 _ 邊界區域被塗覆之著色材料之滲混，其結果為可製得色再 現性良好之彩色濾光片2 5。 本發明的第二個實施例請見第一圖彩色液晶顯示器之 平面圖及第二圖彩色液晶顯示器之剖面圖。又第四圖A、B -係製程之概要示意圖。首先，在玻璃基板2 0上形成薄膜電 晶體 13 (TFT :Thin Film Transistor)，此薄膜電晶體 ’ 1 3可運用一般之半導體製程方法而被製得。接著，形成大 致全面覆蓋之層間絕緣膜2 1於玻璃基板2 0和薄膜電晶體1 3 上，然後配置掃描線1 2及垂直掃描線1 2之訊號線1 1於層間 絕緣膜2 1上且呈矩陣狀，其中掃描線1 2、訊號線1 1與薄膜 攀 電晶體1 3電性連接。接著，如第四圖A所示，在基板上形 成一二氧化矽層2 3。接著在二氧化矽層2 3上形成一多晶矽
第15頁 594333 五、發明說明（11) 層(poly silicon )或非晶石夕層（amorphous silicon) 24，在玻璃基板20之正面塗覆光阻42且利用光罩41圖案化 該光阻。光罩41為一覆蓋晝素區域15之遮光圖案，因此， 僅在該遮光圖案下之光阻42未被去除，其餘光阻42皆在顯 影時被去除。接著，蝕刻未被光阻所覆蓋的多晶矽層或非 晶矽層2 4，以露出二氧化矽層2 3。將光阻4 2去除後即全面 性地照射紫外線4 3，多晶矽層或非晶矽層2 4經紫外線4 3的 照、身于，片字形成斥水十生表面（hydrophobic surface )，而 二氧化矽層2 3經紫外線4 3的照射，將形成親水性表面 (hydrophilic surface )。故畫素區域15的多晶石夕層或 非晶矽層2 4都將因紫外線4 3的照射而形成斥水性表面。非 φ 晝素區域的二氧化矽層2 3將因紫外線4 3的照射而形成親水 性表面。再接著，採用喷墨裝置利用喷墨法將R. G，B三色 著色材料投射於前述晝素區域1 5，藉此，玻璃基板20之被 塗覆部份被著色，而形成彩色濾光片2 5。 由於斥水性材料在斥水性表面上，其表面張力小故易 覆蓋在斥水性表面。另一方面，斥水性材料在親水性表面 -上，其表面張力非常大，故非常不容易覆蓋在親水性表 面。此時，各色著色材料為斥水性材料，經由前述紫外線 照射畫素區域的多晶矽層或非晶矽層而形成斥水性表面。 另一方面，非晝素區域亦以紫外線照射二氧化矽層而形成 籲 親水性表面。因此，喷墨裝置利用喷墨法將R . G，B三色著 色材料投射於前述畫素區域時，將因晝素區域表面已處理
第16頁 594333 五、發明說明（12) ^-- f斥水性表面而特別容易覆蓋，但非畫素區域則 ，理成親水性表面而非常不容易覆蓋。如此可抑==3 1 邊界區域被塗覆之著色材料之滲混，其結果為可制…=田 現性良好之彩色濾光片2 5。 衣付色再 本發明的第三個實施例請見第一圖彩色液晶 抑 平面圖及第五圖彩色液晶顯示器之剖面圖。又第二二 1,概要示意圖。首先，在玻璃基板2 0上形成ς ^曰、 13 (TFT :Thln Film Transist〇r)，此薄膜電曰f J 曰曰， 運用一般之半導體製程方法而被製得。接著，形二士 °入 面覆盍之層間絕緣膜2 1於玻璃基板2 0和薄膜電晶王 此層間絕緣層21的材質為二氧化石夕，然後配置二1^ β 垂直掃描線1 2之訊號線1 1於層間絕緣膜2 1上且呈田、、、、 ，中掃描線1 2、訊號線1 1與薄膜電晶體丨3電性連^陣=， 著，如第六圖所示，利用掃描線丨2與訊號線丨丨 丄$ 從玻璃基板20正面照射紫外線63。此時，未被；乍上罩及 訊號線11遮住的層間絕緣層21皆照射到紫外線63: 化石夕經紫外線6 3的照射，將形成親水性表面 上hyd^ophuic surfac〇 ，而掃描線12與訊號線"是以 五屬衣成’金屬表面本身就是斥水性表面（hydr〇ph〇bic surface)，且不會因紫外線63的照射而改變其斥水特 ^ : ^ ί素區域15的—氧化石夕層21都將因紫外線63的照射 Ϊ ^ t性表面:非晝素區域的掃描線1 2與訊號線1 1本 ”、、7性表面再接著，採用噴墨裝置利用喷墨法將
第17頁 594333 五、發明說明（13) R . G，B三色著色材料投射於前述畫素區域1 5。要特別注意 ’ 的是，本實施例與前兩個實施例最大的不同點，在於各色 . 著色材料要使用親水性材料。藉此，玻璃基板2 0之被塗覆 -部份被著色，而形成彩色濾光片2 5。 由於親水性材料在親水性表面上，其表面張力小故易 覆蓋在親水性表面。另一方面，親水性材料在斥水性表面 上，其表面張力非常大，故非常不容易覆蓋在斥水性表 面。此時，各色著色材料為親水性材料，經由前述紫外線 照射晝素區域的二氧化矽層而形成親水性表面。另一方 面，非晝素區域之掃描線1 2與訊號線1 1本身即為斥水性表春 面。因此，喷墨裝置利用喷墨法將具親水性之R . G，B三色 著色材料投射於前述畫素區域時，將因畫素區域表面已處 理成親水性表面而特別容易覆蓋，但非晝素區域則因表面 為斥水性表面而非常不容易覆蓋。如此可抑制各晝素邊界 區域被塗覆之著色材料之滲混，其結果為可製得色再現性 _ 良好之彩色濾光片2 5。 即使本發明係藉由舉出數個較佳實施例來描述，但是 本發明並不限定於所舉出之實施例。先前雖舉出與敘述之 特定實施例，但是顯而易見地，其它未脫離本發明所揭示 之精神下，所完成之等效改變或修飾，均應包含在本發明 · 之申請專利範圍内。此外，凡其它未脫離本發明所揭示之 精神下，所完成之其他類似與近似改變或修飾，也均包含
第18頁 594333
第19頁
594333 圖式簡單說明 [圖式簡單說明] 第一圖繪示的是彩色液晶顯示器之平面圖； 第二圖繪示的是彩色液晶顯示器之部分剖面圖； 第三圖A、B繪示的是本發明之第一實施例的製程示意圖； 第四圖A、B繪示的是本發明之第二實施例的製程示意圖。 第五圖繪示的是彩色液晶顯示器之部分剖面圖；及 第六圖繪示的是本發明之第三實施例的製程示意圖。 圖式符號說明： 11 訊 號 線 12 掃 描 線 13 薄 膜 電 晶 體 15 晝 素 區 域 20 玻 璃 基 板 2 1 層 間 絕 緣 層 23 二 氧 化 矽 層 24 多 晶 矽 層 或非晶$夕層
第20頁 594333 圖式簡單說明 2 5 :彩色濾光片 31 、 32 、 41 :光罩 3 3、4 3、6 3 :紫外線
Claims (1)
- 594333 六、申請專利範圍 申請專利範圍： 1. 一種彩色濾光片之製造方法，包含： 形成一層間絕緣層於一基板上； 形成複數條掃描線及複數條訊號線於該層間絕緣層 上，用以定義複數個晝素區域和一非晝素區域； 形成一斥水性表面於該複數個畫素區域； 形成一親水性表面於該非晝素區域；及 利用喷墨法將一斥水性著色材料投射於該複數個晝素 區域。 2. 如申請專利範圍第1項所述之彩色濾光片之製造方法， 其中該複數條掃描線及該複數條訊號線相互垂直。 3. 如申請專利範圍第1項所述之彩色濾光片之製造方法， 其中該基板包含複數個薄膜電晶體。 4. 如申請專利範圍第3項所述之彩色濾光片之製造方法， 其中該複數條掃描線及該複數條訊號線與該複數個薄膜電 晶體電性連接。 5. 一種彩色濾光片之製造方法，包含： 形成一層間絕緣層於一基板上； 形成複數條掃描線及複數條訊號線於該層間絕緣層第22頁 594333 六、申請專利範圍 上，用以定義複數個晝素區域和一非晝素區域； 形成一親水性表面於該複數個晝素區域； 形成一斥水性表面於該非晝素區域；及 利用噴墨法將一親水性著色材料投射於該複數個晝素 區域。 6. 如申請專利範圍第5項所述之彩色濾光片之製造方法， 其中該複數條掃描線及該複數條訊號線相互垂直。 7. 如申請專利範圍第5項所述之彩色濾光片之製造方法， 其中該基板包含複數個薄膜電晶體。 8. 如申請專利範圍第7項所述之彩色濾光片之製造方法， 其中該複數條掃描線及該複數條訊號線與該複數個薄膜電 晶體電性連接。 9. 一種彩色濾光片之製造方法，包含： 形成一層間絕緣層於一基板上； 形成複數條掃描線及複數條訊號線於該層間絕緣層 上，用以定義複數個晝素區域和一非晝素區域； 形成一二氧化矽層於該層間絕緣層上； 以紫外線照射該二氧化矽層； 形成一遮蓋層於該二氧化矽層上； 以紫外線照射該遮蓋層；第23頁 594333 六、申請專利範圍 去除位於該非晝素區域之該遮蓋層以露出該二氧化矽 層：及 利用喷墨法將一斥水性著色材料投射於該複數個晝素 區域。 10. 如申請專利範圍第9項所述之彩色濾光片之製造方 法，其中該複數條掃描線及該複數條訊號線相互垂直。 Π. 如申請專利範圍第9項所述之彩色濾光片之製造方 法，其中該基板包含複數個薄膜電晶體。 12. 如申請專利範圍第1 1項所述之彩色濾光片之製造方 法，其中該複數條掃描線及該複數條訊號線與複數個薄膜 電晶體電性連接。 13. 如申請專利範圍第9項所述之彩色濾光片之製造方 t 法，其中以紫外線照射該二氧化矽層的步驟包含： 在該基板之主面側插入一第一光罩；及 — 透過該第一光罩以紫外線照射該二氧化矽層。 14. 如申請專利範圍第1 3項所述之彩色濾光片之製造方 法，其中該第一光罩於該複數個畫素區域上方的圖案具不 籲 透光性。第24頁 594333 六、申請專利範圍 15. 如申請專利範圍第9項所述之彩色濾光片之製造方 法，其中該遮蓋層之材質係從下列族群中選出：多晶矽和 非晶矽。 16. 如申請專利範圍第9項所述之彩色濾光片之製造方 法，其中以紫外線照射該遮蓋層的步驟包含： 在該基板之主面側插入一第二光罩；及 透過該第二光罩以紫外線照射該遮蓋層。 17. 如申請專利範圍第1 6項所述之彩色濾光片之製造方 法，其中該第二光罩於該非畫素區域上方的圖案具不透光 性。 18. 一 形 形 上，用 形 形 去 層； 以 利 區域。 種彩色濾光片之製造方法，包含： 成一層間絕緣層於一基板上； 成複數條掃描線及複數條訊號線於該層間絕緣層 以定義複數個晝素區域和一非畫素區域； 成一二氧化石夕層於該層間絕緣層上； 成一遮蓋層於該二氧化矽層上； 除位於該非晝素區域的該遮蓋層以露出該二氧化矽 紫外線照射該基板；及 用喷墨法將一斥水性著色材料投射於該複數個畫素第25頁 薄 方個 造數 制衣複 之該 片與 光線 濾號 色訊 彩條 之數 述複 所該 項及 20線 第描 圍掃。 範條接 利數連 專複性 請該電 申中體 如其晶 ? 電 21法膜 594333 六、申請專利範圍 19. 如申請專利範圍第1 8項所述之彩色濾光片之製造方 法，其中該複數條掃描線及該複數條訊號線相互垂直。 2 0. 如申請專利範圍第1 8項所述之彩色濾光片之製造方 法，其中該基板包含複數個薄膜電晶體。 22. 如申請專利範圍第1 8項所述之彩色濾光片之製造方 法，其中該遮蓋層之材質係從下列族群中選出：多晶矽和 非晶矽。 23. 如申請專利範圍第1 8項所述之彩色濾光片之製造方 法，其中去除位於該非畫素區域的該遮蓋層以露出該二氧 化矽層的步驟包含： 塗覆一光阻層於該遮蓋層； 圖案化該光阻層；及 蝕刻未被該光阻層所覆蓋的該遮蓋層。 24. 一種彩色濾光片之製造方法，包含： 形成一層間絕緣層於一基板上；第26頁 594333 六、申請專利範圍 形成複數條掃描線及複數條訊號線於該層間絕緣層 上，用以定義複數個晝素區域和一非畫素區域； 以紫外線照射該基板；及 利用喷墨法將一親水性著色材料投射於該複數個畫素 區域。 2 5. 如申請專利範圍第2 4項所述之彩色濾光片之製造方 法，其中該複數條掃描線及該複數條訊號線相互垂直。 26. 如申請專利範圍第2 4項所述之彩色濾光片之製造方 法，其中該基板包含複數個薄膜電晶體。 27. 如申請專利範圍第2 6項所述之彩色濾光片之製造方 法，其中該複數條掃描線及該複數條訊號線與該複數個薄 膜電晶體電性連接。 2 8. 如申請專利範圍第2 4項所述之彩色濾光片之製造方 法，其中該層間絕緣層為二氧化矽。第27頁
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW091137836A TW594333B (en) | 2002-12-30 | 2002-12-30 | Method for fabricating a color filter |
| US10/355,188 US6830856B2 (en) | 2002-12-30 | 2003-01-31 | Method for fabricating color filter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW091137836A TW594333B (en) | 2002-12-30 | 2002-12-30 | Method for fabricating a color filter |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW594333B true TW594333B (en) | 2004-06-21 |
| TW200411305A TW200411305A (en) | 2004-07-01 |
Family
ID=33509778
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW091137836A TW594333B (en) | 2002-12-30 | 2002-12-30 | Method for fabricating a color filter |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6830856B2 (zh) |
| TW (1) | TW594333B (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110928030A (zh) * | 2019-12-10 | 2020-03-27 | Tcl华星光电技术有限公司 | 显示基板及其制作方法 |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101002332B1 (ko) * | 2003-12-30 | 2010-12-17 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시소자 및 그 제조방법 |
| TWI236549B (en) * | 2004-05-10 | 2005-07-21 | Chunghwa Picture Tubes Ltd | Color filter of liquid crystal display panel and method of fabricating the same |
| US7622338B2 (en) * | 2004-08-31 | 2009-11-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing semiconductor device |
| US7977253B2 (en) * | 2004-08-31 | 2011-07-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Manufacturing method of semiconductor device |
| TW200628938A (en) * | 2005-02-02 | 2006-08-16 | Quanta Display Inc | Substrate of a liquid crystal display and method of forming an alignment layer |
| KR101122234B1 (ko) * | 2005-04-13 | 2012-06-12 | 삼성전자주식회사 | 색필터 표시판, 이를 포함하는 액정 표시 장치 및 그 제조방법 |
| US9164037B2 (en) | 2007-01-26 | 2015-10-20 | Palo Alto Research Center Incorporated | Method and system for evaluation of signals received from spatially modulated excitation and emission to accurately determine particle positions and distances |
| US8821799B2 (en) | 2007-01-26 | 2014-09-02 | Palo Alto Research Center Incorporated | Method and system implementing spatially modulated excitation or emission for particle characterization with enhanced sensitivity |
| US7879390B2 (en) * | 2007-05-30 | 2011-02-01 | Palo Alto Research Center Incorporated | Surface energy control methods for color filter printing |
| US9199441B2 (en) | 2007-06-28 | 2015-12-01 | E Ink Corporation | Processes for the production of electro-optic displays, and color filters for use therein |
| CN101409230B (zh) * | 2007-10-08 | 2011-08-17 | 中华映管股份有限公司 | 多晶硅层的制作方法 |
| US8373860B2 (en) | 2008-02-01 | 2013-02-12 | Palo Alto Research Center Incorporated | Transmitting/reflecting emanating light with time variation |
| US8629981B2 (en) | 2008-02-01 | 2014-01-14 | Palo Alto Research Center Incorporated | Analyzers with time variation based on color-coded spatial modulation |
| KR20100073356A (ko) * | 2008-12-23 | 2010-07-01 | 엘지디스플레이 주식회사 | 컬러 전기 영동 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
| US9029800B2 (en) | 2011-08-09 | 2015-05-12 | Palo Alto Research Center Incorporated | Compact analyzer with spatial modulation and multiple intensity modulated excitation sources |
| US8723140B2 (en) | 2011-08-09 | 2014-05-13 | Palo Alto Research Center Incorporated | Particle analyzer with spatial modulation and long lifetime bioprobes |
| CN102385193A (zh) * | 2011-11-15 | 2012-03-21 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Tft-lcd用液晶配向膜的涂布方法 |
| US8431426B1 (en) | 2011-11-15 | 2013-04-30 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Coating method for liquid crystal alignment film of TFT-LCD |
| JP6787091B2 (ja) * | 2016-12-05 | 2020-11-18 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶装置、電子機器、液晶装置の製造方法、液晶装置用のマザー基板、および液晶装置用のマザー基板の製造方法 |
| CN112959836A (zh) * | 2021-02-04 | 2021-06-15 | 东莞市天迪印刷有限公司 | 一种多功能发光体的印刷制作工艺 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW426806B (en) * | 1994-05-18 | 2001-03-21 | Toshiba Corp | Fabricating method of liquid crystal display apparatus |
| JP4377984B2 (ja) * | 1999-03-10 | 2009-12-02 | キヤノン株式会社 | カラーフィルタとその製造方法、該カラーフィルタを用いた液晶素子 |
| JP2002122723A (ja) * | 2000-10-13 | 2002-04-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | カラーフィルタ及びその製造方法並びにそれを用いた液晶表示装置及びその製造方法 |
-
2002
- 2002-12-30 TW TW091137836A patent/TW594333B/zh not_active IP Right Cessation
-
2003
- 2003-01-31 US US10/355,188 patent/US6830856B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110928030A (zh) * | 2019-12-10 | 2020-03-27 | Tcl华星光电技术有限公司 | 显示基板及其制作方法 |
| CN110928030B (zh) * | 2019-12-10 | 2022-08-23 | Tcl华星光电技术有限公司 | 显示基板及其制作方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6830856B2 (en) | 2004-12-14 |
| TW200411305A (en) | 2004-07-01 |
| US20040151994A1 (en) | 2004-08-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW594333B (en) | Method for fabricating a color filter | |
| CN105655346B (zh) | 薄膜晶体管阵列基板 | |
| JP2004070284A (ja) | 画素駆動素子を具備する基板上にカラーフィルタを形成する方法 | |
| TWI267663B (en) | Color filter substrate for liquid crystal display device and method for manufacturing the same | |
| CN103353683A (zh) | 一种阵列基板以及包括该阵列基板的显示装置 | |
| TW200949402A (en) | Liquid crystal display device and fabrication method thereof | |
| KR20070081303A (ko) | 표시 장치 및 이의 제조 방법 | |
| CN108288620A (zh) | 像素结构基板及其显示面板 | |
| JP2004310042A (ja) | 液晶表示素子の製造方法 | |
| JP2008225481A (ja) | 液晶表示装置のカラーフィルタ及びその製造方法 | |
| CN107086181A (zh) | 薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板和显示器 | |
| JP2006018257A (ja) | 液晶表示装置のカラーフィルター製造装置及び製造方法 | |
| TWI305591B (zh) | ||
| TWI225941B (en) | Color filter structure | |
| CN1266496C (zh) | 彩色滤光片的制造方法 | |
| CN107924091A (zh) | 显示面板以及显示面板的制造方法 | |
| TW200807124A (en) | Liquid crystal display device | |
| CN1264029C (zh) | 彩色滤光片的制造方法 | |
| TWI277780B (en) | Method of manufacturing color filter | |
| TWI352218B (en) | Method for fabricating color filter layer of liqui | |
| US7169517B2 (en) | Method of fabricating a color filter in liquid crystal display device without using a photo mask | |
| TW201007223A (en) | Color filter substrate and method of making the same | |
| TWI247919B (en) | Method for fabricating a color filter | |
| JP2005134879A (ja) | バンク構造の製造方法 | |
| US20040157139A1 (en) | Method for fabricating color filter |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |