TW561202B - Process and device for the electrochemical treatment of items to be treated - Google Patents

Process and device for the electrochemical treatment of items to be treated Download PDF

Info

Publication number
TW561202B
TW561202B TW086108096A TW86108096A TW561202B TW 561202 B TW561202 B TW 561202B TW 086108096 A TW086108096 A TW 086108096A TW 86108096 A TW86108096 A TW 86108096A TW 561202 B TW561202 B TW 561202B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
electrode
brush
brushes
metal
conveyor belt
Prior art date
Application number
TW086108096A
Other languages
English (en)
Inventor
Rolf Schroder
Reinhard Schneider
Lorenz Kopp
Thomas Rydlewski
Horst Dr Steffen
Original Assignee
Atotech Deutschland Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Atotech Deutschland Gmbh filed Critical Atotech Deutschland Gmbh
Application granted granted Critical
Publication of TW561202B publication Critical patent/TW561202B/zh

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/06Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
    • H05K3/07Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process being removed electrolytically
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/005Contacting devices
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/008Current shielding devices
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/02Electroplating of selected surface areas
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25FPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F7/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic removal of material from objects; Servicing or operating
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/24Reinforcing the conductive pattern
    • H05K3/241Reinforcing the conductive pattern characterised by the electroplating method; means therefor, e.g. baths or apparatus

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
  • Electrotherapy Devices (AREA)

Description

561202
喻:明:關於一種以某種處理液為待處理物件娜 予處理之万法,以及一用來執行這種方法之装置。 安和—在其表面上建造導電的結構圖 加以處理的島。 评r也尽
經濟部中央標準局員工消費合作社印製 在一個待處理物(比如說電路板)上的結構圖案,如 果要加以處理的話,就必須分別設立—個導電的通路 和鍍槽的钱源相麵。—崎處_錢魏學處理的 基本條件’係其即將被處理的表面,賴是導電性的。由 於這個緣故,所以在習知之電化學方法中,如果要對一個 電路板上的結構圖案加以處理時,就必須從一個整面都加 以金屬化的、甚至是導電連通的、以及經由鍍銅來加以強 化的電路板做起。在一個以此方式來製備的電路板上,其 結構圖案便需要經由印_方式、或經由照像的方式—;匕 ^說經由結構圖案的負片,來製作上去。然後,再讓那些 沒有被,蓋住的導電性表面,選雜地來做電化學處理。 通吊在14裡便需要許許多多的製程步驟。最後,在這些結 f圖案之_導電層,_用_方式,將之完全去^ : 这些蚀刻的程序’大部分都是在化學槽裡面,運用注射和 沖洗的技術來進行。 、_万法的缺點是,待處理物必須要駛人濕式化學處 理^道兩次:首先,其電路板必須要接觸通電,然後,這 二包路板將在潮濕的區域外面,以結構圖絲加以印刷, 然後,再駛人濕式化學處理通勒,重新處理其結構圖案
561202 發明説明(2·) 。一些適當的沖洗及乾燥程序是必要的。此外,位在結構 圖案之間的導電基礎層,一定要等到其導線形成之後,才 能夠被移除一這也是一項缺點。其導線的表面,就必須因 此而設置一個附加的防護,以免在蝕刻的程序時受損。 經濟部中央標準局員工消費合作社印策 在製造多層電路板的内層時,情況也類似。為了避免 兩次駛入濕式化學處理通道内(對其表面整面加以電化學 處理,駛出,印刷,以及隨後再以濕式化學法來加以處理 ),我們也可以先在沒有被處理過的、整面的銅表面上, 加以印刷。然後,再以化學的方絲進行_程序,以及 其他一些選擇性的表面處理。那些在經過了蝕刻程序之後 殘田的在笔性上主隔離島狀的銅表面,當其利用習知之 方法來印上許?這—躺内層、改善其附著性時,其表面 $會被氧化成黑色賴&。織,其表面將會被化學性地 還原、,以改善其鏽赠性。這魏學程序是很花時間的, 且由於其具有一個持續、高度的化學物質消耗量,以及一 個大量廢棄化學物質的處理問題,所以很昂貴。相反地, 這種利用電化學的科,來將絲面加以氧 較於純化學的處理方法而言,就有明顯的好處以原相 在專利案DE 43 37 988 Α1中,有敘述一種用來製造 多層板内層的方法。其提出之方式,是讓被氧化過的銅表 面’在-個以水平核通過的設備巾,以電化學的方式加 以达原。所採用的電解液,是一種比如說鹽類的溶液。在 每一層^層板的基座上,可以經由一個或兩個滾輪組,使 (和被氧化的表面接電,而變成陰極的紐。其中,結構
圖案係經由滾輪來和鍍槽的電流源通f相連。其陽極是以 如下的方式來設m讓待處付姑。經過電 解之後,在這働件被極化成陰極的表面±,就會形成一 些呈原子形式錢,而把氧化銅加以還I與化&的還原 方式相比,這裡的花費是很微小的。 ,¾種万法的缺點是,在輸送時,其與滾輪的接觸時間 非常少。-條導線、或-個在電路板輸送方向上具有一毫 米之尺寸大小的獨立焊眼’其在—们^in的輸送速度 下’只會在-娜短、約為〇.〇6秒的咖内發生接觸。這 個很短的時間間距對於電化學的處理來說是少太多了。在 導線膜上’其指向無輸方向互相平行的其他導線,則會 因為其長度的緣故’而有-個明顯較長的接觸時間。這: 果將造成財㈣触_,和待處難上的結構圖案: 指向產生關連。另外的缺點是,其接觸滾輪必須要很精準 地來加以建造,以便使金屬線上那些彼此獨立的銅表面都 能夠被接酬,且賴此而被處理。把這娜輪接到陰極 電路上時’容易沈積-些污垢,而其中有—部分則是牢牢 地附著在上面,因而使待處理物更難以達到一個均勻的接 觸。如果這種電化學的方式是-種電鍍的方法時,滚輪同 樣也會強烈地被金屬化,而造成此方法無法連續地來做持 續性的運轉。 當這些結構圖案只需局部做電化學處理時,這種滾輪 的接觸方式基本上也是不合適的。在此情況下,那些不被 處理的表面,就需要用一種比如說防焊漆來加以覆蓋。此 561202 五、發明説明(4·) 時,那些位在被處錄深處的麵,可能就無 輪所觸及。 啊| 另-種方法’以及-個適用於這種方法的裝置 從US-A 51 14 558中獲知。在這份文件中,敘說一種在* 路板上用來製造彼此間距極小的細小導線之裝置。在 用來做為其導線之接觸用的實施形式中,這種装置本有^ 多個排列在兩平面上_毛,其細—個與魏板:輸^ 万向相垂直的方式’掛在電路板兩侧。這些刷子係和—個 電泥源相連接,且在蝕刻其結構圖案時,利用一種整面覆 盍的方式,將之極化成陽極。一個相對電極,其係設置在 電路板平面上所看去賴子狀細,囉也是連接到電 流源上,且在所示的設計中被極化成陰極。但是這種裝置 卻不適合在-個祕板上,以—鑛賊_流來為其金 屬表面做電辦處理,因為其㈣電極子所遮蔽 。我們甚至還可以細出,以這種裝置是根本沒有辦法在 電路板上產生電流出來的。尤有甚者,所有的電化學程序 ,都將在相對電極和刷子之間的間隙内來進行。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 在另-份文件DE 41 23 985 C2中,可以看到一種為 電路板做電解處理-尤其是以電解法來鍵銅—的裝置。為 了要解決其所述之問題,也就是說,在電路板的接觸點上 ,通常會有一些經由電解析出的金屬產生之問題,建議利 用刷子來做為電路板的接點。刷子將被安置在電路板表面 的邊緣上,、以便在電流源和那具有一整面金屬面的電路板 之間,構成一個通電的接點。但是利用此裝置,卻也不可 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Μ規格~——— -10- 561202 A7 -----------B7______ 五、發明测() " ' ^〜 能接觸到電路板表面上那些彼此絕緣的金屬區域。 因此,本發明的基本問題,便是要排除習知之技術上 (請先閎讀背面之注意事項再 的一些缺點,而且特別要提出一種適當的方法和裝置,來 為待處理物件上-尤其是電路板上一彼此絕緣的導電性區 域,以一種處理液來做電化學處理。這種方法和裝置,首 先要能適應輸送設備中的電路板之處理。其中,這些電路 板是以-個水平或垂直的方式,來被托住的。還有就是要 能處理那些由很小的絕緣面積所構成的結構圖案,和/或 只讓一部分的導電性結構圖案被處理。本發明的一個基本 觀點,還關係到-個問題,即接觸元件在電解析出金屬的 同時,也會有金屬沈殿到接觸元件上面,因此,我們就必 、1Τ 須要找出一些適當的方法,來把這個問題也解決掉。 ”這些問題係經由中請專利細第1和1G項的物件加 以解決。而本發明一些優良的實施形式,則列於從屬的申 請專利範圍中。
經濟部中央標準局員工消費合作社印製 、a利用本發明的方法及裝置,就可以讓待處理物以一個 適當的運輸裝置,經由一個輸送帶來被運送到此裝置上。 $外’還设置其他-些用來導引及盛裝處理液的裝置,其 ,计方式如下··物件在運送經過那些裝置時,至少必須間 、貝地比如說以一個沈浸或是潑水的方式一來與處理液相 接^。在待處理物(比如說電路板)上面那些彼此絕緣的 :導^生區域’至少會一個接著-個地和那些固定的、從電 流源經由電線饋電的電極刷接觸。因此,當這個區域和處 理液相接觸時,這個區域就會被加上一個電位。此外,其
-11- 561202 五、發明説明(6·) 同樣也設有一個設置在輸送帶附近、且從電流源經由電線 來和其相反的極性相饋電之相對電極。其設計方式,係讓 這些區域和相對電極之間,能有一個電流在流動。這樣子 就可以保證所有的導電性區域,在與液態處理藥品相接觸 的同時,都能一個接著一個地做電化學處理。利用這種方 法和奴置,可以在一個很小的導電性區域上,僅處理其中 的邵分。此外還有那些在進行電化學處理時所沈積在電 極刷上的金屬,也可以再度從裝置的金屬上被去除。 、本發明方法的最佳應用方式,或是本裝置的最佳實施 形式其構成方式,係讓電路板能以一個連續的方式在輸 送裝置上被處理。因此,這些電路板便是利用一種適當的 輸送裝置一it如說滾輪或滑輪,以一個水平的輸送方向來 運送穿越這個設備,而且還會被送到一個比如說處理液的 鍍槽中,或是經由適當的裝置來被澆濕或沖濕。其中,這 二电路板可以利用一個水平或垂直的方式來架設。用做電 化學處理的電極刷和相對電極,基本上是位在輸送帶的兩 侧’也就是比如說位在輸送平面的上方和下方。如此一來 ,這些板子便是從電極之間穿過去的。當然,這些電極也 了以又置在電路板的其中一侧。為了要讓電力線在電極 和輸送帶間的空間裡面,能產生一個最佳的分布,所以在 輸运帶附近的電極刷和相對電極,原則上就必須沿著輸送 方向、或在另一方向上,以一個交錯的方式來設置。因此 ,這些相對電極,便是安置在待處理物同一侧上、緊鄰的 兩個電極刷之間。 本紙張尺度適用家榡準(CNS ) Α4· ( 2似297公瘦〉 -12- (請先閲讀背面之注意事項再本頁) 訂'
經濟部中央標準局員工消費合作社印製 561202
這些刷子係由細小線狀的、具導電性的刷毛所構成, 基本上是設在處理液裡面,鍍槽液面的下方,且基本上是 以一個彼此平行排列的形式所構成。相對於待處理物的輸 送方向而言,這些行列可以以一個大於零的角度來排列, 最好是與輸送方向相垂直,且基本上平行於一個由輸送帶 所構成的輸送平面來設置。 經濟部中央榡準局員工消費合作社印製 這些刷子係由抗蝕性的材料所構成,比如說鈦、鈮、 I*貝重金屬、或不鏽鋼,以避免受化學或電化學的侵餘 。刷子的刷毛,以一個刷毛的直徑為001毫米為例,是很 ^彈性的,很適合那些要被處理的表面。這也能讓一些比 這些區域附近的絕緣層(比如說一層防坪漆)還要低的結 構圖案,能局部的加以處理。這些刷毛束還可觸及其絕緣 物吳之間的最小表面區域。這些細小線狀的刷毛,由於其 騎彈性,所以並不會對待處獨麵造成損傷。由於每 -個刷子都具有大量刷毛’所以把許多刷子適當的橫跨在 待處理物的輸送方向來擺設時,就會在各娜構圖案上產 生-個很長的接觸時間,而其電化學處理_,也將會相 對應地跟著增長^在—個金屬不會麟出來的電化學處理 =序中,其接觸時間幾乎可以達到百分之百,因為其相對 :極可以罪著刷子來裝設。亦即,每一個獨立的結構圖 在經過電化學槽時’除了因為相對電極所產生的電極刷 =外’―直都是和鍍槽的電流源相連接的。像這類的電 匕:程序’舉例來說有電解式的清潔、氧化、還原、以及 (敍刻)。這些刷子、以及經由刷子來連接的待處理 本紙張 -13 561202 A7 --------- 五、發明説明(8·) ' 物,將視所應用的方法之不同,而被極化成陽極或陰極。 經濟部中央標孪局員工消費合作社印製 本發明之方法,也特別適用於一種金屬要被鍍到待處 理物件上的這一類電化學程序。相關的例子是在一片具有 結構圖案的電路板上,選擇性地來鍍上銅、金、鎳、錫、 或錫/鉛、銅/錫、和銅/鋅的合金。此外,這種方法和 裝置,也適用於一種以電化學鍍金屬的方法—尤其是以一 種鐘銅的方法-製造之完全叠加性電路板。在電解析出金 屬的同時,電極刷會被切賊陰極。亦即,刷子在其沒有 絕緣的表面區域上,將會如同待處理物般,—起被電鐘, 因^偶爾就必須將之去金屬。若是要徹底地防止刷毛的電 、度/的居,我們可以在每一根刷毛加裝絕緣體,使之形 同-條絕緣的細小導線一般。為了要保持刷毛的彈性,而 且也由於其尺寸很小,所以那些以金屬之氧化物來製作之 絕緣漆、抗化學性被動覆層,以及利用電子浸泡上漆法來 鍵上去的覆層,就特別的合適。在此情形中,只有被提供 f故為,點用的刷毛尖端,沒有被絕緣物質覆蓋住。: 陽極而口 ’其在電鍍程序上不僅可採用可溶解性的電極, 也可採用不溶性的電極。不溶性的電極具有一個好處,即 適應這種t備之構造環境的能力比較好。 、在^種金屬會在導體區域上被鍍出來的程序中,電極 必Mi期凊除其金屬。在—種實施形式中,刷子將會 仗^個裝置上被移走,然後在一個獨立的裝置上,以化學 ,疋私化學_的方法,來去除其上所附著的金屬。為了 、固目的’刷子就必須以一個容易更換的方式來構造。把 本紙張 -一-- 561202 Α7 Β7 五、發明説明(9·) 這些刷子,定期的來和那些金屬被去除掉的刷子做更換, 以及將那些要被再生的刷子,以另外的一個鍍槽來加以去 金屬,就可以將這種輸送裝置維持一個持續性的運轉。 在本發明的另一種實施形式中,被極化成陰極的電極 刷,將會在這一個電鍍鍍槽中,以一個電化學的方式自行 去金屬。在此情形下,其係以一個不可溶解的陽極來工作 。至少有兩列基本上是以一個互相平行的方式來排列的電 極刷,其將以一個橫跨的方式、或是以一個與電路板輸送 方向呈任意角度的方式來擺放。這些串列最好是伸展在輸 送帶的整個寬度之上,或是伸展在待處理物所需的一個寬 度上,或至少伸展在一個被導電的區域所掃過的區域上。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 要進行去金屬程序時,各個電極刷或是電極刷_列,就需 要利用一個適當的裝置,將其從電路板的表面舉起。其中 ,電極和輸送帶之間將會產生一個間隙,而使之和電路板 間不再有任何連結。此時,電極刷將利用另一裝置,使之 至少能斷斷續續地更換極性。如此一來,比如說在金屬化 的程序時,其中一部分的電極刷就會構成電路板的陰極接 點’而另一部分就會構成不溶性的陽極。此外,更換過極 性過的電極刷,其在此時就會與其他刷子相反,被極化成 陽極。被舉起來的刷子將會以一個電化學的方式來去金屬 ,而另外的刷子則是把陰極電位加到那些要被處理的結構 圖案表面上。這些結構圖案、以及最後所提到的刷子將會 被金屬化。經過一個事先可以選定的時間之後,這些刷子 的切換開關狀態就會切換過來。被金屬化的刷子將會被切 本紙張尺度適用中國國家CNS) Μ規格(210>< 297公楚)--- -15- 561202 A 了 B7 五、發明説明(10·) 換成陽極,而被去金屬的刷子則被切換成陰極。其去金屬 化及金屬化的情形也相同。前述這種刷子的切換動作可以 在一個設備中,交替的以許多刷子的串列來完成,以便能 .達到一個足夠長的陰極接觸時間。 在電路板表面上所鍍出來的金屬量,必須在鍍槽内持 續地加以補充。這-點可以利用習知之手段和方法來加以 完成,比如說經由金屬鹽的添加來完成。 在另一種變通的方法中,電極刷也可以採用一種去金 屬基底,來把附著其上的金屬加以清除,尤其是一種形狀 為平板狀、如同待處麵件—般置於輸送帶上來通過這個 設備的基底。前述這些平板所經過的電極刷或電極刷申列 ,也將經由適當的裝置,個別的由平板的表面被舉起來, 而且經由極性的更換,將之切換到陽極上。還有另外的一 個裝置是用來㈣這些流程的。彻這個王具,基底在這 個裝置内的運送情形就可以獲得監控。視基底所處的位置 而足,可以讓這個裝置用來控制其上昇及電極刷極性的更 換情形。這面平板本身,基本上是接到陰極的。 經濟部中央標準局負工消费合作社印製 將會析出那些經由電解作用而自刷子上溶下來的金屬。 當電流源為電路板做金屬化、且和一個與電路板有通 接的電極刷連接在-起時,還可以再設置一個電流源,為 那極性相反、且自電路板上被舉起的電極刷做去金屬之用 。如此-來,就可以讓去金屬的電流獨立的加以調節,而 和金屬化的電流無關。與那些和電路板相接觸的 比,在那些極性相反的電極刷上,還可以特別將之調^目 ΐ紙張尺度適用中國國家標^-—— ---- 561202 A7 五、發明説明(U·) 個較高的電流密度。 雜播!!反地如果去金屬基底上有撐開一面薄膜,以防止 ^短路時,電_就不再需要自輸送平面上被 已。即使在此情況下,前述去金屬板會經過的電極刷, ^上仍以串列的形式來構成,且其極性也會交換,以便 除那二由待處理物(尤其是指電路板)所附著的金屬。 基本上,在這個裝置上的這面去金屬基戚,可以在一 個循環f的輸送帶上運送。在輸送帶的某些地方,基底係 Χ個㈤述的方式,為其電極繼去金屬。在輸送帶的其 他地方、,尤其在輸送帶第—部分出口點的回程處,其去金 屬化基底本身,將再度以化學或電化學的方法,去除沈殿 的金屬。其中,其將被浸泡到一個適當的去金屬溶槽中, 必要時再__電極,以電化學的方式來將之去金屬。 這種方法及裝置,係參照圖一至圖三來說明。 圖一 ·具有可更換刷條之裝置,以及其間所置的相對 電極; 圖一 ·具有’舌動式電極刷設備、以便於電極室做金屬 化及去除金屬之用的裝置; 媒濟部中失樣導^員工消费合作社印聚 圖二··具有活動式電極刷設備、以及金屬去除板的裝 置。 在圖中,其電路板1具有一個兩面的結構圖案2, 需要以電化學來加以處理過(指電鍍)。這些結構圖案是 可導電的。其可利用一種比如說蝕刻的方式來朵成,且= 此並不通電相連。如此一來,在電路板某些位置上的纟士構 匕紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210χ 297公釐) -17- 561202 A7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(l2·) 圖案,就不可能會有接觸產生,一如在電路板製作時,於 習知之方法中所常見的一般。在本案的裝置中,刷子4上 的金屬刷毛3就是用來和這些結構圖案2產生接觸用的。 這些刷毛3係輕輕放置在待處理的結構圖案2表面上。其 和導線6便是以此方式,共同形成一條表面經由刷子4 而到鍍槽電流源7的導電路線。鍍槽電流源7的另一極, 係和相對電極8相連接。這個電極係絕緣地置於刷子4之 間。其有作用之電極表面9,係置於接電的結構圖案2附 近。圖一所示的鍍槽電流源7之極化方向,是要讓這個裝 置產生一個比如說電路板的電化學去金屬作用。有時,則 疋其相對電極8要被去金屬,而這可經由周期性的電極交 換來完成,亦即把裝置上的電極卸下,然後將之安裝在其 他裝置上來去金屬。在-個電化學的還原反射,在處理 液中並,又有溶解出金屬時,刷子的交換動作就可以被取消 掉,因為在其上並不會有東西被鏡出來。 在圖二中,刷子1〇、n、12、13係以活動的方式安 裝。每個擺動器14上分別都載有兩個刷子。在這裡,基 本上以電流來加以調節的鍍槽電流源7,其為刷子1〇及 12所做的極化方向,就如同在電鍍時的方式。刷子1〇和 12便是經由切換開關15,而有一個陰極的電位。在電路 板上的結構圖案2 ’便是藉此而通電。被擺動器14所舉起 來的刷子11和13,係經由切換開關15而被極化成陽極, 而其作用便是-個陽極。若之前此乃用來被電鍍的話,那 麼此時就會被去金屬。為了要將金屬化程序、以及去金屬
請 先 閲 讀 背 之 注 項 再 填 寫丨 本 頁 訂
561202
五、發明説明(13·) 化程序,集中在電路板、以及刷子的刷毛上,所以在每兩 個刷子之間,便設置一個隔離板16,其作用是絕緣,以便 讓那些直接在不同極性之電極刷間流動的電流,徹底被隔 絕。 刷子11和13在去金屬程序結束之後,就會經由擺動 器丨4 ’被帶到電路板的表面上。在此同時,刷子1〇和12 也會從其表面上被舉起。刷子的極性變化,則如圖示一般 。在實際應用上,這些刷子最好是可以如圖二所示,以一 個很小的間距來擺設。這些刷子的昇降,也可以採用其他 機械方式芫成,並不限制是一個擺動器。刷子的極性切換 也可利用電子式的開關完成。在這種輸送式的設備上習 知之的輸送滾輪或滾筒17,僅標示在圖二。這一類的輸送 元件,也可應用在圖一和圖三的裝置中,以便使電路板能 /口著圖上箭頭標示的輸送方向,而被輸送通過這個裝置。 此外,其滾輪還可以有其他作用,防止那些輸送平面上方 的處理液,從這個裝置的輸入口及輸出口處溢出。 經濟部中央標準局’α貝工消費合作社印製 圖二所tf者,係本發明的另一種實施形式。在這個待 處理物的輸送方向上,交錯地放置了陽極2〇和刷子2ι。 其係以一個橫跨輸送方向的方向來伸展,且覆蓋在整個裝 備之上。此方向係以箭頭22來標示。因此,在電路板上 的所有結翻案,便會被輸送_其電細和相對電極。 電極刷21是活動式的。其可經由—魅沒铸出來的驅 動裝置,個別從待處理的電路板23 ±、或從—個金顺 的去金屬板24上絲起。麵些正在輸射的板子24上 本紙張尺度適用巾國CNS) A4規格( -‘19- 561202 A7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製
(請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T
561202 Λ7 ------- - Β7 五、發明説明(I5·) . 下來。這些刷子在其上之金屬完全被溶掉之前,實際上都 疋扣潢個可溶解性陽極的角色,因此需要有一個比不溶 性的陽極要小約0.8伏特的鍍槽電壓,做為金屬的溶解之 用·。結果將因為電位太低的關係,而造成不溶性的陽極2〇 揲法動作,而且也不會有電鍍電流產生。當金屬完全由刷 毛上被溶解下來之後,刷毛同樣地也會變成一個不溶性的 陽極。此時,陽極電流就會降到一個大約為零的值。這種 現象可以被用做刷子控制之指標。當我們所採用的是可溶 性的陽極2G ,而在這個區域内正好被去金屬完畢的話 ,則利用一個圖上沒有繪出的電路,將之和軌道3〇上的 正電位加以隔離,這便是一種合乎其目的的做法。 去金屬板24,以及滑鉤式接點29或夾子,可以在設 備做回程加料時,以化學或魏學的方絲加以去金屬。 這些板子也可以採用其他方式,來進行其金屬的回收工作 ο 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 在本發明的一個特殊設計中,於去金屬程序時,可以 不用把刷子21舉起。為了要避免鍍槽電流源28的短路情 元所以其去金屬板24的每一側,都是利用一種薄的、 不導電的_來加轉開。財,只有錢邊和板子接觸 的區域例外,這些_是舒所何及的。這面薄膜可以 是-個抗化學性的布片,合適這種條件的,比如說是一個 由聚丙埽製成的織品。連接到陽極_子,將經由這_層 薄膜加以去金屬。由於其陽極/陰極間的間距特別小,^ 以其去金屬程倾有-她高騎能,可讓―觸間
561202 A7 B7 五、發明説明(l6·)金屬化的路徑長度,扃7 μ 瓦又在與—個金屬化的路徑相得很短。以一個薄滕步撼 〈下,變 透薄膜、進入到輸送Κ也疋鉍由穿 迗咿另—個獨立部位的方式, 屬。基本上,其去全麗护^ 加以去金I屬裎序,也可利用電化學的方式加w 進行。 Λ要雙面的來處理電路板時,也可以把圖三的裝置以— 個對稱的方式來建造。 (請先閲讀背面之注意事項再: 1Γ 填頁. -訂
經濟部中央標準局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中關家榡準(CNS)八4祕(210><297公董)

Claims (1)

  1. 5612 胳 ά Ί Α8 Β8 C8 D8 口
    經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 第86108096號專利案申請專利範圍修正本 1· 一種在待處理物件上,將其彼此相隔離的導電區域以一 種處理液做電化學處理之方法, a) 待處理物是在輸送帶上,利用一種運輸裝置來運送 通過本裝置,且至少是間續地和處理液相接觸; b) 在待處理物件上,所有的導電性區域一只要這些區 域也有和處理液相接觸的話,至少能一個接著一個 地,和一固定的、由電流源備電的電極刷相接觸, 以使導電的區域能被加上一個電位; c) 此外,在輸送帶附近,也設有一個同樣是由此電流 源以相反極性饋電之相對電極,且其設計方式,係 讓導電區域和相對電極之間,能有電流在流動; 其特徵為, d) 在電極刷及相對電極之間,分別設有絕緣的隔離 物’以免相對電極和電極刷之間有直接的電流產生。 2·根據申請專利範圍第丨項所述之方法,其特徵為,處理 時附著在電極刷上的金屬,將會再度地被清除。 3·根據申請專利範圍第2項所述之方法,其特徵為,各個 電極刷將_送紅被舉起,且更換其極性,以便將附 著其上之金屬去除。 4·根ί申1青專利範圍第3項所述之方法,其特徵為,在輸 送V上,有一個去金屬基底將會被運送經過本裝置,而 且在前述的電極刷和輸送帶之間,將形成一個間距,而 本紙張尺度適用中國國緖一—— -一 -23- — IH1UI — . II 訂· —--— In (請先聞讀背面之注意事項再填窝本頁) 申睛專利範圍 在去金屬基底所運送通過的那一個電極刷上,其極性將 被更換。 5·根據申請專利範圍第2項所述之方法,其特徵為,在輸 送帶上,有一個被覆著一層薄膜的去金屬基底,將會運 送經過本裝置’而去金屬基底所運送通過的那一個電極 刷,將更換其極性,以便去除附著其上之金屬。 6·根據申請專利範圍第4項所述之方法,其特徵為,相對 於極性被更換過的電極刷而言,去金屬基底是被極化成 陰極的。 7·根據申睛專利耗圍第4項所述之方法,其特徵為,去金 屬基底係以一個循環式的輸送帶,來輸送通過本裝置, 其中,在輸送帶上的一部分,此基底是做為電極刷去金 屬之用,而在另一部分,則再將本身加以去金屬。 8·根據申請專利範圍第3項所述之方法,其特徵為,當電 極刷更換其極性時,將會被調到一個很高的電流密度。 9·根據申請專利範圍第2項所述之方法,其特徵為,電極 刷是利用一個從裝置上把電極刷卸下來的方式,然後再 以化學或電化學腐触電極刷上金屬的方法,將附著其上 之金屬清除。 10· —種在待處理物件上將其彼此相隔離的導電區域以一 種處理液做電化學處理之裝置, a)利用運輸裝置,來將輸送帶上的物件運送通過本 六、申請專利範圍 b)利用其他裝備來盛裝或導引其處理液,而其設計方 式,係讓這些物件至少能間續地和處理液相接觸; C)此外還有一些固定的電極刷,其設計方式,係在物 件於輸送帶上被輸送時,使其所有導電性區域一只 要這些區域也有和處理液相接觸的話,至少能一個 接著一個地與之相接觸; d) 在輸送帶的附近設有一個相對電極,以便使導電區 域和相對電極之間,能有電流在流動,以及 e) 利用-姆流源,以及―條在電賴和電極之間 的導電通路,供給電極電流; 其特徵為, ί)在電極刷(4、10、12、21)及相對電極(8、n、 13)尤間’分別設有絕緣的隔祕(5、16),以免 相對電極與電極刷之間有直接的電流產生; g)其相對係設置於那些位在待處理物同一側、 彼此相鄰的電極刷之間,以及 h)電極刷是以一個彼此平行的串列形式所構成,其在 :個由輸送帶卿成的輸辭社,與抛理物之 =2向’是呈-個大於零的角度,且平行於 帶的平面來裝設; 以及 I) 電極刷和姆電極,錢置在輸鱗的兩侧; II) -些裝置’其至少是用來把一些電極刷、以及 本紙張尺度適財而 297公釐) -25- 561202 A8 B8 C8 D8 或 或 或 六、申請專利範圍 一些把極性更換過的電極刷從輸送帶上舉起的 裝置,間續性地加以更換其極性; III) 設置-種裝置,其可在一個有去金屬基底_ 送通過的輸送平面上,讓前述的㈣自輸送平 面上被舉起,以及一種控制器,用來監控去金 屬基底通過此裝置的情形,以及控制那些將電 極刷舉起、更換其電極的裝置; IV) 設置至少兩個電流源,其中有—贿將待處理 物做金屬化之用’而另一個則是將電極刷加以 去金屬之用; V) 其電極刷的構造方式,係使之能輕易地加以更 換。 4^^--------訂--------- (請先«讀背面之注意事項再填窝本頁} 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 297公釐) -26- 規袼(21〇;
TW086108096A 1996-03-29 1997-06-12 Process and device for the electrochemical treatment of items to be treated TW561202B (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19612555A DE19612555C2 (de) 1996-03-29 1996-03-29 Verfahren zur selektiven elektrochemischen Behandlung von Leiterplatten und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
PCT/EP1997/001544 WO1997037062A1 (de) 1996-03-29 1997-03-26 Verfahren und vorrichtung zum elektrochemischen behandeln von behandlungsgut mit einer behandlungsflüssigkeit

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW561202B true TW561202B (en) 2003-11-11

Family

ID=7789861

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW086108096A TW561202B (en) 1996-03-29 1997-06-12 Process and device for the electrochemical treatment of items to be treated

Country Status (11)

Country Link
US (1) US6071400A (zh)
EP (1) EP0874920B1 (zh)
JP (1) JP3913782B2 (zh)
CN (1) CN1113983C (zh)
AT (1) ATE185856T1 (zh)
CA (1) CA2250020A1 (zh)
DE (2) DE19612555C2 (zh)
ES (1) ES2138450T3 (zh)
HK (1) HK1015422A1 (zh)
TW (1) TW561202B (zh)
WO (1) WO1997037062A1 (zh)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19749832A1 (de) * 1997-07-01 1999-01-07 Thomson Brandt Gmbh Verfahren zum Entfernen und/oder Aufbringen von leitendem Material
EP0889680A3 (en) 1997-07-01 2000-07-05 Deutsche Thomson-Brandt Gmbh Method of removing and/or applying conductive material
DE19736352C1 (de) 1997-08-21 1998-12-10 Atotech Deutschland Gmbh Vorrichtung zur Kontaktierung von flachem Behandlungsgut in Durchlaufgalvanisieranlagen
DE19837973C1 (de) * 1998-08-21 2000-01-20 Atotech Deutschland Gmbh Vorrichtung zum partiellen elektrochemischen Behandeln von stabförmigem Behandlungsgut
DE19840471A1 (de) * 1998-09-04 2000-03-09 Schmid Gmbh & Co Geb Einrichtung zum Abtrag einer Beschichtung von Gegenständen
DE19951325C2 (de) * 1999-10-20 2003-06-26 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum elektrolytischen Behandeln von elektrisch gegeneinander isolierten, elektrisch leitfähigen Strukturen auf Oberflächen von elektrisch isolierendem Folienmaterial sowie Anwendungen des Verfahrens
DE19951324C2 (de) * 1999-10-20 2003-07-17 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum elektrolytischen Behandeln von elektrisch leitfähigen Oberflächen von gegeneinander vereinzelten Platten- und Folienmaterialstücken sowie Anwendung des Verfahrens
DE10007435A1 (de) * 2000-02-18 2001-08-23 Enthone Omi Deutschland Gmbh Verfahren zum Galvanisieren eines mit einem elektrisch leitenden Polymer beschichteten Werkstücks
DE10043816C1 (de) * 2000-09-06 2002-05-16 Egon Huebel Vorrichtung zur elektrochemischen Behandlung von Gut
DE10043817C2 (de) * 2000-09-06 2002-07-18 Egon Huebel Anordnung und Verfahren für elektrochemisch zu behandelndes Gut
DE10234705B4 (de) * 2001-10-25 2008-01-17 Infineon Technologies Ag Galvanisiereinrichtung und Galvanisiersystem zum Beschichten von bereits leitfähig ausgebildeten Strukturen
DE10153171B4 (de) * 2001-10-27 2004-09-16 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum elektrolytischen Behandeln von Teilen in Durchlaufanlagen
US6857880B2 (en) * 2001-11-09 2005-02-22 Tomonari Ohtsuki Electrical connector
DE10207941A1 (de) * 2002-02-17 2003-09-04 Egon Huebel Verfahren und Vorrichtung zur elektrischen Kontaktierung von flachem Gut in elektrolytischen Anlagen
WO2003083175A2 (en) * 2002-03-29 2003-10-09 Astropower, Inc. Method and apparatus for electrochemical processing
US8199453B2 (en) * 2003-03-17 2012-06-12 Illinois Tool Works Inc. Shaft current control brush ring assembly
DE10342512B3 (de) * 2003-09-12 2004-10-28 Atotech Deutschland Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum elektrolytischen Behandeln von elektrisch gegeneinander isolierten, elektrisch leitfähigen Strukturen auf Oberflächen von bandförmigem Behandlungsgut
DE102005038449B4 (de) * 2005-08-03 2010-03-25 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Einrichtung zur Behandlung von Substraten, insbesondere zur Galvanisierung von Leiterplatten, und Verfahren
JP4878866B2 (ja) * 2006-02-22 2012-02-15 イビデン株式会社 めっき装置及びめっき方法
US20070278093A1 (en) * 2006-06-02 2007-12-06 Barnard Michael P Electrical conductive contact ring for electroplating or electrodeposition
CN102234831A (zh) * 2010-04-26 2011-11-09 鸿吉机械有限公司 电镀设备、电镀设备的保养方法与电镀方法
US10184189B2 (en) 2016-07-18 2019-01-22 ECSI Fibrotools, Inc. Apparatus and method of contact electroplating of isolated structures
WO2018103793A1 (de) * 2016-12-09 2018-06-14 RENA Technologies GmbH Durchlaufabscheideanlage und baugruppe für eine solche
US11713514B2 (en) * 2019-08-08 2023-08-01 Hutchinson Technology Incorporated Systems for electroplating and methods of use thereof
CN110725001B (zh) * 2019-10-30 2023-11-17 昆山金易得环保科技有限公司 用于退锡设备的导电刷及包含其的退锡设备

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4093520A (en) * 1976-02-17 1978-06-06 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Process for gold plating
US4359366A (en) * 1981-07-27 1982-11-16 Micro-Plate, Inc. Plating cell with continuous cathode contact and method
JPS62136813A (ja) * 1985-12-11 1987-06-19 Hitachi Ltd 処理装置
JPS63297588A (ja) * 1987-05-29 1988-12-05 Sagami Shokai:Kk 孤立した導電体の電解メッキ法
US5114558A (en) * 1989-02-15 1992-05-19 Kadija Igor V Method and apparatus for manufacturing interconnects with fine lines and spacing
DE3939681A1 (de) * 1989-12-01 1991-06-06 Schering Ag Verfahren zur steuerung des ablaufes von galvanischen anlagen, sowie zur durchfuehrung des verfahrens dienender anordnung
DE4033137C1 (zh) * 1990-10-18 1991-11-14 Wendt Gmbh, 4005 Meerbusch, De
DE4123985C2 (de) * 1991-07-19 1994-01-27 Hoellmueller Maschbau H Vorrichtung zur elektrolytischen Behandlung von Leiterplatten, insbesondere zur elektrolytischen Beschichtung mit Kupfer
DE4337988A1 (de) * 1993-11-06 1995-05-11 Hoellmueller Maschbau H Verfahren zur Herstellung von Multilayern sowie Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens

Also Published As

Publication number Publication date
EP0874920B1 (de) 1999-10-20
JP2000507646A (ja) 2000-06-20
DE59700583D1 (de) 1999-11-25
CN1113983C (zh) 2003-07-09
WO1997037062A1 (de) 1997-10-09
ATE185856T1 (de) 1999-11-15
CN1215439A (zh) 1999-04-28
JP3913782B2 (ja) 2007-05-09
US6071400A (en) 2000-06-06
ES2138450T3 (es) 2000-01-01
DE19612555A1 (de) 1997-10-09
CA2250020A1 (en) 1997-10-09
DE19612555C2 (de) 1998-03-19
HK1015422A1 (en) 1999-10-15
EP0874920A1 (de) 1998-11-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW561202B (en) Process and device for the electrochemical treatment of items to be treated
EP0458863B1 (en) Method and apparatus for manufacturing interconnects with fine lines and spacing
CN1824842B (zh) 用于在通过式设备中电化学处理构件的方法和装置
JPH04503532A (ja) 基板上に微細な回路パターンを形成する装置
KR20060058116A (ko) 전기 절연 구조체를 전해 처리하는 장치 및 방법
JP6118893B2 (ja) 被加工材上に析出金属を電解析出させる方法及び装置
JP3450333B2 (ja) 連続的にむらなく電解金属化乃至エッチングするための方法及び装置
JP2007016316A (ja) フォイルを一巻き一巻き電解処理する装置及び方法
KR100723845B1 (ko) 전기 절연 포일 재료의 표면상에 상호 절연된 도전성 구조체들을 전해 처리하는 방법 및 장치
TW562879B (en) Method and device for electrolytic treatment of electrically conductive surfaces of mutually isolated sheet and foil material pieces
TW574437B (en) Electrodeposition device and electrodeposition system for coating structures which have already been made conductive
US4551210A (en) Dendritic treatment of metallic surfaces for improving adhesive bonding
US5114558A (en) Method and apparatus for manufacturing interconnects with fine lines and spacing
JP4029936B2 (ja) 半導体装置の製造方法
KR20090010980A (ko) 도전성 금속 산화물 박막의 제거 방법 및 장치
CN213447327U (zh) 一种单层陶瓷电容基板的外电极单面沉积结构
TW391992B (en) A method and apparatus for sequentially metalizing polymeric films and products made thereby
TW200304506A (en) Method and device for electric contacting of flat products in electrolytic machines
JPH05230688A (ja) 電気メッキ法
JPH11193500A (ja) 金属薄板の電解処理方法

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MK4A Expiration of patent term of an invention patent