TW509593B - Method and device for preventing solid products from adhering to the inside of exhaust pipe and exhaust gas treating apparatus having such device - Google Patents
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Description
509593 A7 五、發明說明(1 ) [技術領域] 本發明是關於防止排氣配管内附著固體生成物的防止 配管内固體生成物附著之方法與裝置,尤其是 用以防止將半導趙製造裝置所排出的排氣導引至排氣處理 裝置而於配管内附著固體生成物之防止配管内附著固艘生 成物的方法與裝置。 [背景技術】 第17圖表示半導體製造裝置的一般性排氣系統概 要。在半導體製造裝置⑽丨’雖在真空室1G2内使用各 種處理氣體以進行半導體基板處理,而處理氣體藉由真空 栗104從真空室102#氣,送至連接於該果下游側(出口側) 的排氣處理裝i 1〇6, ^氣體經無害化處理後送至工廠 之廢氣導管108。因為排氣中含有在常溫下蒸氣愿較低之 成分,故當真空泵1〇4的下游側壓力上昇時,形成固體化 而附著堆積在配管内。例如# ··在銘配線钱刻過程中排出 的氣化錯(aici3)、氮化梦(SiN)製膜過程或氮化欽(TiN)製 膜過程所產生的氯化銨,及氧化矽(^〇2)製膜上使 用的矽酸四乙酯(TEOS)等。 又,排规中也會含有與水相反應而產生固體生成物的 成刀。例如,用於A1配線的.蝕刻的Bc“,以C1系氣體蝕 刻夕曰曰矽時所排出的S1CI4等,但如果排氣處理裝置是用 水而進行除去有害戒分的濕式者時,由於該排氣處理裝置 之入口附近的配管部分内的濕度會昇高,該部分就會產生 上述固體生成物的附著堆積。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇χ297公釐) !--312894 (請先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁) 丨丨訂· 線: 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 509593 A7 B7 五、發明說明(2 對於該種固體生成物的附著堆積’一般係在流出排氣 的配管外部捲繞熱線’而將該配管加熱以防止該些成分附 著堆積。 然而,因該配管設置有各種活門或分岐管,以及連接 排氣處理裝置的上游側(入口側)及下游側(出口側)的旁通 管等,常使配管構成變得複雜,此時難以適當地纏繞熱線 於配管,因此無法適度對該配管整體加熱,或是例如,在 難以加熱的活門處會附著堆積固體生成物,此外因配管構 成複雜致使在產生排氣沉澱物等處,亦有容易附著固體生 成物等問題。此外,當用以對排氣做無害化處理的排氣處 理裝置若為藉由讓水與排氣相接觸而進行處理的濕式者 時,由於該排氣處理裝置的入口附近的配管部分,會有因 濕度昇高而無法充分加熱該部分之情形,特別在排氣含有 與水相而產纟固體生成物的$分的情形下,也會發生 因該高濕度而產生固體生成物容易附著堆積於該部分的問 題。 本發明係有鑑於上述各點而創作發明,其目的在提供 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 f請先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁) --線: -種方法及裝置,以防止排氣配管内面附著堆積固體成 分。 [發明概要] 本發明提供-種排氣管内附著固體生成物除去裝置, 係用以除去附著於排氣管内面的固體生成物的裝置其特 徵為具備有··具有位於排氣管内的前端開口,自該前端開 口將洗淨水供給至職㈣面之料水導入管。此處所韻 ^氏張尺度適用中aiii^7CNS)A4規格⑽χ 297公髮)- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 509593 A7 B7 ______ 五、發明說明(3 ) 洗淨水導入管,並非單為導入洗淨水的單一管,亦包含有: 接收藉由用以導入洗淨水的管所供給的洗淨水而為了流通 至排氣管内,以貫通該棑氣管之管壁而設置的孔等,用以 將洗淨水自排氣管外部流通至内部的裝置。 該固體生成物除去裝置,係對於排氣中含有與排氣管 内的水分產生反應後產生固形物之成分時特別有用,能以 洗淨水洗掉生成且附著於管内面的固體生成物。 洗淨水導入管設於前述排氣管之周圍,具備有接受洗 淨水之環狀洗淨水套管,將洗淨水導入管的前端開口與該 洗淨水套管相連通,可形成貫通該排氣管的管壁而延伸到 該排氣管的内面(於排氣管的周方向隔著預定間隔而設定 的)之複數個孔。 最好是設置用以加熱該排氣管的加熱裝置,使導入洗 淨水後殘留於棑氣管内面的洗淨水經由加熱而蒸發。這是 為了防止因殘留的洗淨水產生新的固體生成物。 也可裝設複數洗淨水導入管,將各洗淨水導入管的前 述前端開口,隔著預定間隔朝向排氣管的排氣流向設置。 藉此,自預定位置的前端開口導入的洗淨水洗淨與排氣管 内的水分反應而生成附著的固體生成物時,可藉由自另一 位置的前端開口所導入的洗淨水,將與該洗淨水反應而新 生成附著的固體生成物洗掉。不過藉由單一的前端開口也 會有相同的洗淨作用,但此時係藉由調整來自該前端開口 的洗淨水排出壓力’並變換洗淨水的擴散領域來加以進 行。由此觀點得知,本發明也提供進行該種洗淨作用的方 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) · •線」 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公f ) 3 312894 A7 -------------— β7 _______ 五、發明說明(4 ) 法。亦即’該種方法之特徵係具有··將一次洗淨水供給至 包含於排氣中的成分與排氣管内部的濕氣產生反應而生成 並附著於該排氣管内面的一次固體生成物,以洗去該固體 生成物的步驟,以及二次洗淨水供給至與一次洗淨水產生 反應而新生成並附著於排氣管内面的二次固體生成物, 以洗去該固體生成物的步驟。 本發明提供一種排氣管内附著固體生成物除去裝置, 還具f用以將高溫氣體導入排氣管内,並加熱該排氣管内 面的馬溫氣體導入裝置。本發明之裝置為藉由將排氣管内 面予以加熱’以防止gj體生成物的附著者。高溫氣體導入 裝置係具有在將高溫氣體排出於排氣管内部之必要位置, 例如可朝没有難以加熱的閥的位置排出氣體的排出開口。 再者,本發明係提供一種排氣管内附著固體生成物除 去裝置,其特徵為具備:設於排氣管可於該排氣管内 以其長度方向滑動,用以刮落附著於該排氣管内面的固體 生成物的刮除構件^ 再者,本發明提供一種用於半導體製造之排氣處理系 統其係具備有.具備處理半導體的真空室的半導體製造 裝置’用以自真空室排出在該真空室内使用之氣體的真空 將藉由該真空泵排出的氣體做無害化處理的濕式排氣 理裝置,用以連接半導體製造裝置與真空泵的第!管,· $以連接真空泵和排氣處理裝置的第2管,而連接於排氣 其理^置的部分朝上下方向延伸的第2管;設於朝該第2 s的刖述上下方向延伸的連接部分,用以去除排氣與來自 ϋ 張^x 297 公髮] 312894 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制取 / 4 509593 A7 B7___ 五、發明說明(5 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 濕式排氣處理裝置的濕氣產生反應而生成並附著於讓連接 部分之内面的固體生成物的固體生成物除去裝置,其中, 該固體生成物除去裝置則具有與上述排氣管内附著固體生 成物除去裝置相同構造。 [圖面之簡單說明] 第1圖表示實施有關本發明之防止配管内附著固體生 成物之方法的排氣處理裝置構成例之圖。 第2圖是表示實施有關本發明之防止配管内附著固體 生成物之方法的排氣處理裝置之另一構成例之圖。 第3圖表示有關本發明之防止配管内附著爵體生成物 之裝置之構成例之圖。 第4圖表示有關本發明之防止配管内附著固體生成物 之裝置之構成例之圖。 第5(a)圖為於棑氣管外侧纏繞熱線之先前裝置概念 圖。 第5 (b)圖為有關本發明將高溫惰性氣體流入排氣管内 的裝置概念圖。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第6圖為有關本發明之具備配管内固體生成物除去裝 置的濕式排氣處理裝置的構成例之表示圖。 第7圖表示裝設於第6圖之濕式排氣處理裝置之有關 本發明之固體生成物除去裝置之構成例之圖。 第8圖表示有關本發明之類似第7圖裝置之固體生成 物除去裝置的構成例之圖。 第9圖表示有關本發明之固體生成物除去裝置之另一 (cns)a4^ (210 χ 297 r-- 509593 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(6 ) 不同的構成例之圖。 第10圖表示有關本發明之固體生成物除去裝置之另 一不同的構成例之圖。 第11圖表示具備有關本發明之配管内固體生成物除 去裝置之濕式排氣處理裝置之另一構成例之圖。 第12(a)圖表示有關本發明之配管内固體生成物除去 裝置之1構成例之圖。 第12(b)圖類似於第12(a)圖,為表示裝設1個洗淨水 導入管時的固體生成物除去裝置之圖示。 第12(c)圖表示不設固體生成物除去裝置時的固體生 成物發生狀態之圖。 第13圖表示有關本發明之固體生成物除去裝置中的 洗淨水導入管的前端開口配置例之圖。 第14圖表示依第i2(a)圖所示之利用固體生成物除去 裝置進行洗淨作業之1例之圖示。 第15圖表示具備有關本發明之配管内固體生成物除 去裝置的濕式排氣處理裝置之另一構成例之圖。 第16圖表示第15圖之固體生成物除去裝置之構成例 之圖。 第17圖表示半導體製造裝置的排氣處理系統圖。 [元件符號說明] 排氣處理裝置 2 主配管 流入口 2, 管部分 一__ ϋ # 4 高溫惰性氣體源 本氏張國國家標準(CNS)A4規格⑵〇 χ 297公爱) 6 3Ϊ2894" 2a 3 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) r裝 上^_ - •線: A7 A7 、發明說明( 惰性氣體導入管
12 14 16 20 v 31〜 34 40 44 102 108 EG I W 五 5 7 旁通管 9、10 閥 分歧管 檢測器 熱線(排出配管) 2〇’、46洗淨水導入管 33噴嘴 塗層 刮除構件 真空室 排氣導管 排氣 氣液界面 放熱熱能 6、 15溫度感測器 8 旁通閥 11 高溫惰性氣體導入管 13 壓力計 15 導入部 18 洗淨水源 21 前端開口 32 洗淨水套管 35 導入部 置42 驅動裝置 100 半導體製造裝置 104 真空泵 D、 D1、D2固體生成物 G 高溫惰性氣體 Q1、 k Q2加熱熱能 (請先閱讀背面之注咅?事項再填寫本頁) 訂_ · 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 :297公釐) 312894 [發明之最佳實施例] 以下依據圖面就本發明之實施例進行說明。 第1圖是㈣本發明之實施防止配管内附著固體生4 物之方法的排氣處理裝置構成例之圖。第ι圖中,ι係從 3有口體生成物生成成分及有害成分的排氣進行除去有害 成分的排氣處理裝置。排氣處理裝置丨具備排氣£(}流通 的主配管2,流入主配管2之流入口 2a的排氣EG通過主 配管2而導入反應部3 ’而於此進行除去含有固體生成物 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 : 509593 A7 -------______ 五、發明說明(8 )
的有害成分Q (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 上述反應部3可以是:填充有害成分吸著用藥劑的乾 式、將水與排氣接觸以除去有害成分的濕式、燃燒式、觸 媒反應式或以上之組合物。於主配管2内部,由高溫惰性 氣體源4通過惰性導入管5流入高溫惰性氣體,藉由該氣 體加熱主配管2的内壁,使該内壁不致附著固體生成物。 在圖不的構成例中,主配管2中設有熱電對等的溫度感測 器6將由該感測器測得的溫度測定值,反饋至高溫惰性 氣體源4,並將主配管2的内部溫度控制在不致附著固體 生成物的預定溫度。但是,也可不藉由該種反饋控制,而 配合排氣處理裝置j的使用條件,預先將高溫惰性氣體源 4設定於所需的固定溫度。 -線- 第2圖疋表示有關本發明之排氣處理裝置的另一實施 圖例。在第2圖中,標示和第j圖相同符號的部分表示相 同戈相分。又在其他圖面也是如此。7是具有旁通閥& 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 的旁通管,該旁通管7連接於反應部3的流入口(上游)側 的主配管2和反應部3的流出口(下游)侧的主配管2之間。 旁通管7具有··排氣eg中的成分,在主配管2或反應部3 因閉塞而產生壓力上昇等問題時,可藉由打開旁通閥8, 而讓排氣EG通過該旁通管7流出的功能。在第2圖的構 成例中’於反應部3的流入口側及流出口側的主配管2中, 各設有閥9,1〇,在發生上述問題時,可藉由將該些閥關 蘭’執行維護反應部3。 第2圖的構成例顯示,將高溫的惰性氣體,通過分岐 本紙張尺度適用中國國(CNS)A4 規格(21G X 297 公f )' — 8" 312894---— 五、發明說明(9 的惰性氣體導入營S1 , n 5 5,以流入旁通管7及主配管2。當 旁通閥8關閉時,藉由導入旁通管7内的惰性氣體流出至 上游侧主配管2,W ΙΧβ I k U阻止排氣流入同一旁通管’而防止固 體物附著於旁通管^ 第3圖表示將鬲溫惰性氣導入旁通管7的另一形態。 亦即,在該形態中’將高溫惰性氣體G,自該高溫惰性氣 體導入g 11朝旁通_8喷吹,藉此,在加熱旁通管7的内 壁的同時可充分加熱旁通閥8,以防止固體生成物附著於 旁通閥8。 第4圖表不,在主配管2中設置分岐管12,並在其前 端设定壓力計13的情形。亦即,該鐵力計13,可藉由測 疋主配管2内的壓力,檢測由主配管内的固體生成物所導 致之管内之閉塞狀況。如圖所示,於分岐管12内配置有連 接於高溫惰性氣體源4的高溫惰性氣體導入管u,以使高 溫惰性氣體朝壓力計13喷吹,藉此,可清除浸入分岐管 12内的排氣,同時加熱壓力計13,以防止固體生成物的附 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 如第5(a)圖所示,以往的方法係在例如sus製的主配 管2的外侧纏繞熱線16,而利用該熱線16自外側加熱主 配管2(加熱熱能Q2),因加熱熱能Q1過大致使加熱效率 不好。相對於此,本發明係對例如sus製主配管2内部流 入冋溫惰性氣體G,而由主配管之内壁進行加熱(第5(匕) 圖),因此與以往相較之下,放熱熱能W較少,而能有效 率地加熱管内面。 312894 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --線: 本紙張適用中國國家標準(CNS)A4規格(21G X 297公f 509593 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(1()) 第6圖表示具備有關本發明之另一實施例之固體生成 物除去裝置的濕式排氣處理裝置的構成圖。如圖所示,濕 式排氣處理裝置1和前述相同,具有流通排氣的主配管2、 反應部3和流通已無害化的排氣之排出配管(主配管下游 部分)16。 反應部3可以是:將形成霧、煙霧狀等之水與排氣接 觸的液體分散式、讓排氣分散通過貯存水的氣體分散式、 或以上之組合物。主配管2内,和前述實施例相同,可藉 由高溫惰性氣體源4通過惰性氣體導入管5而導入高溫惰 性氣體,另一方面,也可自洗淨水源1 8通過洗淨水導入管 2 0而導入洗淨水。 在上述構成的濕式棑氣處理裝置1中,在反應部3之 前主配管2内的濕度昇高,而所處理的排氣與水產生反應 而含有生成固體物之成分時,主配管之反應部3的當前部 分容易生成固體物而附著堆積,而在本實施例中,係藉由 通過洗淨水導入管20而對該部分流通洗淨水,使之能有效 除去該固體生成物。洗淨水可以是水或藥液。又,藉由高 溫惰性氣體源4,通過惰性氣體導入管5而導入高溫惰性 氣體於主配管2内,藉此與第1乃至第5圖所說明的實施 例同樣地,可防止固體物的附著堆積,並在流過洗淨水後 加溫浸濕的主配管2的内壁,使附著於壁面的洗淨水蒸發 並迅速乾燥,藉此防止於導入洗淨水後因殘留於内壁面上 的洗淨水所生成的新固體生成物附著。 第6圖所示之濕式排氣處理裝置中,在主配管2内設 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) · -線- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210x 297公釐) 10 312894 509593 五、發明說明(11 ) 請 先 閱 讀 背 面 之 注 意 事 項 再 填 寫 本 頁 有用以檢測附著於該主配管2之内壁面的固體生成物之附 著狀況的檢測器14,根據該檢測器14的檢測,控制来自 洗淨水源18的洗淨水供給量。檢測器14可做為檢測出主 配管2内壓力之壓力檢測器,或檢測出附著於主配管2内 壁面的固體生成物的附著㈣之光感知器。檢測器14的裝 设位置’只要是可監測到主配管2内固體生成物的附著狀 態的位置均可。 又於第6圖濕式排氣處理裝置中,在自主配管2的惰 氣體導入管5下游的任意位置設有熱電對等的溫度感測 器15,依據該溫度感測器15的輸出,控制由高溫惰性氣 體源4導入主配管2内的高溫惰性氣體的流量,以將主配 管2的内部溫度控制在可促進主配管2内壁乾燥的預定溫 度。不過這種溫度感知器並非絕對必要的,亦可視該濕式 排氣處理裝置1的使用狀況或洗淨水導入狀況,控制因高 溫惰性氣體源4的加熱。此外,做為用以乾燥主配管内壁 面的加熱裝置並不限定於上述之例,譬如亦可利用將熱線 纏繞於主配管外面等各種方式。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第7圖為從第6圖之洗淨水導入管2〇將洗淨水供給至 主配管2内的具體構成例。亦即,該洗淨水導入管2〇係在 其前端設有具有複數洗淨水喷射孔的嘴射嘴3丨,可自洗淨 水源18將洗淨水朝主配管2的内壁面以淋浴狀喷吹的洗淨 水。在使用洗淨水以防止固體物附著的裝置上,最好是流 通於真空泵至排氣處理裝置的反應器的主配管内的排氣, 與供給至該主配管内的洗淨水的流向為同一方向,第7圖 本紙張尺度適用中國國篆標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 11 312894 A7 "-*---___ 五、發明說明(12 ) — 一'~"一- ::之實施例中’與主配管2的反應器3的連接部分朝上 :向延長,喷嘴31在該連接部分中朝下方供給洗淨水, =此使該洗淨水和該連接部分内的排氣流向一樣朝下方流 第8圖表示將洗淨水供給至主配管内的另-構成例。 在該例中,洗淨水導入管2〇的前端連接在設於主配管2 外圍的洗淨水套管32,而供給至該洗淨水套管η的洗淨 &係通過貫牙主酉^管2管壁内的多數洗淨水喷射孔(不圖 示)供給至主配管内壁。 第9圖表不用以對主配管2内供給洗淨水的另一構成 例在該例中,主配管2外圍設有洗淨水套管%,主配管 2内則配置與該洗淨水套管32連通的複數喷嘴33。由洗淨 水源18通過洗淨水導入管2〇而供給至洗淨水套管u的洗 爭水自該喷嘴33供給至主配管2内,並沿著該主配管的 内壁面流下。 第10圖表不具備有關本發明之固體生成物除去裝置 的濕式排氣處理裝置的洗淨水導入部的另一構成例。於主 配管2的内面鋪設有樹脂製塗層34。藉此可使固體生成物 難以附著在主配管2的内壁,且在洗淨水流過後,該洗淨 水亦難以殘留於主配管2内壁上。又,往主配管2之反應 部3的導入部35相對於反應部3呈傾斜連接,藉此可使用 洗淨水沖刷的固體生成物不易堆積於導入部35。如上述之 構成’適用於反應部3為樹脂製時,且適用於無法將該配 管高溫加熱的狀況等。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂·· --線_ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇 x 297公釐) 12 312894 509593 A7 B7 _ 五、發明說明(D ) 第11圖表示具備有關本發明之固體生成物除去裝置 的濕式排氣處理裝置的另一構成例。在該構成例中,洗淨 水導入管20和惰性氣導入管5係在導入主配管2前進行連 接。藉此,洗淨水藉由惰性氣體成為高溫洗淨水而導入主 配管2内。如此將洗淨水加溫,使之成為高溫洗淨水,藉 此,可將附著於主配管2内壁的固體生成物迅速溶解除 去。 第12(a)圖表示用以將第7圖至第9圖所示之洗淨水供 給至主崾管2内的裝置的其他實施例。 亦即,在該實施例中,於抵達濕式排氣處理裝置之反 應器3的主配管2的軸向上隔著預定間隔的位置上連接有 第1及第2洗淨水導入管20, 20。將第7圖至第9圖所示 之洗淨水供給至主配管2内的裝置,如前所述,係用以洗 去附著在接近反應器3的主配管内所產生的氣液界面工附 近的固體生成物D(第12(c)圖),基本上,如第12(b)圖所 示,在附著的固體生成物D的上端附近設定洗淨水的供給 孔,如此一來,雖可洗去固體生成物D,但藉由該洗淨水 之供給會產生在較該供給位置(主配管2的)上游側(上方位 置)附著新固體生成物D1 (第12(1))圖)。該固體生成物D1, 雖可設成較利甩洗淨水洗去的固體生成物D為小,但最好 亦能將該新固體生成物〇1除去。第12(a)圖所示之實施 例,即用以將此新固體生成物Di除去之構成。 在該實施例的洗淨作業中,由接近反應器3的第1洗 淨水導入管20的洗淨水,以預定的時間間隔(區間 ί請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} J^T. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇 X 297公t ) 13 312894 509593 A7 五、發明說明(l4 ) 請 先 閱 讀 背 之 注 意 事 項 再 填 寫 頁 (interval))供給,以洗去堆積於接近氣液界面1的主配管内 面的固體生成物D。相對於此,較第i洗淨水導入管2〇 遠離反應器3’位於上方位置的第2洗淨水導入管2〇,,則 以較第1洗淨水導入管20更長的時間間隔(區間(interval) 進行洗淨水的供給(亦即,相對於由第〗洗淨水導入管2〇 的一定次數的洗淨水供給,由該第2洗淨水導入管2〇,的 洗淨水供給係以1次比例供給),而洗淨作業的合計洗淨水 供給時間也比由第1洗淨水導入管2〇的合計洗淨水供給時 間更少。 藉由第2洗淨水導入管20,的洗淨水供給,雖然同樣 會在較該洗淨水導入位置上游侧的主配管内面形成附著堆 積別的固體生成物D2,但其所產生的固體生成物D2的堆 積遠較由第1洗淨水導入管20所產生的固體生成物〇1為 少,因此可進行固體生成物D的除去。如此,若將相同的 洗淨水導入管隔著間隔增設在主配管上下方向,則相當於 没置2個洗淨水導入管的上述情況之固體生成物D2的最 終剩餘阖體生成物數量,將可以等比級數減少。具體而言, 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 由各洗淨水導入管的洗淨水導入量及頻率等,係依照堆積 於主配管内面的固體生成物的量來決定較為妥當,為此其 執行方法上有:於主配管内的必要位置上設置用以檢測固 體生成物堆積量的感知器,依照該檢測結果而決定的方 法’或依照反應器的運轉狀況等,預先以固定條件實施的 方法等。固定生成物對水的溶解度具有溫度依存性,大部 分情形多隨溫度昇高而溶解度上昇。舉例而言,有做為 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐 14 312894 509593 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(l5 ) BC13和水的反應性生成物的ΗΒ03,及做為SiC4和水的反 應性生成物Si02。因此,對於這種固體生成物最好能提高 洗淨水溫度,但提高洗淨水的溫度後,則可能導致洗淨水 供給部分附近的固體生成物增多。此乃溫度上昇而導致固 體生成氣體成分和水的反應速度上昇的關係。因此,為減 少該種固體生成物的生成,最好一邊提高洗淨水整體的溫 度’一邊將該洗淨水之主配管内面上之上緣附近的溫度儘 量降低。考慮此點’在第14圖所示實施例中,即藉由來自 第1洗淨水導入管20係供給溫度高的洗淨水H,而來自第 2洗淨水導入管20’則供給溫度低的洗淨水c,以進行如上 述之溫度分布的洗淨水供給。 如第⑷圖所示,將洗淨水導入管裝設於濕式 理裝置的反應器3入口附近的主配管,以進行BC13含有 氣體的處理,ϋ以下列條件實施附著I主配管内面3的固體 生成物的洗淨實驗(實驗i、實驗2、實驗3)。(氣體條件) 氣體流量 lOslm BC13 濃度 10% (洗淨水供給條件) 供給間隔 實驗1 實驗2 實驗3 (1週期6分鐘) 表紙張尺度義中國國家標準(CNS)A4規^^ ) 不供給洗淨水 10秒供給/5分50 (1週期6分鐘) 10秒供給/5分50秒 … 心V止供給 秒停止供 給 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) · -丨線: A7 ^---2Z_____ 、、發明說明(16 ) 供給形態 實驗2 :僅使用洗淨水導入管2〇 實驗3 : 1週期中 由洗淨水導入管20供給9次後 由洗淨水導入管20,供給1次 供給量 實驗2:2.4公升/分 實驗3 : 2·4公升/分<合計量) 實驗時間 120分鐘 實驗完畢後將存在於主配管至反應器部分的粉體溶解 於水中’測定水中Β濃度以求出η3Β03的附著重量。結果 如下表所示。 主配管内面 反應器氣體導入部 實驗1 o.oig 5.1g 大致閉塞 實驗2 〇.93g 0.02g 大量附著於2個洗淨水導入 管之間: 約閉塞配管的1半 實驗3 0.03g o.oig 少量附著於上面的洗淨水導 入管的上方位置: 大致與實驗前呈相同狀態 於上述實施例中,雖然設置2個以上的洗淨水導入管 2 0,2 0 ’,並設在主配管上游側的洗淨水導入管進行去除其 下游侧的洗淨水導入管因導入洗淨水而產生的固體生成 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂. ;線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 16 312894 509593 A7 五、發明說明(17 裝看^-丨 (請先閱讀背面之注意事項寫本頁) 物,但這些洗淨水導入管的位置關係並非限定如此,主要 是為了除去因先前供給的洗淨水而附著堆積的固體生成 物’因此之後供給的洗淨水在主配管的内面上的上端,以 能達到較先前形成的固體生成物的上端為上的位置為宜, 例如第12圖所示實施例,亦可將上述第2洗淨水導入管 2〇’ ’設在第1洗淨水導入管下方位置。此外,若能在滿足 上述條件下進行洗淨水供給,便無須隔著間隔將洗淨水導 入管複數段設在主配管之上下方向。亦即,藉由設置單一 段的洗淨水導入管(亦即,在主配管之單一高度位置上設置 洗淨水導入管),而改變洗淨水供給壓力,可進行與上述實 施例同樣的固體生成物洗淨作用。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 通過洗淨水導入管而將洗淨水供給至主配管内時,由 於洗淨水碰到主配管内面而會飛散等,因此最好讓由該洗 淨水浸濕的主配管内面的位置不要擴大到所要位置上方。 因此洗淨水導入管20的前端開口 21,最好如第13圖所示 對主配管2的内面形成切線方向。又,前端開口 21不為朝 上’而設成水平或朝下是由防止洗淨水飛散,所供給之洗 淨水在主配管内面上的敢面南度的控制(上緣位置的控制) 等觀點來看,此乃最適當形式。自該前端開口 21排出至主 配管内面的洗淨水,係從主配管内面上,藉離心力以該内 面之中心軸線為中心迴旋而流向下方。該洗淨水到達主配 管内面上的最高高度係由其流速而決定。因此,如前述— 般,將洗淨水導入管設定為如上述之單一段時,可藉由抑 制洗淨水的流速,可獲得如前述設置複數段之洗淨水導入 本紙張尺度ί用中國國家標準(CNS)A4 g (21G X 297公爱)— π ~312894- 509593 A7 B7 五、發明說明(18 ) 管而進行洗淨作用時相同的效果。 第15圖是表示具備有關本發明之另一實施例的固體 生成物除去裝置的濕式排氣處理裝置的構成圖例。如圖 示’濕式排氣處理裝置1和前述者相同,具有流通排氣的 主配管2、反應部3、及流通經無害化處理之排氣的排出配 管16。於主配管2内和前述實施例相同,通過惰性氣體導 入管5,導入來自高溫惰性氣體源4之高溫惰性氣體,藉 此以控制發生在主配管内的固體生成物,但在該實施例 中’其他於主配管2的反應器3中,部分設有用以刮除附 著於該部分之固體生成物的固體生成物除去裝置4〇。第16 圖表示該固體生成物除去裝置40的具體構成。如圖所示該 固體生成物除去裝置40具備有:設在由主配管2的反應 器3垂直延伸的管部分2’上端的馬達等驅動裝置42;藉由 該驅動裝置上下移動管部分2,内部,用以刮除附著於該管 部分内面的固體生成部的刮除構件44。該刮除構件只要是 能滑動於管部分2,内面上並刮除固體生成物者的任何形態 均可,例如,可以是圓盤狀、螺旋狀、棒狀等各種形態, 此外,不單是可上下移動,同時可進行迴轉。胃中,參照 號碼46為洗淨水導入管,設計上係可藉由將洗淨水適當供 給至管部分2,,以洗淨附著於刮除構件料或管部分内面 的固體生成物。於第15圖中’參照號碼14係藉由檢測主 配管内部的壓力而用以檢測附著於管部分2,内壁面的固體 生成物之附著狀況的檢測器,15則是 』疋用以控制高溫惰性氣 體源4的溫度感測器。 (請先閱讀背面之注音?事項再寫本頁) |>裝 --線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
312894 509593 A7 _B7_____ 五、發明說明(I9 ) [利用於產業上的可能性] 本發明特別適用於半導體製造裝置的排氣系統,但並 非限定於此,亦可應用於各種排氣系統。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 19 312894
Claims (1)
- H3 第901 19296號專利申請案 申凊專利範圍修正本 L 一種排氣管内附著固體生成物除去裝置(,=8月2日) 菩:^ Μ Μ总Hn i 係用以除去附 且右/人面的固體生成物的裝置,其特徵為具備: 供給至排氣管㈣自;^端開口將洗淨水 2. :r:範:第1項的排氣管二著固體生成物除去 口\ 别述前端開口形成朝向前述排氣管内面開 3. =請::_第2項的排氣管内附著固體生成物除去 ^ : 洗淨水導人管設在前述排氣管周圍, ^有接受洗淨水的環狀洗淨水套管,而前述前端開口 連通於該洗淨水套管,貫通前述排氣 該排氣管内面。 甲至 I •如申請專利範圍第]g & 尸~ ㈣U㈣著目體生成物除去 ^置、、中’於前述前端開口設有定位在前述排氣管内 的排氣通路内’用以排出洗淨水的噴嘴。 ·!:申請專利範圍第1項至第4項中任-項的排氣管内附 者固體生成物除去裝置,其中,該裝置具備有:在導入 2 Γ水f L為使殘留在排氣管内面洗淨水蒸發而用以加 *、、、違排氣管的加熱裝置。 Γ.如申請專利範圍第5項的排氣管内附著固體生成物除去 管内供給高溫氣體的高溫氣 適用中國國家 1 312894 509593 H3 體源以做為前述加熱裝置。 7.如申請專利範圍第6項的排 裝置,其中,前述高溫氣體係對排:::體生, 8·如申請專利範圍第1項至第4項中任“生之“。 荽固妒凌士、t A 、甲任一項的排氣管内附 者固脰生成物除去裝置, 乂、十、嫌友_ 月丨]迷之前端開口係朝向 刖迷排虱管内的排氣流向 Π 9如争社直网耆預疋間隔設置複數者。 9.如申明專利範圍第2項至 益®雜止丄 貝干任—項的排氣管内附 者固體生成物除去裝置,其中, # # Λ裝置具備有:設於排 乳官内,可以其長度方向在該棑 隹茨排虱官内滑動,而將附著 於該排氣管内面的固體生成物刮除的刮除構件。 1〇·-種排氣管内附著固體生成物除去方法,用以除去附著 於排氣管内面的固體生成物,其特徵為具有下列兩 驟: # ·將一次洗淨水供給至包含於排氣中的成分與排氣 經濟部中央標準局員工福利委員會印製 &内。卩的漁氣產生反應而生成並附著於該排氣管内面 的〜人固體生成物,以洗去固體生成物的步驟,·及 將二次洗淨水供給至與前述一次洗淨水產生反應 而新生成並附著於排氣管内面的二次固體生成物,以洗 去該二次固體生成物的步驟。 11_如申請專利範圍第10項的排氣管内附著固體生成物除 去方法’其中’於前述排氣管中’沿著排氣流向隔著預 定間隙設置第1及第2洗淨水導入口,自前述第丨洗淨 水導入口供給前述一次洗淨水’而自前述第2洗淨水導 入口供給前述二次洗淨水 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐) 312894 H3 如申請專利範圍第1G項的排氣管内附著固體生成物除 去方法’其中’將前述—次及二次洗淨水,自設在前述 排氣管的單一洗淨水導入口 ’藉由施予各自不同的壓力 :供給’調節該一次及二次洗淨水在該排氣管内部的擴 散範圍,藉此,前述一次及二次洗淨水各自供給至前述 一次及二次固體生成物。 13·-種排氣管内附著固體生成物除去裝置,用以將附著於 排氣管内面的固體生成物除去’其特徵為:具有將高溫 氣體導入排氣管内’用以加熱該排氣管内面的高溫氣: 導入裝置。 14. 如申潰專利祀圍第13項的排氣管内附著固體生成物除 ,裝置’其中’前述高溫氣體導人裝置具有用以將高溫 氣體朝向排氣管内部之必要位置排出的排出開口。 15. 如申請專利範圍第13項或第14項的排氣管内附著固體 生成物除去裝置’其中,該裝置具備有:設於排氣管内, 可以長度方向在該排氣管内滑動,用以將附著於該排氣 管内面的固體生成物刮除的刮除構件。 經濟部中央標準局員工福利委員會印製 16. -種排氣管内附著固體生成物除去裝置,用以將附著於 排氣管内面的固體生成物除去,其特徵為:設於排氣管 内’可以其長度方向在該排氣管内滑動,用以將附著於 該排氣管内面的固體生成物刮除的刮除構件。 17-種用於半導體製造的排氣處理系統,其特徵為具備 有·· _具有用以進行半導體處理的真空室的丰導微事达 本紙張尺度·㈣國家標準(CNS) A4規格(21G X 297公爱)----—__ 312894 509593 裝置; 用以自真空室排出在該真空室内所使用的氣體的 真空泵; :藉由該真空果排出之氣體做無害化處理 排氣處理裝置; 用以連接前述半導體製造裝置和真空泵的第】管 用以連接真空泵和排氣處理裝置的第2 及, 設於該第2管’用以除去排氣與來自濕式排氣處理 裝置的屬乳相反應而產生之附著於該連接部分内面的 固物生成物的固體生成部除去裝置, ”該:體生成物除去裝置具備有具有位在前述第2 管内的鈿端開口,可自今益★山Μ 管内面的洗淨水導入I·將洗淨水供給至第2 18•如申請專利範圍第17項的排氣處理系統, 洗淨水導的周圍,具備/有接受= 水的環狀洗淨水套管’前述前端開口與該洗淨水套管: 通’貫通前述第2管之管壁而延長至該管内面。 19·如申明專利乾圍第17項或第以項的排氣處理系統,苴 中,於前述前端開口,設有被定 ’、’·- 通路内,用以排出洗淨水的嘴嘴在^第2管的排氣 2〇 t申:專利範圍第17項或第18項的排氣處理系統,其 〜使洗淨水導人後殘留於“第2管 = 水加熱並蒸發,乃備有將高溫惰性氣體供給至前:連^ 部分内的高ϋ性氣體漁。 連接 本紙張尺奴財 312894 4 如申清專利範圍第1 7 中,於…"β負次弟18項的排氣處理系統,其 ;月1】述第2管方向隔荖預定pq Λ 道— 者預疋間隔,設置複數洗淨水 ^入官的前述前端開口。 如申明專利範圍第1 7項或第1 8項的排氣處理系統,1 | ,、 一,具備有:設於排氣管内,可以其長度方向在該排氣 g内滑動,而將附著於該排氣管内面的固體生成物刮除 的刮除構件。 經濟部中央標準局員工福利委員會印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 5 312894
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JP6524758B2 (ja) * | 2015-04-01 | 2019-06-05 | 富士電機株式会社 | 水モニタ |
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CA2988462A1 (en) * | 2017-12-11 | 2019-06-11 | Nova Chemicals Corporation | Method for removing fouling downstream of an odh reactor |
JP7128078B2 (ja) * | 2018-10-12 | 2022-08-30 | 株式会社荏原製作所 | 除害装置、除害装置の配管部の交換方法及び除害装置の配管の洗浄方法 |
EP3702680A1 (en) * | 2019-02-26 | 2020-09-02 | Electrolux Professional S.p.A. | Cooking oven with a cleaning system |
CN111351394A (zh) * | 2020-03-30 | 2020-06-30 | 大唐湘潭发电有限责任公司 | 一种运行中mggh降差压系统和方法 |
US20220120371A1 (en) * | 2020-10-20 | 2022-04-21 | Dennis M. Delany | Universal pipe fitting with cleaning |
CN113000190B (zh) * | 2021-02-26 | 2022-09-23 | 安徽鸿远图精密科技有限公司 | 一种半导体屏蔽材料生产用环保的造粒设备 |
CN113894131B (zh) * | 2021-08-20 | 2023-02-07 | 河北邯峰发电有限责任公司 | 一种无组织封闭料场精准控尘系统 |
CN115983158B (zh) * | 2023-01-30 | 2023-06-20 | 江苏开放大学(江苏城市职业学院) | 一种地下水模型与二维水动力模型松散耦合的方法 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3577709A (en) | 1968-05-09 | 1971-05-04 | Hoad & Ass Inc John G | Gas washer apparatus |
US3582142A (en) | 1969-02-26 | 1971-06-01 | Shell Oil Co | Gas injection arrangement for resuspending settled solids in shut-down slurry pipeline |
JPS62106395A (ja) | 1985-11-05 | 1987-05-16 | 株式会社日立製作所 | 沸騰水型原子炉 |
JPH0445036Y2 (zh) * | 1987-07-13 | 1992-10-22 | ||
JPH0678977B2 (ja) | 1988-07-11 | 1994-10-05 | 沖電気工業株式会社 | エアーパージ装置 |
US5353879A (en) * | 1989-12-18 | 1994-10-11 | Kabushiki Kaisha Nagao Kogyo | Door having smoke reducing apparatus associated therewith |
JPH0494720A (ja) | 1990-08-13 | 1992-03-26 | Babcock Hitachi Kk | 脱硫剤供給配管加熱式排ガス処理装置 |
JPH04114717A (ja) | 1990-09-05 | 1992-04-15 | Babcock Hitachi Kk | 付着物除去ノズル式排煙ガス処理装置 |
JP3374339B2 (ja) * | 1994-05-11 | 2003-02-04 | ティーエイチアイシステム株式会社 | 管体洗浄装置 |
JPH08127874A (ja) * | 1994-11-01 | 1996-05-21 | Kawasaki Steel Corp | 真空排気装置 |
JPH08281233A (ja) * | 1995-04-18 | 1996-10-29 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | 管洗浄方法 |
JPH08281222A (ja) * | 1995-04-19 | 1996-10-29 | Unisia Jecs Corp | 洗浄装置 |
US5935283A (en) | 1996-12-31 | 1999-08-10 | Atmi Ecosys Corporation | Clog-resistant entry structure for introducing a particulate solids-containing and/or solids-forming gas stream to a gas processing system |
US5833888A (en) | 1996-12-31 | 1998-11-10 | Atmi Ecosys Corporation | Weeping weir gas/liquid interface structure |
US5846275A (en) | 1996-12-31 | 1998-12-08 | Atmi Ecosys Corporation | Clog-resistant entry structure for introducing a particulate solids-containing and/or solids-forming gas stream to a gas processing system |
US5882366A (en) | 1997-06-06 | 1999-03-16 | Atmi Ecosys Corporation | Alternating wash/dry water scrubber entry |
JP3544145B2 (ja) * | 1999-04-19 | 2004-07-21 | キヤノン株式会社 | 処理装置 |
JP3183269B2 (ja) | 1998-09-09 | 2001-07-09 | 日本電気株式会社 | 反応生成物除去機能付き真空装置及びその反応生成物除去方法 |
JP3476126B2 (ja) | 1999-03-24 | 2003-12-10 | セイコー化工機株式会社 | 排ガス洗浄装置 |
JP3257539B2 (ja) * | 1999-05-31 | 2002-02-18 | 日本電気株式会社 | 排気ダクト内の反応生成物除去装置 |
-
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