583388 玖、發明說明： (一） 發明所屬技術領域 本發明係有關以非接觸地對計測對象物體的位移作計測 的位移感測器。 (二） 先前技術 在FA (工廠自動化）等之技術領域中，位移感測器係大 多使用在製品的製造上之製造裝置的位置控制或相對於製 造裝置之製品的位置控制或者製品之檢查等。在此，位移感 測器一般係使用三角測量方式。此即，對計測對象物體照射 光，以位置檢測元件等物來檢測由計測對象物體所反射的光， 再依據伴隨計測對象物體之位移而變化的位置檢測元件上 之受光光點的重心位置變化以計測位移量者。 【發明所欲解決之課題】 依此三角測量方式的位移感測器，並不能把照射在計測對 象物體上之光的光點尺寸保持在如繞射極限般之微小的光 點尺寸。如第48圖所示，即使是在光源使用雷射1001等之 同調光且依透鏡1 002來集光，也是如實線所示可獲得之繞 射極限的光點尺寸係僅爲1 006所示的一點而已，幾乎在其 他的位置之光點尺寸都擴大。即使把在計測對象物體1005 上擴大的照射光之反射光藉透鏡1 003集光在位置檢測元件 1 0 04上，也係如同虛線所示，成爲具有擴大的受光光點。 一方面，只要不是完全的鏡面，幾乎大部分的計測對象物 體上會存在有由表面上之微小凹凸或色不均所造成之反射 強度不均。其結果，在計測對象物體上，被反射之光的光點 _ 6 _ 583388 內也會產生輝度不均，此係成爲位置檢測元件上之受光光點 之重心位置變化。亦即，即使計測對象物體的位移量爲〇 ,只 要在計測對象物體表面上之位置不同，則因爲反射強度不均 之緣故，在位置檢測元件上之受光光點的重心位置係不同， 其結果，屬於測定結果的位移計測値係不同。此係成爲計測 誤差而妨害高精度的計測。 以抑制此計測誤差的位移感測器而言，在日本專利特開平 7 - 1 1 3 6 1 7號公報中所記載乃先前所習知者。至於此公報記 載的技術乃不同於三角測量方式，係使透鏡在位移計測方向 掃描以使照射光束的集光位置變化，在照射光束的集光位置 爲與計測對象物體上一致時，依據反射光的受光光點大小成 爲最小而計測位移量。依此方法，因係不利用反射光的受光 光點之重心位置，所以可計測幾乎不受反射強度不均影響之 位移。 然而，在此種位移感測器中，由於係把透鏡安裝在音叉上 以作掃描的構造，所以提高掃描頻率係有其限度。其原因爲， 透鏡爲了確保受光量、及使依繞射極限所決定之光點直徑 微小化係必要有一定的大小，並不能小型化。因此自然振盪 數係變低，提高掃描頻率係有其困難。掃描頻率若低則計測 1點的位移量所必要的時間變長。在計測複數點之場合或， 在同一點、將測定値作平均化處理且進而執行高精度的計 測之場合時，總計之計測時間係與計測件數或平均化處理次 數成比例地變長。 一方面，此位移感測器係多使用在物體形狀的高精度計測 —Ί 一 583388 上，在其場合之計測點係成爲龐大的數，且係用於高精度計 測，所以大多被要求平均化處理。雖然也因應用而異，但是 通常要精度佳地計測對象物體之形狀時，大多總合計的計測 時間爲由秒至分之順序，係成爲限制生產數量之工程。爲縮 短總計之計測時間，若拉長檢查間隔則會有看漏不良品之虞， 若減少測定値的平均化處理次數則使計測精度下滑。 又，透鏡與音叉一體係決定自然振盪頻率，因爲依此自然 振盪頻率，實質上掃描頻率係決定好了，所以藉由交換透鏡 並不能簡單地變更檢測距離或位移計測範圍。其原因爲，透 鏡之交換有必要變更掃描頻率而成爲有必要變更處理電路 或音叉驅動用線圈等之故。爲了在不改變掃描頻率下執行 檢測距離或位移計測範圍的變更，與音叉成一體的透鏡係照 其原樣、藉由把不同於其之多數個透鏡附加在光路中、而 等價地變化透鏡之光學特性，或者，在變更被掃描之透鏡後 使掃描頻率成爲相同般地把光學系統全體重新設計係有其 必要。若追加多數個透鏡則外形變大而成本變高。爲了因 應計測對象物體或裝置形狀之檢測距離、位移計測範圍、 每次將感測器再設計再予以製作的場合，因爲產生開發等之 費用，所以還是造成成本變高。 (三）發明內容 本發明係著眼於此種先前之問題點所作成者，其目的在於 提供一可計測幾乎不受反射強度不均影響之高精度的位移， 且縮短計測所要時間之位移感測器。 又，本發明之其他目的在於提供一位移感測器，其藉由可 583388 交換透鏡的構造以實現可容易變更檢測距離或位移計測範 圍，且可對應各式各樣的應用。 又，本發明之其他目的在於提供一位移感測器，其藉由在 製造時設定成可容易選擇的採用異類透鏡之構造，使適合於 由檢測距離或位移計測範圍之廣泛組合當中所選擇之組合， 係容易以低成本來製造。 【解決課題之手段】 爲容易理解，係參照實施態樣之2個例子之第1圖及第2 圖的符號以說明本發明。在第1圖及第2圖中符號不同時 係表示成「/」之前爲第1圖之符號，之後爲第2圖的符號 。本發明之位移感測器係具備有：投光部（1 );具有遮光 罩（901 a ).及受光元件（902 a )的受光部（9 );把來自投 光部1之光束予以集光在計測對象物體（8 )之第1集光元 件（3、5、7 / 1 4 );把來自計測對象物體（8 )之反射光束 對受光部（9 )集光之第2集光元件（7、5、3 / 1 5 );第1 光路控制元件（2 ),係在自投光部（1 )到計測對象物體（ 8 )之投光光路中，且，配置在自計測對象物體（8 )到受光 部（9 )之受光光路中，用以把由第1集光元件（3、5、7 / 1 4 )和投光部（1 )所規定的投光光軸和由第2集光元件（7 、5、3 / 1 5 )與受光部（9 )所規定的受光光軸予以設定成 在計測對象物體（8 )側爲同軸；光路長度掃描機構（6 )， 配置在投光光軸與受光光軸爲同軸的光路中且投光光路及 受光光路中的光束爲非平行的場所，用以使自投光部到計測 對象物體之光路長度及自計測對象物體到受光部之光路長 583388 度作連續地變化。遮光罩（9 Ο 1 a )係配置在由第2集光元 件（7、5、3 / 1 5 )往受光元件（902 a )的光路中，當來自計 '測對象物體（8 )之反射光束其藉由第2集光元件（7、5、 3 / 1 5 )而被集光的位置、依光路長度掃描機構（6 )的作動 而變化時，使反射光束的一部分被遮光罩（901 a )遮光之比 例變化者。受光元件（902 a )係受光通過於遮光罩（901a )的光束者。本發明之位移感測器係依以上的構成、根據 依光路長度掃描機構（6 )的作動而變化之受光元件（902a )的輸出信號，取得到計測對象物體（8 )爲止的距離之資 訊者。 本發明之位移感測器的動作原理係如同以下所示。由投 光部所出射之光束係經由第1集光元件而被集光在計測對 象物體上，其反射光束係依第2集光元件而被集光在受光部 之遮光罩上。遮光罩的形狀可爲各式各樣者，但是若爲設置 有針孔的遮罩之場合時，在遮光罩上中之反射光束的光點尺 寸會變化的過程中，當光點尺寸變最小且反射光束之最多的 部分係通過針孔時，受光部的受光量成爲最大。 對計測對象物體照射的光束之集光位置，係會依光路長度 掃描機構之作動而變化。在此所謂的光路長度，係意味著由 投光部至計測對象物體爲止以及由計測對象物體至受光部 爲止的光路長度。例如，光路張掃描機構爲中立狀態時、若 由投光部所出射的光束會集光的位置上存在有計測對象物 體的話，則光路長度掃描機構成爲設定光路長度爲短的狀態 (第3圖）時，照射光束係成爲未集光（若設定爲沒有計測 -1 0 _ 583388 對象物體，則會在距離有計測對象物體的位置之遠方集光） · 之狀態。 < 在此，計測對象物體爲鏡面物體之場合，來自計測對象物 體的反射光束係如第4圖所示不能在遮光罩上集光，因爲在 ‘ 遮光罩上之光束的光點尺寸係相對的大，所以受光部的受光 量變小。 一方面，計測對象物體爲擴散反射物體之場合，在計測對 象物體上之光束係變寬（第5圖），且因爲其反射光束不在 遮光罩上成像（較之於遮光罩係會在受光元件側成像）所 · 以受光部的受光量還是變小。 反之，在光路長度掃描機構設定光路長度爲長的狀態時， 照射光束及來自計測對象物體之反射光束的集光位置，係相 對於光路長度掃描機構爲中立狀態時之反射光束的集光位 置，成爲各自在與上述的位置之相反側移動，與光路長度爲 短之場合時相同，在遮光罩上光束係相對地大、受光量變小 〇 由以上之情事，當在遮光罩設置針孔之場合，即使計測對 鲁 象物體爲鏡面物體或是擴散反射物體，藉由光路長度掃描機 構之作動，在照射光束的集光位置成爲計測對象物體上時， 受光量係最大，來自受光部之輸出信號係成爲最大。 由上述輸出信號可以利用以下所示之方法來求取位移。 第6圖係表示伴隨著光路光掃描機構之作動的光路長度之 變化及受光部之輸出信號的變化者。輸出信號之極大値係 可在光路長度掃描機構執行光路長度之掃描，且在計測對象 -11- 583388 物體上使照射光束集光般的狀態時可獲得。在第6圖中，此 時之光路長度的變化量爲X1。對計測對象物體之照射光束 的集光位置由於與光路長度的變化量成爲1對1對應，所以 只要預先求得由掃描之光路長度的變化量換算成集光位置 的位移量之算式，則藉由將光路長度的變化量利用任何的感 測器等以直接或間接地經常測定，可由在受光部之輸出信號 成爲最大時之光路長度的變化量來求取計測對象物體的位 移量。 遮光罩並不局限在設置針孔者，即使是由刀刃所構成，在 受光元件上使用2分割光電二極管（2個光電二極管鄰接配 置的元件）也可計測位移。以下茲表示在其場合時之原理 〇 第7圖係對應前述第1圖中之在計測對象物體上照射光 束被集光的狀態者。刀刃的前端被配置成與反射光束的集 光位置呈一致，此時，受光元件之2分割光電二極管係設置 成2個光電二極管之受光量成爲相等。依光路長度之掃描 導致光路長度變短的狀態，亦即對應前述之第4圖者係第8 圖，朝向左側之光電二極管的光束係受刀刃所遮蔽。反之表 示光路長度變長的狀態者係第9圖，朝向右側之光電二極管 的光束係受刀刃所遮蔽。由此等圖可了解的是，在計測對象 物體上，照射光束集光時，2分割光電二極管之2個光電二極 管的輸出係成爲相等，在不集光時，單方之光電二極管的輸 出係變大。因此，爲了使用輸出信號以求取位移，藉由在前 述方法中，將受光元件的輸出成爲峰値的時點，考慮以在2 -12- 583388 分割光電二極管之2個光電二極管的輸出成爲相等的時點 加以置換，同樣的位移計測係成爲可能。 依此發明，由於係依據在計測對象物體上之照射光束爲微 小光點時之光路長度來執行計測，所以可在不受計測對象物 體之反射強度不均之影響下計測位移。又，方法係不同於 把形狀、質量爲大的透鏡作掃描般地由投光部至計測對象 物體爲止的光路長度保持爲一定之下使照射光束的集光位 置變化，集光機能係由不動的集光元件所執行，由於設置有 不同於其且自體在不具有集光機能之下具有使光路長度變 化的機能之光路長度掃描機構，所以可小型且輕量化地實現 此光路長度掃描機構。因此，可提高掃描頻率，1點之計測所 必要的時間變短。響應時間係開始計測之後直到計測結果 輸出爲止的時間，在本感測器中也包含平均化處理，無關計 測件數之多少，相對於計測時間，輸出所要之時間係極少，因 響應時間的大部分係受計測時間所占用，所以依本態樣縮短 計測所要之時間，可實現響應時間短之計測。且，若爲一定 的響應時間內，可依增加平均化次數以實現測定誤差小之更 局精度計測。 投光部係在光源之發光面積爲大之場合，使由光源所出射 的光1次通過針孔等等，較佳爲使實質的發光面積爲小。其 原因爲，若發光面積大時則依光路長度掃描機構執行光路長 度之掃描時，會造成在計測對象物體上之光束的最小光點 尺寸也變大、成爲容易受到計測對象物體之反射強度不均 的影響之故。在『由第1集光元件和投光部所規定之投光 -13- 583388 光軸』之中所謂的投光部，係意味著光源之發光位置，以發 · 光位置而言，具代表性的是可採用發光面的中心或重心的位 置。如同前述，在使用針孔之場合，可採用針孔的中心之位 置。 遮光罩係在設置有針孔之遮罩的場合，受光元件係若受光 通過針孔之光束就可以，所以若使用把光電二極管等之光強 度變換爲電流或電壓的元件就可以。此時，所謂『由第2集 光元件和受光部所規定之受光光軸』，具體來說係意味著以 第2集光元件和針孔的中心所規定之受光光軸。 馨 一方面，遮光罩爲由刀刃所構成之遮罩時，使用伴隨著入 射至受光元件之光的位置而輸出會變化之2分割光電二極 管或分割數更多的光電二極管陣列、位置檢測元件（PSD ) 、CCD等等元件，可把通過刀刃之光束的位置變化作爲輸出 的變化。在刀刃的場合，在『由第2集光元件和受光部所規 定之受光光軸』中，規定受光光軸之「受光部」係並非如同 前述之針孔爲預先被特定的1點，而是刀刃的緣線上之任一 點（嚴格說來係稍離刀刃的點）。在光學系統調整完了的 · 狀態中，來自計測對象物體之反射光束的中心位置應與刀刃 之緣線上的任一點一致，此時的投光光軸和受光光軸係依第 1光路控制元件而在計測對象物體側成爲同軸。當光學系統 未充分地被調整等而使得來自計測對象物體之反射光束的 中心位置未與刀刃之緣線上任1點一致時，可考慮以在刀刃 的緣線上最接近反射光束的中心位置的點來規定受光光軸 -14- 583388 集光元件係具有透鏡、凹面鏡、全息照相等之集光機能 ' 的光學元件。 > 在『把自投光部出射的光束予以集光至計測對象物體之 第1集光元件』中之所謂的「集光」並非意味著經常在計 β 測對象物體上集光的狀態。此係在投光部和計測對象物體 之間具有光路長度掃描機構，集光位置因係依掃描作時間性 變化，所以掃描中係指於某瞬間會在計測對象物體上集光之 狀態。 光路控制元件係半透鏡或偏光射束分裂器，或，利用繞射 · 使一部分的光束朝不同方向分岐的光栅或全息照相，或，利 用雙折射以因應偏光方向使出射光束的方向不同的渥拉斯 頓稜鏡等之，具有使入射的光束朝一定的比例的方向’出射， 同時以一定的比例朝其他方向出射的機能之光學元件。 光路長度掃描機構，係使由光源至計測對象物體之光路長 度以及由計測對象物體至受光部之光路長度連續地作時間 性變化。以此光路長度掃描機構而言，係可利用在音叉或懸 臂上設置反射面使振動者、使用音圈馬達或壓電元件以使 · 反射面在垂直其面的垂直方向作往復運動者、以及對電氣 光學結晶施加外部電壓以使媒質的折射率變化者等等。 在此發明的一實施態樣中，參照其一例的第1 0圖之符號， 係具備有是第1集光元件且是第2集光元件之第6集光元 件（1 3 )，第1光路控制元件（2 )係配置在第6集光元件 (1 3 )和投光部（1 )以及受光部（9 )之間。 第1圖所示之光學系統也爲此實施態樣的一例，集光元件 -15- 583388 3、5、7係第6集光元件的一例。 藉由兼用（共通化）第1集光元件及第2集光元件而可 減少零件件數而可低成本化。同時也可達成小型化。 又，例如在遮光罩使用針孔的場合，在光點尺寸及伴隨其 使針孔的尺寸作成極小的時候，雖然因溫度變化等因素而 具有針孔和發光點在光學上的位置關發生偏移導致不能正 確地動作之虞，但是藉由兼用第1集光元件和第2集光元件 (共通化），可以較少的光學零件來決定針孔和光源之光學 位置，同時可縮短第1光路控制元件和投光部之間的距離以 及第1光路控制元件和針孔之間的距離，可把依溫度等之投 光部、針孔、第1光路控制元件之相對的位置偏差量抑制 成小。亦即成爲可穩定地檢測溫度變化。 光路長度掃描機構係如第1 0圖之場合，可在第6集光元 件（1 3 )和計測對象物體（8 )之間，而也可如第1 1圖所示 爲在第6集光元件（1 3 )和第1光路控制元件（2 )之間。 在本發明之較佳一實施態樣中，茲參照屬其一例之第1 2 圖的符號，光路長度掃描機構（6 )係相對於光軸被垂直配 置，乃具有會沿著投光光軸及受光光軸被設爲同軸的光軸方 向作位移的反射面（6 )，更具備有第2光路控制元件（4 a )，用以把由投光部（1 )所出射的光束引導至其反射面、 同時將在其反射面（6 )反射的光束往計測對象物體（8 ) 引導，且把來自計測對象物體（8 )之反射光束，以逆方向引 導至與朝前述計測對象物體（8 )引導光束的光路相同的光 路上。 - 1 6 - 地388 第1圖所示之光學系統也爲此實施態樣的一例。 ' 依此態樣，利用光路長度掃描機構之作動，計測對象物體 · 上之位移計測點係成爲不在計測對象物體表面上移動下可 執行計測（雖然光點尺寸會變化但是光點的中心不動），可 經常穩定地作特定點的位移計測。因此可計測微小的物體 或微小部分之位移。 在此所謂的『對光軸垂直』，係以也包含有從計測上不成 爲問題的程度之具有由垂直之偏差場合時的意味來使用。 例如，在以懸臂等構成光路長度掃描機構之場合，由於掃描 隹 之故，反射面之角度多少會變動，但即使有從此程度之垂直 的角度偏移也包含於在此所說的垂直。 與前述光軸垂直配置的反射面（6 )，係可配置在透射第 2光路控制元件之位置（第1 2圖），反射的位置也可以（第 1 3 圖）。 又，在此構成中，也可使用將第1集光元件和第2集光元 件兼用（共通化）的第6集光元件（13)(第14圖、第15 圖）。若作成如此，則可減少集光元件的個數，進而，藉由縮 · 短投光部與第1光路控制元件間之距離以及遮光罩和第1 光路控制元件間之距離而成爲對溫度變化等可穩定的檢測 係與前述同樣。 在本發明之較佳態樣中，茲參照屬其一例之第丨6、1 7圖 的符號，第2光路控制元件（4 a )係配置在第1光路控制元 件（2 )和上述反射面（6 )間，第1集光元件係由第3集光 元件（1 6 )和第4集光元件（1 7 )所構成，第2集光元件係 - 1 7 - 583388 由第3集光元件（16 )和第5集光元件（1 8 )所構成。又， 第4集光元件（1 7 )係於投光部（1 )至反射面（6 )的光 路中集中或分散配置之單一或複數個透鏡，其中的至少1個 透鏡係配置在投光部（1 )至第2光路控制元件（4 a )的光 路中，且將投光部（1 )所出射的光束集光在反射面（6 )附 近，第3集光元件（1 6 )係於反射面（6 )和計測對象物體 (8 )之間集中或分散配置之單一或複數個透鏡，其中的至 少1個透鏡係配置在第2光路控制元件（4 a )和計測對象 物體（8 )之間，且將在反射面（6 )反射的光束朝計測對象 物體（8 )集光，同時將來自計測對象物體（8 )之反射光束 集光在反射面（6 )附近，又，第5集光元件（1 8 )係於反射 面（6)至受光部（9)的光路中集中或分散配置之單一或 複數個透鏡，其中的至少1個透鏡係配置在第2光路控制元 件（4 a )至受光部（9 )的光路中，且在計測對象物體（8 ) 被反射之後，把在反射面（6 )反射的光束朝受光部（9 )集 光。 如第1圖所示之光學系統也爲此實施態樣的一例，在此、 集光元件5、7係第3集光元件的一例，集光元件3、5係兼 用爲第4集光元件及第5集光元件（共通化）者。集光元 件5係成爲在第3、第4及第5集光元件上共通且被包含的 部分。 依此態樣，因爲使自投光部出射的光在光路長度掃描機構 的反射面附近集光，所以將反射面的面積設定成極小者係成 爲可能。其結果，在光路長度掃描機構上使用懸臂或音叉等 - 1 8 - 583388 之場合，小型、輕量化係也成爲可能，可提高自然振盪數。 依此，提高掃描頻率係成爲可能，可實現更短的響應時間之 計測。且若爲一定的響應時間內，則可依增加平均化次數以 實現測定誤差小之更高精度計測。 在此所謂的『在反射面附近集光』雖然包括了反射面在 光軸方向往復運動之範圍中集光點會存在的場合，但並非僅 限於此，即使在其範圍的周邊集光之場合，藉由反射面上之 光點尺寸係相當小、可使反射面小型化，有關具有前述之效 果的場合係被包括。進而，若爲由投光元件（1 )所出射之 隹 光束在入射至第3集光元件之前係被暫時集光的構成，因爲 會產生上述之效果，所以可以說是『在反射面附近集光』。 『單一或複數個透鏡』中所謂的『單一』係指，透鏡機能 單位之個數，如同組透鏡，係包含把複數個透鏡予以組合成 一體而作爲具有凸透鏡或凹透鏡般之單一的透鏡之機能者 。又，所謂的『複數』係意味著該『單一』的透鏡係存在複 數個。 再者，以此實施態樣的變形例而言，茲參照屬其例之第1 8 Φ 圖、第19圖之符號，使第4集光元件和第5集光元件兼用 (共通化）而作爲第7集光元件（19)，也可爲配置在第1 光路控制元件（2 )和第2光路控制元件（4 a )之間的構成 〇 依此態樣，再者集光元件的共通化係被謀求，而因爲可減 少零件件數，所以可低成本化、小型化。 又，以其他實施態樣而言，茲參照屬其例之第20圖、第2 1 -19- 583388 圖之符號，使第3集光元件和第4集光元件和第5集光元件 予以兼用（共通化）而作爲第8集光元件（20)，也可配置 在第2光路控制兀件（4 a )和反射面（6 )之間。 依此態樣，集光元件成爲1個，所以可更低成本及小型化 〇 在本發明之較佳一實施態樣中，投光部和受光部係配置爲， 相對於該第1光路控制元件的作用，相互成爲鏡像之位置關 係。 『成爲鏡像的位置關係』係意味著有關光學方面作用之 位置關係，並非單單意味著投光部和受光部之外形方面的形 狀。因而在此，投光部係意味著光源的發光點，以受光部而 言，在遮光罩設置有針孔之場合係意味著針孔，而遮光罩爲 由刀刃所構成之場合，係爲在刀刃的緣線上之任1點、.係意 味著規定受光光軸的點。 當遮光罩設置有針孔之場合，針孔與投光部之光源的發光 點係相對於第1光路控制元件的作用，相互成爲鏡像的位置 關係時，當光路長度爲在中立狀態以外時、包含照射光可在 計測對象物體上集光的位置上存在有計測對象物體時，不論 計測對象物體爲鏡面物體還是擴散反射物體皆可獲得同一 位移計測値。遮光罩爲由刀刃所構成之場合，若用以規定刀 刃之緣線上的受光光軸之點與投光部之光源的發光點係相 對於第1光路控制元件的作用成相互鏡像之位置關係的話， 則同樣地，計測對象物體爲鏡面物體、擴散反射物體都可獲 得同一位移計測値。 -20- 583388 在此發明較佳之一實施態樣中，茲參照屬其2個例之第22 圖及第23圖之符號，係作成爲，反射面沿光軸方向會位移的 區域（2 1 )並不包含由投光部（丨）所出射的光束藉第4集 光元件（3、5 )所集光的位置（22 )。 所謂的『由第4集光元件集光的位置』，係意味著在考慮 反射面不存在之場合由第4集光元件所集光的位置。 在第2光路控制元件雖然使用如前述之半透鏡或偏光射 束分裂器等物，但是把在反射面反射的光束導引至計測對象 物體之際，光束之全光量予以導引至計測對象物體在現實中 係不可能。即使有程度的大小，也一定是計測對象物體以外 的方向，亦即在投光部及受光部的方向產生返回光。設定爲 在反射面上把由投光部出射的光束予以集光的構成之場合 時，此返回光係在受光部集光，大部分係在受光元件被受光 。因此，與來自計測對象物體的反射光束所產生之輸出信號 相較下係成爲不能忽視的強度而成爲檢測之障礙。 依此態樣，雖然反射面係沿著光軸方向會位移之區域的近 傍，但是以反射面上而言，因係設定爲由投光部所出射的光 束不集光的構成，所以即使是在受光元件上，返回光也不集 光。因此，返回光的強度係可降至在受光元件的輸出信號上 不成爲問題的程度，可確實地檢測依來自計測對象物體的反 射光束所產生之受光元件的輸出信號。 又，依另外的實施態樣，茲參照屬其一例的第2 4圖之符號， 反射面沿著光軸方向會位移的區域（2 1 )係設定爲包含有， 由投光部（1 )所出射的光束被第4集光元件（3，5 )所集 - 2 1 - 583388 光的位置（22 )，再者，當計測對象物體係位在有效計測區 ~ 域（2 3 )內時，來自計測對象物體之反射光束可依第3集光 _ 元件（7，5 )集光之區域（2 5 ),係設定爲，不包含由投光部 (1 )所出射之光束被第4集光元件（3，5 )所集光的位置 - (22 ) ° 爲容易理解在本態樣中之作用，茲參照屬本態樣之一例的 第24圖之構成及參照第25圖以說明與其對應之受光元件 的輸出信號。在圖中、2 1所示的區域係反射面會沿光軸方 向位移的區域，6d係光路長度掃描機構設定光路長度爲最短 · 之狀態時之反射面，6e係光路長度掃描機構設定光路長度設 定爲最長之狀態時之反射面，23係有效計測區域，8b係在有 效計測區域內、位在離對物透鏡7最遠位置之場合的計測 對象物體，8 c係表示在有效計測區域內、位在離對物透鏡7 最近位置之場合的計測對象物體，24b係表示在有效計測區 域內、來自離對物透鏡7最遠位置之計測對象物體8b的反 射光束由第3集光元件所集光的點，24c係表示在有效計測 區域內、來自離對物透鏡7最近位置之計測對象物體8 c的 · 反射光束由第3集光元件所集光的點。2 5係表示在有效計 測區域2 3內、來自計測對象物體8的反射光束可由第3集 光元件集光的區域。與其相對應、在第25圖中，與前述之 第6圖同樣地、當光路長度的變化量爲XI時、來自未圖示 在第24圖中之計測對象‘物體的反射光束係入射至受光元件 而可獲得輸出信號27。當光路長度之變化量爲X 2時、由 投光部所出射的光束係藉由第4集光元件而在反射面上集 - 22- 583388 光，在那時、返回光係產生且被受光於受光元件，而會產生 受光信號2 6。光路長度之變化量X 3、X 4係各自對應在第 24圖中反射面係位在24b、24c的場合，斜線所示的區域28 係表示在有效計測區域內、可受光來自計測對象物體之反 射光束的時間區域。 依此態樣，由返回光所產生之受光元件輸出信號26，係必 然在可受光來自位於有效計測區域內之計測對象物體的反 射光束的區域28之外獲得，所以藉由返回光之依來自位於 有效檢測區域內之計測對象物體的反射光所產生之受光元 件輸出信號2 7的正確檢測並不被妨害。一方面，由返回光 所產生之受光元件的輸出信號26係不依計測對象物體的位 置、而係經常地在反射面的位移量成爲X 2時會發.生。爲了 計測計測對象物體的位移，雖然可以一些感測器來測定光路 長度之變化量，再由光路長度的變化量換算爲計測對象物體 的位移量就可以，但是在執行換算上若依此信號26發生時 之位移量來校正光路長度之變化量的測定値，則可抑制前述 之感測器等所具有之因溫度漂流的影響所產生之光路長度 的變化量測定誤差，使更穩定的位移計測係成爲可能。 在此發明之更佳的實施態樣中，可具備有：選擇取得手段， 把沿著光軸方向位移之該反射面的位移設定爲周期性振動， 由該反射面的位置與由該投光部所出射的光束被該第4集 光元件所集光的位置爲一致時所產生之該受光元件的輸出 信號，以選擇取得該反射面的位移爲屬往路中時之輸出信號 或屬復路中時之輸出信號中任意決定的一方；計測手段，由 - 23- 583388 該投光部所出射的光束在該計測對象物體上集光時，計測 · 截至獲得依其反射光束所發生的該受光元件之輸出信號爲 · 止的時間；取得手段，依據該計測的時間以取得截至計測對 象物體爲止的距離之資訊的手段。 · 所謂的反射面之位移爲周期地振動係反射面的位移爲周 期性，當在可把由投光部所出射的光束予以集光於位在有效 計測區域內之計測對象物體上之反射面的位置（與前述之2 5 的區域相同）上存在有反射面時，反射面係會單調上昇或單 調降地位移者。依此，在振動之往路中或復路中，至少在位 鲁 於有效計測區域內之計測對象物體上把照射光集光時之反 射面的位移量，係可相對於時間決定單一値。 在此構成中，不執行利用任何的感測器等物來計測光路長 度的變化量，光路長度之變化係作時間性地周期變化者，例 如視爲正弦波狀的振動等，藉由計測離光路長度的變化量爲 既知的特定點的經過時間，執行計測對象物體之位移計測。 以此光路長度的變化量係屬既知之特定的點而言，係使用依 前述之返回光所產生之受光元件輸出信號26。 · 依此構成，則不需要用來計測光路長度的變化量之感測器 〇 在此發明之更佳之實施態樣中，參照其例之第26圖、第 2 7圖的符號，第4集光元件係由准直透鏡（1 1 )和中間透鏡 (5 )所構成，准直透鏡（1 1 )係配置在投光部（1 )和第2 光路控制元件（4 a )之間、使投光部（1 )所出射的光束成 爲略平行，中間透鏡（5 )係配置在第2光路控制元件（4 a - 24 - 583388 )和反射面（6 )之間、使前述之略平行的光束在反射面（ 6 )附近集光。進而，第5集光元件係由中間透鏡（5 )和受 光透鏡（1 2 )所構成，受光透鏡係配置在受光部（9 )和第2 光路控制元件（4 a )之間，用以把來自計測對象物體（8 ) 之反射光束予以集光在受光部（9)者。『在反射面附近集 光』係與先前所使用者具有同樣意味。 當考慮此位移感測器被使用的狀況時，計測對象物體的形 狀、大小、然後依此等之偏差的程度所產生之最理想之檢 測距離和位移計測範圍係不同。爲了對應各種用途，實際上 具有不同的檢測距離、不同的位移計測範圍之其他的機種 係有其必要。當由投光部至計測對象物體爲止之間及由計 測對象物體至受光部爲止之間係各自依單一的透鏡所構成 之場合，爲獲得所期望之檢測距離和位移計測範圍，透鏡和 光路長度掃描機構之變更係成爲必要，最後結果爲，有從最 初來設計製造感測器全體之必要。依本態樣，僅變更中間透 鏡和對物透鏡的焦點距離及位置就可獲得所期望之檢測距 離、位移計測範圍。具體言之，依對物透鏡的作動距離以決 定檢測距離，由依中間透鏡與對物透鏡之焦點距離及位置所 決定之合成的透鏡系（以下稱爲合成透鏡）之倍率以及反 射面的位移量來決定位移計測區域的大小。依此構成、則 成爲可交換透鏡之構造，可提供對應各種應用的機種。又， 藉由設定成在製造時可容易選擇採用異類透鏡之構造，以適 合由檢測距離或位移計測範圍之廣泛的組合中所選擇的組 合，可製造透鏡以外的零件予以共通化之低成本的位移感測 - 25 - 583388 器。 - 又，在本檢測原理中、由於把計測對象物體上之最小光點 尺寸變小時，則在反射強度不均上係變強，所以較佳爲把透 鏡的象差充分地抑制的光學系統。在中間透鏡與對物透鏡 ‘ 之間的光束爲集束光束或發散光束之場合，雖然依透鏡的變 更、光束係集束或發散的狀態成爲會變化，但是在中間透鏡 和對物透鏡之間，因存在有光路控制元件，依此所產生之象 差的量也會變化。 因此，爲了在計測對象物體上爲獲得小的光點尺寸，係有 · 必要使用特別製作之非球面透鏡及組透鏡，以在使用於整體 的光學系統中時象差成爲最小，而成爲非常高價者。依本態 樣，中間透鏡與對物透鏡之間的光束係（在光學系統之構成 上，准直透鏡與中間透鏡及中間透鏡與受光透鏡之間的光束 也）略平行，所以可以使用無限光學系統用之一般規格的透 鏡，可以低成本來實現位移感測器，用以獲得計測對象物體 上小的光點尺寸。『略平行』係意味著接近於可獲得上述 效果之程度的平行光束之狀態，並非局限在嚴格的平行光束 ® 者。 在更佳實施態樣中，茲參照屬其例之第28圖（光學配置 係同於第1圖）及第29圖之符號，准直透鏡和受光透鏡係 共通的透鏡（3 ),且配置在第1光路控制元件（2 )和第2 光路控制元件（4 a )之間。藉由將准直透鏡和受光透鏡兼 用（共通化），可減少零件件數、低成本化、小型化係可能 的。再者與前述者相同地，藉由縮短投光部和第1光路控制 - 2 6 - 583388 元件之間的距離、及遮光罩和第1光路控制元件間的距離， ' 對溫度變化係可穩定的檢測。 又，在較佳的實施態樣中，係參照屬其-例之第30圖之符 號，投光部（1 )係出射直線偏光，第2光路控制元件係其直 線偏光爲相對於入射面呈垂直或平行般而配置的偏光射束 分裂器（4b )，具備有1/4波長板（29 )，係配置在兩方的 光路中以面對投光部（1 )所出射之光的波長，用在使偏光 射束分裂器（4b )所出射之光束朝該中間透鏡（5 )之光路 中且在該反射面被反射後，由中間透鏡（5 )出射的光束往 馨 偏光射束分裂器（4b)。 依此構成，由投光部所出射之直線偏光係依第2光路控制 元件而被大部分反射或被透射，而經過中間透鏡及1 / 4波長 板，在反射面被反射後，再度地經過1 / 4波長板及中間透鏡 而朝偏光射束分裂器。此際，因爲會往復透射1 / 4波長板， 所以直線偏光係90度旋轉，以構成爲在偏光射束分裂器使 其最初反射之光學系統時，這次大部份係透射，反之構成爲 使最初透射之光學系統之場合時係成爲會反射。與在第2 · 光路控制元件利用半透鏡的場合相較下，可將對計測對象物 體照射之光束的光量增加爲4倍左右。因此，受光元件之輸 出信號也同樣地增加，藉由S / N之提升，使得更高精度的位 移計測或響應時間短的計測等係成爲可能。 在更佳的實施態樣中，請參照屬其一例之第3 1圖的符號， 係可相對於反射面（6 )，設置相對於反射面（6 )把光束由 垂直方向以外予以出射的反射面用投光部（3 0 ),以及受光 -27- 583388 由反射面用投光部（3 Ο )所出射而在反射面（6 )反射之光 束的位置檢測元件（3 3 ),依據位置檢測元件（3 3 )的輸出 信號及受光部（9 )的輸出信號，取得截至計測對象物體（8 )爲止的距離之資訊。 依此種構成，則可知道依據位置檢測元件的輸出信號以對 應光路長度的變化量之反射面的位置。在第3 6圖係表示由 位置檢測元件的輸出信號求取之位置檢測元件輸出演算結 果的例子。此爲對應在第6圖之光路長度的變化量者。以 演算而言，若是對應入射至位置檢測元件上之光束的位置以 決定單一値的演算結果就可以，以位置檢測元件之2個輸出 設定爲A、B之場合，A/(A+B)或（A—B) / (A+B)等係 爲一般所運用者。簡單地說也可爲A或B、或者A- B。如 同使用第6圖所作之說明，反射面的位置係與對計測對象物 體之照射光束的集光位置成1對1對應，預先求取換算成計 測對象物體的位移量之換算式，而由受光部的輸出信號成爲 最大時所對應之位置檢測元件的輸出，可求取計測對象物體 的位移量。又，雖然也可利用反射面的裏面來作爲用以獲知 反射面的位置之上述光學系統的反射面，但是如第6圖所示， 在利用用以反射朝計測對象物體照射之光束之側的面之構 成中，反射面用投光部和位置檢測元件係面對反射面成爲配 置在計測對象物體之側，在反射面之裏面側係能以不限制光 路長度掃描機構之形狀等之制限下自由地配置，可採用簡單 的構造之掃描機構。 由反射面用投光部所出射的光束，若在位置檢測元件的受 - 2 8 - 583388 光面上集光成微小的光點尺寸則位置檢測元件的辨識率會 · 提升所以較佳。又此光束係就算反射面產生位移也可經常 - 癱 地收斂在反射面內般地照射的話，則可避免在位置檢測元件 上之光點的重心位置會不規則地變化，所以並不需要例外處 ’ 理或補正，所以係較佳。 爲便於參照，再度說明集光元件之名稱的相互關係如次。 第6集光元件（13)係兼備第1集光元件（3、5、7/14 )和第2集光元件（7、5、3 / 1 5 )之機能者。在此、在「/ 」之前係第1圖的符號、之後則表示第2圖的符號。 鲁 第7集光元件（19)係兼備第4集光元件（17)和第5 集光元件（1 8 )的機能。 第8集光元件（20)係兼備第3集光元件（16)和第4 集光元件（1 7 )和第5集光元件（1 8 )的機能。 第1集光元件係可以第3集光元件和第4集光元件來構 成。 第2集光元件係可以第3集光元件和第5集光元件來構 成。 _ (四）實施方式 以下，針對本發明之位移感測器之實施形態，參照圖面更 詳細說明。 第31圖係表示本位移感測器之光學系統的配置圖。本感 測器之光學系統係具備有：作爲投光部之「紅色半導體雷 射34」、作爲「第1光路控制元件」之立方體半透鏡2 ; 把准直透鏡與受光透鏡共通化之透鏡3 ;中間透鏡5 ;作爲 - 2 9 - 583388 「第3集光元件」之對物透鏡7 ;作爲「第2光路控制元件 」之偏光射束分裂器4 b ;對應紅色半導體雷射3 4出射之光 的波長之1 / 4波長板2 9 ;作爲光路長度掃描機構之懸臂3 6 與電磁鐵38 ;作爲受光部的遮光罩之針孔901 a ;以及作爲 受光部的受光元件之光電二極管902 a、帶通濾波器9 0 3。 在此，透鏡3和中間透鏡5及對物透鏡7係「第1集光元 件」且同時爲「第2集光元件」。把由投光部所出射的光 束集光在計測對象物體8之「第1集光元件」，係符合於准 直透鏡（在本實施例中爲透鏡3 )和中間透鏡5以及對物透 鏡7 ,而把來自計測對象物體8之反射光束往受光部集光之 「第2集光元件」，係符合於對物透鏡7和中間透鏡5以及 受光透鏡（在本實施例中爲透鏡3 )，但是在本實施形態中， 因爲透鏡3之故，准直透鏡和受光透鏡係被共通化所以成爲 上述之對應關係。 本位移感測器係再具備有：構成反射面之位移量測定用 的投光部30之紅外線半導體雷射35、集光元件32、以及 位置檢測元件3 3。計測對象物體8也一倂表示。懸臂3 6係 如第32圖所示，爲由振盪器3 60 1和作爲反射面之反射鏡 3 602所構成。 由紅色半導體雷射3 4和透鏡3所規定的投光光軸與以針 孔9 0 1 a的中心和透鏡3所規定的受光光軸，係在計測對象 物體8側，依立方體半透鏡2而在計測對象物體8側成爲同 軸。針孔901a與紅色半導體雷射34的發光點，係被配置爲 對立方體半透鏡2的作用係成爲相互成鏡像的位置關係。 -30- 583388 由紅色半導體雷射3 4出射之直線偏光的光束係透射立方 · 體半透鏡2而依透鏡3成爲平行的光束。屬第2光路控制 ， 元件之偏光射束分裂器4b係被配置在此直線偏光的平行光 ’ 束之大部分會被反射的朝向。在偏光射束分裂器4b被反射 β 之平行光束係經過1 / 4波長板2 9、中間透鏡5而在反射鏡 3 6 02附近被集光，同時依反射鏡3 602而對反射面大略垂直 地反射。但是，屬反射面之反射鏡3 6 0 2係會作以3 7爲支點 的懸臂之振動的位移，所以多少會產生接近垂直之角度變化 。在反射鏡3 602被反射的光束係再度經過中間透鏡5、1 /4 · 波長板29而入射至偏光射束分裂器4b。此光束係具有透射 紅色1 /4波長板前之相對於朝反射鏡3602的光束之偏光方 向之9 0度的直線偏光，成爲平行或略平行的光束。此光束 係藉由對物透鏡7被照射在計測對象物體8。來自計測對象 物體8之反射光束係在對物透鏡7受光以後，走向與往計測 對象物體8之照射路徑相反的路徑。當計測對象物體8爲 鏡面物體之場合時，因爲反射光束之偏光方向被維持，所以 與照射時同樣，90度偏光係依1 / 4波長板之往復透射而會 ® 旋轉，與紅色半導體雷射34出射的光之偏光方向相同，在偏 光方向入射至立方體半透鏡2。一方面，當計測對象物體8 爲擴散反射物體之場合，反射光束之偏光方向係成爲包含各 種方向，但是與對計測對象物體照射時相同，成爲僅偏光方 向之成分會到達立方體半透鏡2爲止。來自計測對象物體8 之反射光束之中，在立方體半透鏡2反射的光係在針孔90 1 a 附近集光，透射過針孔901a之光束係依光電二極管902 a而 - 3 1 _ 583388 被受光。在針孔9 Ο 1 a之前係被插入有僅紅色半導體雷射3 4 之波長透射的帶通濾波器，用以除去來自計測對象物體8之 反射光束以外的迷光。 半導體雷射爲紅色時，在計測對象物體8上可用眼睛看見 光點，所以在使用感測器上係非常地便利。顏色並不局限爲 紅色，只要爲可視光就很便利。也可使用紅外光等之非可視 光。 立方體半透鏡2和偏光射束分裂器4b之所以都不使用板 形狀而使用立方形狀的原因爲，以板形狀而言，透過光會發 生像散差，在計測對象物體上及設置有針孔的遮罩上，最小 光點尺寸變寬。使用板形狀的半透鏡、偏光射束分裂器，把 傾斜於和此等不同方向之板狀的透過性媒質（例如透明板 玻璃）予以插入至光路中也可補正此像散差。又，立方體半 透鏡2及偏光射束分裂器4b的朝向係設定爲，各自的入射 光束和反射光束係在第31圖中成爲同一平面內，但並不在 此限。 又，經由利用偏光一事，在使光束透射的光學零件如同玻 璃，係使用幾乎不具雙折射之媒質較佳。 紅外線半導體雷射3 5所出射之光束係依集光元件3 2而 被集光在位置檢測元件3 3的受光面上。途中，此出射的光 束係因爲反射鏡3 602的位移，全部的光束係經常反射，且， 以會入射至位置檢測元件3 3般地決定光束之寬度與對反射 鏡3 602之入射角度及反射鏡3 602的大小間之關係。反射 鏡3 602越小因爲可提高振動之際的頻率所以較佳。位置檢 -32- 583388 測元件之受光面上的光點尺寸因爲會影響位置檢測元件之 > 輸出的辨識率所以越小較佳。在本構成中因以辨識率爲優 先，所以在位置檢測元件上使光束，但若是要使掃描頻率高 爲優先的時候則在反射鏡3 602上使光束集光也可以。之所 ’ 以使用紅外線半導體雷射3 5，係爲了防止因在光學零件散亂 的光等之迷光入射至光電二極管9 0 2 a、使得來自利用紅色 半導體雷射3 4的光之計測對象物體8之微弱的反射光之S / N 比降低。因此紅外線半導體雷射3 5之波長不局限在紅外線， 若爲帶通濾波器90 3不透射的波長，則可得同樣的效果。 · 以下，第3 3圖係表示本感測器之感測頭的內部構成圖，第 34圖係表示接續在感測頭之控制器的內部構成圖。第35圖 係表示由感測頭和控制器所構成之此位移感測器的整體圖 〇 感測頭39係在上述第3 1圖所作說明的光學系統上再加 上具備有，紅色半導體雷射3 4用之APC電路4 1、紅外線半 導體雷射35用之APC電路42、光電二極管902a用之I/V 電路43，位置檢測元件用之I/V電路44、以及振盪器驅動 · 電路4 5。 APC電路4 1、42係保持一定地驅動所要驅動的半導體雷 射之輸出所使用的電路，特別是APC電路4 1也具有因應來 自控制器的投光功率控制信號以控制半導體雷射3 5之輸出 大小的機能。1 / V電路43係用以把光電二極管902 a之輸出 電流變換爲電壓且將受光元件輸出信號對控制器輸出之電 路，I /V電路44係用以把位置檢測元件33之2個輸出電流 -33- 583388 予以變換成各自電壓且將位置檢測元件輸出信號A、B對控 制器輸出之電路。振盪器驅動電路4 5係因應來自控制器之 振盪器驅動脈衝，供給用以驅動電磁鐵3 8之電流的電路。 光路長度掃描機構之構造爲，利用電磁鐵3 8來將振盪器 360 1上安裝有反射鏡3 602的懸臂36驅動，所以係在振盪器 3 60 1上使用磁性體。在第32圖中雖然在振盪器3 60 1上接 著反射鏡3 6 0 2，但是把振盪器的表面加以硏磨作爲鏡面也可 以，在硏磨面上施以蒸鍍以形成鏡面也可以。 控制器40係具有：放大器46、47; A/D變換電路48、49 _ 、5 0 ;峰値檢測電路51 ; AGC (自動增益控制）電路5 2 ; 投光功率控制電路 53 ; CPU54 ;振盪電路 55 ;振盪器驅動 脈衝生成電路5 6 ;記憶體5 7 ;外部I / 0介面5 8 ;位移量顯 示部驅動電路59 ;以及顯示部60。 來自感測頭之位置檢測元件輸出信號A、B係各自依放大 器46、47而被放大，且依A/D變換電路48、49而變化成數 位信號以輸入CPU。來自感測頭之受光元件輸出信號係首先 依峰値檢測電路5 1計測受光量。因應其大小，投光功率控 鲁 制電路5 3係把紅色半導體雷射3 4的發光功率設定爲最適 當的投光功率控制信號送至感測頭3 9的APC電路4 1以執 行回饋控制。接著受光元件輸出信號係透過AGC電路而被 放大或衰減，經由A / D變換電路變換成數位信號而被輸入 CPU54 〇 振盪電路5 5係作爲CPU 5 4與振盪器驅動脈衝生成電路5 6 之參考時鐘來被使用。振盪器驅動脈衝生成電路5 6係對振 -34- 583388 盪器驅動電路4 5賦予振盪器驅動脈衝。依振盪器驅動脈衝 · 以決定用以驅動振盪器3 60 1之在電磁鐵38流動的電流之 脈寬、周期。記憶體57係把獲得之對計測値及位移量之換 算式予以記憶、在CPU54的位移量計算過程執行必要的資 料之記憶。獲得之位移量係通過外部I / 〇介面而被輸出。 此控制器40係具有顯示部60，透過位移量顯示部驅動電路 59在顯示部60顯示位移量。CPU54係透過A/D變換電路50 以檢測受光元件輸出信號，以受光元件輸出信號所產生之時 序來取得位置檢測元件輸出信號A和B(依A/D變換電路48 ^ 、49而變化成數位信號者）來執行演算以獲得與光路長度 的變化量相關之位置檢測元件輸出演算結果Y = A /( A + B ) 。參照記憶體57的內容以求取對應此位置檢測元件輸出演 算結果Y之計測對象物體的位移量。又，把求得之計測對象 物體的位移量往外部I / 0介面5 8和位移量顯示部驅動電路 5 9作輸出。 第3 6圖係表示由本實施形態所獲得之受光元件的輸出信 號等圖。位置檢測元件輸出信號A、B係伴隨著反射鏡3 60 2 · 的位移而作正弦波狀變化，與在計測對象物體8上照射光束 集光時相對應，係可獲得脈衝狀受光元件輸出信號。在本實 施形態中係表示反射鏡3 602沿光軸方向位移的區域不包 含有，由紅色半導體雷射34所出射的光束被中間透鏡5集 光的位置之場合，來自反射鏡3 602的返回光不進入受光元 件的輸出信號。由成爲在受光元件輸出信號之脈衝的峰値 之時間點的位置檢測元件輸出信號A、B所獲得之位置檢測 -35- 583388 元件輸出演算結果Y = A / ( A + B)係以Y1、Υ2、Y3、以及Υ4 ' 來表示。一方面，由位置檢測元件輸出演算結果Υ到計測對 象物體8之位移量的換算式係預先被記憶在記憶體5 7，對應 之位移量係會被計算。 ’ 例如計測對象物體8之位移量△ X，係依據透鏡之成像的 關係以如次的換算式所計算。 △ X = L2— L0 L2= 1 Μ 1 /F— 1 /L1 }
Ll-D+H A/(A+B) · 在此，F係中間透鏡5與對物透鏡7的合成透鏡（以下稱 爲合成透鏡）之焦點距離，L0係計測對象物體的基準位置與 合成透鏡的計測對象物體側主點間之距離，L 1係自半導體雷 射34出射之光束會在反射鏡3 602附近集光的點與合成透 鏡的反射鏡3602側主點間之光學距離，L2係計測對象物體 8 (依合成透鏡與反射鏡3 6 0 2的像一致）與合成透鏡的計 測對象物體側主點間之距離，D及Η係常數。常數D、Η係可 藉由實際地使計測對象物體位移既知量而求得。 ® 又，不依此方法而實際上使計測對象物體位移既知量，把 對應其之位置檢測元件輸出演算結果Υ的一覽作爲資料加 以保持、加入內插處理等以算出位移量也可以，而由位置檢 測元件輸出演算結果Υ的一覽資料而利用適當的近似式以 導出換算式再以其式來算出位移量也可以。 第3 7圖係把上述處理予以流程圖化者。S Τ 1至S Τ 5的處 理係依CPU而被實行。計測開始後，在ST 1檢測由A / D變換 -36- 583388 電路5 0所獲得之受光元件輸出信號的峰値。在ST2，把於ST 1 所檢測到受光元件輸出信號之峰値的時序所對應之位置檢 測元件輸出信號A、B透過A / D變換電路4 8、4 9而取得。 在ST3係演算於ST2所獲得之位置檢測元件輸出信號A、B， 以獲得位置檢測元件輸出演算結果Y == A / ( A + B )。在S T 4 依據獲得之演算結果Y和預先儲存在記憶體57之換算式以 執行計測對象物體之位移量換算。換算終了後再度返回ST 1 同時並列地執行ST5的處理。ST5之所謂的平均化處理係用 以提升位移量的測定精度之處理，依設定可決定次數。在執 行了已設定後的次數平均化處理之後、執行計測對象物體 之位移量的輸出。 以其他實施態樣而言，反射鏡3 602會沿光軸方向位移的 區域爲，包含由紅色半導體雷射3 4所出射的光束其受中間 透鏡5所集光的位置，當計測對象物體8位在有效計測區域 時，來自計測對象物體8之反射光束可被中間透鏡5集光的 區域爲，不包含由紅色半導體雷射34所出射的光束其受中 間透鏡5所集光的位置，以下就其場合加以表示。在此實施 態樣中，並不使用投光部3 0或位置檢測元件3 2以執行反射 鏡3 6 0 2的位移量測定，係光路長度的變化看成作時間性地 周期變化之正弦波狀的振動，藉由計測從返回光產生之時間 點之經過時間以求取那時之光路長度的變化。亦即，光學系 統的配置係如第3 8圖所示，此係由第3 1圖之構成省略了反 射面之位移量測定用的投光部3 0 (紅外線半導體雷射3 5和 反射面之位移量測定用的集光元件3 2 )以及位置檢測元件 -37- 583388 33者。感測頭之內部構成係如第39圖，控制器的內部構成 係如同第40圖，而用以處理位置檢測元件之輸出信號的放 大器及A / D變換電路係被省略。 將與依此實施態樣之受光元件的輸出信號關連的波形一 起表示在第4 1圖。照射光束在計測對象物體8上會集光時， 與其對應係可獲得脈衝狀的受光元件輸出信號27，由紅色半 導體雷射3 4所出射之光束依中間透鏡5而會在反射鏡3 6 0 2 上被集光時，與其對應係可獲得返回光以作爲脈衝狀的受 光元件輸出信號2 6。茲顯示正弦波狀之光路長度的變化量 (反射鏡3602成正弦波狀振動時，光路長度的變化也成爲 正弦波狀）以作爲參考。X 1係照射光束會在計測對象物體 8上集光時之光路長度的變化量，X 2爲由紅色半導體雷射34 所出射的光束在依中間透鏡5而在反射鏡3 602上被集光時 (產生返回光時）之光路長度的變化量，X 3係在有效計測 區域內，在距離對物透鏡7最遠位置上照射光束集光時之光 路長度的變化量，X 4係在有效計測區域內，在距離對物透鏡 7最近位置上照射光束集光時之光路長度的變化量。 由第4 1圖之受光元件輸出信號可知，反射鏡3 6 0 2爲正弦 波狀振動時，在往路中和復路中，可獲得依各自返回光和計 測對象物體的輸出信號。在以依返回光的輸出信號爲基準 的場合，因爲有必要僅選擇以依往路中或者復路中兩者其中 一方的返回光所產生之輸出信號來作爲基準，所以係將其方 法的一例表示如下。在第41圖雖然也顯示有用以使反射鏡 3 6 02成正弦波狀振動之振盪器驅動脈衝的例子，但是光參照 -38 - 583388 此振盪器驅動脈衝不一定能選擇返回光2 6的一方。於是， 如同圖中所示，在接近返回光產生X2之一方，當振盪器之反 轉時序比振盪器驅動脈衝之負向緣的時序稍慢時，將此振盪 器驅動脈衝之負向緣作爲觸發以產生單發脈衝，使此單發脈 衝反轉，在不將由計測對象物體上之集光所產生之輸出信號 27夾於其間之往路和復路之2個返回光26之間作出上昇信 號以作爲重置信號。依此重置信號若開始受光元件輸出信 號之取得則必然最初的脈衝係依返回光26成爲基準脈衝， 其次2個脈衝係成爲來自計測對象物體之輸出信號27。於 是，計測各自之來自基準脈衝的經過時間t 1及t 2且使用了 光路長度的變化爲時間性地周期變化的正弦波狀而可求取 對應t 1、t 2之光路長度的變化量。依此，計測對象物體8 的位移量△X ( t )係依如下之換算式來計算。 △ X ( t 1 ) = L2 ( t 1 ) — L0 △ X ( t2) = L2 ( t2) - L〇 L2 ( t 2 ) = 1 / { 1 /F— 1 /LI ( t 2 ) } L2 ( t 1 ) = 1 / { 1 /F- 1 /LI ( t 1 ) }
Ll(tl) =D+Kcos ( ωΐΙ+φΟ) LI ( t 2 ) = D+ Kcos ( ω t2+ φΟ ) 在此F係合成透鏡之焦點距離，LO係計測對象物體之基 準位置與合成透鏡之計測對象物體側主點間之距離，L 1係由 半導體雷射34所出射的光束在反射鏡3 602附近集光的點 與合成透鏡之反射鏡3 602側主點之間的光學距離，L2係計 測對象物體8 (與依合成透鏡的反射鏡3 6 02的像爲一致） - 39- 583388 與合成透鏡之計測對象物體側主點之間的距離，D、Κ、ω以 及Φ係常數。ω係由振盪器驅動脈衝的周期求取，φΟ係由cos (ωί1+φ0) = cos ( ωί2+φ0)來求取，常數D、K係可藉 由實際地使計測對象物體位移既知量而求得。 由L 1到計測對象物體8之位移量△X的換算係與前述方 法同樣，而不受限於此方法，實際上使計測對象物體位移既 知量，將對應其之位置檢測元件輸出演算結果Υ的一覽作爲 資料加以保持、加入內插處理等以算出位移量也可以，而由 位置檢測元件輸出演算結果Υ之一覽資料，依適當的近似式 導出換算式，再以其式來換算位移量也可以。 在本實施形態中之位移量計測之流程圖係以第42圖表示 。ST1至ST10的處理係由CPU執行。計測開始後，在ST1、 首先等待重置信號被輸入。在ST2、重置信號被輸入之後， 檢測由A/D變換電路50所獲得.之受光元件輸出信號的第1 個峰値。在ST3、在此峰値之檢測的同時也開始時間之計測 。在ST4、檢測第2個受光元件輸出信號之第2個峰値，在 ST5、使在ST3檢測到受光元件輸出信號之最初峰値直到獲 得第2個峰値爲止的經過時間t 1記憶在記憶體5 7。在ST6 、再檢測受光元件輸出信號之第3個峰値，在ST7、使在ST3 檢測到受光元件輸出信號之最初峰値直到獲得第3個峰値 爲止的經過時間t 2記憶在記憶體5 7。在ST8、在獲得受光 元件輸出信號之第3個峰値之後，由記憶體5 7讀出t 1、t 2 以及用以換算成計測對象物體之位移量的換算式，以執行對 應各自t 1和t 2之計測對象物體的位移量。把在ST9換算 -40- 583388 的2個計測對象物體之位移量予以平均。在ST 1 0之平均化 處理係與第3 7圖之場合相同，係用以使位移量的測定精度 提升之處理，也可依設定等來任意地決定次數。 更具體的感測頭之構造的斜視圖係以第43圖表示。在此 、搭載在感測頭側之電路4 1到45之基板係以圖中之62來 表示。第44圖係對應此圖之前視圖，第45圖係表示輝視圖 。但是爲使容易明瞭光學系統的構成，在第44圖係省略一 部分構件及基板等物，在第4 5圖僅圖示光學系統。光學系 統的構成係等同於第3 1圖所示之實施形態者，符號也與第 3 1圖相同。但是在立方體半透鏡2和透鏡3之間係插入用 以使光學系統小型化的反射鏡6 1。 以光學系統之構成不同的其他實施形態而言，除了目前爲 止所示者以外，如第46圖所示，也可以在反射面（6)上把 投光部（1 )所出射的光束集光，將第2光路控制元件（2 ) 配置在投光部（1 )和第1集光元件（14 )之間。在此構成 中，第1集光元件（14 )係把由投光部（1 )所出射的光束 在反射面（6 )上集光，同時把依反射面（6 )所反射的光束 對計測對象物體（8 )集光。又，同樣的構成也可爲如第47 圖所示，在反射面（6 )上把投光部（1 )所出射的光束集光， 將第2光路控制元件（2 )配置在受光部（9 )和第2集光 元件（1 5 )之間。在此構成中，第2集光元件（1 5 )係把在 反射面（6 )被反射的光束在計測對象物體（8 )上集光，同 時把被反射面（6 )反射之來自計測對象物體（8 )的反射 光束對受光部（9 )集光。 -41 - 583388 【發明之效果】 依此發明，由於係依據在計測對象物體上之照射光束爲微 小光點時之光路長度來執行計測，所以可計測不受計測對象 物體之反射強度不均所影響之位移。又集光機能係由不動 的集光元件所執行，由於設置有不同於其且自體在不具有集 光機能之下具有使光路長度變化的機能之光路長度掃描機 構，所以可實現將此光路長度掃描機構小型化且輕量化。因 此可提供一種可提高掃描頻率、計測時間短且可高精度的 計測之位移感測器。 _ (五）圖式簡單說明 第1圖：表示本發明之實施形態的光學系統構成圖。 第2圖：表示本發明之其他實施形態的光學系統構成圖 〇 第3圖：表示在第1圖的實施形態之光學系統構成中，光 路長度掃描機構設定光路長度爲短之狀態下之照射光束圖 〇 第4圖：表示在第1圖的實施形態之光學系統構成中，在 鲁 計測對象物體爲鏡面物體之場合、光路長度掃描機構設定 光路長度爲短之狀態下之反射光束圖。 第5圖：表示在第1圖的實施形態之光學系統構成中，在 計測對象物體爲擴散反射物體之場合、光路長度掃描機構 設定光路長度爲短之狀態下之反射光束圖。 第6圖：表示伴隨光路光掃描機構之作動的光路長度之 變化和受光部的輸出信號之時間變化圖。 -42- 583388 第7圖：係表示在遮光罩使用刀刃，在受光元件使用2分 割光電二極管之實施形態之光學系統構成圖。 第8圖：係表示在遮光罩使用刀刃，在受光元件使用2分 割光電二極管之實施形態之光學系統構成中，光路長度掃描 機構設定光路長度爲短之狀態下之反射光束圖。 第9圖：係表示在遮光罩使用刀刃，在受光元件使用2分 割光電二極管之實施形態之光學系統構成中，光路長度掃描 機構設定光路長度爲長之狀態下之反射光束圖。 第1 0圖：表示本發明之其他實施形態的光學系統構成圖 〇 第1 1圖：表示第1 0圖之實施形態的其他光學系統構成 圖。 第1 2圖：表示本發明之其他實施形態的光學系統構成圖 〇 第1 3圖：表示第1 2圖之實施形態之其他光學系統構成 圖。 第1 4圖：表示在第丨2圖之實施形態中，使用第6集光元 件的光學系統構成圖。 第15圖：表示在第12圖之實施形態中，使用第6集光元 件的其他光學系統構成圖。 第1 6圖··表示本發明之其他實施形態的光學系統構成圖 〇 第1 7圖：表示第1 6圖之實施形態的其他光學系統構成 圖。 - 43- 583388 第1 8圖：表示本發明之其他實施形態的光學系統構成圖 〇 第1 9圖：表示第1 8圖之實施形態的其他光學系統構成 圖。 第20圖：表示本發明之其他實施形態的光學系統構成圖 〇 第2 1圖：表示第20圖之實施形態的其他光學系統構成 圖。 第22圖：表示本發明之其他實施形態中之光學系統構成 和由投光部所出射的光束之關係圖。 第2 3圖：表示在第2 2圖之實施形態中之其他光學系統 構成和由投光部所出射的光束之關係圖。 第24圖：表示在本發明之其他實施形態中之光學系統構 成和光束之關係圖。 第25圖：表示在第24圖之實施形態中之受光元件的輸 出信號圖。 第2 6圖：表示本發明之其他實施形態的光學系統構成圖 〇 第27圖：表示第26圖之實施形態的其他光學系統構成 圖。 第28圖：表示本發明之其他實施形態的光學系統構成圖 〇 第29圖：表示第28圖之實施形態的其他光學系統構成 圖。 44 一 583388 第3 〇圖：表示本發明之其他實施形態的光學系統構成圖 - 〇 第31圖：表示本發明之其他實施形態的光學系統構成圖 〇 第32圖：表示光路長度掃描機構之懸臂的構成例圖。 第3 3圖：表示本發明之實施形態的感測頭之內部構成圖 〇 第3 4圖：表示本發明之實施形態的感測頭所接續之控制 器部的內部構成圖。 籲 第3 5圖：表示本發明之位移感測器的整體圖。 第3 6圖：表示本發明之第1 3實施形態的受光元件，位置 才食測元件的輸出信號和位置檢測元件輸出的演算結果圖。 第3 7圖：表示本發明實施形態之位移量計測之流動的流 程圖。 第3 8圖：表示本發明其他實施形態之光學系統的構成圖 〇 第3 9圖：表示本發明其他實施形態之感測頭的內部構成 鲁 圖。 第4 0圖：表示本發明其他實施形態之連接至感測頭之控 制器部的內部構成圖。 第4丨圖：表示本發明其他實施形態之與受光元件的輸出 信號相關連之波形圖。 第4>2圖：表示本發明其他實施形態之位移量計測之流動 的流程圖° 一 45- 583388 第4 3圖：本發明實施形態之感測頭的斜視圖。 第4 4圖：本發明實施形態之感測頭的正面圖。 第4 5圖：表示在本發明實施形態的感測頭中之光學系統 的側面圖。 第4 6圖：表示依本發明之其他光學系統構成的實施形態 圖。 第4 7圖：表示依本發明之其他光學系統構成的實施形態 圖。 第48圖：表示依習知三角測量法的位移計測之光學系統 圖。 【主要部分之代表符號說明】 1…投光部： 2···立方體半透鏡 3···兼用（共通化）爲准直透鏡及受光透鏡之透鏡 4a…立方體半透鏡 4b…偏光射束分裂器 5…中間透鏡 6…反射面 6 a…光路長度掃描機構爲中立狀態時之反射面 6 b…光路長度掃描機構設定光路長度爲短之狀態時之反射面 6c…光路長度掃描機構設定光路長度爲長之狀態時之反射面 6 d ...光路長度掃描機構設定光路長度爲最短之狀態時之反射面 6 e ···光路長度掃描機構設定光路長度爲最長之狀態時之反射面 7···對物透鏡 -46- 583388 8…計測對象物體 · 8 b…於有效計測區域內、位在最遠位置之場合的計測對象物 · 8 c…於有效計測區域內、位在最近位置之場合的計測對象物 9…受光部 μ 9 0 1 a…針孔 901b···刀刃 902a…光電二極管 902b…2分割光電二極管 903…帶通濾波器 鲁 11…准直透鏡 12…受光透鏡 13…第6集光透鏡 14…第1集光透鏡 15…第2集光透鏡 16…第3集光透鏡 17…第4集光透鏡 18···第5集光透鏡 ® 19…第7集光透鏡 20…第8集光透鏡 2 1…反射面沿光軸方向位移的區域 22…由投光部所出射之光束藉由准直透鏡和中間透鏡所集光的 點 23…有效計測區域 24b…來自有效計測區域內之位在最遠位置之計測對象物體的 -47- 583388 反射光束被准直透鏡和中間透鏡所集光的點 ' 24c…來自有效計測區域內之位在最近位置之計測對象物體的 反射光束被准直透鏡和中間透鏡所集光的點 25…計測對象物體位在有效計測區域內時，其反射光束可被對 物透鏡和中間透鏡集光之區域 26…依返回光之受光元件輸出信號 27…位在有效檢測區域內之來自計測對象物體的受光元件輸出 信號 28…可受光位在有效計測區域內之來自計測對象物體的反射光 鲁 束之區域 29…1/4波長板 30…反射面之位移量測定用的投光部 3 1…反射面之位移量測定用的雷射 32…反射面之位移量測定用的集光元件 3 3…位置檢測元件 34…紅色半導體雷射 3 5…紅外線半導體雷射 鲁 3 6…懸臂 3 6 0 1…振盪器 . 3602…反射鏡 37…懸臂的支點 38…電磁鐵 39…感測頭 40…控制器 -4 8 - 583388 41、42…APC電路 · 43、44…I/V電路 45…振盪器驅動電路 4 6、4 7…放大器 48、49、50··· A/D 變換電路 51…峰値檢測電路 52…AGC電路 53…投光功率控制電路 54…CPU · 5 5…振盪電路 5 6…振盪器驅動脈衝生成電路 5 7…記憶體 58…外部I/O介面 59…位移量顯示部驅動電路 60…顯示部 6 1…反射鏡 62…搭載在感測頭側之電路41到45的基板 β 1 0 0 1…雷射 1 002、1 003…透鏡 1 0 0 4…位置檢測兀件 1 005…計測對象物體 1 006…可獲得繞射極限光點尺寸之點 -49 -