TW589485B - Substrate for photoelectric device and its manufacturing method, photoelectric device and its manufacturing method, and electronic machine - Google Patents

Substrate for photoelectric device and its manufacturing method, photoelectric device and its manufacturing method, and electronic machine Download PDF

Info

Publication number
TW589485B
TW589485B TW091133540A TW91133540A TW589485B TW 589485 B TW589485 B TW 589485B TW 091133540 A TW091133540 A TW 091133540A TW 91133540 A TW91133540 A TW 91133540A TW 589485 B TW589485 B TW 589485B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
layer
substrate
colored
light
base layer
Prior art date
Application number
TW091133540A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200300858A (en
Inventor
Keiji Takizawa
Yoshihiro Otagiri
Tomoyuki Nakano
Hideki Kaneko
Mutsumi Matsuo
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Publication of TW200300858A publication Critical patent/TW200300858A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TW589485B publication Critical patent/TW589485B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512Light shielding layers, e.g. black matrix
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/48Flattening arrangements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2203/00Function characteristic
    • G02F2203/02Function characteristic reflective

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Description

589485 A7 __ B7 五、發明説明(彳) 【發明所屬之技術領域】 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明是關於如液晶裝置等之光電裝置所使用之基板 ’該基板之製造方法,使用該基板而所構成之光電裝置以 及使用該光電裝置而所構成之電子機器。 【先行技術】 近年來,光電裝置廣泛地被使用於如行動電話機、攜 帶型個人電腦等之電子機器。作爲該光電裝置之一例,所 知的有可以執行反射型顯示和透過型顯示之雙方的反射半 透過型液晶裝置。 於該液晶裝置中,執行反射型顯示之時,將自然光或 是內光取入液晶裝置之內部,其光被設置在液晶裝置之內 部的反射層反射,其反射光再次藉由射出至外部而執行顯 示。於此時,反射層爲了達成透過型顯示之機能,必須持 有使光予以透過之機能,因此,雖然如上述般以反射層反 射外部光,半可以反射並非外部光全部,而只是一部分。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 但是,使用如上述般之反射層的外部光之反射構造, 其本身於不持有透過型顯示機能之液晶裝置,即是藉由反 射層將所有外部光予以反射之構造的液晶裝置,即是反射 型液晶裝置之時也相同。 然而,不管反射半透過型之液晶裝置,或是反射型之 液晶裝置,於可反射型之顯示的液晶裝置中’當反射層之 表面爲鏡面狀時,背景或室內照明則映入於觀察者所視認 之影像中,有難以明視所顯示之影像的問題。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -5- 589485 A7 B7 五、發明説明(2) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 爲了解決此問題,於以往所知的有藉由在反射層之下 方設置表面持有微細凹凸形狀的基底層,使該反射層之表 面形成多數微細之山部而予以粗面化,依此,使反射光適 度地予以散亂。(例如,參照日本特開2002-258270號公 報) 【發明所欲解決之課題】 然而,於液晶裝置中,廣泛採用藉由將顯示最小單位 之顯示用像點多數配列成平面,例如配列成矩陣狀,並選 擇性使該些顯示用像點予以發光,而顯示出所欲之影像的 方法。然後於此時,也廣泛採用藉由將遮蔽光之層,即是 遮光層設置在多數顯示用像點之間的區域,而形成被稱爲 所謂的黑色掩模或黑色矩陣的區域,依此,成爲可顯示對 比高之影像的構成。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 如此於顯示用像點間設置遮光層之時,以往設置其遮 光層之部分的厚度變厚,因此則產生夾厚(Ce 11 Gap )的偏 差變大,無法精確地對配向膜施予拋光處理等之問題。於 液晶裝置中,一般是與遮光層重疊而形成配向膜或外敷層 ,依據該些層,基板之表面雖然成爲某程度平坦,但是還 是無法解決上述般之夾厚偏差等。 本發明是鑒於上述問題點而所創作出者,其目的爲在 多數顯示用像點區域,和該些顯示用像點間之區域間,抑 制表面產生凹凸。再者,本發明之目的爲確保遮光層和由 該層所包圍之層,例如與著色層之間的平坦性。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -6 - 589485 A7 B7 五、發明説明(3) 【用以解決課題之手段】 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) (1) 爲了達成上述目的,本發明之光電裝置用基板, 其特徵爲··具有形成有多數顯示用像點的基材;被設置在 該基材上的基底層;被設置在該基底層上的反射層;和被 設置在該反射層上的著色層,上述基底層是設置在對應於 上述顯示用像點的區域上,而不設置在上述多數顯示用像 點間的區域上。 於該構成之液晶裝置中,於執行反射型顯示之時,外 部光是透過著色層後由反射層反射,而朝向觀察者。因於 著色層之下方設置有基底層及反射層,故外部光以適當之 散亂狀態反射,成爲可視角寬的顯示。 另外,因於顯示用像點之間的區域無設置基底層,即 是因在設置遮光層之區域上不設置基底層,故設置遮光層 之部分的厚度僅減少基底層之厚度。依此,可以防止遮光 層之突出,故可以抑制於基板表面上產生凹凸。即是’可 以提昇基板表面之平坦性。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (2) 上述構成之之光電裝置用基板中,上述基底層之 平面形狀與上述顯示用像點之平面形狀大約相同爲最佳。 如此一來,於反射型顯示之時,可自基底層將散亂的光以 充分之寬度適度地供給至著色層,因此可以執行視角寬廣 之反射型顯示。 (3) 再者,上述構成之光電裝置用基板是在上述顯示 用像點以外之區域上,具有遮光層爲最佳。如此一來’因 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 589485 A7 B7 五、發明説明(4) 在無設置基底層之區域上,設置遮光層,故提昇基板全體 之平坦化。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) (4) 再者,於上述構成之光電裝置用基板中,無設置 上述基底層之區域,是與設置有上述遮光層之區域大約相 同爲最佳。如此一來,因設置遮光層而增加基板厚度之部 分,因省略基底層而互相抵銷,故可以提昇基板表面之平 坦化。 (5) 接著,本發明之光電裝置,其特徵爲:具有以上 所記載之光電裝置用基板;與該光電裝置用基板相向而被 設置的另外基板;被射至於上述光電裝置用基板和上述另 外基板之間的光電物質層。若依據該構蒸光電裝置’因在 顯示用像點以外之區域上不設置基底層,故可以使基板厚 度整體平坦,因此可以實現更薄之液晶裝置。 (6) 接著,本發明之電子機器,其特徵爲:具有上述 構成之光電裝置。因上述構成之液晶裝置可以形成較薄, 故亦可以將使用此之電子機器形成較薄。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (7) 接著,本發明之光電裝置用基板之製造方法,其 特徵爲:具有在形成有多數顯示用像點的基材上形成基底 層之工程;在上述基底層上形成反射層之工程;和在上述 反射層上形成著色層之工程,於形成上述著色層之工程中 ,在對應於上述顯示用像點之區域上形成著色層’而在上 述多數之顯示用像點間之區域不形成上述著色層。 因於顯示用像點之間的區域無設置基底層’即是即是 因在設置遮光層之區域上不設置基底層,故設置遮光層之 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) _8_ 589485 A7 B7 五、發明説明(5) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 部分的厚度僅減少基底層之厚度。依此,可以防止遮光層 之突出,故可以抑制於基板表面上產生凹凸。即是,可以 提昇基板表面之平坦性。 (8) 於上述構成之光電裝置用基板之製造方法中,又 具有對應於設置有上述基底層之區域以外的區域而在上述 反射層上形成遮光層之工程爲最佳。若依據該製造方法, 因在無設置基底層之區域上形成遮光層,故可以提昇基板 全體之平坦性。 (9) 接著,本發明之另一光電裝置用基板是一種光電 裝置用基板,其特徵爲:具有形成有多數顯示用像點的基 材;被設置在上述基材上,使成爲可在互相相鄰之上述顯 示用像點之間的區域上具有凹部或開口部,且具有被不規 則配列的山部或谷部的基底層;被設置在該基底層上的反 射層;和被設置成可掩埋上述凹部或上述開口部的遮光層 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於基材上均勻地設置基底層之構造的以往光電裝置用 基板中,產生例如遮光層之高度變高,即使於其上方疊層 外敷層等於表面易產生凹凸,夾厚之偏差變大等之問題。 對此,若依據上述構成之光電裝置用基板,因設置基底層 使在相鄰之顯示用像點間之境界領域上具有凹部或開口部 ,並且設置遮光層使可掩埋該凹部或該開口部,故可以例 如使遮光層之高度變低,因此可以確保各顯示用像點和該 些顯示用像點之境界區域間的表面平坦性。 (10) 再者,本發明之光電裝置用基板中,上述開口 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) -9 - 589485 A7 B7 五、發明説明(6) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 部之底部是具有除去上述基底層的區域。若依據該構成, 除去基底層之部分,則可以例如使遮光層之高度變低,可 以減輕夾厚之偏差等。 (11) 再者,本發明之光電裝置用基板中,上述凹部 之底部的基底層是被形成比其他區域之上述基底層還薄爲 最佳。 當如上述般在開口部底部中基底層完全被除去時,相 反的有損顯示用像點和與此鄰接之顯示用像點區域之間的 平坦性。於此時,藉由開口部倒不如藉由形成凹部,在該 凹部之底部以所欲之厚度形成基底層爲最佳,依此,可以 確保表面之平坦性,可以減輕夾厚之偏差,使得容易執行 拋光處理。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (12) 再者,本發明之光電裝置用基板中,上述凹部 之底部的上述基底層,是藉由被設置在上述基材上的第1 絕緣層而所形成,上述其他區域的上述基底層是藉由上述 第1絕緣層,和被重疊設置在該第1絕緣層上之上述其他 區域上的第2絕緣層而所形成爲最佳。若依據該構成,因 即使於第1絕緣層形成時不形成凹部,亦可於形成第2絕 緣層之時形成凹部,故可以使用以形成第1絕緣層之製造 工程變成簡單。 (13 )在此,上述第1絕緣層及第2絕緣層是具有樹 脂材料爲最佳。如此一來,因使用於基底層之樹脂材料使 光散亂,故可以使顯示成爲明亮。 (14)再者,於本發明之光電裝置用基板中,上述反 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -10- 589485 A7 B7 五、發明説明(7) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 射層是可以設定成一部分具有開口部之構成。如此一來’ 可以形成半透過反射型之光電裝置用基板。即是,若依據 本發明,不僅在反射型光電裝置用基板中,即使在半透過 型光電裝置用基板中,亦可確保各顯示用像點和與此相鄰 之顯示用像點間之境界區域間之表面平坦性,可以減輕夾 厚之偏差等。 (15) 再者,本發明之光電裝置用基板中,上述遮光 層之高度是與上述基底層之高度大約相同爲最佳。如此一 來,因遮光層和基底層之高度對基材成爲大約相同,故確 保各顯示用像點和與此相鄰之顯示用像點間之境界區域間 之表面平坦性,可以減輕夾厚之偏差等。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (16) 接著,本發明之光電裝置,是具有互相相向而 被配置之第1基材及第2基材;被配置在上述第1基材和 上述第2基材之間的光電物質;被設置在上述第1基材上 的第1電極;被設置在上述第2基材上之第2電極;被形 成在上述第1電極和上述第2電極重疊之區域上的多數顯 示用像點;被設置在上述第1基材上,使成爲可在互相相 鄰之上述顯示用像點之間的區域上具有凹部或開口部,且 具有被不規則配列的多數山部或谷部的基底層;被設置在 該基底層上的反射層;和被設置成可掩埋上述凹部或上述 開口部的遮光層。 於基材上均勻地設置基底層之構造的以往光電裝置用 基板中,產生例如遮光層之高度變高,即使於其上方疊層 外敷層等於表面易產生凹凸,夾厚之偏差變大等之問題。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -11 - 589485 A7 ___ B7 ___ 五、發明説明(8) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 對此,若依據上述構成之光電裝置,因設置基底層使在相 鄰之顯示用像點間之境界領域上具有凹部或開口部,並且 設置遮光層使可掩埋該凹部或該開口部,故可以例如使遮 光層之高度變低,因此可以確保各顯示用像點和該些顯示 用像點之境界區域間的表面平坦性。 (17) 再者,於上述構成之光電裝置中,上述開口部 之底部是具有除去下基底層之區域。若依據該構成,僅除 去基底層之部分,則可以例如使遮光層之高度變低,可以 確保各顯示用像點和與此相鄰之像點間區域之間的表面平 坦性。 (18) 再者,於上述構成之光電裝置中,上述凹部之 底部的基底層是比其他區域之基底層還薄爲最佳。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 當如上述般在開口部底部中基底層完全被除去時,相 反的有損顯示用像點和與此鄰接之顯示用像點區域之間的 平坦性。於此時,藉由開口部倒不如藉由形成凹部,在該 凹部之底部以所欲之厚度形成基底層爲最佳,依此,可以 確保表面之平坦性,可以減輕夾厚之偏差,使得容易執行 拋光處理。 (19) 再者,上述構成之光電裝置中,上述凹部之底 部的上述基底層,是藉由被設置在上述基材上的第1絕緣 層而所形成,上述其他區域的上述基底層是藉由上述第1 絕緣層,和被重疊設置在該第1絕緣層上之上述其他區域 上的第2絕緣層而所形成爲最佳。如此一來,因即使於第1 絕緣層形成時不形成凹部,亦可於形成第2絕緣層之時形 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -12- 589485 A7 ______B7_ 五、發明説明(9) 成凹部,故可以簡化第1絕緣層之製造工程。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) (20 )在此,上述第1絕緣層及第2絕緣層是具有樹 脂材料爲最佳。如此一來,因使用於基底層之樹脂材料使 光散亂,故可以使顯示成爲明亮。 (21) 再者,於本發明之光電裝置中,上述反射層是 可以設定成一部分具有開口部之構成。如此一來,可以形 成半透過反射型之光電裝置。即是,若依據本發明,不僅 在反射型光電裝置中,即使在半透過型光電裝置中,亦可 確保各顯示用像點和與此相鄰之顯示用像點間之境界區域 間之表面平坦性,可以減輕夾厚之偏差等。 (22) 再者,於上述構成之光電裝置中,上述遮光層 之高度是與上述基底層之高度大約相同爲最佳。如此一來 ,因遮光層和基底層之高度對基材成爲大約相同,故確保 各顯示用像點和與此相鄰之顯示用像點間之境界區域間之 表面平坦性,可以減輕夾厚之偏差等。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (23 )接著,本發明所涉及之電子機器,其特徵爲: 具有以上所記載之構成的光電裝置。若依據本發明之光電 裝置,因可以確保各顯示用像點和與此相鄰之像點間區域 之間的表面平坦性,故藉由顯示畫面之對比之淸晰化,使 得該顯示面變成淸晰。因此,使用該光電裝置之電子機器 ,即使如行動電話或攜帶資訊終端機等之電子機器般,在 戶外使用之時,亦可執行鮮明之顯示。 (24)接著,本發明之光電裝置用基板之製造方法是 具有在形成有多數顯示用像點的基材上形成基底層之工程 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -13- 589485 A7 B7___—_ 五、發明説明(1¾ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} :在上述基底層上形成反射層之工程;和在上述基材上形 成遮光層之工程,於形成上述基底層之工程中,形成上述 基底層使成爲可在互相相鄰之上述顯示用像點之間的區域 上具有凹部或開口部,且具有被不規則配列的山部或谷部 ,.於形成上述遮光層工程中,形成上述遮光層使成爲可掩 埋上述凹部或開口部。 於基材上均勻地設置基底層之構造的以往光電裝置用 基板中,產生例如遮光層之高度變高,即使於其上方疊層 外敷層等於表面易產生凹凸,夾厚之偏差變大等之問題。 對此,若依據上述構成之光電裝置,因設置基底層使在相 鄰之顯示用像點間之境界領域上具有凹部或開口部,並且 設置遮光層使可掩埋該凹部或該開口部,故可以例如使遮 光層之高度變低,因此可以確保各顯示用像點和該些顯示 用像點之境界區域間的表面平坦性。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (25) 再者,於上述構成之光電裝置用基板之製造方 法中,形成上述基底層之工程是在上述開口部之底部處形 成除去上述基底層的區域。若依據該構成,除去基底層之 部分,則可以例如使遮光層之高度變低,可以減輕夾厚之 偏差等。 (26) 再者,於上述構成之光電裝置用基板之製造方 法中,形成上述基底層之工程,是將上述凹部之底部的基 底層形成比其他區域之上述基底層還薄爲最佳。 當如上述般在開口部底部中基底層完全被除去時,相 反的有損顯示用像點和與此鄰接之顯示用像點區域之間的 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -14 - 589485 A7 B7
五、發明説明(W (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 平坦性。於此時,藉由開口部倒不如藉由形成凹部’在該 凹部之底部以所欲之厚度形成基底層爲最佳’依此’可以 確保表面之平坦性,可以減輕夾厚之偏差’使得容易執行 拋光處理。 (27) 再者,於上述構成之光電裝置用基板之製造方 法中,形成上述基底層之工程是具有在上述基材上形成第1 絕緣層之工程;和除了在該第1絕緣層上互相相鄰之顯示 用像點間之境界區域之外的區域上形成第2絕緣層的工程 爲最佳。 若依據該構成,因即使於第1絕緣層形成時不形成凹 部,亦可於形成第2絕緣層之時形成凹部,故可以簡化形 成第1絕緣層之製造工程。 (28) 在此,上述第1絕緣層及第2絕緣層是具有樹 脂材料爲最佳。如此一來,因使用於基底層之樹脂材料使 光散亂,故可以使顯示成爲明亮。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (29) 再者,於上述構成之光電裝置用基板之製造方 法中,形成反射層之工程是可以使反射層之一部分具有開 口部地來形成該反射層。如此一來,可以形成半透過反射 型之光電裝置用基板。即是,若依據本發明,不僅在反射 型光電裝置用基板中,即使在半透過型光電裝置用基板中 ,亦可確保各顯示用像點和與此相鄰之顯示用像點間之境 界區域間之表面平坦性,可以減輕夾厚之偏差等。 (3〇)再者’於上述構成之光電裝置用基板之製造方 法中,形成遮光層之工程是使上述遮光層之高度與上述基 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X297公釐) ' -15- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 589485 A7 B7 五、發明説明(d 底層之高度成爲大約相同爲最佳。如此一來,因遮光層和 基底層之高度對基材成爲大約相同,故確保各顯示用像點 和與此相鄰之顯示用像點間之境界區域間之表面平坦性, 可以減輕夾厚之偏差等。 (31)接著,本發明之光電裝置之製造方法,其特徵 :是具有在形成有多數顯示用像點的第1基材上形成基底 層之工程;在上述基底層上形成反射層之工程;在上述基 材上形成遮光層之工程;在上述第1基材上形成第1電極 之工程;在與上述第1基材相向之第2基材上形成第2電 極之工程;和在上述第1基材和上述第2基材之間形成光 電物質的層之工程,於形成上述基底層之工程中,形成上 述基底層使成爲可在互相相鄰之上述顯示用像點之間的區 域上具有凹部或開口部,且具有被不規則配列的山部或谷 部,於形成上述遮光層工程中,形成上述遮光層使成爲可 掩埋上述凹部或開口部。 於基材上均勻地設置基底層之構造的以往光電裝置用 基板中,產生例如遮光層之高度變高,即使於其上方疊層 外敷層等於表面易產生凹凸,夾厚之偏差變大等之問題。 對此,若依據上述構成之光電裝置用基板,因設置基底層 使在相鄰之顯示用像點間之境界領域上具有凹部或開口部 ,並且設置遮光層使可掩埋該凹部或該開口部,故可以例 如使遮光層之高度變低,因此可以確保各顯示用像點和該 些顯示用像點之境界區域間的表面平坦性’減輕夾厚之偏 差,而達成對比之淸晰化。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) I---------------1T------ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -16- 589485 A7 _ B7___ 五、發明説明(β (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) (32) 再者,於上述構成之光電裝置之製造方法中 形成上述基底層之工程是在上述開口部之底部形成除去上 述基底層的區域。若依據該構成’僅除去基底層之部分’ 則可以例如使遮光層之高度變低’可以減輕夾厚之偏差等 〇 (33) 再者,於上述構成之光電裝置之製造方法中, 形成基底層之工程,是將上述凹部之底部的基底層形成比 其他區域之上述基底層還薄爲最佳。當如上述般在開口部 底部中之基底層完全被除去時,相反的有損顯示用像點和 與此鄰接之顯示用像點區域之間的平坦性。於此時’藉由 開口部倒不如藉由形成凹部,在該凹部之底部以所欲之厚 度形成基底層爲最佳,依此,可以確保表面之平坦性’可 以減輕夾厚之偏差,使得容易執行拋光處理。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (34) 再者,於上述構成之光電裝置之製造方法中, 形成上述基底層之工程是具有在上述基材上形成第1絕緣 層之工程;和除了在該第1絕緣層上互相相鄰之顯示用像 點間之境界區域之外的區域上形成第2絕緣層的工程爲最 佳。若依據該構成,因即使於第1絕緣層形成時不形成凹 部,亦可於形成第2絕緣層之時形成凹部,故可以簡化形 成第1絕緣層之製造工程。 (3 5 )在此,上述第1絕緣層及第2絕緣層是具有樹 脂材料爲最佳。如此一來,因使用於基底層之樹脂材料使 光散亂,故可以使顯示成爲明亮。 i (36)再者,於上述構成之光電裝置之製造方法中, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X29?公釐) -17- 589485 A7 ____ _B7____
五、發明説明(U (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 开夕成反射層之工程是可以使反射層之一部分具有開口部地 來形成該反射層爲最佳。若依據該構成,不僅在反射型光 電裝置用基板中,即使在半透過型光電裝置用基板中,亦 可確保各顯示用像點和與此相鄰之顯示用像點間之境界區 域間之表面平坦性,可以減輕夾厚之偏差等。 (37)再者,於上述構成之光電裝置之製造方法中’ 形成遮光層之工程是使上述遮光層之高度與上述基底層之 高度可成爲大約相同地來形成遮光層爲最佳。如此一來’ 因遮光層和基底層之高度對基材成爲大約相同,故確保各 顯示用像點和與此相鄰之顯示用像點間之境界區域間之表 面平坦性,可以減輕夾厚之偏差等。 【發明之實施形態】 (原理說明) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 首先,舉出液晶裝置之例說明本發明所涉及之光電裝 置用基板及使用此之光電裝置之原理。第1圖(a)是表示是 用本發明之液晶裝置,尤其是爲構成反射型液晶裝置之基 板一例的數個顯示用像點部分之剖面構造。 並且,於一般的液晶裝置是藉由密封材料將一對基板 隔著間隙即所謂的夾厚(Cell Gap)而予以貼合,並將液晶 封入於該夾厚內而形成液晶層。於第1圖(a)中,僅表示著 一對基板中,設置反射層及著色層之側的基板,即所謂彩 色濾光基板,而且僅有該彩色瀘光基板中之數個顯示用像 點部分。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210'〆297公釐) -18- 589485 A7 B7 五、發明説明(15) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 於第1圖(a)中,再由玻璃、塑膠等所構成之透光性之 基材1上,形成作爲基底層之樹脂散亂層4,於其上方藉由 銘合金、銀合金等形成反射層2,並且於其上方形成著色層 3r、3g、3b。著色層3r是透過紅色(R),著色層3g是透過 (G),著色層3B是透過藍色(B)之層。反射層2是具有用以 使自被配置在基材1之下方的照明裝置,即所謂的背光(無 圖示)所照射之光予以透過之開口部(即是縫隙)6。 然而,於液晶裝置中,一般藉由夾著液晶層而互相相 向之一對電極互相重疊之面積部分,成爲顯示最小單位之 顯示用像點。於使用R、G、B而執行彩色顯示之時,集合 3個對應於各色之顯示用像點而形成1個畫素。再者,於執 行如黑白之單色顯示時,則形成1個顯示用像點。於第1 圖1 (a)中以符號D表示顯示像點。於互相相鄰之顯示用像 點D之間的區域上,一般設置用以抑制不需要的光而提昇 顯示對比的遮光層3 k爲較多。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於本發明中,樹脂散亂層4是被設置於對應於顯示用 像點D之區域上,但是於互相相鄰之顯示用像點D之間的 區域上則無設置樹脂散亂層4。即是,在應形成遮光層3 k 之區域上,無設置樹脂散亂層4。於第1圖(a)之構造時, 遮光層3k是藉由3r、3g、3g之3色重疊而所形成。於此 時,因重疊3個著色層,故該部分之厚度是比設置有其他1 色之著色層的區域大許多。 在此,於本發明中,是使形成遮光層3k之區域,即是 顯示用像點D以外之區域中,反射層2之下方不形成樹脂 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210><297公釐1 " 一 -19 - 589485 A7 B7 _ 五、發明説明(16) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 散亂層4。樹脂散亂層4雖然是爲了使藉由反射層2之外光 的反射光予以適度散亂而所形成者,但是在形成遮光層3k 之區域中,外光因藉由遮光層3 k而被吸收,無到達反射層 2,故即使無樹脂散亂層4亦可。如上述般,若在形成有遮 光層3 k之區域不形成樹脂散亂層4,因減少該部分之厚度 ’故可以使遮光層3k之區域和其他著色層之區域之間的厚 度差異變小,其結果可以提昇基板表面之平坦性。 第1圖(a)之時雖然是藉由3色之著色層材料3r、3g、 3b之重疊而形成遮光層3k,但是亦可以使用樹脂黑色塊而 形成遮光層3k來取代。使用樹脂黑塊之時的各層厚度雖然 是依存於液晶裝置之機種,但是一般樹脂散亂層4是爲2 //m左右,著色層之厚度爲l/zm左右,然後藉由樹脂黑色 塊之遮光層3k之厚度爲1.0〜l.5/zm左右。依此,若使遮 光層3k之區域上不形成樹脂散亂層4時,遮光層3k之厚 度則減少2 // m左右。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 爲了比較,在第1圖(b)上,表示在基材之全面上形成 樹脂散亂層之時的彩色濾光基板之剖面構造。於該基板中 ,在基材1上之全面上形成樹脂散亂層4,於其上方形成有 具有開口部6之反射層2。然後,於其上方又藉由重疊形成 R、G、B3色之著色層3r、3g、3b,而形成有遮光層3k。 因此,遮光層3k之區域,其厚度是比形成有單色之著色層 的區域厚許多。 對此,於第1圖(a)所示之本發明時,因在遮光層3k之 區域中無形成樹脂散亂層4,故構成遮光層3k之3個著色 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -20- 589485 A7 B7 五、發明説明(17) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 層3r、3g、3b僅以該樹脂散亂層4之厚度部分被形成在下 方,其結果,減少遮光層3 k區域之厚度,對於鄰接單色之 著色層區域的厚度差異爲小,或幾乎無差異。 於第1圖(a)及第1圖(b)中,爲了便於說明,使3色之 著色層3r、3g、3b之各個厚度和反射層2之厚度相等,將 樹脂亂層4之厚度設定爲該些的2倍。實際上,一般反射 層2之層厚並非那麼大,再者,雖然著色層3r、3g、3b和 樹脂散亂層4之層厚關係也藉由設計而所變動,但是藉由 省略樹脂散亂層4,因減少其部分之厚度,故遮光層3k區 域之厚度確實可以減少。 接著,第2圖(a)是表示使用樹脂黑色塊形成樹脂型黑 色矩陣即是遮光層之時的例。於該例中,除了以遮光層3k 樹脂黑色塊之層,與R、G、B著色層個別形成之點之外, 其他與第1圖(a)之情形相同。即是,雖然在基材1上形成 樹脂散亂層4,但是於形成有遮光層3k之區域上,不形成 樹脂散亂層4。於樹脂散亂層4之上方,在除了開口部6之 區域上形成反射層1,於其上方形成有各色之著色層3r、 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 3 g、3 b 〇 以比較例而言,第2圖(b)是表示在基材1之全面上形 成樹脂散亂層4之時的彩色濾光基板之剖面構造。如圖所 示般,於遮光層3k之下方也形成樹脂散亂層4,其結果, 遮光層3k之區域之厚度是比其他著色層3r、3g、3b之區 域厚。 對此,如第2圖(a)所示之本發明時,因於遮光層3k之 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) "~' -21 - 589485 A7 B7__ 五、發明説明(18) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 下方無設置樹脂散亂層4,故減少其部分之厚度,及果減少 了遮光層3k區域之厚度。而且,於第2圖(a)中,厚度減少 之結果,雖然遮光層3k之區域成爲比與此鄰接的著色層凹 入的形狀,但是這依據調整遮光層3k之厚度,或各著色層 3r、3g、3b之厚度,或反射層2之厚度,則可以更平坦化 〇 並且,本發明之特徵雖然是在形成單一著色之區域以 外的區域,即是顯示用像點D以外之區域,即是形成遮光 層3k之區域中,藉由省略樹脂散亂層4,盡可能使彩色濾 光基板之全體厚度予以平坦化,但是依此,在遮光層3k之 區域和與此鄰接之各色著色層之區域間,並非企圖使該些 厚度完全成爲一致, 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 實際上,各色之著色層、反射層、遮光層及樹脂散亂 層之厚度是隨著各種要因而設定者,不一定限於可以在遮 光層3 k之區域和各色著色層之區域之間使厚度一致。但是 一般而言,因遮光層3k之區域比各色著色層厚,故若省略 其部分之樹脂散亂層,確實減少遮光層3 k之區域和著色層 之區域之間的厚度差,本發明是依據如此,而成爲可取得 平坦性高之彩色濾光基板。 (第1實施形態) 以下,針對將第1圖U)所示之彩色濾光基板適用於半 透過反射型之液晶裝置時的實施形態予以說明。於第3圖 中,液晶裝置10A是具有密封材料13而所貼合之基板^ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)> -22- 589485 A 7 B7 五、發明説明(19) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 和基板1 2。該些基板1 1及1 2是藉由在例如玻璃、塑膠等 而所形成之基材11’及12’上形成各種層要素而所製造出。 於基板11和基板12之間封入液晶’藉由該液晶而形成液 晶層1 4。 再者,於基板12之外面上依序配置有位相差板15及 偏光板1 6,另外,在基板1 1之外面上配置有相位差板1 7 及偏光板1 8。並且,於偏光板1 8之下方,配置有於執行透 過型顯示之時發出照明光的照明裝置19來作爲背光。貼合 基板11和基板12而所構成之面板構造體是多數具有爲顯 示最小單位之顯示用像點D,該些顯示用像點D由箭號A 方向,即觀察側觀看時被配列成矩陣狀。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於基材11’上,應形成R、G、B各色之著色層的區域 ,即是應形成遮光層之區域以外的區域,即是對應於顯示 用像點D之區域上,藉由例如丙烯酸樹脂等形成有透明之 樹脂散亂層23來當作基底層。然後,於其上方,形成有反 射層2 1。依此,於應形成各色之著色層區域之樹脂散亂層 23上形成反射層21,在應形成遮光層區域之基材11’上直 接形成反射層21。並且,於樹脂散亂層23上,反射層21 是具有用以透過來自下方之照明光的開口部27。 再者,於形成有樹脂散亂層23之區域中,在反射層2 1 上形成有各色著色層22r、22g、22b。另外,在無形成樹脂 散亂層23之區域上,藉由重疊r、G、B3色之著色層,形 成遮光層22k。然後,於各色之著色層22r、22g、22b及遮 光層22k之上方,形成有用以保護該些層之保護層22p。藉 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -23- 589485 A7 _ B7_ 五、發明説明(20) 由該些著色層22r、22g、22b、遮光層22k、保護層22p而 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 形成彩色濾光片22。並且,於彩色濾光片22之保護層22p 之表面上,形成透明電極24。 於如此形成遮光層22k之區域上,雖然配置重疊3色 之著色層,但是因於其區域無設置樹脂散亂層23,故減少 與各色著色層區域之厚度差異,可以提高彩色濾光片22之 平坦性。再者,依此,可以薄化保護層22p之厚度,其結 果,也有使液晶裝置10A本體之厚度減少的優點。 另外,於基材12 ’之內面上,形成透明電極26,該透 明電極26是成爲與相向基材1 1上之透明電極24交叉的位 置關係。並且,依其所需,在基板11側之透明電極24上 及基板1 2側之透明電極26 .上,設置配向膜等之其他的光 學要素。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 接著,參照第3圖及第4圖針對設置有彩色濾光片22 之基板1 1側的構造更詳細予以說明。如第3圖及第4圖所 示般,於本實施形態中,在對應於彩色濾光片22之各色著 色層22r、22g、22b之區域上,形成有厚度50nm〜250nm 左右之反射層2 1。該反射層21是可以由鋁、鋁合金、銀合 金等之薄膜形成。並且,於第4圖之平面圖中,反射層21 是被形成在各色著色層22r、2 2g、2 2b內之開口部27以外 之區域上。 於反射層21上,例如原色之彩色濾光片之時,以〇·5 //m〜2.0//m左右之厚度各形成有R(紅)之著色層、G(綠) 之著色層22g及B(藍)之著色層22b。該些著色層是以眾知 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -24- 589485 A7 __ _B7_ 五、發明説明(21) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 之配列例如條紋配列、△配列(即是三角配列)、對角線 配列等之配列而被配置在每顯示用像點上。並且,在第4 圖所示之平面構造例上,表示著條紋配列之彩色濾光片。 於著色層22f、22g、22b之上方,形成有由透明樹脂 等所構成之保護層22。該保護層22p是保護彩色濾光基板 之製造工程中著色層不受藥劑等而腐蝕或污染,並且使彩 色濾光片22之表面予以平坦化。於本實施形態中,在形成 保護層22p之前階段中,因各色著色層22r、22g、22b區 域之厚度和遮光層22k區域之厚度的差較小,故僅形成薄 的保護層22p即可使彩色濾光片22之表面平坦。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於彩色濾光片22上多數條形成由如ITO(Indium Tin Oxide)等之透明導電體所構成之透明電極24。該些透明電 極24由箭號A方向觀看時是互相平行地被並列,全體形成 條紋狀。再者,該些透明電極24是延伸於對同樣地被條紋 狀形成在基材12’上的透明電極26正交之方向,並且被包 含於透明電極24和透明電極26(第4圖中以虛線所示)之交 叉區域內的液晶裝置1 〇 A之構成部分,即是反射層2 1、彩 色濾光片22、透明電極24、液晶層14及透明電極26中的 上述交叉區域內之部分構成顯示用像點。 於該液晶裝置1 〇 A中,執行反射型顯示時,射入至形 成有反射層2 1之區域的外部光,沿著第3圖所示之反射路 徑R而前進,以反射層2 1反射後而被觀察者視認。另外, 於執行透過型顯示之時,自照明裝置1 9所射出之照明光是 透過設置在反射層2 1之開口部27而依照路徑T所示般前 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21〇X 297公釐) -25- 589485 A7 _ B7 __ 五、發明説明(22) 進,被觀察者視認。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 並且,於本實施形態中,彩色濾光片22之各著色層 2 2r、2 2g、2 2b之配列並不限定於特定配列。即是,可以配 列成如條紋配列、三角配列、對角線配列等之各種配列。 接著,針對以上所記載之構成的液晶裝置1 〇 A之製造 方法予以說明。首先,參照第5圖針對如第3圖所示般之 具有樹脂散亂層23、反射層21及彩色濾光片22的基板構 造體之製造方法予以說明。 於第5圖(a)中,在基材1 Γ之表面上形成樹脂散亂層 23。樹脂散亂層23是僅被形成在應形成單一著色層之區域 ,即是僅對應於顯示用像點D之區域上。換言之,在應形 成遮光層22k之區域上,無形成樹脂散亂層23。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 作爲樹脂散亂層23之形成方法,是在藉由旋轉塗層形 成規定膜厚之光阻層後,予以預烘,接著配置形成有規定 圖案之光掩模而執行曝光及顯像,依此在玻璃基板表面上 形成微細之凹凸形狀。並且,藉由將形成在基材1 1’上之凹 凸施予熱處理,以熱使凹凸形狀之角變形而形成圓滑形狀 之凹凸形狀。並且,作爲樹脂散亂層23之形成方法,即使 採用除此之外的方法當然亦可。 接著,藉由蒸鍍法或濺鍍法等薄膜狀地形成如鋁、鋁 合金、銀合金等之金屬,並使用眾知之微影成像法圖案製 作此些,依此如第5圖(b)所示般,形成厚度50nm〜250nm 左右之反射層21。此時,反射層21雖然被形成在先形成有 樹脂散亂層23之區域(即是對應於各色著色層之區域)上, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -26- 589485 A7 B7 五、發明説明(23) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 及無形成有樹脂散亂層23之區域(即是對應於遮光層22k 之區域)上,但是於樹脂散亂層2 3上是被形成在除去開口 部27之區域上(參照第4圖)。 接著,塗布使呈規定色相之顏料或染料予以分散而所 構成之被著色的感光性樹脂(例如,感光性光阻)。接著,依 據利用規定圖案予以曝光,並予以顯像而執行圖案製作, 藉此依序形成厚度〇.5/zm〜2.0//m左右之著色層22r、22g 、2 2b。當形成3色著色層22r、22g、22b之時,重疊3該 些3層之部分則成爲遮光層22k。 並且,於該著色層之形成工程中,使用均勻性高之素 材當作感光性樹脂以如旋轉塗層法等之易取得平坦性之方 法塗布此。其結果,各著色層之表面在顯示用像點D內幾 乎被形成平坦。 如此,於本發明之液晶裝置10A中,因在遮光層22k 之區域上不形成樹脂散亂層23,故其部分減少遮光層22k 之全體厚度,相對於與此鄰接之各色著色層區域的厚度差 變小。依此,可提昇彩色濾光片22之平坦性。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 接著,參照第6圖針對使用如此所取得之彩色濾光基 板,而製造第3圖所示之液晶裝置1 Ο A予以說明。第6圖 是表示液晶裝置10A之製造工程的流程圖。 首先,於工程P1中,製造具有樹脂亂層23、反射層 21及彩色濾光片22的彩色濾光基板。接著,於工程P2中 ,藉由濺鍍法將透明導電體被覆在彩色濾光基板之彩色濾 光片22上,並藉由眾知之微影成像法予以圖案製作,而形 ^氏張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐^ ~~ -27- 589485 A7 ____B7 _ 五、發明説明(24) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 成透明電極24。接著,於工程P3中,在透明電極24上, 形成由聚醯亞胺樹脂等所構成之配向膜,並且對該配向膜 施予拋光處理等。依此,形成基板1 1。 另外,爲了製造相向之基板12,於工程P4中,在基材 12’上形成透明電極26。並且,於工程P5中,在透明電極 26上,形成配向膜,並且在其配向膜上施予拋光處理。依 此,形成基板1 2。 之後,於工程P6中,形成藉由密封材料13貼合基板 1 1和基板1 2的面板構造。基板1 1和基板1 2是藉由在基板 間被分散配置之無圖示的間隔物而貼合成具有規定之基板 間隔。 之後,於工程P7中,自密封材料13之開口部(無圖示) 注入用以形成液晶層1 4的液晶,其注入後,藉由如紫外線 樹脂等之封口材料封口密封材料1 3之開口部。如此一來, 於完成主要之面板構造後,在工程P8中,依其所需在面板 構造之外側上藉由貼黏等之固定方法安裝上述相位差板或 偏光板等。依此,完成如第3圖所示之液晶裝置1 〇 A。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (第2實施形態) 接著,說明本發明之其他實施形態。該實施形態是如 第2圖(a)所示般,將利用作爲遮光層之樹脂黑色塊的彩色 濾光基板適用於半透過反射之其他液晶裝置的例,其剖面 構造如第7圖所示。 於第7圖中,液晶裝置1 0B是具有藉由密封材料3 3而 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 一 "~ -28- 589485 A7 B7 五、發明説明(25) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 所貼合之基板31和基板32。該些基板31及32是藉由在由 玻璃、塑膠等所形成之基材31’及32’上,形成各種要素而 所製造出。於基板31及基板3 2之間封入液晶,藉由該液 晶而形成液晶層3 4。 於基板32之外面上,依序設置有相位差板35及偏光 板3 6。再者於基板31之外面上,依序設置有相位差板3 7 及偏光板3 8。並且,於偏光板3 8之下方上,設置有用以發 出照明光之照明裝置3 8來作爲背光。貼合基板1 1和基板 12而所構成之面板構造體,是多數具有危險是之最小單位 的顯示用像點D,該些顯示用像點D是從箭號D方向觀看 即是由觀察側觀看時呈矩陣狀配列。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於基材31’上,在應形成R、G、B各色著色層之區域 ,即是應形成遮光層之區域之外的區域,即是對應於顯示 用像點D之區域上,藉由例如丙烯酸樹脂等形成有透明之 樹脂散亂層43來當作基底層。然後,於其上方,形成有反 射層4 1。依此,於應形成各色之著色層區域之樹脂散亂層 43上形成反射層21,在應形成遮光層區域之基材31’上直 接形成反射層41。並且,於樹脂散亂層43上,反射層41 是具有用以透過來自下方之照明光的開口部47。 再者,於形成有樹脂散亂層43之區域中,在反射層4 1 上形成有各色著色層42r、42g、42b。另外,在無形成樹脂 散亂層43之區域上,利用樹脂黑色塊等形成遮光層。然後 ,於各色之著色層42r、42g、42b及遮光層42k之上方, 形成有用以保護該些層之保護層42p。藉由該些著色層42r 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -29- 589485 A7 B7 五、發明説明(26) 、4 2g、42b、遮光層42k、保護層42p而形成彩色濾光片 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 42。 並且,於彩色濾光片42之保護層42p之表面上,形成 透明電極44。 如此一來,因於形成遮光層42k之區域上,無設置樹 脂散亂層43,故減少與各色著色層區域之厚度差異’可以 提高彩色濾光片42之平坦性。再者’依此’可以薄化保護 層42p之厚度,其結果,也有使液晶裝置10B本體之厚度 減少的優點。 另外,於基材3 2 ’之內面上,形成透明電極46,該透 明電極46是成爲與相向基材3 Γ上之透明電極44交叉的位 置關係。並且,依其所需,在基板31側之透明電極44上 及基板32側之透明電極46上,設置配向膜等之其他的光 學要素。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 並且,因第7圖之液晶裝置10B之平面構造基本上與 第4圖所示之液晶裝置1 Ο A相同,固省略其說明。再者, 於本實施形態中,彩色濾光片之各著色層之配列並不限定 於特定配列。即是,可以配列成如條紋配列、三角配列、 對角線配列等之各種配列。 接著,針對以上所記載之構成的液晶裝置10B之製造 方法予以說明。首先,參照85圖針對如第7圖所示般之具 有樹脂散亂層43、反射層41及彩色濾光片42的基板構造 體之製造方法予以說明。 於第8圖(a)中,在基材3 1’之表面上形成樹脂散亂層 43。 樹脂散亂層43是僅被形成在應形成單一著色層之區域 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -30- 589485 A7 __B7 _ 五、發明説明(27) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ,即是僅對應於顯示用像點D之區域上。換言之,在應形 成遮光層42k之區域上,無形成樹脂散亂層43。並且,樹 脂散亂層43之形成方法,是與第5圖所示之實施形態之情 形相同。 接著,藉由蒸鍍法或濺鍍法等薄膜狀地形成如鋁、鋁 合金、銀合金等之金屬,並使用眾知之微影成像法圖案製 作此些,依此如第8圖(b)所示般,形成厚度50nm〜25 0nm 左右之反射層4 1。此時,反射層4 1雖然被形成在先形成有 樹脂散亂層43之區域(即是對應於各色著色層之區域)上, 及無形成有樹脂散亂層43之區域(即是對應於遮光層42k 之區域)上,但是於樹脂散亂層43上是被形成在除去開口 部47之區域上(參照第4圖)。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 接著,塗布使呈規定色相之顏料或染料予以分散而所 構成之被著色的感光性樹脂(例如,感光性光阻)。接著,依 據利用規定圖案予以曝光,並予以顯像而執行圖案製作, 如第8圖(c)所示般,依序形成厚度0.5/zm〜2.0/zm左右之 著色層42r、42g、42b。接著,利用樹脂黑色塊等,如第8 圖(d)所示般,形成遮光層42k。接著於其上方形成保護層 42p 0 如此,於本發明之液晶裝置10B中,因在遮光層42k 之區域上不形成樹脂散亂層43,故其部分減少遮光層42k 之全體厚度,相對於與此鄰接之各色著色層區域的厚度差 變小。依此,可提昇彩色濾光片42之平坦性。 接著,使用如此所取得之彩色濾光基板,而製造第7 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210><297公釐) -31 - 589485 A7 B7 五、發明説明(28) 圖所示之液晶裝置1 0B,因與參照第6圖所說明之實施形 態之情形相同,故省略其說明。 (第3實施形態) 接著,針對本發明適用於反射半透過型之被動矩陣方 式之液晶裝置之時的實施形態予以說明。第9圖爲該液晶 裝置之剖面圖。第1 0圖構成該液晶裝置之液晶面板的剖面 圖。第Π圖是構成第1 0圖之液晶面板之液晶裝置用基板 之彩色濾光基板的剖面圖。第1 2圖是該液晶面板之部分放 大圖。第12圖中之A-A’線之剖面圖相當於第10圖。第13 圖是完全除去基底層之遮光層的部分剖面放大圖。第14圖 是僅一部分除去基底層之遮光層的部分剖面放大圖。然後 ,第15圖是表示本實施形態所涉及之液晶裝置之製造方法 之一的實施形態之工程圖。 液晶裝置1 〇 1是具有:擁有所謂的反射半透過型之構 造的液晶面板1 02,和依其所需而設置的照明裝置1 3 1,和 支撐液晶面板1 〇2及照明裝置1 3 1的框體1 32。 液晶面板102是如第10圖所示般,藉由密封材料13 3 ( 參照第9圖)而貼合以由玻璃板或合成樹脂板等所形成之透 明第1基材1〇3爲基體之彩色濾光基板6〇4,和以與此相向 之第2基材1〇5爲基體之對向基板6〇6,於該彩色濾光基板 6 04和對向基板606之間封入液晶而形成液晶層607。再者 ,於第1基材1〇3之外面上,配置相位差板1〇8及偏光板 1 09,於第2基材1 〇5之外面上配置有相位差板1 1 0及偏光 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、τ - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 589485 A7 B7 五、發明説明(29) 板1 1卜 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 關於彩色濾光基板604,如第10圖、第11圖及第12 圖所示般,是於第1基材103之液晶層607側之面上形成 基底層112,於其基底層112之表面上設置有反射層113。 再者,於基底層112之表面上設置有反射層113之部分是 構成反射部1 25,藉由被形成在反射層1 1 3之開口部而構成 透過部。 於反射層1 1 3上,以規定之配列圖案形成綠色之著色 層114G、藍色之著色層114B及紅色之著色層114R。關於 該些著色層,於之後之說明中,全部以符號“ 114”予以表 示。於互相相鄰之著色層1 1 4之間的境界區域上,設置遮 光層115。再者,於著色層114及遮光層115上,設置有用 以保護該些層之外敷層116。再者,於外敷層116上形成有 由ITO(Indium Tin Oxide:銦錫氧化物)等之透明導電體所 構成之透明電極117,並且於其上方形成有由聚醯亞胺樹脂 等所構成之配向膜Π 8。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 另外,於對向基板606上,如第10圖及第12圖所示 般,在第2基材105之液晶層607側之表面上,透明電極 1 1 9是被形成延伸於與第1基材1 03側之透明電極1 1 7正交 之方向(即是,第12圖的X方向)的帶狀,並且,於其上方 形成有配向膜1 20。透明電極1 1 7是互相並列而被構成自A 方向觀看呈條紋狀,透明電極1 1 9是互相並列於與此正交 的方向上,自箭號A方向觀看時則構成條紋狀。平面性重 疊第1基材103側之透明電極1 17和第2基材105側之透 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -33- 589485 A7 B7 五、發明説明(30) 明電極的部分,是構成顯示最小單位之顯示像點D。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 彩色濾光基板604之基底層112是由樹脂材料所構成 ,如第13圖所示般,由下層112a及上層112b之2層所形 成。該基底層112是下層112a之表面被加工成微細之凹凸 狀,並且於該下層112a之表面全體被覆蓋相同材料之薄的 上層1 1 2 b。依此,於基底層1 1 2之表面形成圓滑的凹凸狀 。再者,該基底層1 1 2是使過光予以散亂者,依此,可以 解決難以明視所顯示之畫面影像的問題。 再者,反射層113爲例如鋁或銀等之單體金屬膜,而 被形成在基底層I12上’對應於基底層112之表面凹凸而 於反射層11 3之表面也形成微細之凹凸。依此’藉由該凹 凸反射層1 1 3亦可以使所反射之反射光予以散亂’可以解 決難以明視所顯示之畫面影像的問題。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於反射層1 1 3上,例如第1 2圖所示般,在顯示用像點 D之略中央上,形成有略長方形之開口部122,該開口部 122成爲用以透過光之透過部。自第9圖之照明裝置131所 射出之面狀的光,是透過該開口部1 22而被供給至液晶層 6〇7。並且,開口部122並不限定於該例之形狀,亦可以使 成爲其他形狀,例如圓孔。再者,開口部122之數量,不 限於1個,可以設成多數。 於第10圖中,著色層114是塗布由含有顏料或染料之 著色劑的感性樹脂所構成之著色光阻,並藉由微影成像法 圖案製作此而所形成。依據該圖案製作,形成有用以透過 通過第1基材103的來自照明裝置131之光的開口部122 ’ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -34- 589485 A7 B7 五、發明説明(31) 和覆蓋該開口部1 22周圍之反射層1 1 3的部分。如本實施 形態般,於設置R、G' B3色之著色層114之時,針對各 色依序執行上述圖案製作處理。 作爲著色層11 4之配列圖案,於第1 2圖雖然採用斜馬 賽克配列,但是除了以該斜馬賽克配列作爲配列圖案之外 ,亦可以採用如條紋配列或數位配列等之各種圖案形狀。 於第1 〇圖中,遮光層11 5是被形成在各顯示用像點d 之間的境界區域上,而遮光該境界區域。該遮光層1 1 5是 被形成可帶狀地各延伸於第1基材103上之透明電極Π7 之長邊方向(即是第12圖之Y方向),及與此正交之方向(即 是第12圖之X方向)的兩方向上。 再者,遮光層Π 5是藉由將金屬鉻、碳、鈦等分散於 光阻而形成的樹脂黑色塊,或如鎳等之金屬材料而所形成 。該遮光層115也被稱爲黑色矩陣、黑色掩模等。 再者,遮光層115是如第13圖所示般,被形成在對應 於相鄰之顯示用像點D之間的境界區域的基底層1 1 2上所 設置之開口部123之中。然後,該遮光層1 1 5之來自第1 基材103之液晶層607側之面的高度,是被設定成幾乎與 和該遮光層115相鄰之著色層114之表面和該遮光層115 之表面一致的高度。 例如,於第13圖中,(1)將互相相鄰之著色層1 14之厚 度設爲hll,將反射層II3之厚度設爲hi2’將基底層112 之厚度設爲hl3時,(2)遮光層115之厚度hi4和反射層 113之厚度hl2的和,若被形成與h11、h12及h13之合計 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公董) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、τ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -35· 589485 A7 _______B7 _ 五、發明説明(32) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 略相等時,則可確保各顯示用像點D之表面和遮光層1 1 5 之表面之間的平坦性,依此,可以降低夾厚之偏差,再者 ,成爲更易執行拋光處理。然後,其結果,液晶裝置之畫 面顯示的對比成爲較佳。 成爲用以收容遮光層115之基底層112的凹陷,是如 第13圖所示般,不限於開口部123,可以設爲如第14圖所 示之凹部123。於此時,對應於凹部123之底部124的基底 層1 1 2無完全被除去。於此時,遮光層1 1 5亦僅有凹部1 23 之深度,其高度變低。 例如,於第14圖中,當將對應於凹部123之底部124 的基底層112之厚度設爲hl5時,使遮光層115之厚度hl4 和反射層之厚度hl2之和,設爲與著色層114之厚度hll 和反射層之厚度hl2和基底層112之厚度hl3之合計大約 相等,藉由形成遮光層115,確保各顯示用像點D之表面 和遮光層1 1 5之表面之間的平坦性,依此可降低夾厚之偏 差,再者成爲容易執行拋光處理。然後其結果液晶裝置之 畫面顯示之對比則成爲較佳。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 並且,顯示用像點D是藉由遮光層115而包圍其周圍 的區域,於其顯示用像點D之內部上,包含有R、G、B中 之任一色的著色層114,並且,包含有反射層113及開口部 122。1畫素是藉由包含有R、G、B之各色之著色層114的 3個顯示用像點D而所構成。 以上所構成之本實施形態,於第9圖中,當掃描訊號 或資料訊號之一方供給至形成於第2基材105上之透明電 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -36- 589485 A7 _ B7 五、發明説明(33) 極1 1 9,並且當掃描訊號或資料訊號之另一方供給至形成於 第1基材103側之透明電極117上之時,則可以僅驅動被 保持於在透明電極1 1 9和透明電極1 1 7交叉之區域上所形 成之顯示用像點D上的液晶。 當考慮反射型之顯示時,於第10圖中,自對向基板 606側射入至液晶層607之外部光,是於透過著色層114之 後由反射層1 1 3反射,並液晶層607被每顯示用像點D調 製,而再次透過對向基板606,射出至外部。此時,於本實 施形態中,因外敷層1 1 6爲平坦,故藉由射出至對向基板 606之外部的光,可以觀看到對比淸晰之畫像。 另外,當考慮透過型之顯示時,自照明裝置131 (參照 第9圖)所射出之光,通過第1基材103及透過部122而射 入液晶層607。該光之後藉由液晶層60 7而被每顯示用像點 D調製,通過透明電極1 1 9及第2基材1 05而射出至外部 。藉由該射出光,可以看見對比淸晰之畫像。並且,該射 出光是藉由覆蓋反射層113及透過部122的著色層114,而 被著色成對應的顏色。 於本實施形態中,因形成基底層1 1 2,使可在互相鄰接 之顯示用像點D之間的境界區域具有如開口部123 (第13圖 )或凹部123(第14圖)等之凹陷,故僅以其凹陷部分可以使 遮光層115之高度變低,因此可以確保各顯示用像點D之 表面和與此相鄰之像點間區域之表面之間的平坦性。 並且,如第14圖所示般,對應於凹部123之底部124 的基底層112完全無被去除時,基底層112是可以藉由第1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1Τ d 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -37- 589485 A7 _____B7 ___ 五、發明説明(34) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 絕緣層112a和被設置成可在該第1絕緣層n2a上具有凹 部12 3的第2絕緣層〗1 2b而形成。於此時,可以降低夾厚 之偏差’並且可以容易執行拋光處理。其結果可提昇液晶 裝置之顯示畫面的對比。 (液晶裝置之製造方法) 接著’根據第1 5圖之工程圖說明本實施形態所涉及之 液晶裝置之製造方法。首先,於第1 5圖之工程P1中,於 第1基材103上形成作爲樹脂散亂層的基底層112。在此, 在因形成遮光層1 1 5之顯示用像點D之間的境界區域中, 藉由使用光阻而予以蝕刻基底層1 1 2,圖案製作成如第1 3 圖所示般在基底層112上形成開口部123,或如第14圖所 示般在基底層112上形成凹部123。 若針對此再更詳細說明,即是藉由旋轉塗層將樹脂材 料均勻地塗布在第1基材103上,並自形成有規定圖案之 光掩模上曝光光阻,並顯像處理該光阻。之後,藉由蝕刻 在基底層112上形成多數之穴。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 接著,依據對該基底層1 1 2加熱,使該些穴圓滑變形 而形成凹凸狀之基底層112之下層112a。並且,薄膜狀地 塗布相同樹脂材料,使該基底層1 1 2之凹凸狀可成爲滑面 ,並形成基底層112之上層112b。 並且,於該基底層112上塗布光阻,之後,自形成有 規定圖案之光掩模上曝光光阻,並顯像處理該光阻。之後 ,藉由鈾刻在形成遮光層1 1 5之部分的基底層Π 2處,形 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -38- 589485 A7 B7 五、發明説明(35) 成凹部123。 接著’於工程P2中,藉由蒸鍍法或濺鍍法等將鋁等薄 膜狀地形成在基底層1 1 2上,並使用微影成像法圖案製作 此,依此,例如第12圖所示般,在各顯示像點D之略中央 設置略長方形狀之開口部1 22,並且於除此之外的區域上形 成反射層1 1 3。 接著,於工程P3中,將遮光材料從反射層113之上方 塗布在形成有凹部123之基底112上。該遮光材料是依據 將碳黑等分散於樹脂中而所形成。接著,依據光刻技術予 以圖案化加工,而在基底層112之凹部123上形成遮光層 1 15 〇 接著,於工程P4中,藉由旋轉塗層塗布各色著色層材 料於反射層1 13及開口部122上,並且於其上塗布光阻, 顯像處理光阻,並予以蝕刻而形成著色層1 1 4。如此一連串 之處理是針對R、G、B各色之順序而所執行,依此,以所 欲之配列形成R、G、B之各色著色層。 接著,於工程P5中,於著色層114上形成外敷層116 。於本實施形態中,在基底層112之凹部123處,因形成 有遮光層1 1 5,故僅以該凹部1 23之深度可降低遮光層1 1 5 之高度。因此,於本工程中,當形成外敷層1 1 6時,則可 以平坦地形成該外敷層1 1 6。因此,可以降低夾厚之偏差, 並可以容易執行拋光處理。其結果,在液晶裝置之顯示中 ,可達成對比之淸晰化。 接著,於工程P6中,藉由濺鍍法在外敷層1 1 6上被覆 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 __ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 39- 589485 A7 __ B7_ 五、發明説明(36) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 爲透明電極117之材料的ITO等,並藉由微影成像法予以 圖案製作,如第1 2圖所示般在Y方向持有規定寬度而條紋 狀地形成電極1 1 7。 接著,於工程P7中,在電極1 17上形成配向膜1 1 8, 並施予拋光處理而完成彩色基板604之製造。依此,配向 膜118之液晶層607之面也被確保平坦性,亦可解決夾厚 之偏差,可達成畫面之高晝質化。 另外,關於第1〇圖之對向基板606,是於第15圖之工 程P 1 1中,藉由濺鍍法在第2基材1 05上被覆爲透明電極 119之材料的ITO等,並藉由微影成像法予以圖案製造, 則如第12圖所示般在X方向上條紋狀地形成透明電極1 19 。接著,於工程P12中,在電極119上形成配向膜120,並 且施予拋光處理。依此,製造對向基板606。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 接著,於工程P2 1中,藉由乾燥散佈等分散間隔材料 129(參照第9圖)於對向基板606上,並依據密封材料貼合 彩色濾光基板604和對向基板606。之後,於工程P22中, 自密封材料1 3 3之開口部注入液晶,於該注入完成後,藉 由紫外線樹脂等所構成之封口材料封口該開口部。 接著,於工程P23中,藉由貼黏等之方法將相位差板 108、110及偏光板109、111各安裝在第1基材1〇3及第2 基材105之外面上。接著,於工程P24中,藉由執行所需 之配線,或安裝照明裝置131及框體132等,完成第9圖 所示般之液晶裝置。 本實施形態之液晶裝置10 1之製造方法,因於第13圖 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210'〆297公釐) -40 - 589485 A7 _ B7 _ 五、發明説明(37) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 中,在基底層122形成開口部123,設置遮光層使可掩模該 開口部1 23,故可以降低該遮光層1 1 5之高度,可以確保外 敷層11 6之表面的平坦性。依此,可以降低夾厚之偏差, 並可以易執行拋光處理,其結果,在液晶裝置之顯示中, 可達成對比之淸晰化。 並且,於第1 3圖中,雖然依據在基底層1 1 2設置開口 部123,在成爲遮光層115之區域中完全除去基底層112, 但是如第14圖所示般,即使分成第1絕緣層112a及第2 絕緣層112b之2次而形成基底層112,並僅設置相當於第 2絕緣層1 1 2b之厚度的凹部1 23,來取代此亦可。
於此時,可以採用例如下述般之方法。即是,於第1 次之處理中,包含成爲遮光層1 1 5之區域的顯示用像點D 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 .之間的境界區域,而在基材1 03之全面上形成第1絕緣層 112a,並與第13圖中之基底層112之下層112a相同形成 凹凸。然後,於形成第2次的第2絕緣層1 12b之時,除了 將成爲遮光層1 1 5之顯示用像點D之間的境界區域之外, 在各顯示顯示用像點D上,藉由使用光阻而予以鈾刻亦可 以第2絕緣層112b。 當如第13圖所示般,在開口部123之處完全除去基底 層112之時,相反的有損失互相相鄰之顯示用像點D間之 境界區域的表面和顯示用像點D的表面之間的平坦性之情 形。於如此之時,藉由採用使用第14圖所示之凹部1 23的 構成,可以以所欲之厚度形成基底層1 1 2而確保平坦性, 除了可以使夾厚之偏差減少外之外,亦可容易執行拋光處 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21〇X297公釐) ~ -41 - 589485 A7 B7 五、發明説明(38) 理。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 並且,亦可使用半色調(Halftone)來形成凹部123。 (第4實施形態) 接著,針對本發明適用於使用二端子型開關元件作爲 開關元件之TFD(Thin Film Diode)的反射半透過型之液晶裝 置之時的實施形態予以說明。 第16圖爲構成本發明之液晶裝置之其他實施形態的液 晶面板之剖面圖。第1 7圖構成第1 6圖之液晶面板的液晶 裝置用基板之剖面圖。並且,第1 8圖是該液晶面板之部分 放大圖。第18圖中之B-B’線之剖面圖相當於第16圖。第 1 9圖是完全除去樹脂散亂層之狀態的遮光層之部分剖面放 大圖。第20圖是僅一部分除去樹脂散亂層之遮光層的部分 剖面放大圖。然後,第21圖是針對本實施形態所涉及之液 晶裝置之製造方法的製造工程圖。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第16圖所示之液晶裝置202是具有所謂的反射半透過 型之構造的液晶面板,使用該液晶面板202而所構成之液 晶裝置之構造’是大約與第9圖所示之液晶裝置1 〇 1相同 。即是,依據依其所需在液晶面板202上裝設照明裝置i 3 j 和框體1 3 2,而構成液晶裝置。 於第16圖中,液晶面板2〇2是具有藉由密封材料 參照第9圖)而貼合的桌1基材2〇3及弟2基材205。於該 些基材間封入液晶而形成液晶層207。再者,於第1基材 2〇3之外面上’配置相位差板208及偏光板2〇9’於第2基 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210x297公釐) -42- 589485 A7 B7 五、發明説明(.39) 材205之外面上配置有相位差板2 1 0及偏光板2 1 1。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 於第1基材203之液晶層207側之表面上,形成基底 層212,於其基底層212之表面上設置有反射層213。再者 ,於基底層212之表面上設置有反射層213之部分是構成 反射部225,藉由被形成在反射層213之開口部222而構成 透過部。 於反射層2 1 3上,如第1 7圖所示般,以規定之配列圖 案形成綠色之著色層214G、藍色之著色層214B及紅色之 著色層214R。關於該些著色層,於之後之說明中,全部以 符號“214”予以表示。於互相相鄰之著色層2 14之間的境 界區域上,設置遮光層7 1 5。 再者,於著色層214及遮光層715上,設置有用以保 護該些層之外敷層2 1 6。再者,於外敷層2 1 6上形成有由 ITO(Indium Tin Oxide :銦錫氧化物)等之透明導電體所構成 之資料線226,並且於其上方形成有由聚醯亞胺樹脂等所構 成之配向膜2 1 8。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 另外,於第2基材205之液晶層207側之表面上,配 置有由箭號A方向觀看呈矩陣狀配列的多數像點電極227 ,和被設置在各像點電極227之間的境界區域的多數掃描 線28,和被連接於像點電極227和掃描線228的TFD 729。 再者,於該些上方形成配向膜22〇。並且,掃描線228是在 各像點電極間之境界區域中,帶狀地延伸於與第1基 材2〇3側之資料線226交叉之方向(即是,第18圖之Y方 向)。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 589485 A7 B7 五、發明説明(40) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 在此,多數資料線226是各被形成可帶狀延伸至第16 圖之紙面垂直方向(即是,第18圖之X方向),再者,藉由 以規定間隔互相平行地被並列在第1 6圖之左右方向,而被 形成自箭號A方向起觀看時整體呈條紋狀。自箭號A方向 觀看該些資料線226和像點電極227時呈平面性重疊之區 域則成爲顯示用像點D。 於第16圖中,彩色濾光基板204之基底層212是由樹 脂材料所構成,並且,由下層212a及上層212b之2層所 形成。該基底層2 1 2是下層2 1 2a之表面被加工成微細之凹 凸狀,並且於該下層212a之表面全體被覆蓋相同材料之薄 的上層212b。依此,於基底層212之表面形成圓滑的凹凸 狀。再者,藉由該凹凸形狀,透過基底層2 1 2之光爲散亂 ,依此,可以解決難以明視所顯示之畫面影像的問題。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 再者,反射層213爲例如鋁或銀等之單體金屬膜,而 被形成在基底層212上,對應於基底層212之表面凹凸而 於反射層2 1 3之表面也形成微細之凹凸。依此,藉由該凹 凸反射層2 1 3亦可以使所反射之反射光予以散亂,可以解 決難以明視所顯示之畫面影像的問題。 並且,於反射層213上,例如第18圖所示般,在顯示 用像點D之略中央上,形成有略長方形之開口部222,該 開口部222成爲透過部。自照明裝置13 1 (參照第9圖)所 射出的光,是透過該開口部222而被供給至液晶層207。並 且,開口部2W並不限定於該例之形狀,亦可以使成爲其 他形狀,例如圓孔。再者,1個顯示用像點D內之開口部 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X:Z97公釐) ' -44 - 589485 A7 B7 五、發明説明(41) 222之數量,不限於1個,可以設成多數。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 著色層2 1 4是塗布由含有顏料或染料之著色劑的感性 樹脂所構成之著色光阻,並藉由微影成像法圖案製作此而 所形成。依據該圖案製作,形成有用以透過通過第1基材 203的來自照明裝置131之光的開口部222,和覆蓋該開口 部222周圍之反射層.2 1 3的部分。如本實施形態般,於設 置R、G、B3色之著色層214之時,針對各色依序執行上 述圖案製作處理。 遮光層2 1 5是被形成在各顯示用像點D之間的境界區 域上,而遮光該境界區域。該遮光層215是被形成可帶狀 地各延伸於第2基材205上之掃描線228之長邊方向(即是 第18圖之Y方向),及與此正交之方向(即是第18圖之X 方向)的兩方向上。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 再者,遮光層215是如第19圖所示般,被形成在對應 於相鄰之顯示用像點D之間的境界區域的基底層2 1 2上所 設置之開口部223之中。開口部223之底部是經由反射層 213而被形成在第1基材203上。遮光層215是被設在開口 部223之反射層213上,使可與相鄰之著色層214成爲相 同高度。 例如,於第19圖中,將互相相鄰之著色層214之厚度 設爲h21,將反射層213之厚度設爲h22,將基底層212之 厚度設爲h23時,遮光層215之厚度h24和反射層213之 厚度h22的和,若被形成與h2l、h22及h23之合計略相等 時,則可確保各顯示用像點D之表面和遮光層2 1 5之表面 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -45- 589485 A7 _ B7 五、發明説明(42) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 之間的平坦性,依此,可以降低夾厚之偏差,再者,成爲 更易執行拋光處理。然後,其結果,液晶裝置之畫面顯示 的對比成爲較佳。 成爲用以收容遮光層2 1 5之基底層2 1 2的凹陷,是如 第19圖所示般,不限於開口部223,可以設爲如第20圖所 示之凹部223。於此時,對應於凹部223之底部224的基底 層212無完全被除去。於此時,遮光層215亦僅有凹部123 之深度,其高度變低。 例如,於第20圖中,當將對應於凹部223之底部224 的基底層212之厚度設爲h25時,使遮光層215之厚度h24 和反射層之厚度h22之和,設爲與著色層214之厚度h2 1 和反射層之厚度h22和基底層2 12之厚度h23之合計大約 相等,藉由形成遮光層2 1 5,確保各顯示用像點D之表面 和遮光層2 1 5之表面之間的平坦性,依此可降低夾厚之偏 差,再者成爲容易執行拋光處理。然後其結果液晶裝置之 畫面顯示之對比則成爲較佳。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 並且,顯示用像點D是藉由遮光層215而包圍其周圍 的區域,於其顯示用像點D之內部上,包含有R、G、B中 之任一色的著色層214,並且,包含有反射層213及開口部 222。1畫素是藉由包含有R、G、B之各色之著色層214的 3個顯示用像點D而所構成。 接著,像點電極227是藉由例如ITO等之透明導電體 所形成,該像點電極227是經由TFD而被連接於掃描線 上。TFD729是如第16圖所示般,被形成在成膜於第2 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -46- 589485 A7 B7 五、發明説明(43) (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁} 基材205之表面上的基底層230之上方。再者,TFD729是 藉由第1金屬層231和被形成在該第1金屬層23丨之表面 的絕緣膜2 3 2,和被形成在該絕緣膜2 3 2之上的第2金屬層 233而所構成。 在此,第1金屬層231是藉由例如厚度1〇〇〜5〇〇nm左 右之Ta單體膜、Ta合金膜等而所形成,被連接於掃描線 228。再者,絕緣膜232是藉由例如厚度1〇〜35nm左右之 氧化钽等所形成。再者,第2金屬層233是藉由鉻(Cr)等之 金屬膜形成50〜300nm左右之厚度,而被連接於像點電極 227 上。 於以上所構成之本實施形態中,當將掃描訊號供給至 形成於第2基材205上之各掃描線228,另外將資料線供給 至形成於第1基材203側之資料線226之時,則可以僅驅 動被保持於像點電極227和資料線226相向之部分的液晶 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 當考慮反射型之顯示時,通過第2基材205及像點電 極227而射入至液晶層207之外部光,是藉由反射層213 而反射,並進入液晶層207而被每顯示用像點D調製,然 後通過像點電極227及第2基材205而射出至外部,藉由 該射出光使得影像被顯示至外部。此時,於本實施形態中 ,因外敷層2 1 6爲平坦,故可以觀看到對比淸晰之畫像。 另外,當考慮透過型之顯示時,來自照明裝置13 1(參 照第9圖)之光,通過第1基材203及開口部222而供給至 液晶層207,藉由該液晶層207而被每顯示用像點D調製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -47- 589485 A 7 B7 五、發明説明(44) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ,並且,通過像點電極227及第2基材205而射出至外部 。藉由該射出光而使得影像被顯示至外部。於此時,因外 敷層2 1 6亦爲平坦,故可以觀看到對比淸晰之畫像。並且 ,該射出光是藉由覆蓋反射層213及透過部222的著色層 214,而被著色成對應的顏色。 於本實施形態中,因形成基底層212,使可在互相鄰接 之顯示用像點D之間的境界區域具有如開口部223 (第19圖 )或凹部223 (第20圖),故可以降低遮光層215之高度。依 此,可以使著色層214之表面和遮光層215之表面的高度 成爲大約相同。 並且,如第20圖所示般,在凹部223之處,基底層 212完全無被去除時,基底層212是可以藉由第1絕緣層 212a和被設置該第1絕緣層212a上之第2絕緣層212b而 構成。於此時,形成第2絕緣層212b之厚度部分的凹部 223。於此時,亦可以減低外敷層2 1 6上面之凹凸,依此, 可以降低夾厚之偏差,再者,可以容易執行拋光處理。其 結果可提昇液晶裝置之顯示畫面的對比。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 又,於本實施形態中,因爲TFD型之主動矩陣方式, 故畫面爲明亮淸晰,並且可以將消耗電力及製造成本抑制 成較低。 (液晶裝置之製造方法) 接著,根據第21圖之工程圖說明本實施形態所涉及之 製造方法。首先,工程P3 1中,於第1基材203上形成作 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -48 - 589485 A7 B7 五、發明説明(45) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 爲基底層的樹脂散亂層2 12。在此,於第1 6圖中,在形成 遮光層2 1 5之各顯示像點D間的境界區域中,例如第1 9圖 所示般,藉由使用光阻而予以蝕刻基底層2 1 2,使在基底層 212可形成開口部223。 若針對此再更詳細說明,即是藉由旋轉塗層將樹脂材 料均勻地塗布在第1基材203上,並在其上方塗布光阻, 將該光阻自形成有規定圖案之光掩模上予以曝光光阻,並 顯像處理該光阻,並蝕刻該光阻而在基底層2 1 2上形成多 數之穴。接著,依據對該基底層212加熱,使該些穴圓滑 變形而形成凹凸狀之基底層212之下層212a。 並且,薄膜狀地塗布相同樹脂材料,使基底層212之 凹凸狀可成爲滑面,並形成基底層212之上層212b。並且 ,於該基底層2 1 2上塗布光阻後,自形成有規定圖案之光 掩模上曝光光阻,並顯像處理該光阻。之後,藉由蝕刻該 光阻而在基底層212形成開口 223,在應形成遮光層215之 部分除去基底層2 1 2。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 接著,於工程P32中,藉由蒸鍍法或濺鍍法等將鋁等 薄膜狀地形成在基底層2 1 2上,並使用微影成像法圖案製 作此,依此,例如第1 8圖所示般,在各顯示像點D之略中 央設置略長方形狀之開口部222,並且於除此之外的區域上 形成反射層2 1 3。 接著,於工程P33中,將遮光材從反射層213之上方 塗布在形成有開口部223之基底212上,之後,藉由光刻 技術予以圖案化加工,而在基底層212之開口部223之中 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -49- 589485 A7 ____B7 _ 五、發明説明(46) 形成遮光層215。而且,作爲上述之遮光材料,是可以使用 將碳黑等分散於樹脂中而所形成之材料。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 接著,於工程P34中,藉由旋轉塗層塗布1色之著色 層材料於第1 7圖之反射層2 1 3及開口部222上,並且於其 上塗布光阻,並從形成有規定圖案之光掩模之上方曝光光 阻,並加以顯像處理該光阻後,予以鈾刻而形成該1色之 著色層214。再者,關於其他2色是重複相同之處理,而將 R、G、B3色之著色層214形成所欲之配列圖案。 接著,於工程P35中,於著色層214上形成外敷層216 。於本實施形態中,在基底層212之開口部223處,因形 成有遮光層2 1 5,故僅以該開口部223之深度可降低遮光層 2 1 5之高度。因此,於本工程中,當形成外敷層2 1 6時,則 可以平坦地形成該外敷層2 1 6。因此,可以降低夾厚之偏差 ’並可以容易執行拋光處理。其結果,在液晶裝置之顯示 中,可達成對比之淸晰化。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 接著,於工程P36中,藉由濺鍍法在外敷層216上被 覆爲資料線226之材料的ITO等,並藉由微影成像法予以 圖案製作後’如第18圖所不般在X方向持有規定寬度而條 紋狀地形成資料線226。並且,在資料線226上形成配向膜 ,並對該配向膜施予拋光處理。依此,製造出彩色濾光片 204 〇 另外,於工程41中,在第16圖之第2基材205上, 形成TFD729、掃描線228及像點電極227。在此,TFD729 是在第2基材205上成膜相同厚度之Ta氧化物而形成基底 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) " — -50- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(47) 層23 0,並於其上方,藉由濺鍍法以相同厚度成膜,再者, 使用微影成像法等同時形成掃描線228和第1金屬膜23 1。 此時,掃描線228和第1金屬層23 1是以橋接方式連接。 再者,於第1金屬膜層231上以相同厚度成膜爲絕緣 膜之氧化鉅等而形成絕緣膜232,又於其上方藉由濺鍍等以 相同之厚度成膜〇,又利用微影成像法形成第2金屬層 233 ° 接著,於除去像點電極227之形成預定區域之基底層 23 0後,藉由濺鍍等以相同之厚度成膜ITO,並藉由微影成 像法將相當於1個顯示用像點之大小的規定形狀之像點電 極227,形成其一部分可與第2金屬層23 3重疊。依據該些 一連串之處理形成TFD729及像點電極227。 接著,於工程P42中,在像點電極227等上形成配向 膜220,又對其配向膜220施予拋光處理。依此,形成對向 基板206。 接著,於工程P51中,藉由乾燥散佈等分散間隔材料 129(參照第9圖)於對向基板206側之配向膜220上,並依 據密封材料1 3 3貼合彩色濾光基板204和對向基板206。 接著,於工程P52中,通過密封材料133之開口部注 入液晶於基板間之間隙,即所謂夾厚內,於該注入完成後 ’藉由紫外線樹脂等所構成之封口材料封口該開口部。接 著,於工程P 53中,藉由貼黏等之方法將第! 6圖之相位差 板208、210及偏光板209、211各安裝在第1基材203及 第2基材205之外面上。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) I--------衣-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} •、-口 d - 51 - 589485 A7 _B7_ 五、發明説明(48) 接著,於工程P54中,藉由對第16圖之液晶面板202 ,執行所需之配線,或安裝照明裝置1 3 1及框體1 3 2等, 而完成第9圖中符號1 〇 1所示般之全體構成的液晶裝置。 並且,於上述所說明之液晶裝置之製造方法中,雖然 如第19圖所示般,在形成遮光層215之區域完全去除基底 層2 12而形成開口部223,但是即使分成第1絕緣層212a 及第2絕緣層2 1 2b之2次而形成基底層2 12,設置對應於 第2絕緣層2 12b之厚度的凹部223,來取代此亦可。 於此時,在第1次之處理中,包含成爲遮光層215之 區域的顯示用像點D之間的境界區域,而在基材203之全 面上形成第1絕緣層212a,並與第19圖中之基底層212之 下層212a相同形成凹凸。然後,於藉由第2次的處理而形 成第2絕緣層2 1 2b之時,除了將成爲遮光層2 1 5之顯示用 像點D之間的境界區域之外,在各顯示顯示用像點D上, 可依據將光阻當作材料而予以蝕刻來形成凹部223。 當如桌19圖所不般,在開口部223之處完全除去基底 層2 1 2之時,相反的有損失互相相鄰之顯示用像點D間之 境界區域的表面和顯示用像點D的表面之間的平坦性之情 形。於如此之時,如第20圖所示般,藉由在凹部223之處 將基底層2 1 2形成所欲之厚度,則可在顯示用D間之境界 區域和顯示用像點D之區域之間確保平坦性,依此除了可 以使夾厚之偏差減少外之外,亦可容易執行拋光處理。 並且,亦可使用半色調(Halftone )來形成凹部223。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21〇><297公釐) ---------^^衣-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 d 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -52 - 589485 A7 _B7 _ 五、發明説明(49) (第5實施形態) 接著,針對本發明適用於使用三端子型開關元件作爲 反射半透過型之開關元件之TFT(Thin Film Transistor)的液 晶裝置之時的實施形態予以說明。 第22圖爲構成本發明之液晶裝置之其他實施形態的液 晶面板之剖面圖。第23圖構成第22圖之液晶面板的液晶 裝置用基板之剖面圖。第24圖是該液晶面板之部分放大圖 。並且,第24圖中之D-D’線及E-E’線之剖面圖相當於第 22圖。第25圖是完全除去當作基底層之樹脂散亂層之狀態 的遮光層之部分剖面放大圖。第26圖是僅一部分除去當作 基底層之樹脂散亂層之遮光層的部分剖面放大圖。然後, 第27圖是本實施形態所涉及之液晶裝置之製造方法的製造 工程圖。 第22圖所示之液晶裝置302是具有所謂的反射半透過 型之構造的液晶面板,使用該液晶面板302而所構成之液 晶裝置之構造,是大約與第9圖所示之液晶裝置1 01相同 。即是,依據依其所需在液晶面板302上裝設照明裝置131 和框體132,而構成液晶裝置。 於第22圖中,液晶面板3 〇2是具有藉由密封材料1 3 3 ( 參照第9圖)而貼合的第1基材303及第2基材3 05。於該 些基材間封入液晶而形成液晶層3 07。再者,於第1基材 3 03之外面上,配置相位差板3 08及偏光板3〇9,於第2基 材3 05之外面上配置有相位差板310及偏光板311。 於第1基材303之液晶層307側之表面上,形成基底 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐Ί ^ -53- ---------^^衣-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、11 d 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 589485 A7 B7 五、發明説明(50) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 層312,於其基底層312之表面上設置有反射層313。再者 ’於基底層312之表面上設置有反射層313之部分是構成 反射部3 25,藉由被形成在反射層313之開口部322而構成 透過部。 於反射層3 1 3上,如第2 3圖所示般,以規定之配列圖 案形成綠色之著色層314G、藍色之著色層314B及紅色之 著色層314R。關於該些著色層,於之後之說明中,全部以 符號“314”予以表示。於互相相鄰之著色層314之間的境 界區域上,設置遮光層315。 再者,於著色層314及遮光層315上,設置有用以保 護該些層之外敷層3 1 6。再者,於外敷層3 1 6上形成有由 IT〇(Indium Tin Oxide :銦錫氧化物)等之透明導電體所構成 之共通電極3 3 4,並且於其上方形成有由聚醯亞胺樹脂等所 構成之配向膜3 1 8。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 接著,於第22圖中,在第2基材305之液晶層307側 之表面上,配置有由箭號A方向觀看呈矩陣狀配列的多數 像點電極327,和在各像點電極327之間的境界區域中呈正 交的聞極配線3 3 5及源極配線3 3 6 (閘極配線3 3 5爲第2 4圖 之Y方向,源極配線3 3 6爲X方向),並在其配線之交叉部 分附近設置TFT3 3 7,又在其上方形成有配向膜320。 在此,共通電極334爲被形成在外敷層316之表面全 區域的面狀電極,藉由閘極配線3 3 5和源極配線336所包 圍之區域則成爲顯示用像點D。 彩色濾光基板304之基底層312是由樹脂材料所構成 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ~ 一 -54- 589485 A7 B7 五、發明説明(51) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ,並且,由下層312a及上層312b之2層所形成。該基底 層312是下層312a之表面被加工成微細之凹凸狀,並且於 該下層312a之表面全體被覆蓋相同材料之薄的上層312b, 故於基底層3 1 2之表面形成圓滑的凹凸狀。該凹凸形狀是 使透過基底層3 1 2之光予以散亂,依此,可以解決難以明 視所顯示之晝面影像的問題。 反射層3 1 3爲例如鋁或銀等之單體金屬膜,而被形成 在基底層312上,隨著基底層312之表面凹凸而於反射層 3 1 3之表面也形成微細之凹凸。依此,藉由該凹凸反射層 3 1 3亦可以使所反射之反射光予以散亂,可以解決難以明視 所顯示之畫面影像的問題。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 並且,於反射層313上,例如第24圖所示般,在顯示 用像點D之略中央上,形成有略長方形之開口部322,該 開口部3 22成爲透過部。自照明裝置1 3 1所射出的光,是 透過該開口部322而被供給至液晶層3 07。並且,開口部 3 22並不限定於該例之形狀,亦可以使成爲其他形狀,例如 圓孔。再者,開口部322之顯示用像點D內之數量,不限 於1個,可以設成多數。 著色層314是塗布由例如含有顏料或染料之著色劑的 感性樹脂所構成之著色光阻,並藉由微影成像法圖案製作 此而所形成。依據該圖案製作,形成有用以透過通過第1 基材3 03的來自照明裝置1 3 1之光的開口部3 22,和覆蓋該 開口部3 22周圍之反射層3 1 3的部分。如本實施形態般, 於設置R、G、B3色之著色層3 Μ之時,針對各色依序執 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) — -55- 589485 A7 B7_ 五、發明説明(52) 行上述圖案製作處理。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 遮光層3 1 5是被形成在各顯示用像點D之間的境界區 域上,而遮光該境界區域。該遮光層3 1 5是被形成可帶狀 地各延伸於第2基材3 05上之閘極配線3 3 5之長邊方向(即 是第24圖之Y方向),及與此正交之方向(即是第24圖之X 方向)的兩方向上。 再者,遮光層315是如第25圖所示般,被形成在對應 於相鄰之顯示用像點D之間的境界區域的基底層3 1 2上所 設置之開口部323之中。開口部323之底部是經由反射層 313而被形成在第1基材303上。遮光層315是被設在開口 部323之反射層313上,使可與相鄰之著色層314成爲相 同高度。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 例如,於第25圖中,將互相相鄰之著色層3 14之厚度 設爲h31,將反射層313之厚度設爲h32,將基底層312之 厚度設爲h33時,遮光層315之厚度h34和反射層313之 厚度h32的和,若被形成與h31、h32及h33之合計略相等 時,則可確保各顯示用像點D之表面和遮光層315之表面 之間的平坦性,依此,可以降低夾厚之偏差,再者,成爲 更易執行拋光處理。然後,其結果,液晶裝置之畫面顯示 的對比成爲較佳。 成爲用以收容遮光層315之基底層312的凹陷,是如 第25圖所示般,不限於開口部323,可以設爲如第26圖所 示之凹部3 23。於此時,對應於凹部3 23之底部324的基底 層3 12無完全被除去。於此時,遮光層315亦僅有凹部223 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -56- 589485 A7 B7 五、發明説明(53) 之深度,其高度變低。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 例如,於第22圖中,當將對應於凹部3 23之底部324 的基底層312之厚度設爲時,使遮光層315之厚度h3 4 和反射層之厚度h32之和,設爲與著色層314之厚度h31 和反射層之厚度h32和基底層3 12之厚度h33之合計大約 相等,藉由形成遮光層315,確保各顯示用像點D之表面 和遮光層3 1 5之表面之間的平坦性,依此可降低夾厚之偏 差,再者成爲容易執行拋光處理。然後其結果液晶裝置之 畫面顯示之對比則成爲較佳。 並且,顯示用像點D是藉由遮光層315而包圍其周圍 的區域,於其顯示用像點D之內部上,包含有R、G、B中 之任一色的著色層314,並且,包含有反射層313及開口部 3 22。1畫素是藉由包含有R、G、B之各色之著色層314的 3個顯示用像點D而所構成。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 接著,於第22圖中,TFT3 3 7是具有被形成在2基材 3 0 5上之閘極電極3 3 8,和在該閘極電極3 3 8上被形成在第 2基材3 05之全區域上的閘極絕緣膜3 3 9,和夾著該閘極絕 緣膜3 3 9而被形成在閘極電極3 3 8之上方位置的半導體層 3 40,和經由接觸電極341而形成在該半導體層340之一方 側的源極電極342,還有經由接觸電極被形成在半導體層 340之另一方側的汲極電極343。 閘極電極3 3 8是被連接於閘極配線3 3 5,源極電極342 是被連接於源極配線3 3 6。閘極配線3 3 5是延伸於第2基材 3 05之平面方向而朝縱方向(即是第24圖之Y方向)以等間 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) — -57- 589485 A7 ______ B7 _ 五、發明説明(54) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 隔且平行地被形成多數條。再者,源極配線3 3 6是夾著閘 極絕緣膜3 3 9而與閘極配線3 3 5交叉地延伸於第2基材3 05 之平面方向而朝向橫方向(即是第24圖之X方向)以等間隔 且平行地被形成多數條。 像點電極3 27是被構成可覆蓋藉由互相交叉之閘極配 線3 3 5和源極配線3 3 6而所區劃之方形區域中,除去對應 於TFT3 3 7之部分的區域,例如藉由如ITO等之透明導電體 而所形成。 並且,閘極配線3 3 5和閘極電極3 3 8是藉由鉻、鉬等 所形成。再者,聞極絕緣膜3 3 9是藉由如氮化砂(S i N X )、氧 化矽(SiOx)等所形成。再者,源極電極342及與此一體的源 極配向3 3 6以及汲極電極343,是藉由例如,鈦、鉬、鋁等 形成。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 如上述般所構成之本實施形態中,當提供訊號於被形 成在第1基材3 03之共通電極3 34,另外,提供訊號於被形 成在第2基材3 05之閘極配線3 3 5和源極配線3 3 6之時, 則在每顯示用像點D選擇像點電極327,僅對被保持於該 所選擇之像點電極327和共通電極3 34之間的液晶施加選 擇電壓,依此,可控制液晶配向,而調製反射光及透過光 〇 當考慮反射型之顯示時,通過第2基材305及像點電 極3 27而射入至液晶層3 07之外部光,是藉由該液晶層307 而被每顯示用像點D調製,然後被反射層2 1 3反射,再次 通過像點電極3 27及及第2基材205而射出至外部,顯示 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -58 - 589485 A7 B7 五、發明説明(55) 出影像。此時,於本實施形態中,因外敷層2 1 6爲平坦, 在顯示畫面上顯示出對比淸晰之畫像。 * (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 另外,當考慮透過型之顯示時,來自照明裝置13 1(參 照第9圖)之光,通過第1基材3 03及透過部即是開口部 3 22而射入至液晶層3 07後,藉由該液晶層307而被每顯示 用像點D調製,並且,通過像點電極327及第2基材30 5 而射出至外部,顯示出影像。此時,於本實施形態中,因 外敷層3 1 6亦爲平坦,故可以觀看到對比淸晰之畫像。並 且,該射出光是藉由覆蓋反射層3 13及透過部322的著色 層314,而被著色成對應的顏色。 於本實施形態中,如第25圖所示般,因形成基底層 3 1 2,使可在互相鄰接之顯示用像點D之間的境界區域具有 開口部3 23,故可以將遮光層315之高度僅降低開口部323 之深度部分,可以確保鉻顯示用像點D之表面和與此相鄰 之顯示用像點間之境界區域之表面之間的平坦性。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 再者,如第26圖所示般,在凹部3 23之處,基底層 3 12完全無被去除時,基底層3 1 2是可以藉由第1絕緣層 3 12a和被設置該第1絕緣層312a上之第2絕緣層312b而 構成。於此時,形成第2絕緣層3 12b之厚度部分的凹部 3 23。於此時,亦可以減低外敷層3 1 6上面之凹凸,依此, 可以降低夾厚之偏差,再者,可以容易執行拋光處理。其 結果可提昇液晶裝置之顯示畫面的對比。 又,於本實施形態中,因爲TFT型之主動矩陣方式, 故畫面爲明亮淸晰,並且可以將消耗電力及製造成本抑制 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -59 - 589485 A7 -------- B7_ 五、發明説明(56) 成較低。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) (液晶裝置之製造方法) 接著’根據第27圖之工程圖說明本實施形態所涉及之 製造方法。首先,工程P61中,於第22圖之第1基材3 03 上形成作爲基底層的樹脂散亂層3 12。在此,在形成遮光層 2 1 5之各顯示像點D間的境界區域中,例如第2 5圖所示般 ’藉由使用光阻而予以鈾刻基底層3 1 2,使在基底層3 1 2可 形成開口部3 2 3。 若針對此再更詳細說明,即是藉由旋轉塗層將樹脂材 料均勻地塗布在第i基材3 03上,並在其上方塗布光阻, 將該光阻自形成有規定圖案之光掩模上曝光光阻,並顯像 處理該光阻後,蝕刻該光阻而在基底層3 1 2上形成多數之 穴。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 接著,依據對該基底層3 1 2加熱,使該些穴圓滑變形 而形成凹凸狀之基底層312之下層312a。並且,薄膜狀地 塗布相同樹脂材料,使基底層3 1 2之凹凸狀可成爲滑面, 並形成基底層312之上層312b。 並且,於該基底層312上塗布光阻,自形成有規定圖 案之光掩模上曝光光阻,並顯像該光阻,藉由蝕刻該光阻 而在基底層312形成開口 323,在應形成遮光層315之部分 除去基底層3 1 2。 接著,於工程P62中,藉由蒸鍍法或濺鍍法等將鋁等 薄膜狀地形成在基底層3 1 2上,並使用微影成像法圖案製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -60- 589485 A7 B7 五、發明説明(57) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 作此,依此,例如第24圖所示般,在各顯示像點D之略中 央設置略長方形狀之開口部322,並且於除此之外的區域上 形成反射層3 1 3。 接著,於工程P63中,將遮光材從反射層2 13之上方 塗布在形成有開口部3 23之基底312上,之後,藉由光刻 技術予以圖案化加工,而在基底層312之開口部323上形 成遮光層315。並且,上述之遮光材料,是可以藉由將碳黑 等分散於樹脂中而所形成。 接著,於工程P64中,藉由旋轉塗層塗布1色之著色 層材料於第23圖之反射層313及開口部3 22上,並且於其 上塗布光阻,並從形成有規定圖案之光掩模之上方曝光光 阻,並顯像該光阻後,予以鈾刻而形成該1色之著色層2 1 4 。再者,關於其他2色是重複相同之處理,而將R、G、B3 色之著色層2 1 4形成所欲之配列圖案。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 接著,於工程P65中,於著色層314上形成外敷層316 。於本實施形態中,在基底層312之開口部3 23處,因形 成有遮光層3 1 5,故僅以該開口部3 23之深度可降低遮光層 3 1 5之高度。因此,於本工程中,當形成外敷層2 1 6時’則 可以平坦地形成該外敷層2 1 6。因此,可以降低夾厚之偏差 ,並可以容易執行拋光處理。其結果,在液晶裝置之顯示 中,可達成對比之淸晰化。 接著,於工程P66中,藉由濺鍍法在外敷層3 16上被 覆爲共通電極3 34之材料的ITO等,並藉由微影成像法予 以圖案製作後而形成共通電極3 34。並且依據於其上方形成 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -61 _ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 589485 A7 ____B7 __ 五、發明説明(58) 配向膜3 1 8,對該配向膜施予拋光處理,而形成彩色濾光片 3 04 〇 另外,關於第22圖之對向基板3 06是於第27圖之工 程P71中,再第2基材305上形成TFT3 37、閘極配線335 、源極配線3 3 6及像點電極327等。 在此,關於TFT3 3 7是在第2基材3 05上藉由濺鍍法以 相同之厚度成膜鉻、鉅等,並藉由微影成像法予以圖案製 作而形成閘極配線3 3 5及與此一體的閘極電極3 3 8,並且藉 由電漿CVD(Chemical Vapour Deposition)法形成由氮化石夕 所構成之閘極絕緣膜3 3 9。 接著,依序連續形成例如由半導體層340所構成之a-Si層和由接觸電極341所構成之n +型a-Si層,並執行所形 成之n +型a-Si層及a-Si層之圖案製作而形成半導體層3 40 及接觸電極341,並且藉由濺鍍法將IT0等被覆在閘極絕 緣膜3 3 9上之將成爲像點電極327之部分上,並藉由微影 成像法予以圖案製作而形成像點電極327。 再者,在第2基材3 05之表面上藉由濺鍍形成鈦、鉬 、金呂等,並執行圖案製作形成源極電極342、汲極電極343 及源極配線336。依據以上一連串之處理,形成TFT3 3 7及 像點電極3U。接著,於工程P72中,在其上方形成配向膜 3 20,並施予拋光處理形成對向基板306。 之後,於工程PS 1中,藉由乾燥散佈等分散間隔材料 129(參照第9圖)於第2基材3 05側之配向膜320上,並依 據密封材料1 3 3貼合彩色濾光基板3 0 4和對向基3 0 6。接著 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297&H 一 ' ' -62- I--------•衣—— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂
Jm 589485 A7 ____ 五、發明説明(59) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ,於工程P82中,通過密封材料133之開口部注入液晶於 基板間隙即所謂的夾厚內,之後藉由紫外線樹脂等封口材 料封口該密封材料133之開口部。接著,於工程P83中, 藉由貼黏等之方法將相位差板3 0 8、3 1 0及偏光板3 0 9、3 1 1 各安裝在第1基材3 03及第2基材305之外面上。 接著,於工程P84中,藉由執行所需之配線,或安裝 照明裝置1 3 1及框體1 32等,完成使用如第22圖所示般之 液晶面板302的第9圖之符號101所示之液晶裝置。 於第27圖之製造方法中,雖然在第25圖之開口部323 之處完全去除將成爲遮光層3 1 5之區域,但是如第26圖所 示般,即使分成第1絕緣層312a及第2絕緣層312b之2 次而形成基底層312,並設置凹部323,來取代此亦可。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於此時,於第1次之處理中,包含成爲遮光層315之 區域的顯示用像點D之間的境界區域,而在基材之全面上 形成第1絕緣層312a,並與第25圖中之基底層312之下層 312a相同形成凹凸。然後,於形成第2次的第2絕緣層 3 1 2b之時,除了將成爲遮光層3 1 5之顯示用像點D之間的 境界區域之外,在各顯示顯示用像點D之區域上,藉由使 用光阻而予以蝕刻,則亦可形成第2絕緣層3 1 2b。 當如第25圖所示般,在開口部323之處完全除去基底 層3 12之時,相反的有損失互相相鄰之顯示用像點D間之 境界區域的表面和顯示用像點D的表面之間的平坦性之情 形。於如此之時,如第26圖所示頒,藉由在凹部3W處以 所欲之厚度形成基底層3 1 2,則可以確保平坦性,可以使夾 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -63- 589485 A 7 B7 ____ 五、發明説明(6〇) 厚之偏差減少,並可容易執行拋光處理。 並且,亦可使用半色調(Halftone)來形成凹部323。 (第6實施形態) 接著,針對本發明適用於反射半透過型之被動矩陣方 式之液晶裝置之時的實施形態予以說明。第28圖是構成本 發明所涉及之液晶裝置之其他實施形態的液晶面板之剖面 圖。第29圖是構成第28圖之液晶面板之彩色濾光基板的 剖面圖。第30圖是該液晶面板之部分放大圖。並且,第30 圖中之A-A’線之剖面圖相當於第28圖。第31圖是完全除 去作爲基底層之遮光層之狀態的部分剖面放大圖。第32圖 是僅一部分除去作爲基底層之遮光層之狀態的部分剖面放 大圖。第33圖是表示本實施形態所涉及之液晶裝置之製造 方法之一例的工程圖。 第28圖所示之液晶面板402爲所謂的具有反射半透過 型之構造的液晶面板,使用該液晶面板402而所構成之液 晶裝置之構造是大約與第9圖所示之液晶裝置101相同。 即是,藉由依其所需在液晶面板402上設置照明裝置131 和框體132,而構成液晶裝置。 液晶面板4〇2是如第28圖所示般,藉由密封材料133( 參照第9圖)而貼合以由玻璃板或合成樹脂板等所形成之透 明第1基材403爲基體之彩色濾光基板404,和以與此相向 之第2基材4〇5爲基體之對向基板4〇6,於該彩色濾光基板 4〇4和對向基板406之間封入液晶而形成液晶層407。再者 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格210 X297公釐1 — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、11 4 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -64- 589485 A7 __ B7 _ 五、發明説明(61) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ,於第1基材403之外面上,配置相位差板408及偏光板 409,於第2基材405之外面上配置有相位差板410及偏光 板 4 1 1。 關於彩色濾光基板404,是於第1基材403之液晶層 47側之表面上形成基底層412,於其基底層4 12之表面上 設置有反射層413。再者,於基底層412之表面上設置有反 射層413之部分是構成反射部425,藉由被形成在反射層 413之開口部422而構成透過部。 於反射層413上,如第29圖所示般,以規定之配列圖 案形成綠色之著色層314G、藍色之著色層314B及紅色之 著色層3 1 4R。關於該些著色層,於之後之說明中,全部以 符號“414”予以表示。於互相相鄰之著色層414之間的境 界區域上,設置遮光層415。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 再者,於著色層414及遮光層415上,設置有用以保 護該些層之外敷層4 1 6。再者,於外敷層4 1 6上形成有由 ITO(Indium Tin Oxide :銦錫氧化物)等之透明導電體所構成 之透明電極4 1 7,並且於其上方形成有由聚醯亞胺樹脂等所 構成之配向膜4 1 8。 另外,於第28圖中,關於對向基板406,在第2基材 405之液晶層407側之表面上,形成透明電極419,並在其 上方形成有配向膜420。電極4 1 9是被形成帶狀地延伸於與 第1基材403側之電極417正交之方向(即是,第30圖的X 方向)。 透明電極417是互相並列而被構成條紋狀,透明電極 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -65- 589485 A7 B7 五、發明説明(62) 4 1 9是互相並列於與此正交的方向上,而被構成條紋狀。平 面性重疊第1基材403側之透明電極417和第2基材405 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
側之透明電極的部分,是成爲顯示最小單位之顯示像點D 〇 彩色濾光基板404之基底層412是由樹脂材料所構成 ,如第29圖所示般,由下層412a及上層412b之2層所形 成。該基底層412因下層412 a之表面被加工成微細之凹凸 狀,並且於該下層412a之表面全體被覆蓋相同材料之薄的 上層412b,故於基底層412之表面形成圓滑的凹凸狀。該 凹凸形狀是用以使透過基底層412的光予以散亂者,依此 ,可以解決難以明視所顯示之畫面影像的問題。 再者,反射層413爲例如鋁或銀等之單體金屬膜,而 被形成在基底層412上,隨著基底層412之表面凹凸而於 反射層4 1 3之表面也形成微細之凹凸。依此,藉由該凹凸 反射層4 1 3亦可以使所反射之反射光予以散亂,可以解決 難以明視所顯示之畫面影像的問題。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於反射層4 13上,例如第3 0圖所示般,在顯示用像點 D之略中央上,形成有略長方形之開口部422,該開口部 422成爲透過部。自照明裝置1 3 1 (參照第9圖)所射出的 光,是透過該開口部422而被供給至液晶層407。並且,開 口部422並不限定於該例之形狀,亦可以使成爲其他形狀 ,例如圓孔。再者,開口部422之數量,不限於1個,可 以設成多數。 著色層414是塗布由含有顏料或染料之著色劑的感性 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210><297公釐) -66 - 589485 A7 ___B7 五、發明説明(63) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 樹脂所構成之著色光阻,並藉由微影成像法圖案製作此而 所形成。依據該圖案製作,形成有用以透過通過第1基材 403的來自照明裝置13 1之光的開口部422,和覆蓋該開口 部422周圍之反射層413的部分。如本實施形態般,於設 置R、G、B3色之著色層414之時,針對各色依序執行上 述圖案製作處理。 作爲著色層4 1 4之配列圖案,於第3 0圖雖然採用斜馬 賽克配列,但是除了以該斜馬賽克配列作爲配列圖案之外 ,亦可以採用如條紋配列或數位配列等之各種圖案形狀。 遮光層4 1 5是被形成在各顯示用像點D之間的境界區 域上,而遮光該境界區域。該遮光層4 1 5是被形成可帶狀 地各延伸於第1基材403上之透明電極417之長邊方向(即 是第30圖之Y方向),及與此正交之方向(即是第3 0圖之X 方向)的兩方向上。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 再者,遮光層415是藉由將金屬鉻、碳、鈦等分散於 光阻而形成的樹脂黑色塊,或如鎳等之金屬材料而所形成 。並且,遮光層4 1 5是如第3 1圖所示般,在互相相鄰之顯 示用像點D間之境界區域的基底層4 1 2上所形成之開口部 423處,被形成在反射層413面上,使得來自第1基材403 之液晶層407側之面的高度,可成爲幾乎與和相鄰的遮光 層之表面和該遮光層415之表面一致。再者,遮光層415 之上部是被設定成可自著色層414之區域突出。 例如,將互相相鄰之著色層4 1 4之厚度設爲h4 1,將反 射層413之厚度設爲h42,將基底層412之厚度設爲h43時 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -67- 589485 A7 _B7 _ 五、發明説明(64) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ,若將遮光層415之厚度h44和反射層413之厚度h42的 和形成可h41、M2及h43之合計略相等時,則可確保各顯 示用像點D之表面和遮光層4 1 5之表面之間的平坦性,依 此,可以降低夾厚之偏差,再者,成爲更易執行拋光處理 。然後,其結果,液晶裝置之畫面顯示的對比成爲較佳。 於本實施形態中,因在開口部上形成遮光層而使可自 相鄰之著色層414之區域突出,故可以更確實地將來自著 色層414之漏光予以遮光。 成爲用以收容遮光層415之基底層412的凹陷,是如 第3 1圖所示般,不限於開口部423,可以設爲如第32圖所 示之凹部423。於此時,對應於凹部423之底部424的基底 層4 12無完全被除去。於此時,遮光層415亦僅有凹部423 之深度,其高度變低。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 例如,於第32圖中,當將對應於凹部423之底部424 的基底層412之厚度設爲h45時,使遮光層415之厚度h44 和反射層之厚度h42之和,設爲與著色層414之厚度h41 和反射層之厚度h42和基底層4 12之厚度h43之合計大約 相等,藉由形成遮光層41 5,確保各顯示用像點D之表面 和遮光層4 1 5之表面之間的平坦性,依此可降低夾厚之偏 差,再者成爲容易執行拋光處理。然後其結果液晶裝置之 畫面顯示之對比則成爲較佳。 並且,顯示用像點D是藉由遮光層415而包圍其周圍 的區域,於其顯示用像點D之內部上,包含有R、G、B中 之任一色的著色層414,並且,包含有反射層413及開口部 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -68- 589485 A7 B7____ 五、發明説明(65) 422。1畫素是藉由包含有R、G、B之各色之者色層414的 3個顯示用像點D而所構成。 以上所構成之本實施形態,於第28圖中,當訊號供給 至形成於第2基材40 5上之透明電極4 1 9,另外訊號供給至 形成於第1基材403側之透明電極417上之時’則可以僅 驅動被保持於在透明電極4 1 9和透明電極4 1 7交叉之區域 上所形成之顯示用像點D上的液晶。 當考慮反射型之顯示時,自對向基板4 0 6側射入至液 晶層407之外部光,則被每顯示用像點D調製’於透過著 色層414後由反射層413反射,而再次透過對向基板406, 射出至外部。此時,於本實施形態中,因外敷層41 6爲平 坦,故可以觀看到對比淸晰之畫像。 另外,當考慮透過型之顯示時,自照明裝置1 3 1 (參照 第9圖)所射出之光,通過第1基材403及透過部422而射 入液晶層407後,藉由液晶層407而被每顯示用像點D調 製,通過透明電極419及第2基材405而射出至外部。此 時,於本實施形態中,因外敷層4 1 3爲平坦,故可以看見 對比淸晰之畫像。並且,該射出光是藉由覆蓋反射層4 1 3 及透過部422的著色層4 14,而被著色成對應的顏色。 於本實施形態中,因形成基底層4 1 2,使可在互相鄰接 之顯示用像點D之間的境界區域具有如開口部423,並在 該開口部423中設置遮光層415,故僅以其開口部423之深 度部分可以使遮光層4 1 5之高度變低,因此可以確保各顯 示用像點D之表面和與此相鄰之像點間區域之表面之間的 I紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X297公釐) _ I: m I- - - ί ί HI -- n (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 d 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -69 - 589485 A7 B7 五、發明説明(66) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 平坦性。依此,可以確保外敷層4 1 6之平坦性,可以改善 夾厚之偏差,使得容易執行拋光處理。再者,可以達成液 晶裝置之顯示畫面之對比的淸晰化。 並且,本實施形態中因使遮光層4 1 5之上部形成可突 出於相鄰著色層414,故更可以遮光來自著色層的漏光。 又,如第32圖所示般,於在凹部423處基底層412完 全無被去除時,基底層4 1 2是可以藉由第1絕緣層4 1 2a和 被設置成可在該第1絕緣層4 12a上的第2絕緣層1 12b而 構成。於此時,形成第2絕緣層412b之厚度部分的凹部 423。於如此之時,亦可以減低外敷層4 16上面之凹凸,依 此可以降低夾厚之偏差,並且可以容易執行拋光處理。其 結果改善了液晶裝置之顯示畫面的對比。 (液晶裝置之製造方法) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 接著,根據第33圖之工程圖說明本實施形態所涉及之 液晶裝置之製造方法的一例。首先,於第3 3圖之工程P9 1 中,於第1基材403上形成作爲樹脂散亂層的基底層4 1 2。 在此,在形成遮光層4 1 5之顯示用像點D之間的境界區域 中,藉由使用光阻而予以鈾刻基底層1 1 2,製作成如第31 圖所示般在基底層112上形成開口部423。 若針對此再更詳細說明,即是藉由旋轉塗層將樹脂材 料均勻地塗布在第1基材403上,並自形成有規定圖案之 光掩模上曝光光阻,並顯像處理該光阻,然後,蝕刻該光 阻而在基底層412上形成多數之穴。 ^紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) • 70 - 589485 A7 ______B7__ 五、發明説明(67) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 接著,依據對該基底層4 1 2加熱,使該些穴圓滑變形 而形成凹凸狀之基底層412之下層412a。並且,薄膜狀地 塗布相同樹脂材料,使該基底層4 1 2之凹凸狀可成爲滑面 ’並形成基底層412之上層412b。 並且,於該基底層412上塗布光阻,之後,自形成有 規定圖案之光掩模上曝光光阻,並顯像處理該光阻後,蝕 刻該光阻而在基底層412形成凹部423,在將成爲遮光層 415之部分除去基底層412。 接著,於工程P92中,藉由蒸鍍法或濺鍍法等將鋁等 薄膜狀地形成在基底層412上,並使用微影成像法圖案製 作此,依此,例如第3 0圖所示般,在各顯示像點D之略中 央設置略長方形狀之開口部422,並且於除此之外的區域上 形成反射層4 1 3。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 接著,於工程P93中,將遮光材料從反射層4 13之上 方塗布在形成有開口部423之基底412上,並且藉由光刻 技術予以圖案加工,該而在基底層412之開口部423中形 成遮光層4 1 5。又,上述遮光材是藉由使例如碳黑塊等分散 於樹脂中而所形成。 接著,於工程P94中,藉由旋轉塗層塗布1色之著色 層材料於反射層413及開口部422上,並且於其上塗布光 阻,自形成有規定圖案之光掩模之上方曝光光阻,並顯像 該光阻後,鈾刻該光阻而形成該1色的著色層4 1 4。再者, 關於其他2色是重複執行相同之處理,將R、G、B3色之 著色層所欲之配列。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 589485 A7 B7 五、發明説明(68) 接著,於工程P95中,於著色層414上形成外敷層416 。此時,於本實施形態中,在基底層4 1 2上形成有開口部 423之部分,是可以降低遮光層415之高度,並可以確保外 敷層4 1 6之表面的平坦性,依此,可以降低夾厚之偏差, 並可以容易執行拋光處理。其結果,可以達成顯示影像之 對比的淸晰化。 接著,於工程P96中,藉由濺鍍法在外敷層416上被 覆爲透明電極417之材料的ITO等,並藉由微影成像法予 以圖案製作,如第30圖所示般在Y方向持有規定寬度而條 紋狀地形成電極4 1 7。 並且,在該電極4 1 7上形成配向膜4 1 8,並對該配向膜 418施予拋光處理而完成彩色基板404。如此一來所形成之 配向膜1 1 8之液晶層607之側的表面也被確保平坦性,亦 可解決夾厚之偏差,可達成畫面之高畫質化。 接著,關於第28圖之對向基板606,是於第33圖之工 程P101中,藉由濺鍍法在第2基材405上被覆爲透明電極 419之材料的ITO等,並藉由微影成像法予以圖案製造, 則如第30圖所示般在X方向上條紋狀地形成透明電極41 9 。接著,在該電極4 1 9上形成配向膜420,並且對該配向膜 420施予拋光處理,而形成對向基板406。 接著,於工程P 1 1 1中,藉由乾燥散佈等分散間隔材料 129(參照第9圖)於對向基板406上,並藉由密封材料133 貼合彩色濾光基板404和對向基板406。接著,於工程 P 1 1 2中,自密封材料1 3 3之開口部注入液晶於基板間之間 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ~ ' -72- I--------_衣II (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T
Jm 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 589485 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明(69) 隙,即所謂的夾厚內,於該注入完成後,藉由紫外線樹脂 等所構成之封口材料封口密封材料133之開口部。 接著,於工程P 1 1 3中,藉由貼黏等之方法將相位差板 408、410及偏光板409、411各安裝在第1基材403及第2 基材4 0 5之外面上。接著,於工程p 1 1 4中,藉由執行所需 之配線,或第9圖之安裝照明裝置13 1及框體132等,而 完成液晶裝置。 於第33圖之製造方法中,如第31圖所示般,在基底 層4 12形成有開口部423之部分,因可以降低遮光層415 之高度,故可以確保外敷層1 1 6之表面的平坦性,依此, 可以降低夾厚之偏差,並可以使拋光處理成爲簡單,其結 果,在液晶裝置之顯示中,可達成對比之淸晰化。 再者,於第33圖之製造方法中,如第31圖所示般, 雖然在將成爲遮光層415之區域完全除去基底層412,但是 如第32圖所示般,即使分成第1絕緣層4 12a及第2絕緣 層4 1 2b之2次而形成基底層4 1 2,並僅設置相當於第2絕 緣層412b之厚度的凹部423,來取代此亦可。 於此時,於第1次之處理中,包含將成爲遮光層415 之區域的顯示用像點D之間的境界區域,而在基材之全面 上形成第1絕緣層412a,並與第31圖中之基底層412之下 層412a相同形成凹凸,然後於第2次的處理中,形成第2 絕緣層412b之時,除了將成爲遮光層415之顯示用像點D 之間的境界區域之外’在各顯示顯示用像點D上,藉由使 用光阻而予以蝕刻,則亦可以形成第2絕緣層4 1 2b。 (請先閱讀背面之注意事項 衣-- 再填寫本頁) 、?! 4 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2!0Χ297公釐) •73- 589485 A7 _____B7 五、發明説明(70) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 當如第3 1圖所示般,在開口部423之處完全除去基底 層4 12之時,相反的有損失互相相鄰之顯示用像點D間之 境界區域的表面和顯示用像點D的表面之間的平坦性之情 形。於如此之時,若如第32圖所示般,藉由在凹部423之 處將基底層4 1 2形成所欲之厚度,則可以確保平坦性,可 以使夾厚之偏差減少,亦可容易執行拋光處理。 並且,亦可使用半色調(Halftone )來形成凹部423。 (第7實施形態) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 接著,針對本發明適用於反射半透過型之被動矩陣方 式之液晶裝置之時的其他實施形態予以說明。第34圖是構 成本發明所涉及之液晶裝置之其他實施形態的液晶面板之 剖面圖。第35圖是構成第34圖之液晶面板之彩色濾光基 板的剖面圖。第36圖是該液晶面板之部分放大圖。第36 圖中之A-A5線之剖面圖是相當於第34圖。第37圖是完全 除去樹脂散亂層之狀態的部分剖面放大圖。第3 8圖是僅一 部分除去樹脂亂層之狀態的部分剖面放大圖。然後第39圖 是表示本實施形態所涉及之液晶裝置之製造方法之一例的 工程圖。 第34圖所示之液晶面板502爲所謂的具有反射半透過 型之構造的液晶面板,使用該液晶面板502而所構成之液 晶裝置之構造是大約與第9圖所示之液晶裝置1 0 1相同。 即是,藉由依其所需在液晶面板5〇2上設置照明裝置m 和框體1 3 2,而構成液晶裝置。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -74- 589485 A7 B7 五、發明説明(71) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 液晶面板5 0 2是如第3 4圖所示般,藉由密封材料1 3 3 ( 參照第9圖)而貼合以由玻璃板或合成樹脂板等所形成之透 明第1基材5 03爲基體之彩色濾光基板504,和以與此相向 之第2基材505爲基體之對向基板5 06,於該彩色濾光基板 5 04和對向基板506之間封入液晶而形成液晶層507。再者 ,於第1基材503之外面上,配置相位差板508及偏光板 5 09,於第2基材505之外面上配置有相位差板510及偏光 板 5 1 1 〇 關於彩色濾光基板504,是於第1基材503之液晶層 5 07側之表面上形成基底層512,於其基底層512之表面上 設置有反射層513。再者,於基底層512之表面上設置有反 射層5 13之部分是構成反射部525,藉由被形成在反射層 5 13之開口部522而構成透過部。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於反射層5 1 3上,如第3 5圖所示般,以規定之配列圖 案形成綠色之著色層514G、藍色之著色層514B及紅色之 著色層514R。關於該些著色層,於之後之說明中,全部以 符號“514”予以表示。於互相相鄰之著色層514之間的境 界區域上,設置遮光層5 1 5。 再者,於著色層514及遮光層515上,設置有用以保 護該些層之外敷層5 1 6。再者,於外敷層5 1 6上形成有由 ITO(Indium Tin Oxide :銦錫氧化物)等之透明導電體所構成 之透明電極5 1 7,並且於其上方形成有由聚醯亞胺樹脂等所 構成之配向膜5 1 8。 另外,於第34圖中,關於對向基板506,在第2基材 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -75- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _ B7 _____ 五、發明説明(72) 5 0 5之液晶層5 07側之表面上,形成透明電極5 1 9,並在其 上方形成有配向膜520。電極519是被形成帶狀地延伸於與 第1基材503側之電極517正交之方向(即是,第36圖的X 方向)。透明電極5 17是互相並列而被構成條紋狀,透明電 極5 1 9是互相並列於與此正交的方向上,而被構成條紋狀 。平面性重疊透明電極517和透明電極519的部分,則成 爲顯示最小單位之顯示像點D。 彩色濾光基板504之基底層512是由下層512a及上層 5 12b之2層所形成。該些層中之任一者皆是藉由樹脂材料 所形成。該基底層512因下層512a之表面被加工成微細之 凹凸狀,並且於該下層512a之表面全體被覆蓋相同材料之 薄的上層512b,故形成圓滑的凹凸狀。該凹凸形成是用以 使透過基底層512的光予以散亂者,依此,可以解決難以 明視所顯示之畫面影像的問題。 再者,反射層513爲例如鋁或銀等之單體金屬膜,而 被形成在基底層512上,隨著基底層512之表面凹凸而於 反射層5 1 3之表面也形成微細之凹凸。依此,藉由該凹凸 反射層513亦可以使所反射之反射光予以散亂,可以解決 難以明視所顯示之畫面影像的問題。 於反射層5 1 3上,例如第3 6圖所示般’在顯示用像點 D之略中央上,形成有略長方形之開口部522,該開口部 5 22成爲透過部。自照明裝置1 3 1 (參照第9圖)所射出的 光,是透過該開口部522而被供給至液晶層507。並且,開 口部522並不限定於該例之形狀,亦可以使成爲其他形狀 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -76- 589485 A7 B7 五、發明説明(73) ,例如圓孔。再者,開口部522之數量,不限於1個,可 以設成多數。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 著色層514是塗布由含有顏料或染料之著色劑的感性 樹脂所構成之著色光阻,並藉由微影成像法圖案製作此而 所形成。依據該圖案製作,形成有用以透過通過第1基材 503的來自照明裝置131之光的開口部522,和覆蓋該開口 部522周圍之反射層5 13的部分。如本實施形態般,於設 置R、G、B3色之著色層5 14之時,針對各色依序執行上 述圖案製作處理。 遮光層5 1 5是被形成在各顯示用像點D之間的境界區 域上,而遮光該境界區域。該遮光層415是被形成可帶狀 地各延伸於第1基材503上之透明電極517之長邊方向(即 是第36圖之Y方向),及與此正交之方向(即是第36圖之X 方向)的兩方向上。 再者,遮光層515是藉由將金屬鉻、碳、鈦等分散於 光阻而形成的樹脂黑色塊,或如鎳等之金屬材料而所形成 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於第37圖中,於基底層512上形成開口部523,該開 口部523之底部524是經由反射層5 13而直接被設置在第1 基材503之上方。遮光層5 1 5是被設置在開口部523之上 方,而成爲比鄰接的著色層514高出些許。 例如,於第3 7圖中,將互相相鄰之著色層5 1 4之厚度 設爲h51,將反射層513之厚度設爲h52,將基底層512之 厚度設爲h53時,將遮光層515之厚度h54和反射層513 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ' " -77- 589485 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明(74) 之厚度h52的和形成比h5 1、h52及h53之合計高出些許。 如此一來,藉由,事後在由基底層512及被設置在基 底層512上之著色層514所構成之疊層構造之互相相鄰的 境界上形成之區域的開口部523上,設置遮光層,使得該 遮光層僅比著色層5 1 4高出些許。依此,可以確實遮光開 口部 523。 再者,因遮光層515之表面和著色層514之表面的高 度差異僅有些許差異,故依然可確保兩者間之平坦性,因 此,可以降低夾厚之偏差,再者,成爲更易執行拋光處理 。然後,其結果,液晶裝置之畫面顯示的對比成爲較佳。 成爲用以收容遮光層515之基底層512的凹陷,不限 於開口部423,可以設爲如第38圖所示之凹部523。於此 時,在凹部523之底部524之處,基底層512無完全被除 去。於此時,僅以凹部523之底部524之深度,亦可降低 遮光層515之高度。 例如,形成遮光層515使底部524的基底層512之厚 h55,和反射層513之厚度h52,和遮光層515之厚度h54 之和,可成爲比著色層514之厚度h51,和反射層513之厚 度W2,和基底層512之厚度h5 3高出些許。 依此,可以確實遮光被設置在凹部523之遮光層5 1 5。 再者,因遮光層515之表面和著色層514之表面的高度差 異僅有些許差異,故依然可確保兩者間之平坦性,因此, 可以降低夾厚之偏差,再者,成爲更易執行拋光處理。然 後,其結果,液晶裝置之畫面顯示的對比成爲較佳。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -78- 589485 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明(75) 並且,顯示用像點D是藉由遮光層515而包圍其周圍 的區域,於其顯示用像點D之內部上,包含有R、G、B中 之任一色的著色層514,並且,包含有反射層513及開口部 5 22。1畫素是藉由包含有R、G、B之各色之著色層514的 3個顯示用像點D而所構成。 以上所構成之本實施形態,當訊號供給至形成於第2 基材5 0 5上之透明電極5 1 9,另外訊號供給至形成於第1基 材5 03側之透明電極5 1 7上之時,則可以僅驅動被保持於 在透明電極5 1 9和透明電極5 1 7交叉之區域上所形成之顯 示用像點D上的液晶。 當考慮反射型之顯示時,自對向基板506側射入至液 晶層507之外部光,則被每顯示用像點D調製,於透過著 色層514後由反射層513反射,而再次透過對向基板506, 射出至外部,然後藉由該射出光而執行顯示。 另外,當考慮透過型之顯示時,自第9圖之照明裝置 131所射出之光,通過第1基材503及透過部522而供給至 液晶層507後,該光藉由液晶層5 07而被每顯示用像點D 調製,該調製光通過透明電極5 19及第2基材505而射出 至外部,然後藉由該調製光而執行顯示。 本實施形態之外敷層5 1 6因爲平坦,故當執行以上般 之反射型顯示及透過型顯示之時,可以看到對比淸晰之畫 像。並且,射出至外部的光是藉由覆蓋反射層513及透過 部5 22之著色層514,而被著色層所對應的顏色。 於本實施形態中,因形成基底層5 1 2,使可在互相鄰接 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -79- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _ B7五、發明説明(76) 之顯示用像點D之間的境界區域具有如開口部523,並在 該開口部523中設置遮光5415,故僅以其開口部523之深 度部分可以使遮光層5 1 5之高度變低,因此可以確保各顯 示用像點D之表面和與此相鄰之像點間區域之表面之間的 平坦性。依此,可以確保外敷層5 1 6之平坦性,可以改善 夾厚之偏差,使得容易執行拋光處理。再者,可以達成液 晶裝置之顯示畫面之對比的淸晰化。 又,如第38圖所示般,於在凹部523處基底層512完 全無被去除時,基底層5 1 2是可以藉由第1絕緣層5 1 2a和 被設置成可在該第1絕緣層512a上的第2絕緣層512b而 構成。於此時,形成第2絕緣層5 12b之厚度部分的凹部 5 23。於如此之時,亦可以減低外敷層5 1 6上面之凹凸,依 此可以降低夾厚之偏差,並且可以容易執行拋光處理。其 結果改善了液晶裝置之顯示畫面的對比。 (液晶裝置之製造方法) 接著,根據第3 9圖之工程圖說明本實施形態所涉及之 液晶裝置之製造方法。首先,於工程P121中,於第1基材 5 03上形成作爲基底層之樹脂散亂層5 1 2。在此,在用以形 成遮光層5 1 5之顯示用像點D之間的境界區域中’是如第 34圖所示般,蝕刻光阻而形成基底層512 ’使在基底層512 上可形成開口部523。 若針對此再更詳細說明,即是藉由旋轉塗層將樹脂材 料均勻地塗布在第1基材5〇3上,在該上方塗布光阻,並 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21〇X297公釐) -80 - 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ___ B7_五、發明説明(77) 自形成有規定圖案之光掩模上曝光光阻,並顯像處理該光 阻,然後,蝕刻上述樹脂材料而在基底層512上形成多數 之穴。 接著,依據對該基底層5 1 2加熱,使該些穴圓滑變形 而形成凹凸狀之基底層512之下層512a。並且,薄膜狀地 塗布相同樹脂材料,使該基底層5 1 2之凹凸狀可成爲滑面 ,並形成基底層512之上層5 12b。 並且,於該基底層512上塗布光阻,並自形成有規定 圖案之光掩模上曝光光阻,並顯像處理該光阻。之後,將 光阻當作掩模蝕刻該光阻而該表面形成開口部523,在將成 爲遮光層515之部分除去基底層512。 接著,於工程P122中,藉由蒸鍍法或濺鍍法等將鋁等 薄膜狀地形成在基底層5 1 2上,並使用微影成像法圖案製 作此,依此,例如第3 6圖所示般,在各顯示像點D之略中 央設置略長方形狀之開口部522,並且於除此之外的區域上 形成反射層5 1 3。 接著,於工程P1 23中,藉由旋轉塗層將1色之著色層 材料塗布於反射層513及開口部522之上,並且於其上方 塗布光阻,之後自形成有規定圖案之光掩模上曝光該光阻 ,並顯像處理該光阻,然後將該光阻當作掩模蝕刻上述著 色層材料而形成1色之著色層514。再者,關於其他2色是 重複執行相同之處理,將R、G、B3色之著色層所欲之配 列。 接著,於工程P124中,將遮光材料自反層513之上方 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -81 - 589485 A7 B7 五、發明説明(78) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 塗布於於形成有開口部523之基底層5 12上,並藉由光刻 技術予以圖案製作化加工後,在基底層512之開口部523 上將遮光層形成比著色層514僅高出些許,並且,上述遮 光材料是可以藉由將碳黑等分散於樹脂中而形成。 如此一來,於本實施形態中,藉由基底層512及其上 方之著色層514而形成開口部523,設置遮光層515使可掩 埋該開口部5 23。依此,可以確保遮光層5 1 5之厚度而提高 遮光性,並且亦可以確保遮光層515和著色層514之間的 平坦性。 接著,於工程P125中,在著色層514之上方形成外敷 層5 16。接著,在工程P126中,藉由濺鍍法在外敷層516 上被覆爲透明電極517之材料的ITO等,並藉由微影成像 法予以圖案製作,如第36圖所示般在Y方向持有規定寬度 而條紋狀地形成電極5 1 7。 並且,於工程P126中,在該電極517上形成配向膜 5 1 8,並對該配向膜5 1 8施予拋光處理,依此完成彩色基板 504 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 另外,關於對向基板5 〇6,在工程P 13 1中,藉由濺鍍 法在第2基材505上被覆爲透明電極519之材料的ITO等 ,並藉由微影成像法予以圖案製造,則如第3 6圖所示般在 X方向上條紋狀地形成透明電極519。又於工程Pl:32中, 在該電極519上形成配向膜520,並且對該配向膜520施予 拋光處理,而形成對向基板506。 接著,於工程P 1 4 1中,藉由乾燥散佈等分散間隔材料 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210><297公釐) -82- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明(79) 129(參照第9圖)於對向基板506上,並藉由密封材料133 貼合彩色濾光基板5〇4和對向基板506。接著,於工程 PM2中,自密封材料133之開口部注入液晶,於該注入完 成後,藉由紫外線樹脂等所構成之封口材料封口密封材料 I33之開口部。並且,於工程PM3中,藉由貼黏等之方法 將相位差板5 08、510及偏光板509、511各安裝在第1基 材5 03及第2基材505之各外面上。 接著,於工程P144中,藉由執行所需之配線,或安裝 如第9圖之安裝照明裝置13 1及框體132等之附屬機器, 而完成使用第34圖所示之液晶密板的第9圖符號1〇1所示 之液晶裝置。 於第39圖所示之製造方法中,因在基底層512形成有 開口部523,並設置遮光層5 I5使可掩模該開口 523,故可 以降低該遮光層515之高度,可確保外敷層516表面之平 坦性,可以減輕夾厚之偏差或藉由拋光處理而達成對比之 淸晰化。 再者,於上述之說明中,於第3 7圖所般,雖然在形成 有遮光層515之區域完全除去基底層512而形成開口部523 ,但是如第3 8圖所示般,即使分成第1絕緣層5 1 2a及第2 絕緣層5 1 2b之2次而形成基底層5 1 2,並於形成第2絕緣 層5 12b之時形成凹部523,來取代此亦可。 於此時,於第1次之處理中,包含將成爲遮光層515 之區域的顯示用像點D之間的境界區域,而在基材之全面 上形成第1絕緣層512a,並與第37圖中之基底層5 12之下 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -83- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _ B7五、發明説明(80) 層512a相同形成凹凸。然後於用以形成第2絕緣層512b 之第2次的處理中,除了將成爲遮光層5〗5之顯示用像點 D之間的境界區域之外,在各顯示顯示用像點D上,藉由 將光阻當作材料予以使用而藉由蝕刻,形成第2絕緣層 512b 〇 當如第37圖所示般,在開口部523之處完全除去基底 層5 12之時,相反的有損失互相相鄰之顯示用像點D間之 境界區域的表面和顯示用像點D的表面之間的平坦性之情 形。於如此之時,若如第3 8圖所示般,藉由在凹部523之 處將基底層512形成所欲之厚度,則可以確保平坦性,可 以使夾厚之偏差減少,亦可容易執行拋光處理。 並且,亦可使用半色調(Halftone )來形成凹部523。 (第8實施形態) 接著,針對本發明適用於反射半透過型之被動矩陣方 式之液晶裝置之時的其他實施形態予以說明。第40圖是構 成本發明所涉及之液晶裝置之其他實施形態的液晶面板之 剖面圖。第4 1圖是構成第40圖之液晶面板之彩色濾光基 板的剖面圖。第42圖是該液晶面板之部分放大圖。並且, 第42圖中之A-A’線之剖面圖相當於第40圖。第43圖是完 全除去基底層之狀態的部分剖面放大圖。第44圖是僅一部 分除去基底層之狀態的部分剖面放大圖。然後,第45圖是 表示本實施形態所涉及之液晶裝置之製造方法之一例的工 程圖。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 一 -84- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明(81) 第4 0圖所示之液晶面板6 0 2爲所謂的具有反射半透過 型之構造的液晶面板,使用該液晶面板6 0 2而所構成之液 晶裝置之構造是大約與第9圖所示之液晶裝置1 0 1相同。 即是,藉由依其所需在液晶面板602上設置照明裝置i 3 ! 和框體132,而構成液晶裝置。 液晶面板6 0 2是如第4 0圖所示般,藉由密封材料1 3 3 ( 參照第9圖)而貼合以由玻璃板或合成樹脂板等所形成之透 明第1基材603爲基體之彩色瀘光基板604,和以與此相向 之第2基材605爲基體之對向基板606,於該彩色瀘光基板 604和對向基板606之間封入液晶而形成液晶層607。再者 ,於第1基材6 0 3之外面上,配置相位差板6 0 8及偏光板 609,於第2基材605之外面上配置有相位差板110及偏光 板 1 1 1。 關於彩色濾光基板604,是於第1基材603之液晶層 607側之表面上形成基底層612,於其基底層612之表面上 設置有反射層613。再者,於基底層612之表面上設置有反 射層6 1 3之部分是構成反射部625,藉由被形成在反射層 613之開口部622而構成透過部。 於反射層6 1 3上,以規定之配列圖案形成綠色之著色 層614G、藍色之著色層614B及紅色之著色層614R。關於 該些著色層,於之後之說明中,全部以符號“ 614”予以表 示。於互相相鄰之著色層614之間的境界區域上,設置遮 光層6 1 5。 再者,於著色層614及遮光層615上,設置有用以保 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -85- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明(82) 護該些層之外敷層616。再者,於外敷層616上形成有由 ITO(Indium Tin Oxide :銦錫氧化物)等之透明導電體所構成 之透明電極6 1 7,並且於其上方形成有由聚醯亞胺樹脂等所 構成之配向膜ό 1 8 〇 另外,於第40圖中,關於對向基板606,在第2基材 605之液晶層607側之表面上,透明電極419是帶狀地延伸 於與第1基材603側之透明電極6 17正交之方向(即是,第 42圖之X方向)而被形成,並在其上方形成有配向膜620。 透明電極6 1 7是互相並列而被構成條紋狀,透明電極 6 1 9是互相並列於與此正交的方向上,互相並列而被構成條 紋狀。平面性重疊第1基材603側之透明電極617和第2 基材605側之透明電極619的部分,是成爲顯示最小單位 .之顯示像點D。 彩色濾光基板604之基底層6 12是如第29圖所示般, 由下層612a及上層612b之2層所形成,該些各層是藉由 樹脂材料所形成。基底層6 1 2因下層6 1 2a之表面被加工成 微細之凹凸狀,並且於該下層612a之表面全體被覆蓋相同 材料之薄的上層612b,故於基底層612之表面形成圓滑的 凹凸狀。依據該凹凸形狀,可以使透過基底層4 1 2的光予 以散亂者,依此,可以解決難以明視所顯示之畫面影像的 問題。 反射層6 1 3爲例如鋁或銀等之單體金屬膜,而被形成 在基底層612上,對應於基底層612之表面凹凸而於反射 層6 1 3之表面也形成微細之凹凸。依此,藉由該凹凸反射 7紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) " (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -86- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _____ B7 ____ 五、發明説明(83) 層6 1 3可以使所反射之反射光予以散亂,可以解決難以明 視所顯示之畫面影像的問題。 於反射層613上,例如第42圖所示般,在顯示用像點 D之略中央上,形成有略長方形之開口部622,該開口部 622成爲透過部。自照明裝置丨3 !所射出的光,是透過該開 口部622而被供給至液晶層607。並且,開口部622並不限 定於該例之形狀,亦可以使成爲其他形狀,例如圓孔。再 者,1個顯示用像點D內之開口部622之數量,不限於1 個,可以設成多數。 著色層614是塗布由含有顏料或染料之著色劑的感性 樹脂所構成之著色光阻,並藉由微影成像法圖案製作此而 所形成。依據該圖案製作,形成有用以透過通過第1基材 603的來自照明裝置13 1之光的開口部622,和覆蓋該開口 部622周圍之反射層613的部分。如本實施形態般,於設 置R、G、B3色之著色層614之時,針對各色依序執行上 述圖案製作處理。依此,可以將各著色層614在遮光層615 之處和其他之著色層614重疊。 作爲著色層614之配列圖案,於第42圖雖然採用斜馬 賽克配列,但是除了以該斜馬賽克配列作爲配列圖案之外 ,亦可以採用如條紋配列或數位配列等之各種圖案形狀。 遮光層6 1 5是被形成在各顯示用像點D之間的境界區 域上,而遮光該境界區域。該遮光層615是被形成可帶狀 地各延伸於第1基材603上之透明電極617之長邊方向(即 是第42圖之Y方向),及與此正交之方向(即是第42圖之X i紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210、〆297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) _87 - 589485 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明(84) 方向)的兩方向上。 再者,如第41圖所示般,遮光層615是被設置在與1 個著色層6 1 4鄰接之其他的著色層6 1 4之間。於該遮光層 6 1 5之處,於基底層6 1 2上形成有開口部623,該開口部 623之底部624是經由反射層613而被直接設置在第1基材 603之上方。 於第43圖中,在開口部623上,將與遮光層615相鄰 之著色層614B形成自底部624起爲hll之厚度,並於其上 方將著色層614G形成hl2之厚度,又在其上方以hl3之厚 度互相重疊地形成著色層6 14R之突出部分。 在此,若將第43圖之最下方的著色層614B之厚度 hll設爲0.7/zm以上,2.0/zm以下,則藍色系例如藍色之 著色層6 1 4B之遮光性則成爲較佳。再者,利用與其他著色 層組合,則各顯示用像點D之表面和與此鄰接之像點D間 區域之表面(即是,遮光層615之表面)之間,則可以確保平 坦性。 再者,當將第43圖之hll形成大約1.7// m,將hi 2形 成大約1.0 // m,將h 1 3形成大約0.9 // m,並且將被重疊位 於著色層之最上面的著色層61 4R之上面的外敷層616之厚 度形成大約1 . 8 // m時,因基底層6 1 2之厚度h 1 5大約爲 2.4 // m,顯示用像點D之著色層6 1 4B之厚度h 1 6則大約爲 該部分之外敷層616之厚度大約爲2.0//m,故遮 光層615上之外敷層616之上面與著色層61 4B之顯示用像 點D上之外敷層816之上面爲一致,成爲平坦之面。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) _衣_ 订填寫太 訂 4 -88- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 _ 五、發明説明(85) 在此,如上述般藉由在開口部623之最下方形成著色 層6 14B,則可以形成最厚,可以形成大約爲1.7// m。 並且,於著色層614G和著色層614B之間,如第41圖 所示般,在開口部623之底部624上,首先進入相鄰的著 色層614B,於其上方除疊著色層614G之突出部,並且於 其上方重疊著色層61 4R,依此,形成遮光層615。 再者,於著色層614R和著色層614G之間,如第41所 示般,在開口部623之底部624上,首先形成著色層614B ,於其上方重疊著色層61 4G之突出部分,並且,於其上方 重疊著色層614R,依此,形成遮光層615。 爲了收容遮光層615而形成在基底層612的凹陷,不 限於上述般之開口部623,可以設爲如第44圖所示之凹部 623。於此時,在凹部623之底部624之處基底層612無完 全被除去。於此時,凹部623之底部624之深度僅有ml 5 ,可以降低遮光層6 1 5之高度。依此,因可以減輕外敷層 6 1 6上面之凹凸,故可以降低夾厚之偏差,使拋光處理成爲 容易執行。然後其結果液晶裝置之畫面顯示之對比則成爲 較佳。 在此,若將第44圖之最下方之著色層614B之厚度 mil設爲0.7// m以上,2.0// m以下,則藍色系例如藍色之 著色層614B之遮光性則成爲最佳。再者,利用與其他著色 層組合,則可以在各顯示用像點D之表面,和與此相鄰之 顯示用像點D間之境界區域之表面之間減輕凹凸。 更佳是若將將第44圖之著色層614B之厚度mil設爲 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ' -89- —--------·裝-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T 4 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Μ _ Β7 _五、發明説明(86) 將著色層614G之厚度ml2設爲略並且 將著色層614R之厚度ml3設爲〇.9//m,則當凹部623之 底部624之深度m 1 5大約爲1 .3 // m時,則可以更減輕外敷 層616上面之凹凸。依此,可以減輕夾厚之偏差,再者, 成爲容易執行拋光處理。然後,其結果’液晶裝置之畫面 顯示之對比成爲更佳。 並且,顯示用像點D是藉由遮光層615而包圍其周圍 的區域,於其顯示用像點D之內部上,包含有R、G、B中 之任一色的著色層614,並且,包含有反射層613及開口部 622。1畫素是藉由包含有R、G、B之各色之著色層614的 3個顯示用像點D而所構成。 以上所構成之本實施形態,當訊號供給至形成於第2 基材6 0 5上之透明電極6 1 9,另外訊號供給至形成於第1基 材603側之透明電極6 1 7上之時,則可以僅驅動被保持於 在透明電極6 1 9和透明電極6 1 7交叉之區域上所形成之顯 示用像點D上的液晶。 當考慮反射型之顯示時,自對向基板606側射入至液 晶層607之外部光,則被每顯示用像點D調製,於透過著 色層614後由反射層613反射,而再次透過對向基板606, 射出至外部,藉由該射出光而執行顯示。 再者,當考慮透過型之顯示時,自照明裝置131 (參照 第9圖)所射出之光,通過第1基材603及透過部622而被 供給至液晶層607後,藉由液晶層607而被每顯示用像點 D調製,通過透明電極619及第2基材605而射出至外部 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -90 - 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ___B7 _五、發明説明(87) ,藉由g亥射出光而執行顯示。 於無論在反射型顯示及過型顯示中之任一者時,因於 本實施形態中,外敷層6 1 6是被平坦地形成,故可以在液 晶裝置之顯示畫面上看見對比淸晰之畫像。並且,該射出 光是藉由覆蓋反射層613及透過部622的著色層614,而被 著色成對應的顏色。 於本實施形態中,因形成基底層6 1 2,而使得在相鄰之 顯示用像點間之境界區域具有凹部623 (第44圖)或開口部 623 (第43圖),故可以降低藉由著色層614而所形成之遮光 層6 1 5之高度,可以確保各顯示用像點D之表面和與此相 鄰之像點D間區域之表面之間的平坦性。 再者,於本實施形態中,因在凹部623(第44圖)之底 部124或開口部623(第43圖)之底部124上,最初形成藍 色系例如藍色之著色層6 1 4B,故可視光波長區域中之平均 透過率低的藍色,是被形成比他綠色系、紅色系例如綠色 、紅色之著色層6 1 4還厚。因此,因此可以提高遮光性, 且降低整體遮光層6 1 5之高度。依此,可以使液晶裝置之 顯不畫面之對比變成較佳。 又,若在開口部623上自底部624將藍色之著色層 614B形成爲大約1.7//m之厚度,於其上方將綠色之著色 層614G形成大約1.0 // m,又在其上方將紅色之著色層 6 14R形成大約0.9// m時,則可以更確實地確保各顯示用 像點D及與此鄰接之像點D間區域之上面之層,例如外敷 層6 1 6之平坦性。依此,可以改善夾厚之偏差,並且使拋 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) _ -91 - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ___ B7 _五、發明説明(88) 光處理成爲容易,其結果可達成液晶裝置之顯示畫面的對 比之淸晰化。 並且,於上述之說明中,雖然如第43圖所示般,在形 成遮光層615之區域完全去除基底層612而形成開口部623 ’但是如第44圖所示般,即使分成第1絕緣層612a及第2 絕緣層612b之2次而形成基底層612,於第2絕緣層612b 之時,形成凹部6 2 3,來取代此亦可。 於此時,在第1次之處理中,包含成爲遮光層615之 區域的顯示用像點D之間的境界區域,而在基材之全面上 形成第1絕緣層612a,並與第43圖中之基底層612之下層 6 12a相同形成凹凸。然後,於用以形成第2絕緣層612b之 第2次的處理中,除了將成爲遮光層6 1 5之顯示用像點D 之間的境界區域之外,在各顯示顯示用像點D之區域上, 依據將光阻當作材料使用而予以鈾刻,形成第2絕緣膜 612b 〇 於此時,因亦可以減輕外敷層6 1 6之上面的凹凸,故 可以改善夾厚之偏差,再者,使拋光處理成爲容易。然後 其結果,可達成液晶裝置之顯示畫面的對比改善。 (液晶裝置之製造方法) 接著,根據第45圖之工程圖說明本實施形態所涉及之 液晶裝置之製造方法的一例。首先,於工程P 1 5 1中,於第 1基材603上形成基底層612。在此,在屬於形成遮光層 615之區域的顯示用像點D之間的境界區域中,例如第40 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X29?公釐) 一 -92- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(89) 圖所示般,使可以在基底層612上形成開口部623地,蝕 刻光阻而形成基底層6 1 2。 若針對此再更詳細說明,即是藉由旋轉塗層將樹脂材 料均勻地塗布在第1基材6〇3上,並將光阻塗布於其上方 ,自形成有規定圖案之光掩模上曝光該光阻,並顯像處理 該光阻,然後,將該光阻當作掩模而蝕刻上述樹脂材料而 在基底層612上形成多數之穴。接著,依據對該基底層612 加熱,使該些穴圓滑變形而形成凹凸狀之基底層6 1 2之下 層6 1 2 a。並且,薄膜狀地塗布相同樹脂材料,使該基底層 612之凹凸狀可成爲滑面,並形成基底層612之上層612b 0 接著,於該基底層612上塗布光阻,自形成有規定圖 案之光掩模上曝光該光阻,並顯像處理該光阻,之後將該 光阻當作掩模蝕刻基底層6 12,而在該基底層612上形成開 口部623。依此,利用成爲遮光層615之部分而除去基底層 612的基底層612被形成在第1基材603上。 接著’於工程P1 52中,藉由蒸鍍法或濺鍍法等將鋁等 薄膜狀地形成在基底層6 1 2上,並使用微影成像法圖案製 作此,依此,例如第42圖所示般,在各顯示像點D之略中 央設置略長方形狀之開口部622,並且於除此之外的區域上 形成反射層613。 接著,於工程P 1 5 3中,藉由旋轉塗層塗布1色例如藍 色系如藍色之著色層材料於反射層613及開口部622上, 並且於其上塗布光阻,自形成有規定圖案之光掩模之上方 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ' 一 -93 - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 589485 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
五、發明説明(90) 曝光光阻,並顯像處理該光阻,之後將該光阻當作掩模鈾 刻上述著色層材料而形成藍色之著色層614B。再者,關於 其他2色是重複執行相同之處理,依序形成綠色系、紅色 系例如綠色之著色層614G、紅色之著色層614R。 依此,於各顯示用像點D上,各單獨形成有藍色之著 色層614B、綠色之著色層614G及紅色之著色層614R。另 外,於遮光層615上,如第41圖所示般,在最下層藍色著 色層61 4B被形成最厚,於其上方重疊形成綠色之著色層 614G、還有紅色之著色層614R。如此一來,因在最下層藍 色之著色層614B被形成最厚,故可提昇遮光性,並可以使 例如遮光層6 1 5之整體的厚度變薄。 接著,於工程P154中,於著色層614上形成外敷層 4 1 6。此時,於本實施形態中,在基底層6 1 2上形成有開口 部623之部分,是可以降低遮光層615之高度,並可以確 保外敷層6 1 6之表面的平坦性,依此,可以降低夾厚之偏 差,並可以容易執行拋光處理。其結果,可以達成顯示影 像之對比的淸晰化。 接著,於工程P1 55中,藉由濺鍍法在外敷層616上被 覆爲透明電極617之材料的ITO等,並藉由微影成像法予 以圖案製作,如第42圖所示般在Y方向持有規定寬度而條 紋狀地形成透明電極617。並且,於其上方形成配向膜618 ,並對該配向膜618施予拋光處理而完成彩色基板604。 接著,關於對向基板606,是於工程P161中,藉由濺 鍍法在第2基材605上被覆爲透明電極619之材料的ITO (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -94 - 589485 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明(91) 等,並藉由微影成像法予以圖案製造,則如第42圖所示般 在X方向條紋狀地形成透明電極6 1 9。接著,於工程p 1 6 2 中,在該電極619上形成配向膜620,並且施予拋光處理, 而形成對向基板606。 接著,於工程P 1 7 1中,藉由乾燥散佈等分散間隔材料 1 2 9 (參照第9圖)於對向基板6 0 6上,並藉由密封材料1 3 3 貼合彩色濾光基板604和對向基板606。接著,於工程 P172中,自密封材料133之開口部注入液晶,於該注入完 成後,藉由紫外線樹脂等所構成之封口材料封口密封材料 1 3 3之開口部。 接著,於工程P173中,藉由貼黏等之方法將相位差板 108、110及偏光板109、111各安裝在第1基材603及第2 基材6〇5之外面上。接著,於工程P174中,藉由執行所需 之配線,或第9圖之安裝照明裝置13 1及框體132等,而 完成液晶裝置。 於第45圖之製造方法中,重疊各色之著色層614而所 形成之遮光層615中,因在最下層將藍色系例如藍色之著 色層614B形成最厚,故可以提昇遮光性,並可以使遮光層 6 1 5整體之厚度變薄。 並且,在基底層612形成有開口部623之部分,因可 以降低遮光層615之高度,故可以確保外敷層616之表面 的平坦性,依此,可以降低夾厚之偏差,並可以使拋光處 理成爲簡卓’其結果’可使顯不在液晶裝置之晝面的影像 ,達成對比之淸晰化。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) ' 一 一 -95- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A 7 —B7五、發明説明(9?) 再者,於第45圖之製造方法中,開口部623雖然是如 第31圖所示般,藉由在將成爲遮光層615之區域完全除去 基底層612,但是如第44圖所示般,即使分成第1絕緣層 6 12a及第2絕緣層612b之2次而形成基底層612,並藉由 第2絕緣層612b之形成而設置凹部623,來取代此亦可。 於此時,於第1次之處理中,包含將成爲遮光層61 5 之區域的顯示用像點D之間的境界區域,而在基材之全面 上形成第1絕緣層612a,並與第43圖中之基底層612之下 層612a相同形成凹凸,然後於第2次的處理中,形成第2 絕緣層612b之時,除了將成爲遮光層615之顯示用像點D 之間的境界區域之外,在各顯示顯示用像點D上,藉由以 光阻作爲材料而予以蝕刻,則亦可以形成第2絕緣層6 1 2b 〇 依此,於第1次之基底層612之形成中,可以省略使 用光阻而蝕刻基底層6 1 2之工程,以圖刪減成本,亦可使 製造速度變快。再者,如開口部623般,當完全除去基底 層6 1 2之時,相反的於有損失互相相鄰之顯示用像點D間 之境界區域的表面和顯示用像點D的表面之間的平坦性之 時,藉由以所欲之厚度來形成基底層6 1 2,亦可確保平坦性 ,依此,可以減少夾厚之偏差,再者,可使拋光處理變成 容易。並且,在遮光層615之部分處,在基底層612形成 凹部6W之工程,是與上述說明相反,即使成爲第1次處 理亦可。 並且,亦可使用半色調(Halftone )來形成凹部623。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -96- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(93) (第9實施形態) 接著,針對本發明適用於使用二端子型開關元件作爲 開關元件之TFD(Thin Film Diode)的反射半透過型之液晶裝 置的其他實施形態予以說明。 第46圖爲構成本發明之液晶裝置之其他實施形態的液 晶面板之剖面圖。第47圖構成第46圖之液晶面板的第1 基板側之剖面圖。第48圖是該液晶面板之部分放大圖。第 48圖中之B-B’線及C-C’線之剖面圖相當於第46圖。第49 圖是完全除去基底層之狀態的遮光層之部分剖面放大圖。 第50圖是僅一部分除去基底層之遮光層的部分剖面放大圖 。然後,第51圖是針對本實施形態所涉及之液晶裝置之製 造方法的工程圖。 第46圖所示之液晶裝置702是具有所謂的反射半透過 型之構造的液晶面板,使用該液晶面板702而所構成之液 晶裝置之構造,是大約與第9圖所示之液晶裝置101相同 。即是,依據依其所需在液晶面板702上裝設照明裝置1 3 1 和框體1 3 2,而構成液晶裝置。 液晶面板702是藉由密封材料133(參照第9圖)而貼合 以由玻璃板或合成樹脂板等所形成之透明第1基材703爲 基體之彩色濾光基板704,和以與此相向之第2基材705爲 基體之對向基板706,於該彩色濾光基板704和對向基板 7 06之間封入液晶而形成液晶層707。再者,於第1基材 703之外面上,配置相位差板708及偏光板709,於第2基 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -97- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 _五、發明説明(94) 材705之外面上配置有相位差板710及偏光板711。 關於彩色濾光基板704,是於第1基材703之液晶層 707側之表面上形成基底層712,於其基底層712之表面上 設置有反射層713。再者,於基底層712之表面上設置有反 射層7 1 3之部分是構成反射部725,藉由被形成在反射層 713之開口部722而構成透過部。 於反射層7 1 3上,以規定之配列圖案形成綠色之著色 層714G、藍色之著色層714B及紅色之著色層714R。關於 該些著色層,於之後之說明中,全部以符號“714”予以表 示。於互相相鄰之著色層7 1 4之間的境界區域上,設置遮 光層7 1 5。 再者,於著色層714及遮光層715上,設置有用以保 護該些層之外敷層7 1 6。再者,於外敷層7 1 6上形成有由 ITO(Indium Tin Oxide :銦錫氧化物)等之透明導電體所構成 之資料線726,並且於其上方形成有由聚醯亞胺樹脂等所構 成之配向膜7 1 8。 另外,於第46圖中,關於對向基板706,在第2基材 7〇5之液晶層707側之表面上,配置有配列呈矩陣狀之多數 畫素電極7〗7,和在各畫素電極727之境界區域中帶狀延伸 於與上述資料線726交叉之方向(即是,第48圖之Y方向) 的多數掃描線728,和連接於該畫素電極727及掃描線228 的TFD729,並且於其上方形成有配向膜72〇。 在此,資料線726是被形成延伸於規定方向(例如,第 48圖之X方向)的帶狀,多數資料線726互相並列被構成條 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -98 - 589485 A7 B7 五、發明説明(95) 紋狀,平面性重暨該貝料線7 2 6和畫素電極7 2 7之區域是 成爲顯示最小單位之顯示像點D。 I-------00-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 再者’基底層712是由下層712a及上層7^之2層 所形成,該些各層是藉由樹脂材料所形成。基底層7丨2因 下層7 1 2a之表面被加工成微細之凹凸狀,並且於該下層 7 12a之表面全體被覆蓋相同材料之薄的上層7〗2b,故形成 圓滑的凹凸狀。依據該凹凸形狀,可以使透過基底層712 的光予以散亂者’依此’可以解決難以明視所顯示之畫面 影像的問題。 反射層7 1 3爲例如鋁或銀等之單體金屬膜,而被形成 在基底層712上,對應於基底層712之表面凹凸而於反射 層7 1 3之表面也形成微細之凹凸。依此,藉由該凹凸反射 層7 1 3可以使所反射之反射光予以散亂,可以解決難以明 視所顯示之畫面影像的問題。
I 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於反射層713上,例如第48圖所示般,在顯示用像點 D之略中央上,形成有略長方形之開口部722,該開口部 722成爲透過部。自照明裝置1 3 1 (參照第9圖)所射出的 光,是透過該開口部722而被供給至液晶層707。並且,開 口部722並不限定於該例之形狀,亦可以使成爲其他形狀 ,例如圓孔。再者,1個顯示用像點D內之開口部722之 數量,不限於1個,可以設成多數。 著色層714是塗布由含有顏料或染料之著色劑的感性 樹脂所構成之著色光阻,並藉由微影成像法圖案製作此而 所形成。依據該圖案製作’形成有用以透過通過第1基材 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -99- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明(96) 703的來自照明裝置131之光的開口部722,和覆蓋該開口 部722周圍之反射層7 13的部分。如本實施形態般,於設 置R、G、B3色之著色層714之時,針對各色依序執行上 述圖案製作處理。依此,可以將各著色層714在遮光層715 之處和其他之著色層714重疊。 遮光層715是被形成在各顯示用像點D之間的境界區 域上,而遮光該境界區域。該遮光層715是被形成可帶狀 地各延伸於第2基材705之掃描線728之長邊方向(即是第 48圖之Y方向),及與此正交之方向(即是第48圖之X方向 )的兩方向上。 再者,如第47圖所示般,遮光層715是被設置在與1 個著色層7 14鄰接之其他的著色層714之間。於該遮光層 .715之處,於基底層712上形成有開口部723,該開口部 723之底部724是經由反射層713而被直接設置在第1基材 703之上方。 於第49圖中,在開口部723上,將與遮光層715相鄰 之著色層714B形成自底部724起爲h2 1之厚度,並於其上 方將著色層714G形成h22之厚度,又在其上方以h2 3之厚 度互相重疊地形成著色層7 1 4R之突出部分。 在此,若將最下方的著色層714B之厚度h21設爲0.7 // m以上,2.0// m以下,則藍色系例如藍色之著色層714B 之遮光性則成爲較佳。再者,利用與其他著色層組合,則 各顯示用像點D之表面和與此鄰接之像點D間區域之表面 之間,則可以確保平坦性。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -100- 589485 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 B7 五、發明説明(97) 再者,當將第49圖之hl21形成大約1.7 // m,將h22 形成大約1 .〇 # m,將h23形成大約〇.9 # m,並且將被重疊 位於著色層之最上面的著色層714尺之上面的外敷層716之 厚度形成大約1.8// m時,因基底層712之厚度h2 5大約爲 2.4// m,顯示用像點D之著色層714B之厚度h2 6則大約爲 1.0//m,該部分之外敷層716之厚度大約爲2.0/zm,故遮 光層7 1 5上之外敷層7 1 6之上面與著色層7 1 4B之顯示用像 點D上之外敷層716之上面爲一致,成爲平坦之面。在此 ,如上述般藉由在開口部723之最下方形成著色層714B, 則其著色層714b之厚度可以形成大約爲I.7// m。 並且,於第47圖中,於著色層714G和著色層714B之 間,在開口部7W之底部724上,首先進入相鄰的著色層 714B,於其上方除疊著色層714G之突出部,並且於其上方 重疊著色層714R,依此,形成遮光層715。 再者,於著色層714R和著色層714G之間,在開口部 72 3之底部7 24上,首先形成著色層714B,於其上方重疊 著色層714G之突出部分,並且,於其上方重疊著色層 7 14R,依此,形成遮光層715。 爲了收容遮光層715而形成在基底層712的凹陷,不 限於上述般之開口部723,可以設爲如第5 0圖所示之凹部 723。於此時,在凹部723之底部724之處基底層712無完 全被除去。於此時,凹部723之底部724之深度僅有m25 ,可以降低遮光層7 1 5之高度。依此,因可以減輕外敷層 716上面之凹凸,故可以降低夾厚之偏差,使拋光處理成爲 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -101 - 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明(98) 容易執行。然後其結果液晶裝置之畫面顯示之對比則成爲 較佳。 在此,若將第50圖之最下方之著色層714B之厚度 m 2 1設爲0.7 // m以上,2.0 // m以下,則藍色系例如藍色之 著色層714B之遮光性則成爲最佳。再者,利用與其他著色 層組合,則可以在各顯示用像點D之表面,和與此相鄰之 顯示用像點D間之境界區域之表面之間減輕凹凸。 更佳是若將將第50圖之著色層714B之厚度m21設爲 將著色層714G之厚度m2 2設爲略1.0/zm,並且 將著色層7 14R之厚度m23設爲0.9/z m,則當凹部723之 底部724之深度m25大約爲1.3 // m時,則可以更減輕外敷 層716上面之凹凸。 作爲此時著色層714之配列圖案,雖然是採用第48圖 中之斜馬賽克配列,但是作爲配列圖案,除了該斜馬賽克 配列之外,可以採用條紋配列或數位配列等之各種圖案形 狀。 並且,顯示用像點D是藉由遮光層715而包圍其周圍 的區域,於其顯示用像點D之內部上,包含有R、G、B中 之任一色的著色層714,並且,包含有反射層713及開口部 722。1畫素是藉由包含有R、G、B之各色之著色層714的 3個顯示用像點D而所構成。 接著,第46圖之畫素電極727是藉由例如ITO等之透 明導電體而所形成,與該畫素電極727相鄰之掃描線728, 是經由TFD而被連接。TFD 729是被形成於第2基材70 5之 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -102- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明(99) 表面的基底層730上。再者,TFD729是藉由第1金屬層 731,和被形成在該第1金屬層731之表面的絕緣膜73 2, 和被形成在該絕緣膜732之上的第2金屬層73 3而所構成 〇 在此,第1金屬層73 1是藉由例如厚度100〜5 OOnm左 右之Ta單體膜、Ta合金膜等而所形成,被連接於掃描線 728。再者,絕緣膜732是藉由例如厚度10〜35nm左右之 氧化鉅等所形成。再者,第2金屬層733是藉由鉻(C〇等之 金屬膜形成50〜300nm左右之厚度,而被連接於畫素電極 727 上。 於以上所構成之本實施形態中,當將掃描訊號供給至 形成於第2基材705上之各掃描線728,另外將資料線供給 至形成於第1基材703側之資料線726之時,則可以僅驅 動被保持於畫素電極727和資料線726相向之部分的液晶 〇 當考慮反射型之顯示時,通過第2基材705及畫素電 極727而射入至液晶層7〇7之外部光,是藉由液晶層707 而被每顯示用像點D調製,並藉由反射層7 13反射後,再 次通過畫素電極及第2基材70 5而射出至外部。 另外,當考慮透過型之顯示時,來自照明裝置1 3 1 (參 照第9圖)之光,通過第1基材3 03及透過部722而射入至 液晶層707,藉由該液晶層707而被每顯示用像點D調製 ,並且,通過畫素電極727及第2基材705而射出至外部 ,藉由該射出光而執行顯示。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS〉A4規格(210X297公釐) ~ -103- I--------II (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、11 d 589485 A7 B7 五、發明説明(i〇b (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 於無論在反射型顯示及過型顯示中之任一者時,因於 本實施形態中,外敷層7 1 6是被平坦地形成,故可以在液 晶裝置之顯不畫面上看見對比淸晰之畫像。並且’射出至 外部的光是藉由覆蓋反射層713及透過部722的著色層714 ,而被著色成對應的顏色。 於本實施形態中,因形成基底層7 1 2 ’使可在互相鄰接 之顯示用像點D之間的境界區域具有凹部72 3 (第50圖)或 開口部723 (第49圖),故可以降低藉由著色層714而所形 成之遮光層7 1 5的高度,藉此,可以確保各顯示用像點D 之表面和與此相鄰之像點間區域之表面之間的平坦性。 再者,於本實施形態中,因在凹部723或開口部723 之底部724上,最初形成藍色系例如藍色之著色層714B, 故可視光波長區域中之平均透過率低的藍色,是被形成比 他綠色系、紅色系例如綠色、紅色之著色層7 1 4還厚。因 此,因此可以提高遮光性,且降低整體遮光層715之高度 。依此,可以使液晶裝置之顯示畫面之對比變成較佳。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 又,若在開口部723上自底部724將藍色之著色層 714B形成爲大約1.7//m之厚度,於其上方將綠色之著色 層7MG形成大約1.0//m,又在其上方將紅色之著色層 7 MR形成大約0.9 // m時,則可以更確實地確保各顯示用 像點D及與此鄰接之像點D間區域之上面之層,例如外敷 層7 1 6之平坦性。依此,可以改善夾厚之偏差,並且使拋 光處理成爲容易,其結果可達成液晶裝置之顯示畫面的對 比之淸晰化。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210'〆297公釐) •104- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 __ B7___五、發明説明(1〇)l 並且,於上述之說明中,雖然如第49圖所示般,在形 成遮光層715之區域完全去除基底層712而形成開口部723 ,但是如第5 0圖所示般,即使分成第1絕緣層7 1 2 a及第2 絕緣層712b之2次而形成基底層712,於第2絕緣層712b 之時,形成凹部7U,來取代此亦可。 於此時,在第1次之處理中,包含成爲遮光層715之 區域的顯示用像點D之間的境界區域,而在基材之全面上 形成第1絕緣層712a,並與第49圖中之基底層712之下層 7 1 2a相同形成凹凸。然後,於用以形成第2絕緣層7 1 2b之 第2次的處理中,除了將成爲遮光層71 5之顯示用像點D 之間的境界區域之外,在各顯示顯示用像點D之區域上, 依據將光阻當作材料使用而予以蝕刻,形成第2絕緣膜 712b 〇 於此時,因亦可以減輕外敷層7 1 6之上面的凹凸,故 可以改善夾厚之偏差,再者,使拋光處理成爲容易。然後 其結果,可達成液晶裝置之顯示晝面的對比改善。並且, 於本實施形態中,因是TFD型之主動矩陣方式,故易觀看 到明亮畫面,可抑制消耗電力及製造成本。 (液晶裝置之製造方法) 接著,根據第51圖之工程圖說明本實施形態所涉及之 液晶裝置之製造方法的一例。首先,於工程P 1 8 1中,於第 1基材703上形成基底層712。在此,在形成遮光層615之 各顯示用像點D之間的境界區域中,爲了可以在基底層 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -105- 589485 A7 B7 五、發明説明(10> 7 1 2上形成開口部723,蝕刻光阻而形成基底層7 1 2。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 若針對此再更詳細說明,即是藉由旋轉塗層將樹脂材 料均勻地塗布在第1基材703上,並將光阻塗布於其上方 ’自形成有規定圖案之光掩模上曝光光阻,並顯像處理該 光阻,然後,將該光阻當作掩模而鈾刻上述樹脂材料而在 基底層712上形成多數之穴。接著,依據對該基底層712 加熱,使該些穴圓滑變形而形成凹凸狀之基底層7 1 2之下 層712a。並且,薄膜狀地塗布相同樹脂材料,使該基底層 712之凹凸狀可成爲滑面,並形成基底層712之上層712b 〇 接著,於該基底層7 1 2上塗布光阻,自形成有規定圖 案之光掩模上曝光該光阻,並顯像處理該光阻,之後將該 光阻當作掩模蝕刻基底層7 1 2,而在該基底層7 1 2上形成開 口部723。依此,利用成爲遮光層7 1 5之部分而除去基底層 7 12的基底層712被形成在第1基材703上。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 接著,於工程P182中,藉由蒸鍍法或濺鍍法等將鋁等 薄膜狀地形成在基底層7 1 2上,並使用微影成像法圖案製 作此,依此,例如第4 8圖所示般,在各顯示像點D之略中 央設置略長方形狀之開口部722,並且於除此之外的區域上 形成反射層7 1 3。 接著,於工程P 1 8 3中,藉由旋轉塗層塗布1色例如藍 色系如藍色之著色層材料於反射層713及開口部722上, 並且於其上塗布光阻,自形成有規定圖案之光掩模之上方 曝光光阻,並顯像處理該光阻,之後將該光阻當作掩模蝕 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -106- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 _五、發明説明(10》 刻上述著色層材料而形成藍色之著色層714B。再者’關於 其他2色是重複執行相同之處理,依序形成綠色系、紅色 系例如綠色之著色層714G、紅色之著色層714R。 依此,於各顯示用像點D上,各單獨形成有藍色之著 色層71 4B、綠色之著色層71 4G及紅色之著色層71 4R。另 外,於遮光層715上,如第46圖所示般,在最下層藍色著 色層714B被形成最厚,於其上方重疊形成綠色之著色層 7 14G、還有紅色之著色層714R。如此一來,因在最下層藍 色之著色層714B被形成最厚,故可提昇遮光性,並可以使 例如遮光層7 1 5之整體的厚度變薄。 接著,於工程P184中,於著色層714上形成外敷層 7 1 6。此時,於本實施形態中,在基底層7 1 2上形成有開口 部723之部分,是可以降低遮光層715之高度,並可以確 保外敷層7 1 6之表面的平坦性,依此,可以降低夾厚之偏 差,並可以容易執行拋光處理。其結果,可以達成顯示影 像之對比的淸晰化。 接著,於工程P1 85中,藉由濺鍍法在外敷層716上被 覆爲資料線726之材料的ITO等,並藉由微影成像法予以 圖案製作,如第48圖所示般在X方向持有規定寬度而條紋 狀地形成資料現72 6。並且,於其上方形成配向膜7 1 8,並 對該配向膜7 1 8施予拋光處理而完成彩色基板704。 接著,關於對向基板706,是於工程P191中,藉由濺 鑛法在第2基材705上形成TFD729、掃描線728及畫素電 極727。在此TFDW9是如下述般所形成。即是,首先在第 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) " "" -107- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 __五、發明説明(1〇> 2基材705上成膜相同厚度之Ta氧化物而形成基底層730 。接著。於其上方,藉由濺鍍法以相同厚度成膜,並使用 微影成像法等同時形成掃描線228和第1金屬膜231。此時 ,掃描線228和第1金屬層23 1是以橋接方式連接。 再者,於第1金屬膜層231上以相同厚度成膜爲絕緣 膜之氧化鉅等而形成絕緣膜732,又於其上方藉由濺鍍等以 相同之厚度成膜Cf,又利用微影成像法形成第2金屬層 233 〇 接著,於除去畫素電極727之形成預定區域之基底層 23 0後,藉由濺鍍等以相同之厚度成膜ITO,並藉由微影成 像法將相當於1個顯示用像點之大小的規定形狀之畫素電 極727,形成其一部分可與第2金屬層23 3重疊。依據該些 一連串之處理形成TFD729及畫素電極72 7。 接著,於工程Pl92中,在TFD729及畫素電極727等 上形成配向膜720,又對其配向膜720施予拋光處理。依此 ,形成對向基板706。 接著,於工程P201中,藉由乾燥散佈等分散間隔材料 129(參照第9圖)於第2基板705側之配向膜720上,並依 據密封材料133貼合彩色濾光基板704和上述對向基板706 。接著,於工程P2〇2中’自密封材料133之開口部注入液 晶’於該注入後’藉由紫外線樹脂等封口該開口部。 接著,於工程P203中,藉由貼黏等之方法將相位差板 708、710及偏光板709、711各安裝在第!基材703及第2 基材705之外面上。接著,於工程P2〇4中,執行所需之配 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X297公釐) 一 -108- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 589485 A7 B7 五、發明説明(1〇> 線,或安裝第9圖之照明裝置1 3 1及框體13 2等,而完成 液晶裝置。 於第51圖之製造方法中,於重疊著色層714之遮光層 715上,因在最下層配置藍色系例如藍色之著色層714B, 故藍色著色層61 4B被形成最厚,可提昇遮光性。再者可以 使例如遮光層7 1 5之整體的厚度變薄。 並且,在基底層712上形成有開口部723之部分,因 可以降低遮光層715之高度,並可以確保外敷層716之表 面的平坦性,依此,可以降低夾厚之偏差,並可以容易執 行拋光處理。其結果,可以達成顯示影像之對比的淸晰化 〇 再者,於第51圖之製造方法中,雖然如第49圖所示 .般,在開口部723之處即是將成爲遮光層715之區域上, 完全去除基底層712,但是即使如第50圖所示般,分成第 1絕緣層712a及第2絕緣層712b之2次而形成基底層712 ,設置對應於第2絕緣層712b之厚度的凹部723,來取代 此亦可。 例如,在第1次之處理中,包含成爲遮光層715之區 域的顯示用像點D之間的境界區域,而在基材之全面上形 成第1絕緣層712a,並與第49圖中之基底層712之下層 7 12a相同形成凹凸。然後,於第2次的第2絕緣層712b之 形成處理時,除了將成爲遮光層715之顯示用像點D之間 的境界區域之外,在各顯示顯示用像點D上,可依據將光 阻當作材料而予以蝕刻來形成基底層7 1 2。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ----------- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 d 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -109- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A 7 _ B7 __五、發明説明(10)5 藉此,可企圖刪減第1次之形成基底層712中,以使 用光阻而鈾刻基底層7 1 2之工程,可以加快製造速度。再 者,當如開口部723般,完全除去基底層712之時,相反 的於損失互相相鄰之顯示用像點D間之境界區域的表面和 顯示用像點D的表面之間的平坦性之時,亦可以以所欲之 厚度息成基底層712而確保平坦性,依此除了可以使夾厚 之偏差減少外之外,亦可容易執行拋光處理。而且,即使 將在遮光層712部分形成凹部723於基底層712之過程與 上述爲相反地當作第1次亦可。 並且,亦可使用半色調(Halftone )來形成凹部723。 (第1 〇實施形態) 接著,針對本發明適用於使用三端子型開關元件之 TFT(Thin Film Transistor)當作開關元件之反射半透過型之 被動矩陣方式之液晶裝置之時的其他實施形態予以說明。 第54圖是構成本發明所涉及之液晶裝置之一實施形態 的液晶面板之剖面圖。第53圖是構成第52圖之液晶面板 之彩色濾光基板的剖面圖。第54圖是該液晶面板之部分放 大圖。第54圖中之A-A’線之剖面圖是相當於第52圖。第 55圖是完全除去基底層之狀態的遮光層的部分剖面放大圖 。第5 6圖是僅一部分除去基底層之狀態的遮光層的部分剖 面放大圖。然後第57圖是表示本實施形態所涉及之液晶裝 置之製造方法的工程圖。 第52圖所不之液晶面板802爲所謂的具有反射半透過 $紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ~ -110- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 589485 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明(10> 型之構造的液晶面板,使用該液晶面板8 0 2而所構成之液 晶裝置之構造是大約與第9圖所示之液晶裝置1 〇 1相同。 即是,藉由依其所需在液晶面板8 02上設置照明裝置1 3 1 和框體132,而構成液晶裝置。 液晶面板8〇2是藉由密封材料133(參照第9圖)而貼合 以由玻璃板或合成樹脂板等所形成之透明第1基材8 0 3爲 基體之彩色濾光基板8〇4,和以與此相向之第2基材805爲 基體之對向基板806,於該彩色濾光基板804和對向基板 8 0 6之間封入液晶而形成液晶層8 0 7。再者,於第1基材 803之外面上,配置相位差板808及偏光板809,於第2基 材8 05之外面上配置有相位差板8 1 0及偏光板8 1 1。 關於彩色濾光基板804,是於第1基材803之液晶層 8 07側之表面上形成基底層812,於其基底層812之表面上 設置有反射層813。再者,於基底層812之表面上設置有反 射層8 1 3之部分是構成反射部825,藉由被形成在反射層 8 13之開口部822而構成透過部。 於反射層8 1 3上,是以規定之配列圖案形成綠色之著 色層814G、藍色之著色層814B及紅色之著色層814R。關 於該些著色層,於之後之說明中,全部以符號“ 8 Μ”予以 表示。於互相相鄰之著色層8 1 4之間的境界區域上,設置 遮光層8 1 5。 再者,於著色層814及遮光層815上,設置有用以保 護該些層之外敷層8 1 6。再者,於外敷層8 1 6上形成有由 IT Ο (Indium Tin Oxide ··銦錫氧化物)等之透明導電體所構成 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -111 - 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ___ B7五、發明説明(10)B 之共通電極834,並且於其上方形成有由聚醯亞胺樹脂等所 構成之配向膜8 1 8。 接著,關於對向基板806,在第2基材80 5之液晶層 8 07側之表面上,配置有呈矩陣狀配列的多數畫素電極827 ,和在各畫素電極827之間的境界區域中呈正交的閘極配 線83 5及源極配線83 6,並在其配線之交叉部分附近設置 TFT83 7,又在其上方形成有配向膜820。並且,閘極配線 是延伸於第54圖之Y方向,源極配線83 6是沿著同圖之X 方向。 在此,共通電極834爲被形成在外敷層816之表面全 區域的面狀電極,藉由閘極配線83 5和源極配線83 6所包 圍之區域則成爲顯示用像點D。 再者,基底層812是由樹脂材料所構成,並且,由下 層812a及上層812b之2層所形成。該基底層812是下層 812a之表面被加工成微細之凹凸狀,並且於該下層812a之 表面全體被覆蓋相同材料之薄的上層812b,故於基底層 812之表面形成圓滑的凹凸狀。藉由凹凸可以使透過基底層 8 1 2之光予以散亂,依此,可以解決難以明視所顯示之畫面 影像的問題。 反射層813爲例如鋁或銀等之單體金屬膜,而被形成 在基底層812上,對應於基底層812之表面凹凸而於反射 層8 1 3之表面也形成微細之凹凸。依此,藉由該凹部反射 層8 1 3亦可以使所反射之反射光予以散亂,可以解決難以 明視所顯示之畫面影像的問題。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) " " -112- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 __ B7 _五、發明説明(1〇)9 於反射層813上,例如第54圖所示般,在顯示用像點 D之略中央上,形成有略長方形之開口部822,該開口部 822成爲透過部。自照明裝置1 3 1所射出的光,是透過該開 口部822而被供給至液晶層807。並且,開口部822並不限 定於該例之形狀,亦可以使成爲其他形狀,例如圓孔。再 者,開口部822之顯示用像點D內之數量,不限於1個, 可以設成多數。 著色層3 84是塗布由例如含有顏料或染料之著色劑的 感性樹脂所構成之著色光阻,並藉由微影成像法圖案製作 此而所形成。依據該圖案製作,形成有用以透過通過第1 基材803的來自照明裝置131之光的開口部822,和覆蓋該 開口部822周圍之反射層8 13的部分。如本實施形態般, 於設置R、G、B3色之著色層814之時,針對各色依序執 行上述圖案製作處理。依此,可以在遮光層8 1 5之處將各 著色層814與其他著色層814重疊。 遮光層8 1 5是被形成在各顯示用像點D之間的境界區 域上,而遮光該境界區域。該遮光層8 1 5是被形成可帶狀 地各延伸於第2基材805上之閘極配線83 5之長邊方向(即 是第54圖之Y方向),及與此正交之方向(即是第54圖之X 方向)上。 再者,遮光層815是例如在著色層814B和著色層 814R之間,如第55圖所示般,在基底層812上形成開口 部823,該開口部823之底部824是經由反射層813而被直 接設置在第1基材803之上方。 $紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ' ' -113- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 589485 A7 B7 五、發明説明(11)3 在開口部823上,與遮光層615柑鄰之著色層6MB被 形成自底部624起爲h31之厚度,並於其上方將著色層 81 4G形成h3 2之厚度,又在其上方以h3 3之厚度互相重疊 地形成著色層8 1 4R之突出部分。 在此,若將最下方的著色層814B之厚度h31設爲0.7 // m以上,2.0/z m以下,則藍色系例如藍色之著色層814B 之遮光性則成爲較佳。再者,利用與其他著色層組合,則 各顯示用像點D之表面和與此鄰接之像點D間區域之表面 之間,則可以確保平坦性。 再者,當將第55圖之h31形成大約1.7/z m,將h3 2形 成大約1. 〇 // m,將h3 3形成大約0.9 // m,並且將被重疊位 於著色層之最上面的著色層81 4R之上面的外敷層816之厚 度形成大約1.8// m時,因基底層812之厚度h35大約爲 2.4// m,顯示用像點D之著色層814B之厚度h36則大約爲 該部分之外敷層816之厚度大約爲2.0//m,故遮 光層815上之外敷層816之上面與著色層81 4B之顯示用像 點D上之外敷層816之上面爲一致,成爲平坦之面。 在此,如上述般藉由在開口部823之最下方形成著色 層8 1 4B,則可以形成最厚,可以形成大約爲1.7 // m。 並且,於著色層814G和著色層8MB之間,如第53圖 所示般,在開口部823之底部824上,首先進入相鄰的著 色層814B,於其上方除疊著色層814G之突出部,並且於 其上方重疊著色層81 4R,依此,形成遮光層815。 再者,於著色層8 1 4R和著色層8 1 4G之間’在開口部 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1' 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -114- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _ B7五、發明説明(1l)l 823之底部824上,首先形成著色層814B,於其上方重疊 著色層814G之突出部分,並且,於其上方重疊著色層 814R,依此,形成遮光層815。 並且,遮光層8 1 5是不限於上述之構成,例如第5 6圖 所示般,即使在凹部823之底部824基底層8 12完全無完 全被除去之時,凹部823之底部824之深度亦僅有m35, 可以降低遮光層8 1 5之高度,減輕外敷層8 1 6上面之凹凸 。依此可以降低夾厚之偏差,使拋光處理成爲容易執行。 然後其結果液晶裝置之畫面顯示之對比則成爲較佳。 在此,若將第56圖之最下方之著色層814B之厚度 m31設爲0.7/z m以上,2.0// m以下,則藍色系例如藍色之 著色層814B之遮光性則成爲最佳。再者,利用與其他著色 層組合,則可以在各顯示用像點D之表面,和與此相鄰之 顯示用像點D間之境界區域之表面之間減輕凹凸。 又若將將第56圖之著色層814B之厚度m31設爲1.1 //111,將著色層8140之厚度〇13 2設爲略1.0//111,並且將著 色層814R之厚度m3 3設爲0.9//m,則當凹部823之底部 624之深度m35大約爲時,則可以更減輕外敷層 8 1 6上面之凹凸。依此,可以減輕夾厚之偏差,再者,成爲 容易執行拋光處理。然後,其結果,液晶裝置之畫面顯示 之對比成爲更佳。 作爲此時之著色層814之配列圖案,於第54圖雖然採 用斜馬賽克配列,但是除了以該斜馬賽克配列作爲配列圖 案之外,亦可以採用如條紋配列或數位配列等之各種圖案 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -115- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _ B7 _五、發明説明(1众 形狀。 並且,顯示用像點D是藉由遮光層815而包圍其周圍 的區域,於其顯示用像點D之內部上,包含有R、G、B中 之任一色的著色層8 1 4,並且,包含有反射層8 1 3及開口部 822。1畫素是藉由包含有R、G、B之各色之著色層814的 3個顯示用像點D而所構成。 接著,TFT 83 7是具有被形成在第2基材805上之閘極 電極83 8,和在該閘極電極8 3 8上被形成在第2基材805之 全區域上的閘極絕緣膜839,和夾著該閘極絕緣膜83 9而被 形成在閘極電極8 3 8之上方位置的半導體層840,和經由接 觸電極841而形成在該半導體層840之一方側的源極電極 842,還有經由接觸電極被形成在半導體層840之另一方側 的汲極電極8 4 3。 在此,閘極電極83 8是被連接於閘極配線8 3 5,源極電 極842是被連接於源極配線83 6。閘極配線83 5是延伸於第 2基材805之平面方向而朝縱方向(即是第54圖之Y方向) 以等間隔且平行地被形成多數條。再者,源極配線83 6是 夾著閘極絕緣膜839而與閘極配線8 3 5交叉地延伸於第2 基材805之平面方向而朝向橫方向(即是第54圖之X方向) 以等間隔且平行地被形成多數條。 畫素電極827是被構成可覆蓋藉由互相交叉之閘極配 線83 5和源極配線836而所區劃之方形區域中,除去對應 於TFT 83 7之部分的區域,例如藉由如ITO等之透明導電體 而所形成。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公慶) I--------^^衣-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、v 一口 d -116- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ____ B7_ 五、發明説明(11)3 並且,閘極配線8 3 5和閘極電極8 3 8是藉由鉻、鉬等 所形成。再者,閘極絕緣膜3 3 9是藉由如氮化矽(SiNx)、氧 化矽(SiOx)等所形成。再者,源極電極842及與此一體的源 極配向8 3 6以及汲極電極8 4 3,是藉由例如,鈦、鉬、鋁等 形成。 如上述般所構成之本實施形態中,當提供訊號於被形 成在第1基材8 0 3之共通電極8 3 4,另外,提供訊號於被形 成在第2基材805之閘極配線83 5和源極配線83 6之時, 則在每顯示用像點D選擇畫素電極827,僅對被保持於該 所選擇之畫素電極827和共通電極834之間的液晶施加選 擇電壓,依此,可控制液晶配向,而調製反射光及透過光 〇 當考慮反射型之顯示時,通過第2基材805及畫素電 極827而射入至液晶層807之外部光,是藉由該液晶層807 而被每顯示用像點D調製,然後被反射層813反射,再次 通過畫素電極827及及第2基材805而射出至外部,顯示 出影像。此時,於本實施形態中,因外敷層2 1 6爲平坦, 在顯示畫面上顯示出對比淸晰之畫像。 另外,當考慮透過型之顯示時,來自照明裝置13 1(參 照第9圖)之光,通過第1基材803及透過部即是開口部 3 22而射入至液晶層807後,藉由該液晶層807而被每顯示 用像點D調製,並且,通過畫素電極827及第2基材805 而射出至外部,顯示出影像。 於無論在反射型顯示及過型顯示中之任一者時,因於 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -117- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _ B7五、發明説明( 本實施形態中,外敷層8 1 6是被平坦地形成,故可以在液 晶裝置之顯示畫面上看見對比淸晰之畫像。並且,該射出 光是藉由覆蓋反射層813及透過部322的著色層814,而被 著色成對應的顏色。 於本實施形態中,因形成基底層8 1 2,而使得在相鄰之 顯示用像點間之境界區域具有凹部823(第54圖)或開口部 823 (第55圖),故可以降低遮光層815之高度,可以確保各 顯示用像點D之表面和與此相鄰之像點D間區域之表面之 間的平坦性。 再者,於本實施形態中,因在凹部823或是開口部823 之底部8 24之最下方上,形成藍色系例如藍色之著色層 814B,故可視光波長區域中之平均透過率低的藍色,是被 .形成比他綠色系、紅色系例如綠色、紅色之著色層8 1 4還 厚。因此,因此可以提高遮光性,且降低整體遮光層8 1 5 之高度,並可以使液晶裝置之顯示畫面之對比變成較佳。 又,若在開口部823上自底部824將藍色之著色層 8 14B形成爲大約1.7// m之厚度,於其上方將綠色之著色 層814G形成大約l.〇//m,又在其上方將紅色之著色層 8 14R形成大約0.9// m時,則可以更確實地確保各顯示用 像點D及與此鄰接之像點0間區域之上面之層,例如外敷 層8 1 6之平坦性。依此,可以改善夾厚之偏差,並且使拋 光處理成爲容易,其結果可達成液晶裝置之顯示畫面的對 比之淸晰化。 再者,在凹部823中基底層8 12如第56圖所示般,無 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -118- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明(1作 完全被去除之時,因亦可以降低遮光層815之高度,故可 以減輕外敷層8 1 6之上面的凹凸,使解決夾厚之偏差或拋 光處理成爲容易。其結果,可達成液晶裝置之顯示畫面的 對比改善。 (液晶裝置之製造方法) 接著,根據第57圖之工程圖說明本實施形態所涉及之 液晶裝置之製造方法。首先,於工程P211中,於第1基材 8 03上形成基底層812。在此,在形成遮光層8 15之各顯示 用像點D之間的境界區域中,如第52圖所示般,使可以在 基底層8 12上形成開口部823地,鈾刻光阻而形成基底層 8 12° 若針對此再更詳細說明,即是藉由旋轉塗層將樹脂材 料均勻地塗布在第1基材803上,並將光阻塗布於其上方 ,自形成有規定圖案之光掩模上曝光該光阻,並顯像處理 該光阻,然後,將該光阻當作掩模而蝕刻上述樹脂材料而 在基底層812上形成多數之穴。 接著,依據對該基底層8 1 2加熱,使該些穴圓滑變形 而形成凹凸狀之基底層812之下層812a。並且,薄膜狀地 塗布.相同樹脂材料,使該基底層8 1 2之凹凸狀可成爲滑面 ,並形成基底層812之上層812b。 接著,於該基底層8 1 2上塗布光阻,自形成有規定圖 案之光掩模上曝光該光阻,並顯像處理該光阻,之後將該 光阻當作掩模予以蝕刻,而在該基底層8 1 2上形成開口部 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) " -119- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _ B7 _ _五、發明説明(1l)s 8 23。依此,利用成爲遮光層8 1 5之部分而除去基底層8 1 2 的基底層812被形成在第1基材8 03上。 接著,於工程P212中,藉由蒸鍍法或濺鍍法等將鋁等 薄膜狀地形成在基底層8 1 2上,並使用微影成像法圖案製 作此,依此,例如第54圖所示般,在各顯示像點D之略中 央設置略長方形狀之開口部822,並且於除此之外的區域上 形成反射層8 1 3。 接著,於工程P213中,藉由旋轉塗層塗布1色例如藍 色系如藍色之著色層材料於反射層813及開口部822上, 並且於其上塗布光阻,自形成有規定圖案之光掩模之上方 曝光光阻,並顯像處理該光阻,之後將該光阻當作掩模蝕 刻上述著色層材料而形成藍色之著色層814B。再者,關於 .其他2色是重複執行相同之處理,依序形成綠色系、紅色 系例如綠色之著色層814G、紅色之著色層814R。 依此,於各顯示用像點D上,各單獨形成有藍色之著 色層814B、綠色之著色層814G及紅色之著色層814R。另 外,於遮光層815上,如第53圖所示般,在最下層藍色著 色層814B被形成最厚,於其上方重疊形成綠色之著色層 814G、還有紅色之著色層814R。 如此一來,因在最下層藍色之著色層81 4B被形成最厚 ,故可提昇遮光性,並可以使例如遮光層8 1 5之整體的厚 度變薄。 接著,於工程P214中,於著色層8 14上形成外敷層 8 16。此時,於本實施形態中,在基底層812上形成有開口 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -120- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明(11》 部823之部分,是可以降低遮光層815之高度’並可以確 保外敷層8 1 6之表面的平坦性,依此’可以降低夾厚之偏 差,並可以容易執彳了抛光處理。其結果’可以達成顯不影 像之對比的淸晰化。 接著,於工程P2 1 5中,藉由濺鍍法在外敷層8 1 6上被 覆爲共通電極834之材料的ITO等,並藉由微影成像法予 以圖案製作而在外敷層816之上面形成共通電極816。並且 ,於其上方形成配向膜8 1 8,並對該配向膜8 1 8施予拋光處 理而完成彩色基板804。 接著,關於對向基板806,是於工程P221中,在第2 基材80 5上形成TFT83 7、閘極配線8 3 5、源極配線836及 畫素電極827等。 在此,關於TFT 83 7是在第2基材805上藉由濺鍍法以 相同之厚度成膜鉻、钽等,並藉由微影成像法予以圖案製 作而形成閘極配線83 5及與此一體的閘極電極83 8,並且藉 由電漿CVD(Chemical Vapour Deposition)法形成由氮化石夕 所構成之閘極絕緣膜839。 接著,依序連續形成例如由半導體層840所構成之a-Si層和由接觸電極841所構成之n +型a-Si層,並執行所形 成之Π +型a-Si層及a-Si層之圖案製作而形成半導體層84 0 及接觸電極841,並且藉由濺鍍法將ITO等被覆在閘極絕 緣膜83 9上之將成爲畫素電極827之部分上,並藉由微影 成像法予以圖案製作而形成畫素電極827。 再者,在第2基材805之表面上藉由濺鍍形成鈦、鉬 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐〉 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -121- 589485 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 五、發明説明(11)3 、鋁等,並執行圖案製作形成源極電極842、汲極電極843 及源極配線8 3 6。依據以上一連串之處理,形成τ F τ 8 3 7及 畫素電極827。 接著,於工程P222中,於畫素電極827等之上方形成 配向膜820’並J也予抛光處理形成對向基板806。 之後,於工程P23 1中,藉由乾燥散佈等分散間隔材料 129(參照第9圖)於第對向基板8〇4側之配向膜820上,並 依據密封材料1 3 3貼合彩色濾光基板8 04和對向基8 0 6。接 著,於工程P23 2中,自密封材料i33之開口部注入液晶後 藉由紫外線樹脂等封口材料封口該密封材料1 3 3之開口部 〇 接著,於工程P23 3中,藉由貼黏等之方法將相位差板 808、8 10及偏光板809、811各安裝在第1基材803及第2 基材805之外面上。接著,於工程P234中,藉由執行所需 之配線,或安裝照明裝置13 1及框體132等,完成液晶裝 置。 於第57圖之製造方法中,重疊3色之著色層814而所 形成之遮光層815中,因在最下層將藍色系例如藍色之著 色層814B形成最厚,故可以提昇遮光性,並可以使遮光層 8 1 5整體之厚度變薄。 並且,在基底層812形成有開口部823之部分,因可 以降低遮光層815之高度,故可以確保外敷層816之表面 的平坦性,依此,可以降低夾厚之偏差,並可以使拋光處 理成爲簡單,其結果,可使顯示在液晶裝置之畫面的影像 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21〇><297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -122 - 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 _ B7____五、發明説明(11)9 ,達成對比之淸晰化。 再者,於第57圖之製造方法中’如第55圖所示般, 雖然在形成有遮光層815之區域的開口部623,完全除去基 底層812,但是如第54圖所示般,即使分成第1絕緣層 812a及第2絕緣層812b之2次而形成基底層812,並藉由 第2絕緣層6 12b之形成而設置凹部623 ’來取代此亦可。 例如,於第1次之處理中’包含將成爲遮光8615之區 域的顯示用像點D之間的境界區域’而在基材之全面上形 成第1絕緣層812a,並與第55圖中之基底層812之下層 8 12 a相同地設置凹凸,然後於第2次的處理中,形成第2 絕緣層8 1 2b之時,除了將成爲遮光層8 1 5之顯示用像點D 之間的境界區域之外,在各顯示顯示用像點D上,藉由使 用光阻而予以蝕刻,則亦可以形成第2絕緣層8 1 2 b。 依此,於第1次之基底層8 12之形成中’可以省略使 用光阻而蝕刻基底層8 1 2之工程,以圖刪減成本,亦可使 製造速度變快。再者,如開口部823般,當完全除去基底 層8 1 2之時,相反的於有損失互相相鄰之顯示用像點D間 之境界區域的表面和顯示用像點D的表面之間的平坦性之 時,藉由以所欲之厚度來形成基底層8 1 2,亦可確保平坦性 ,依此,可以減少夾厚之偏差,再者,可使拋光處理變成 容易。並且,在遮光層815之部分處,在基底層812形成 凹部823之工程,是與上述說明相反,即使成爲第1次處 理亦可。 並且,亦可使用半色調(Halftone)來形成凹部823。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -123- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明(1龙 (第11實施形態) 接著,針對本發明適用於反射型之被動矩陣方式之半 透過型之液晶裝置之時的其他實施形態予以說明。 第58圖是構成本發明所涉及之液晶裝置之一實施形態 的液晶面板之剖面圖。第59圖是構成第58圖之液晶面板 之彩色濾光基板的剖面圖。第60圖是該液晶面板之部分放 大圖。並且,第60圖中之F-F’線之剖面圖是相當於第58 圖。第6 1圖是完全除去基底層之狀態的遮光層的部分剖面 放大圖。第62圖是僅一部分除去基底層之狀態的遮光層的 部分剖面放大圖。然後第63圖是表示本實施形態所涉及之 液晶裝置之製造方法的工程圖。 第5 8圖所示之液晶面板902爲所謂的具有反射型之構 造的液晶面板,使用該液晶面板902而所構成之液晶裝置 之構造是大約與第9圖所示之液晶裝置1 〇 1相同。即是, 藉由依其所需在液晶面板902上設置照明裝置13 1和框體 132,而構成液晶裝置。 液晶面板902是藉由密封材料133 (參照第9圖)而貼合 以由玻璃板或合成樹脂板等所形成之透明第1基材903爲 基體之彩色濾光基板9〇4,和以與此相向之第2基材905爲 基體之對向基板906,於該彩色濾光基板904和對向基板 9〇6之間封入液晶而形成液晶層9〇7。再者,於第1基材 903之外面上,配置相位差板908及偏光板909,於第2基 材905之外面上配置有相位差板9 1 0及偏光板9 1 1。 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ~ -124- 丨 衣-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T d 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ___ B7_五、發明説明(12)1 關於彩色濾光基板904,是於第1基材903之液晶層 907側之表面上形成基底層912,於其基底層912之表面上 設置有反射層9 1 3。於反射層9 1 3上,是以規定之配列圖案 形成綠色之著色層914G、藍色之著色層914B及紅色之著 色層914R。關於該些著色層,於之後之說明中,全部以符 號“914”予以表示。於互相相鄰之著色層914之間的境界 區域上,設置有藉由重疊各色著色層914而所形成之遮光 層 915。 再者,於著色層914及遮光層915上,設置有用以保 護該些層之外敷層9 1 6。再者,於外敷層9 1 6上形成有由 ITO(Indium Tin Oxide :銦錫氧化物)等之透明導電體所構成 之透明電極9 1 7,並且於其上方形成有由聚醯亞胺樹脂等所 構成之配向膜9 1 8。 另外,關於對向基板906,如第58圖所示般,在第2 基材905之液晶層907側之表面上,透明電極919是被形 成延伸於與彩色濾光基板904側之透明電極917正交方向( 即是,第60圖X方向)的帶狀,並且,於其上方形成有配 向膜920。透明電極1 1 7是互相並而被構成條紋狀,在與透 明電極919正交之方向(即是,第60圖之Y方向)上,互相 並列而被構成條紋狀。平面性重疊彩色濾光基板904側之 透明電極917和對向基板906側之透明電極919的區域則 成爲顯示用像點D。 彩色濾光基板904之基底層912是由樹脂材料所構成 ,是由下層912a及上層912b之2層所形成。該基底層912 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 一 -125- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明(1涂 因是下層912a之表面被加工成微細之凹凸狀,並且於該下 層9 12a之表面全體被覆蓋相词材料之薄的上層912b,故形 成圓滑的凹凸狀。依據該凹凸,可以使透光基底層9 1 2的 光予以散亂,依此,可以解決難以明視所顯示之畫面影像 的問題。 再者,反射層913爲例如錦或銀等之單體金屬膜,而 被形成在基底層912上,對應於基底層912之表面凹凸而 於反射層9 1 3之表面也形成微細之凹凸。依聚該凹凸形狀 ,可以使藉由該反射層913所反射之反射光予以散亂,可 以解決難以明視所顯示之畫面影像的問題。 著色層914是塗布由例如含有顏料或染料之著色劑的 感性樹脂所構成之著色光阻,並藉由微影成像法圖案,形 .成可以覆蓋反射層913。該著色層914爲原色系濾光片,1 個顯示用像點D內之著色層914,是由R、G、B3色之任一 者所構成。另外,於遮光層915內,重疊各色之著色層914 〇 作爲著色層914之配列圖案,於第60圖雖然採用斜馬 賽克配列,但是除了以該斜馬賽克配列作爲配列圖案之外 ,亦可以採用如條紋配列或數位配列等之各種圖案形狀。 遮光層9 1 5是遮光各顯示用像點D之境界區域。該遮光層 915是被形成可帶狀地各延伸於彩色濾光基板904之透明電 極917之長邊方向(即是第60圖之Y方向),及與此正交之 方向(即是第60圖之X方向)的兩方向上。 再者,遮光層915是例如在著色層914B和著色層 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -126 - 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ___ B7____五、發明説明(12> 9MR之間,如第61圖所示般,在基底層912上形成開口 部923,該開口部923之底部924是經由反射層913而被直 接設置在第1基材903之上方。 在開口部923上,與遮光層915相鄰之著色層914B被 形成自底部924起爲h41之厚度,並於其上方將著色層 9 14G形成h42之厚度,又在其上方以h43之厚度互相重疊 地形成著色層9 1 4R之突出部分。 在此,若將第61圖最下方的著色層914B之厚度h41 設爲0.7// m以上,2.0/z m以下,則藍色系例如藍色之著色 層9 1 4B之遮光性則成爲較佳。再者,利用與其他著色層組 合,則各顯示用像點D之表面和與此鄰接之像點D間區域 之表面之間,則可以確保平坦性。 再者,當將第61圖之h41形成大約1.7// m,將M2形 成大約1 . 〇 m,將h4 3形成大約0.9 // m,並且將被重疊位 於著色層之最上面的著色層91 4R之上面的外敷層916之厚 度形成大約1.8/zm時,因基底層912之厚度h45大約爲 2.4/z m,顯示用像點D之著色層914B之厚度h46則大約爲 1.0//m,該部分之外敷層916之厚度大約爲2.0//m,故遮 光層915上之外敷層916之上面與著色層91 4B之顯示用像 點D上之外敷層916之上面,是從第1基材903之高度爲 一致,成爲平坦之面。 在此,如上述般藉由在開口部923之最下方形成著色 層9 1 4B,則可以形成最厚,可以形成大約爲1.7 // m。 並且,於著色層914G和著色層914B之間,如第59圖 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) " -127- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 589485 A7 B7 五、發明説明(你 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 所示般,在開口部893之底部924上,首先進入相鄰的著 色層9MB,於其上方除疊著色層91 4G之突出部,並且於 其上方重疊著色層914R,依此,形成遮光層915。 再者,於著色層914R和著色層914G之間,如第59圖 所示般,在開口部923之底部924上,首先形成著色層 914B,於其上方重疊著色層91 4G之突出部分,並且,於其 上方重疊著色層914R,依此,形成遮光層915。 再者,於著色層9MR和著色層914G之間,如第59圖 所試頒,在開口部923之底部924上,首先形成著色層 914R,於其上方重疊著色層914G之突出部分,並且,於其 上方重疊著色層914R,依此,形成遮光層915。 並且,遮光層915是不限於上述之構成,例如62圖所 示般,即使在凹部923之底部924基底層912完全無完全 被除去之時,凹部923之底部924之深度亦僅有m45,可 以降低遮光層915之高度,減輕外敷層916上面之凹凸。 依此可以降低夾厚之偏差,使拋光處理成爲容易執行。然 後其結果液晶裝置之畫面顯不之對比則成爲較佳。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在此,若將第62圖之最下方之著色層914B之厚度 m4 1設爲0.7 // m以上,2.0 // m以下,則藍色系例如藍色之 著色層9 1 4B之遮光性則成爲最佳。再者,利用與其他著色 層組合,則可以在各顯示用像點D之表面,和與此相鄰之 顯示用像點D間之境界區域之表面之間減輕凹凸。 又若將將第62圖之著色層914B之厚度m41設爲1.1 //m,將著色層914G之厚度m42設爲略l.Oem,並且將著 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X29?公釐) -128- 589485 A7 B7
五、發明説明(12]B 色層914R之厚度m43設爲0.9 // m,則當凹部923之底部 924之深度m45大約爲13以⑺時,則可以更減輕外敷層 9 1 6上面之凹凸。依此,可以減輕夾厚之偏差,再者,成爲 容易執行拋光處理。然後,其結果,液晶裝置之畫面顯示 之對比成爲更佳。 並且,顯示用像點D是包含原色系濾光片R、G、B中 之任一的著色層914,爲藉由遮光層915而包圍周圍的區域 。該顯示用像點D是具備有反射層9 1 3者,1畫素是由具 有著色層914R之顯示用像點D,和具有著色層914G之顯 示用像點D,和具有著色層9 14B之顯示用像點D的3個所 構成。 如上述般所構成之本實施形態中,當提供訊號於被形 成在第2基材905之透明電極919,另外,提供訊號於被形 成在第1基材903之透明電極917之時,則可以僅驅動被 保持於透明電極919和透明電極917交叉之區域的顯示用 像點D中的液晶。 自對向基板側射入至液晶層90 7之外光,被每顯示用 像點D調製,然後透過著色層9 1 4後被反射層9 1 3反射, 再次通過對相機版906而被射出。此時,外敷層916因爲 平坦,故可以觀看到對比淸晰之畫像。並且,射出光是藉 由覆蓋反射層913之著色層914而被被著色成對應的顏色 〇 於本實施形態中,因形成基底層9 1 2,而使得在相鄰之 顯示用像點間之境界區域具有凹部923或開口部923,故可 本紙張尺度適用中國國家標準(CNSM4規格(210X 297公釐) ----------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 d 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -129- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明(12右 以降低遮光層915之高度,可以確保彩色瀘光基板904側 之外敷層9 1 6的平坦性。 再者,因在凹部823之底部924或是開口部923之底 部924上,首先形成藍色系例如藍色之著色層914B,故可 視光波長區域中之平均透過率低的藍色,是被形成比他綠 色系、紅色系例如綠色、紅色之著色層9 14還厚。因此, 因此可以提高遮光性,且降低整體遮光層9 1 5之高度,並 可以使液晶裝置之顯示畫面之對比變成較佳。 又,若在開口部923上自底部924將藍色之著色層 914B形成爲大約1.7/zm之厚度,於其上方將綠色之著色 層8 94G形成大約1.0 // m,又在其上方將紅色之著色層 9 14R形成大約0.9// m時,則可以更確實地確保各顯示用 像點D及與此鄰接之像點D間區域之上面之層,例如外敷 層9 1 6之平坦性。依此,可以改善夾厚之偏差,並且使拋 光處理成爲容易,其結果可達成液晶裝置之顯示畫面的對 比之淸晰化。 再者,在凹部823中基底層8 12如62圖所示般,無完 全被去除之時,該基底層9 1 2是由第1絕緣層9 1 2a和爲了 使該第1絕緣層912a上具有凹部923而所設置之第2絕緣 層9 1 2b所形成之時,亦可以減輕外敷層9 1 6之上面的凹凸 ’使改善夾厚之偏差或拋光處理成爲容易。其結果,可達 成液晶裝置之顯示畫面的對比改善。 (液晶裝置之製造方法) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -130- 589485 A7 _____ B7 _ 五、發明説明(12> (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 接著,根據第63圖之工程圖說明本實施形態所涉及之 液晶裝置之製造方法。首先,於工程P241中,於第1基材 9〇3上形成基底層912。在此,在形成遮光層915之各顯示 用像點D之間的境界區域中,如第59圖所示般,使可以在 基底層912上形成開口部923地,使用光阻蝕刻基底層912 而予以形成。 若針對此再更詳細說明,即是藉由旋轉塗層將樹脂材 料均勻地塗布在第1基材903上,並將光阻塗布於其上方 ,自形成有規定圖案之光掩模上曝光該光阻,並顯像處理 該光阻,然後,將該光阻當作掩模而蝕刻上述樹脂材料而 在基底層912上形成多數之穴。接著,依據對該基底層912 加熱,使該些穴圓滑變形而形成凹凸狀之基底層9 1 2之下 層912a。並且,薄膜狀地塗布相同樹脂材料,使該基底層 912之凹凸狀可成爲滑面,並形成基底層912之上層912b 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 接著,於該基底層9 1 2上塗布光阻,自形成有規定圖 案之光掩模上曝光該光阻,並顯像處理該光阻,之後將該 光阻當作掩模予以蝕刻,而在該基底層9 1 2上形成開口部 923。依此,利用成爲遮光層9 1 5之部分而除去基底層9 1 2 的基底層912被形成在第1基材903上。 接著,於工程P242中,藉由蒸鍍法或濺鍍法等將鋁等 薄膜狀地形成在基底層9 1 2上,並使用微影成像法圖案製 作此,依此’例如第5 9圖所示般,在各顯示像點d及遮光 層915之區域上形成反射層913。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 一 ' -131 - 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明(12]B 接著,於工程P243中,藉由旋轉塗層塗布各色著色層 材料於反射層上,並且於其上塗布光阻,自形成有規定圖 案之光掩模之上方曝光光阻,並顯像處理該光阻,之後予 以蝕刻,依序形成藍色系例如藍色之著色層9 1 4B、綠色系 例如綠色之著色層9 1 4G及紅色系例如紅色之著色層構件 914R 〇 依此,於各顯示用像點D上,各單獨形成有藍色之著 色層914B、綠色之著色層914G及紅色之著色層914R。另 外,於遮光層915上,如第59圖所示般,在最下層藍色著 色層914B被形成最厚,於其上方重疊形成綠色之著色層 9 14G、還有紅色之著色層914R。 如此一來,因在最下層藍色之著色層91 4B被形成最厚 ,故可提昇遮光性,並可以使例如遮光層915之整體的厚 度變薄。 再者,在基底層912上形成有開口部9U之部分,是 可以降低遮光層915之高度,並可以確保外敷層916之表 面的平坦性,依此,可以降低夾厚之偏差,並可以容易執 行拋光處理。其結果,可以達成顯示影像之對比的淸晰化 〇 接著,於工程P244中,在上數著色層914上形成外敷 層916。再者,於工程P245中,藉由濺鍍法在其上方被覆 爲透明電極917之材料的ITO等,並藉由微影成像法予以 圖案製作,而如第60圖所示般,形成在Y方向持有規定寬 度的條紋狀。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)— (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -132- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A 7 B7五、發明説明(你 接著,在該上方形成配向膜9 1 8,並施予拋光處理而完 成彩色基板904之製造。依此,配向膜918之液晶層90 7 之面也被確保平坦性,亦可解決夾厚之偏差,可達成畫面 之高畫質化。 再者,於工程P251中,藉由濺鍍法在第2基材905上 被覆爲透明電極919之材料的ITO等,並藉由微影成像法 予以圖案製造,則如第60圖所示般在X方向上條紋狀地形 成透明電極919。接著,於工程P252中,在其上方上形成 配向膜920,並且施予拋光處理而完成對向基板906之製造 〇 接著,於工程P26 1中,藉由乾燥散佈等分散間隔材料 129(參照第9圖)於對向基板906上,並依據密封材料133 貼合上述彩色濾光基板904和對向基板906。 之後,於工程P2 62中,自密封材料133之開口部注入 液晶,之後藉由紫外線樹脂等封口密封材料1 3 3之開口部 。並且,於工程P263中,藉由貼黏等之方法將相位差板 908、910及偏光板909、911各安裝在第1基材903及第2 基材905之外面上。接著,於工程P264中,藉由執行所需 之配線,或安裝第9圖之照明裝置13 1及框體132等,完 成液晶裝置。 於本實施形態所涉及之液晶裝置之製造方法中,重疊 著色層914之遮光層615中,因在最下層設置藍色系例如 藍色之著色層914B,並且被形成最厚,故可以提昇遮光性 ,並可以使遮光層915整體之厚度變薄。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) " — -133- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 _ 五、發明説明(13]D 並且,在基底層912形成有開口部923之部分,因可 以降低遮光層9 1 5之高度,故可以確保外敷層9 1 6之表面 的平坦性,依此,可以降低夾厚之偏差,並可以使拋光處 理成爲簡單,其結果,可使顯示在液晶裝置之畫面的影像 ,達成對比之淸晰化。 再者,於上述之液晶裝置的製造方法中,如第6 1圖所 示般,開口部923雖然是在將成爲遮光層615之區域完全 除去基底層9 1 2,但是如第62圖所示般,即使分成第1絕 緣層912a及第2絕緣層912b之2次而形成基底層912,並 設置凹部923,來取代此亦可。 例如,在第1次中,包含將成爲遮光層61 5之區域的 顯示用像點D之間的境界區域,而在基材之全面上形成第 1絕緣層912a,並與第61圖中之基底層912之下層9l2a 相同設置凹凸,然後於第2次之形成第2絕緣層9 1 2b中, 除了將成爲遮光層6 1 5之顯示用像點D之間的境界區域之 外,在各顯示顯示用像點D上,使用光阻而予以蝕刻,亦 可以形成第2絕緣層9 1 2b。 依此,於第1次之基底層912之形成中,可以省略使 用光阻而鈾刻基底層9 1 2之工程,以圖刪減成本,亦可使 製造速度變快。再者,如開口部923般,當完全除去基底 層9 1 2之時,相反的於有損失互相相鄰之顯示用像點D間 之境界區域的表面和顯示用像點D的表面之間的平坦性之 時,藉由以所欲之厚度來形成基底層9 1 2,亦可確保平坦性 ,依此,可以減少夾厚之偏差,再者,可使拋光處理變成 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -134- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明(13)1 容易。並且,在遮光層915之部分處,在基底層912形成 凹部923之工程,是與上述說明相反,即使成爲第1次處 理亦可。 並且,亦可使用半色調(Halftone )來形成凹部923。 (電子機器) 以下,根據實施形態說明本發明所涉及之電子機器。 (電子機器之第1實施形態) 第64圖表示將本發明適用於電子機器之一例的行動電 話機之時的實施形態。在此所示之行動電話機1 600是具有 多數操作按鈕1601、受話口 1 602、送話口和顯示部1 604。 該顯示部1 6 0 4是可以使用本發明所涉及之液晶裝置,例如 第3圖、第7圖、第9圖等所示之液晶裝置而構成。 (電子機器之第2實施形態) 第65圖是表示將本發明適用於電子機器之一例的個人 電腦,即所謂的攜帶型之個人電腦,即筆記型電腦之時的 實施形態。在此所示之個人電腦1 6 1 0是具有備有鍵盤1 6 1 1 之主體部1 6 1 2,和顯示元件1 6 1 3。於顯示元件1 6 1 3中, 液晶裝置1 6 1 6是被組入於外框1 6 1 4。該液晶裝置1 6 1 6是 可以使用例如第3圖、第7圖、第9圖等所示之液晶裝置 而構成。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -135- 589485 A7 B7 五、發明説明(13> (電子機器之第3實施形態) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 第66圖是將本發明適用於電子機器之一例的數位相機 之時的實施形態。一般之照相機是藉由被照體之光像而使 底片感光,對此數位相機是藉由如CCD(Charge Coupled Device)等之攝影元件將被照體之光像光電變換而生成攝影 訊號。 在此所示之數位相機1 620之外殼1621之背面上,設 置有顯示部1622,根據CCD之攝影訊號’在該顯示部 1 6 2 2執行顯示。例如,在顯示部1 6 2 2上可以顯示被照體, 此時,顯示部1 622是當作瞄準裝置而發揮機能。在外殼 1621之正面側(第66圖所示之構造的背面側)上,設置有包 含光學透鏡或CCD等之受光元件1 623。顯示部1622是可 以使用例如本發明所涉及之液晶裝置,例如第3圖、第7 圖、第9圖等所示之液晶裝置而構成。攝影者是確認被顯 示於顯示部1 622之被照體,按下快門鈕1 624而執行攝影 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (電子機器之第4實施形態) 第67圖是表示將本發明適用於爲電子機器之一例的手 錶之時的實施形態。在此所示之手錶1 63 0是具有在該本體 正面中央使用液晶裝置1 63 1之顯示部。然後,作爲該液晶 裝置1631,可以使用例如第3圖、第7圖、第9圖所示之 液晶裝置。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) '- -136- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A 7 __ _ B7 ___五、發明説明(你 (電子機器之第5實施形態) 第68圖是表示將本發明適用於電子機器之一例的資訊 機器之時的實施形態。在此所示之資訊機器164〇是具有觸 孔面板之資訊機器,搭載有液晶裝置1 64 1。該資訊機器 1640是具有藉由液晶裝置1641之顯示面而所構成之顯示區 域1 642,和位於該顯示區域1642之下方的第1輸入區域 1 643。於第1輸入區域1 643上設置有輸入用薄板1644。 液晶裝置1641是具有平面性重疊矩形之液晶面板和矩 形之觸控面板的構造。觸控面板是當作輸入用面板而發揮 機能。觸控面板是比液晶面板大,成爲自該液晶面板之一 端部突出的形狀。 於顯示區域1642及第1輸入區域1 643上配置有觸控 面板,對應於顯示區域1642之區域也與第1輸入區域1643 相同當作可輸入操作之第2輸入區域1 645而發揮機能。觸 控密板是具有位於液晶面板側之第2面和與此相向之第1 面,在相當於第1面之第1輸入區域1 643之位置上貼有輸 入用薄板1 6 4 4。 於輸入用薄板1 644上印刷有用以識別圖示(Icon)1646 及手寫文字辨識區域1 647的框。於第1輸入區域1643上 ,依據透過輸入用薄板1 644以手指或筆等之輸入手段施加 荷重於觸控面板之第1面上,則可以執行如圖示1 646之選 擇或文字辨識區域1 647中之文字輸入等的資料輸入。 另外,於第2輸入區域1 645中,除了可以觀察液晶面 板之影像外,依據使液晶面板顯示輸入模態畫面,藉由以 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -137- 589485 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7_____五、發明説明(如4 手指或筆施加荷重於觸控面板之第1面,則可以指定該輸 入模態畫面內之適當位置,依此,可以執行資料輸Λ等° (電子機器之第6實施形態) 第6 9圖是表示將本發明適用於電子機器之一例的投影 機之時的實施形態。在此所示之投影機1 660之內部上’設 置有由鹵素燈等之白色光源所構成之燈元件1661°自該燈 元件1661所射出之投射光,是藉由被設置在光導1062內 之4片鏡1663及2片二向色鏡1664而分離成R、G、B之 3原色,射入至作爲對應於各原色之光閥的液晶裝置1665R 、1 665B 及 1 665G。 液晶裝置1 665R、1 665B及1 665G是可以使用本發明 所涉及之液晶裝置,例如第3圖、第7圖、第9圖所示之 液晶裝置。該些液晶裝置是由透過液晶驅動用1C而被供給 之R、G、B之原色訊號而各被驅動。藉由該些液晶裝置而 調製的光,是自3方向射入至二向色稜鏡1666。於該二向 色稜鏡1666中,R色及B色的光折射成90°之角度,另外 ,G色之光則前進。藉由各色之畫像被合成,該合成光通 過投射透鏡1 667而射出至外部,使得螢幕等之上面投影出 彩色畫像。 (其他之實施形態) 作爲可以適用本發明之電子機器,除了上述所記載之 實施形態外,還可舉出液晶裝置、取景型之錄影機、螢幕 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -138- 589485 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明(令35 直視型之錄影機、汽車導航裝置、傳呼器、電子記事本、 計算機、打字機、作業台、視訊電話、POS終端機等。當 然可以適用上述之顯示裝置,來當作該些之各種電子機器 之顯示部。 再者,作爲本發明所涉及之光電裝置,並不限於液晶 裝置,亦可考慮電激發光裝置,尤其有機電激發光裝置、 無機電激裝置、或led(發光二極體)顯示裝置、電泳顯示裝 置、電漿顯示裝置、FED(場發射顯示器)顯示裝置、薄型之 陰極射線管、使用液晶快門等之小型電視、使用數位微鏡 裝置(DMD)之裝置等。 以上,雖然舉出最佳之實施形態,而說明本發明,但 是本發明並不限定於上述之任一實施形態,可以在本發明 之技術思想的範圍內適當變更而予以實施。 【圖面之簡單說明】 第1圖(a)是表示本發明所涉及之光電裝置用基板之一 實施形態的圖示。(b)爲表示比較例之圖示。. 第2圖(a)是表示本發明所涉及之光電裝置用基板之其 他貫施形態的圖不。(b)爲表示比較例之圖示。 第3圖是表示將本發明適用於光電裝置之一例的液晶 裝置之時的實施形態之剖面圖。 第4 Η是表示第3圖之液晶裝置之主要部份的彩色濾 光基板之主要部分的平面圖。 第5 ffl是表示本發明所涉及之光電裝置用基板之製造 本矣氏張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公董) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -139- 589485 Α7 Β7 五、發明説明(細 方法之一實施形態的圖示。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁〕 第6圖是表示本發明所涉及之液晶裝置之製造方法之 一實施形態的工程圖。 第7圖是表示將本發明適用於光電裝置之一例的液晶 裝置之時的其他實施形態之剖面圖。 第8圖是本發明所涉及之光電裝置用基板之製造方法 之其他實施形態的圖示。 桌9圖是表不將本發明適用於光電裝置之一例的液晶 裝置之時的又一其他實施形態之剖面圖。 第10圖是表示本發明所涉及之光電裝置之一實施形態 的液晶裝置之主要部分之剖面構造的剖面圖。 第11圖是表示構成第10圖之液晶裝置的彩色濾光基 板之主要部分的結面圖。 第12圖是表示將第10圖之液晶裝置之平面構造部分 瓿斷的平面圖。 第1 3圖是表示第1 1圖之彩色濾光基板之主要部分的 剖面圖。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第14圖是表示第13圖所示之構造的變形例之剖面圖 〇 第15圖是表示用以製造第10圖之液晶裝置之製造方 法的工程圖。. 第16圖是表示本發明所涉及之光電裝置之其他實施形 態的液晶裝置之主要部分之剖面構造的剖面圖。 第1 7圖示表示構成第1 6圖之液晶裝置之彩色濾光基 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Μ規格⑺0X撕^ —雾 589485 A7 B7 五、發明説明(令37 板之重要部分的剖面圖。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 第1 8圖是表示將第1 6圖之液晶裝置之平面構造部分 瓿斷的平面圖。 第1 9圖是表示第1 7圖之彩色濾光基板之主要部分的 剖面圖。 第20圖是表示第1 9圖所示之構造的變形例之剖面圖 〇 第21圖是表示用以製造第16圖之液晶裝置之製造方 法的工程圖。 第22圖是表示本發明所涉及之光電裝置之又一其他實 施形態的液晶裝置之主要部分之剖面構造的剖面圖。 第23圖示表示構成第22圖之液晶裝置之彩色濾光基 板之重要部分的剖面圖。 第24圖是表示將第22圖之液晶裝置之平面構造部分 瓿斷的平面圖。 第25圖是表示第23圖之彩色濾光基板之主要部分的 剖面圖。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第26圖是表示第25圖所示之構造的變形例之剖面圖 〇 第27圖是表示用以製造第22圖之液晶裝置之製造方 法的工程圖。 第28圖是表示本發明所涉及之光電裝置之又一其他實 施形態的液晶裝置之主要部分之剖面構造的剖面圖。 第29圖不表不構成第28圖之液晶裝置之彩色減光基 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS )八4規格(210X297公釐) -141 589485 A7 ____B7_ 五、發明説明(細 板之重要部分的剖面圖。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 第30圖是表示將第28圖之液晶裝置之平面構造部分 瓿斷的平面圖。 第31圖是表示第29圖之彩色濾光基板之主要部分的 剖面圖。 第3 2圖是表示第31圖所示之構造的變形例之剖面圖 〇 第33圖是表示用以製造第28圖之液晶裝置之製造方 法的工程圖。 第34圖是表示本發明所涉及之光電裝置之又一其他實 施形態的液晶裝置之主要部分之剖面構造的剖面圖。 第35圖示表示構成第34圖之液晶裝置之彩色濾光基 板之重要部分的剖面圖。 第36圖是表示將第34圖之液晶裝置之平面構造部分 瓿斷的平面圖。 第3 7圖是表示第3 5圖之彩色濾光基板之主要部分的 剖面圖。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第38圖是表示第37圖所示之構造的變形例之剖面圖 〇 第39圖是表示用以製造第34圖之液晶裝置之製造方 法的工程圖。 弟40圖是表不本發明所涉及之光電裝置之又一*其他貫 施形態的液晶裝置之主要部分之剖面構造的剖面圖。 第41圖示表示構成第40圖之液晶裝置之彩色濾光基 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -142 - 589485 A7 _ _B7 __ 五、發明説明(如9 板之重要部分的剖面圖。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 第42圖是表示將第40圖之液晶裝置之平面構造部分 飯斷的平面圖。 第43圖是表示第41圖之彩色濾光基板之主要部分的 剖面圖。 第44圖是表示第43圖所示之構造的變形例之剖面圖 〇 第45圖是表示用以製造第40圖之液晶裝置之製造方 法的工程圖。 第46圖是表示本發明所涉及之光電裝置之又一其他實 施形態的液晶裝置之主要部分之剖面構造的剖面圖。 第47圖示表示構成第46圖之液晶裝置之彩色濾光基 板之重要部分的剖面圖。. 第48圖是表示將第46圖之液晶裝置之平面構造部分 瓿斷的平面圖。 第49圖是表示第47圖之彩色濾光基板之主要部分的 剖面圖。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第5〇圖是表示第49圖所示之構造的變形例之剖面圖 〇 第51圖是表示用以製造第46圖之液晶裝置之製造方 法的工程圖。 第52圖是表示本發明所涉及之光電裝置之又一其他實 施形態的液晶裝置之主要部分之剖面構造的剖面圖。 第53圖示表示構成第52圖之液晶裝置之彩色濾光基 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -143- 589485 A7 B7 五、發明説明(如〇 板之重要部分的剖面圖。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 第54圖是表示將第52圖之液晶裝置之平面構造部分 瓿斷的平面圖。 第55圖是表示第53圖之彩色濾光基板之主要部分的 剖面圖。 第56圖是表示第55圖所示之構造的變形例之剖面圖 〇 第57圖是表示用以製造第52圖之液晶裝置之製造方 法的工程圖。 第58圖是表示本發明所涉及之光電裝置之又一其他實 施形態的液晶裝置之主要部分之剖面構造的剖面圖。 第59圖示表示構成第58圖之液晶裝置之彩色瀘光基 板之重要部分的剖面圖。 第6〇圖是表示將第58圖之液晶裝置之平面構造部分 瓿斷的平面圖。 第61圖是表示第59圖之彩色濾光基板之主要部分的 剖面圖。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第62圖是表示第59圖所示之構造的變形例之剖面圖 〇 第63圖是表示用以製造第58圖之液晶裝置之製造方 法的工程圖。 第64圖是表示本發明所涉及之電子機器之一實施形態 的行動電話之斜視圖。 第65圖是表示本發明所涉及之電子機器之其他實施形 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -144- 589485 A7 _____ B7__ 五、發明説明(和1 態的攜帶型電腦之斜視圖。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 第66圖是表示本發明所涉及之電子機器之又一其他實 施形態的數位相機之斜視圖。 第67圖是表示本發明所涉及之電子機器之又一其他實 施形態的手錶之斜視圖。 第68圖是表示本發明所涉及之電子機器之又一其他實 施形態的資訊機器之斜視圖。 第69圖是表示本發明所涉及之電子機器之又一其他實 施形態的投影機之斜視圖。 【符號說明】 10A、10B、101 :液晶裝置(光電裝置) 102、 202、 302、 402、 502、 602、 702、 802、 902 :液晶面 板 11 ' 31 、 104 、 204 ' 304 、 404 、 504 、 604 、 704 、 804 、 904 :彩色濾光基板 12 、 32 、 106 、 206 、 306 、 406 、 506 、 606 、 706 、 806 、 906 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 :對向基板 1、 1 Γ ' 31’、103、203、3 03、403、503、603、703、803 、903 :基材 4、 23、 43、 112、 212、 312、 412、 512、 612、 712' 812、 912 :基底層 2、 21、 41、 113、 213、 313、 413、 513、 613、 713、 813、 9 1 3 :反射層 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -145- 589485 A7 B7 五、發明説明(切 3、 22、 42、 114、 214、 314、 414、 514、 614、 714、 814、 914 :著色層 D :顯市用像點 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -146-

Claims (1)

  1. 589485 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 1 1. 一種光·電裝置用基板,其特徵爲··具有 形成有多數顯示用像點的基材; (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 被設置在該基材上的基底層; 被設置在該基底層上的反射層;和 被設置在該反射層上的著色層, 上述基底層是設置在.對應於上述顯示用像點的區域上 ,而不設置在上述多數顯示用像點間的區域上。 2. 如申請專利範圍第1項所記載之光電裝置用基板,其 中,上述基底層之平面形狀與上述顯示用像點之平面形狀 大約相同。 3. —種光電裝置用基板之製造方法,其特徵爲:具有 在形成有多數顯示用像點的基材上形成基底層之工程 在上述基底層上形成反射層之工程;和 在上述反射層上形成著色層之工程, 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於形成上述著色層之工程中,在對應於上述顯示用像 點之區域上形成上述著色層’而在上述多數之顯示用像點 間之區域不形成上述著色層。 4. 一種光電裝置用基板,其特徵爲:具有 形成有多數顯示用像點的基材; 被設置在上述基材上,使成爲可在互相相鄰之上述顯 不用像點之間的區域上具有凹部或開口部,且具有被不規 則配列的山部或谷部的基底層; · 被設置在該基底層上的反射層;和 張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公: 一 " -147- 589485 A8 B8 C8 D8 ___ 六、申請專利範圍 2 被設置成可掩埋上述凹部或上述開口部的遮光層。 5. —種光電裝置用基板,其特徵爲:具有 形成有多數顯示用像點的基材; 被設置在上述基材上使成爲可在相鄰之上述顯示用像 點之間的區域上具有凹部或開口部,且具有被不規則配列 的山部或開口部的基底層; 被設置在該基底層上的反射層;和 被設置在上述反射層上,並進入上述凹部或開口部的 著色層。 6. 如申請專利範圍第4項或第5項所記載之光電裝置用 基板,其中,上述反射層是一部分具有開口部。 7. 如申請專利範圍第4項所記載之光電裝置用基板,其 中,上述遮光層之高度是與上述基底層之高度大約相同。 8. 如申請專利範圍第5項所記載之光電裝置用基板,其 中,又具有被設置在上述著色層上的保護層。 9. 如申請專利範圍第4項或第5項所記載之光電裝置用 基板,其中,上述開口部之底部是具有除去上述基底層的 區域。 10. 如申請專利範圍第4項或第5項所記載之光電裝置 用基板,其中,上述反射層是一部分具有開口部。 11. 如申請專利範圍第5項所記載之光電裝置用基板, 其中’上述著色層是至少具有藍色系之上述著色部、綠色 系之上述者色部及紅色系之上述者色部, · 藍色系之上述著色部、綠色系之上述著色部及紅色系 本紙張尺度適用中國國家榡準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -148- 589485 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 3 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 之上述著色部,是在上述相鄰之顯示用像點之間的區域中 ,依照上述藍色系之上述著色部、上述綠色系之上述著色 部及上述紅色系之上述著色部之順序而被疊層在上述基材 上。 12.如申請專利範圍第5項所記載之光電裝置用基板, 其中,上述著色部是被形成上述藍色系之著色部的厚度爲 0.7〜2.0// m,上述綠色系之著色部的厚度爲0.8〜1.2// m ,上述紅色系之著色部的厚度爲0.7〜 1 3 .如申請專利範圍第4項或第5項所記載之光電裝置 用基板,其中,對應於上述凹部之底部的上下基底層,是 被形成比對應於其他區域的上述基底層還薄。 14.如申請專利範圍第4項或第5項所記載之光電裝置 用基板,其中,對應於上述凹部之底部的上述基底層,是 藉由被設置在上述基材上的第1絕緣層而所形成, 對應於上述其他區域的上述基底層是藉由上述第1絕 緣層,和被重疊設置在該第1絕緣層上之上述其他區域上 的第2絕緣層而所形成。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1 5 .如申請專利範圍第4項或第5項所記載之光電裝置 用基板,其中,對應於上述凹部之底部的上述基底層,是 藉由被設置在上述基材上的第1樹脂層而所形成, 對應於上述其他區域的上述基底層,是藉由上述第1 樹脂層,和被重疊設置在該第1樹脂層上之上述其他區域 上的第2樹脂層而所形成。 · 16.如申請專利範圍第5項所記載之光電裝置用基板, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ~: •149- 589485 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 4 其中,上述著色層至少具有第1色之第1著色部,和第2 色之第2著色部, 上述第1著色部和上述第2著色部是在上述互相相鄰 之顯示用像點間之區域中重疊地被形成。 17. 如申請專利範圍第5項所記載之光電裝置用基板, 其中,上述第1著色部及第2著色部是各對應於上述互相 相鄰之顯示用像點而被設置。 18. 如申請專利範圍第5項所記載之光電裝置用基板, 其中,上述第1著色部之可視光波長區域中的平均透過率 ,是比上述第2著色部之可視光波長區域中的平均透過率 低, 上述第1著色部及上述第2著色部,是依照該第1著 色部及該第2著色部之順序而被疊層在上述基材上。 19. 如申請專利範圍第5項所記載之光電裝置用基板, 其中,上述第1著色部之光的波長區域400nm〜700nm中 的平均透過率,是比上述第2著色部之光的波長區域 400nm〜700nm中的平均透過率低, 上述第1著色部及上述第2著色部是依照該第1著色 部及該第2著色部之順序而被疊層在上述基材上。 2 0 .如申請專利範圍第5項所記載之光電裝置用基板, 其中,上述第1著色部之厚度爲以上,2.0//m以下 〇 2 1 .如申請專利範圍第5項所記載之光電裝置用基板’ 其中,上述著色層是具有藍色系之上述著色部,和綠色系 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) 4^^-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1T 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -150- 589485 A8 B8 C8 D8 々、申請專利範圍 5 或紅色系之上述著色部, (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 藍色系之上述著色部和綠色系或紅色系之上述著色部 ,是在上述相鄰之顯示用像點之間的區域中,依照上述藍 色系之上述著色部及上述綠色系或上述紅色系之上述著色 部之順序而被疊層在上述基材上。 22. —種光電裝置,其特徵爲:具有 申請專利範圍第4項或第5項所記載之光電裝置用基 板; 與該光電裝置用基板相向而被設置的另外基板; 被射至於上述光電裝置用基板和上述另外基板之間的 光電物質層。 23. —種光電裝置,其特徵爲:具有 互相相向而被配置之第1基材及第2基材; 被配置在上述第1基材和上述第2基材之間的光電物 質; 被設置在上述第1基材上的第1電極; 被設置在上述第2基材上之第2電極; 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 被形成在上述第1電極和上述第2電極重疊之區域上 的多數顯示用像點; 被設置在上述第1基材上,使成爲可在互相相鄰之上 述顯示用像點之間的區域上具有凹部或開口部,且具有被 不規則配列的多數山部或谷部的基底層; 被設置在該基底層上的反射層;和 · 被設置成可掩埋上述凹部或上述開口部的遮光層。 本紙張尺度適用中國國家橾準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -151 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 589485 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 6 24. —種光電裝置,其特徵爲:具有 互相相向而被配置之第1基材及第2基材; 被配置在上述第1基材和上述第2基材之間的光電物 質; 被設置在上述第1基材上的第1電極; 被設置在上述第2基材上之第2電極; 被形成在上述第1電極和上述第2電極重疊之區域上 的多數顯示用像點; 被設置在上述第1基材上,使成爲可在互相相鄰之上 述顯示用像點之間的區域上具有凹部或開口部,且具有被 不規則配列的多數山部或谷部的基底層; 被設置在該基底層上的反射層;和 被設置成可進入上述凹部或上述開口部的著色層。 25. 如申請專利範圍第22項或第24項所記載之光電裝 置,其中,上述著色層是至少具有藍色系之上述著色部、 綠色系之上述著色部及紅色系之上述著色部, 藍色系之上述著色部、綠色系之上述著色部及紅色系 之上述著色部,是在上述相鄰之顯示用像點之間的區域中 ,依照上述藍色系之上述著色部、上述綠色系之上述著色 部及上述紅色系之上述著色部之順序而被疊層在上述基材 上。 26. 如申請專利範圍第22至項第24項中之任一項所記 載之光電裝置,其中,上述凹部之底部的上述基底層,是 藉由被設置在上述基材上的第1絕緣層而所形成, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ~ -152- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
    589485 A8 B8 C8 D8___ 六、申請專利範圍 7 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 上述其他區域的上述基底層是藉由上述第1絕緣層, 和被重疊設置在該第1絕緣層上之上述其他區域上的第2 絕緣層而所形成。 27.如申請專利範圍第22項或第24項所記載之光電裝 置,其中,上述著色層至少具有第1色之第1著色部,和 第2色之第2著色部, 上述第1著色部和上述第2著色部是在上述互相相鄰 之顯示用像點間之區域中重疊地被形成。 2 8.如申請專利範圍第24項所記載之光電裝置,其中, 上述第1著色部之可視光波長區域中的平均透過率,是比 上述第2著色部之可視光波長區域中的平均透過率低, 上述第1著色部及上述第2著色部,是依照該第1著 色部及該第2著色部之順序而被疊層在上述基材上。 29.如申請專利範圍第24項所記載之光電裝置,其中, 上述著色層是至少具有藍色系之上述著色部,和綠色系或 紅色系之上述著色部, 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 藍色系之上述著色部和綠色系或紅色系之上述著色部 ,是在上述相鄰之顯示用像點之間的區域中,依照上述藍 色系之上述著色部及上述綠色系或上述紅色系之上述著色 部之順序而被疊層在上述基材上。. 3〇·—種電子機器,其特徵爲:具有申請專利範圍第22 項至第24項中之任一項所記載之光電裝置。 31.—種光電裝置用基板之製造方法,其特徵·爲:具有 在形成有多數顯不用像點的基材上形成基底層之工程 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公~ · -153- 589485 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 8 j 在上述基底層上形成反射層之工程;和 在上述基材上形成遮光層之工程, 於形成上述基底層之工程中,形成上述基底層使成爲 可在互相相鄰之上述顯示用像點之間的區域上具有凹部或 開口部,且具有被不規則配列的山部或谷部, 於形成上述遮光層工程中,形成上述遮光層使成爲可 掩埋上述凹部或開口部。 32. —種光電裝置用基板之製造方法,其特徵爲:具有 在形成有多數顯示用像點的基材上形成基底層之工程 在上述基底層上形成反射層之工程;和 在上述基材上形成著色層之工程, 於形成上述基底層之工程中,形成上述基底層使成爲 可在互相相鄰之上述顯示用像點之間的區域上具有凹部或 開口部,且具有被不規則配列的山部或谷部, 於形成上述遮光層工程中,使上述著色層形成可進.入 上述凹部或上述開口部。 33. 如申請專利範圍第32項所記載之光電裝置用基板之 製造方法,其中,於形成著色層之工程中,上述著色層是 至少具有藍色系之上述著色部、綠色系之上述著色部及紅 色系之上述著色部, 藍色系之上述著色部、綠色系之上述著色部及紅色系 之上述著色部,是在上述相鄰之顯示用像點之間的區域中 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -154- 589485 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 9 ,依照上述藍色系之上述著色部、上述綠色系之上述著色 部及上述紅色系之上述著色部之順序而被疊層在上述基材 上。 3 4.如申請專利範圍第3 2項所記載之光電裝置用基板之 製造方法,其中,於形成上述著色層之工程中,上述著色 層至少具有第1色之第1.著色部,和第2色之第2著色部 上述第1著色部和上述第2著色部是在上述互相相鄰 之顯示用像點間之區域中重疊地被形成。 3 5 .如申請專利範圍第3 2項所記載之光電裝置用基板之 製造方法,其中,形成上述著色層之工程,是上述著色層 至少具有藍色系之上述著色部,和綠色系或紅色系之上述 著色部, 藍色系之上述著色部和綠色系或紅色系之上述著色部 ,是在上述相鄰之顯示用像點之間的區域中,依照上述藍 色系之上述著色部及上述綠色系或上述紅色系之上述著色 部之順序被疊層而所形成。 36.—種光電裝置用基板之製造方法,其特徵爲:具有 在形成有多數顯示用像點的第1基材上形成基底層之 工程; . . 在上述基底層上形成反射層之工程; 在上述基材上形成遮光層之工程; 在上述第1基材上形成第1電極之工程;· 在與上述第1基材相向之第2基材上形成第2電極之 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) " ~ -155- 4^^— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 589485 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 10 工程;和 在上述第1基材和上述第2基材之間形成光電物質的 層之工程, 於形成上述基底層之工程中,形成上述基底層使成爲 可在互相相鄰之上述顯示用像點之間的區域上具有凹部或 開口 .部,且具有被不規則配列的山部或谷部, 於形成上述遮光層工程中,形成上述遮光層使成爲可 掩埋上述凹部或開口部。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -156- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21〇x297公釐)
TW091133540A 2001-12-11 2002-11-15 Substrate for photoelectric device and its manufacturing method, photoelectric device and its manufacturing method, and electronic machine TW589485B (en)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001377302 2001-12-11
JP2002159926 2002-05-31
JP2002180404 2002-06-20
JP2002323982A JP3928543B2 (ja) 2001-12-11 2002-11-07 電機光学装置用基板及びその製造方法、電気光学装置並びに電子機器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200300858A TW200300858A (en) 2003-06-16
TW589485B true TW589485B (en) 2004-06-01

Family

ID=27482725

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW091133540A TW589485B (en) 2001-12-11 2002-11-15 Substrate for photoelectric device and its manufacturing method, photoelectric device and its manufacturing method, and electronic machine

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6867831B2 (zh)
JP (1) JP3928543B2 (zh)
KR (1) KR100511579B1 (zh)
CN (1) CN1191488C (zh)
TW (1) TW589485B (zh)

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100451773B1 (ko) * 2002-11-20 2004-10-08 엘지.필립스 엘시디 주식회사 디지털 저항막 방식의 터치 패널
JP4175299B2 (ja) 2003-07-23 2008-11-05 セイコーエプソン株式会社 カラーフィルタおよび表示装置
JP2005043718A (ja) * 2003-07-23 2005-02-17 Seiko Epson Corp カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、表示装置、電気光学装置および電子機器
JP2005062480A (ja) * 2003-08-12 2005-03-10 Seiko Epson Corp カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、表示装置、電気光学装置および電子機器
JP4511248B2 (ja) * 2004-05-28 2010-07-28 京セラ株式会社 液晶表示装置
JP4099672B2 (ja) * 2004-12-21 2008-06-11 セイコーエプソン株式会社 半導体装置
US7639321B2 (en) * 2005-06-01 2009-12-29 Lg. Display Co., Ltd. Method of manufacturing a color filter substrate with trenches for a black matrix
KR100710178B1 (ko) * 2005-06-01 2007-04-20 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시장치용 컬러 필터 기판 및 그 제조방법
JP5515237B2 (ja) * 2008-05-14 2014-06-11 セイコーエプソン株式会社 発光装置及び電子機器
JP5351282B2 (ja) * 2009-11-27 2013-11-27 シャープ株式会社 半導体装置およびその製造方法
CN102650757B (zh) * 2011-09-06 2015-01-28 北京京东方光电科技有限公司 彩膜基板、其制备方法及液晶显示面板
ES2571653B1 (es) * 2014-09-30 2017-03-16 Salvador PONCE ALCÁNTARA Lámina transparente fotovoltaica con bandas reflectantes y módulo solar que incluye tal lámina
JP2017054079A (ja) * 2015-09-11 2017-03-16 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
KR20180074985A (ko) 2016-12-26 2018-07-04 엘지디스플레이 주식회사 터치 스크린 일체형 표시장치
CN107092125B (zh) * 2017-06-13 2019-12-24 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示装置
US20190011765A1 (en) * 2017-07-06 2019-01-10 HKC Corporation Limited Display panel and a manufacture method of display panel
CN109255285A (zh) * 2017-07-13 2019-01-22 三星电子株式会社 基于光学的指纹传感器、包含其的电子装置及其操作方法
US20190067378A1 (en) * 2017-08-29 2019-02-28 Int Tech Co., Ltd. Light emitting device
KR102583813B1 (ko) * 2017-12-13 2023-09-26 엘지디스플레이 주식회사 디스플레이 장치
KR102686540B1 (ko) * 2018-12-28 2024-07-22 엘지디스플레이 주식회사 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02153353A (ja) * 1988-07-25 1990-06-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd 着色光重合組成物およびカラーフィルタ
JPH10260308A (ja) * 1997-03-19 1998-09-29 Mitsumura Insatsu Kk カラーフィルター及びその製造法
US6181397B1 (en) * 1997-04-01 2001-01-30 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Reflection-type liquid crystal display panel and method of fabricating the same
JPH11183921A (ja) * 1997-12-19 1999-07-09 Alps Electric Co Ltd 反射型カラー液晶表示装置
JPH11248916A (ja) * 1998-03-05 1999-09-17 Hitachi Chem Co Ltd カラーフィルタ基板及びその製造法
TW538279B (en) * 1998-10-23 2003-06-21 Hitachi Ltd A reflective color liquid crystal display apparatus
JP3714044B2 (ja) * 1999-07-15 2005-11-09 セイコーエプソン株式会社 液晶表示装置およびその製造方法ならびに電子機器
JP4058875B2 (ja) * 2000-02-14 2008-03-12 セイコーエプソン株式会社 カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器
JP2002214595A (ja) * 2001-01-17 2002-07-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd カラー液晶表示装置
JP2002341333A (ja) * 2001-05-15 2002-11-27 Sharp Corp 半透過型液晶表示装置およびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3928543B2 (ja) 2007-06-13
CN1427284A (zh) 2003-07-02
TW200300858A (en) 2003-06-16
JP2004078138A (ja) 2004-03-11
US6867831B2 (en) 2005-03-15
KR20030047862A (ko) 2003-06-18
KR100511579B1 (ko) 2005-09-02
CN1191488C (zh) 2005-03-02
US20030147115A1 (en) 2003-08-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW589485B (en) Substrate for photoelectric device and its manufacturing method, photoelectric device and its manufacturing method, and electronic machine
US7876404B2 (en) Transflective LCD device and fabrication method thereof
TW583461B (en) Electro-optical device substrate, electro-optical device, method for manufacturing electro-optical device substrate and electro-optical device, electronic machine, and method for tuning color of color filter
US20020167743A1 (en) Electro-optic device, manufacturing method therefor, and electronic equipment
US7470491B2 (en) Method of fabricating color filter panel using back exposure and structure of color filter panel
JP2003090997A (ja) カラーフィルタ基板及び電気光学装置、カラーフィルタ基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法並びに電子機器
US20070091240A1 (en) Liquid crystal display and method of manufacturing the same
WO2018171078A1 (zh) 主动开关阵列基板及其制造方法与其应用的显示设备
WO2020107537A1 (zh) 显示面板及其制造方法和显示装置
KR20070065065A (ko) 반투과형 액정 표시 장치의 제조 방법
JP2003302626A (ja) 電気光学パネル用基板及びその製造方法、電気光学パネル並びに電子機器
KR100590119B1 (ko) 전기 광학 장치 및 액정 장치
EP1530085A2 (en) Electro-optic device substrate and method for manufacturing the same, electro-optic device and method for manufacturing the same, photomask, and electronic device
US7224505B2 (en) Manufacturing method of electro-optical apparatus substrate, manufacturing method of electro-optical apparatus, electro-optical apparatus substrate, electro-optical apparatus, and electronic instrument
JP2004078139A (ja) 電気光学装置用基板及びその製造方法、電気光学装置及びその製造方法、並びに電子機器、
JP4013889B2 (ja) 電気光学装置用基板の製造方法、および、電気光学装置の製造方法
TWI230301B (en) Color filter substrate and fabricating method thereof
JP2007094332A (ja) 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、電子機器
JP4051942B2 (ja) カラーフィルタ基板及びその製造方法、電気光学パネル、電気光学装置並びに電子機器
JP4013888B2 (ja) 電気光学装置用基板の製造方法、および、電気光学装置の製造方法
JP2003114425A (ja) カラーフィルタ基板及び電気光学装置、カラーフィルタ基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法並びに電子機器
JP2003323124A (ja) 電気光学パネル用基板及びその製造方法、電気光学パネル並びに電子機器
JP2006039243A (ja) 電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置用基板、および電気光学装置
JP2003302518A (ja) 電気光学パネル用基板及びその製造方法、電気光学パネル並びに電子機器
JP2006047529A (ja) 電気光学装置用基板の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
MK4A Expiration of patent term of an invention patent