TW503155B - Method for cleaning a polishing pad conditioner and apparatus for performing the same - Google Patents

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經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 叫155 A7 _^^一 _B7__ 五、發明說明（i) · 發明背景 1·發明範圍 本發明係關於清潔拋光墊調整器之方法及進行此方法 之裝置，實質上係關於清潔一半導體裝置之拋光墊的方法 及進行此方法的裝置，該方法係藉由粒子附著至該拋光墊 的菱形板而可以有效地移除。 2 ·相關技藝之描述 一般地，一半導體基片藉由使用一半導體生產裝置處 理一由矽製成之晶圓來裝配。該晶圓經由半導體生產過程 被裝配至該半導體基片，該過程如石板印刷、化學和機械 拋光、化學或物理沉積及等離子蝕刻過程。 當該半導體生產過程正被執行時，如複合物或塵土的 粒子仍然在該晶圓的一表面上。除此之外，該粒子附著至 該半導體生產裝置而由此發生失敗的過程。因此，當該晶 圓被裝配時，用來移除該粒子的一清潔過程被執行。不同 種類的清潔方法和裝置已被建議。例如，具有一刷子用來 清潔一位於該晶圓上塗上一層光之旋轉夾盤的清潔裝置被 揭露在日本專利公告第10-294261號中。當注入如丙嗣的 清潔液時，該清潔裝置抽出氮氣以便移除該粒子。 當該半導體生產過程正進行時，該清潔過程必需持續 地執行。特別地，在化學和機械拋光過程完成之後，該清 潔過程是必然需要的。因為化學和機械拋光過程藉由輸入 淤漿在該晶圓的表面上來拋光該晶圓，所以大量的淤漿附 著至該晶圓和一化學和機械拋光裝置上。仍然在該晶圓或 --11 L--->丨丨丨·丨丨丨丨丨訂.丨丨丨丨丨·丨_ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

-4 - B7 B7 _丨 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（2) 該化子和機械拋光裝置上的於漿被凝結因此形成抓傷該晶 圓的粒子。 該化學和機械拋光裝置包括一有拋光塾安裝於上的壓 印板，一用來吸入和壓縮該晶圓的拋光頭，和一用來調節 該拋光墊以便於避免該拋光墊磨損的拋光墊調整器。當抛 光過程正執行時該淤漿也附著至部分該化學和機械拋光裝 置，以致於在抛光過程已完成後，對於部分化學和機械拋 光裝置之清潔過程也已經完成。除此之外，該齡漿可能也 流入用來驅動該部分化學和機械拋光裝置的驅動部分，因 此導致驅動部分的故障。美國專利第6033290號揭露使用 一流體絨毛系統的一拋光墊調整器，該系統用來避免包括 該淤漿的雜質流入一調整器頭的内部，該調整器頭用來驅 動一拋光墊調整器朝向上和向下的方向。 拋光墊的調整藉由使用一菱形板附加至該拋光墊調整 器來執行。該菱形板施加一圓周壓力至該拋光墊的一頂表 面以便於改善該拋光墊頂表面的品質。然而，由於該菱形 板直接接觸形成於該拖光墊上的於漿，所以該齡漿可以附 著至該菱形板的金鋼石上。當時間過去，附著至金鋼石的 淤漿凝結，以致於藉由該凝結的淤漿對抛光墊的調整效益 被降低。除此之外，當拋光工作被執行時，該凝結的淤漿 可能掉在該拋光墊的表面上，所以該晶圓的頂表面被抓 傷。因此，在拋光過程之後對拋光墊調整器的清潔工作是 必須要求的。對該拋光墊調整器的清潔工作藉由使用一安 裝在一拋光裝置之一邊的拋光墊清潔裝置來完成。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（2〗0 X 297公釐） 503155 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 五、發明說明（3). 第1圖顯示一傳統拋光墊調整器清潔裝置。特別地， 如第1圖所示之該拋光墊調整器清潔裝置清潔一用來調整 一拋光墊在一拋光墊調整器上的菱形板。 關於第1圖，該拋光墊調整器清潔裝置有一清潔槽10, 其容納一用來清潔該拋光墊調整器的清潔液12。當該清潔 工作執行時，與一菱形板耦合的該拋光墊調整器浸入在該 清潔槽10内的清潔液12中。該清潔液包括去離子水。該清 潔槽10的頂部是打開的。用來供給該清潔液至該清潔槽1〇 的清潔液供給部14裝設在該清潔槽1〇的一邊。一刷子16被 裝在該清潔槽1〇内部的一較低部分。在與該菱形板耦合的 該抛光墊調整器被浸入在該清潔槽1〇内後，該刷子16與該 菱形板接觸以便於從該菱形板移除包括該淤漿的粒子。一 排放部分18被裝設在該清潔槽1〇的一外部。該排放部分18 收集從該清潔槽10溢出之該清潔液12且排放該溢出的清潔 液至外部。 具有該上述結構之該拋光墊調整器清潔裝置清潔該拋 光墊調整器如下。 當用來弄平該晶圓表面之拋光過程已完成時，該拋光 墊調整器被運送至該拋光墊清潔裝置。然後，該拋光墊調 整器被浸入在該清潔槽10内的清潔液12中。該拋光墊調整 恭的菱形板與安裝在該清潔槽10内部之較低部分的刷子16 接觸以便移除附著至該菱形板的淤漿。該清潔液供給部分 供給該清潔液12。當該清潔液12持續地供給至該清潔槽1〇 時該清潔液12從該清潔槽1〇溢出。 Μ氏張尺度顧中關家標準（CNS)_A4規格咖X 297公£ —^—-l·—,—t—.. (請先閱讀背面之注意事項再资寫本頁) 6 503155 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製

A7 B7 五、發明說明（勺 然而，附著至該拋光墊調整器的淤漿不可能僅藉由拋 光墊調整器與該刷子接觸而完全地移除。仍然在拋光墊調 整器上的淤漿凝結導致不僅是拋光墊調整器的調整效益被 降低而且該晶圓的表面也被抓傷。除此之外，從該拋光墊 調整器移除的淤漿被沉澱在該清潔槽的底部而沒有從該清 潔槽流出，所以當該清潔過程被執行時該淤漿被沉積在該 刷子上。沉積在刷子上的淤漿會污染該拖光墊調整器之菱 形板，所以需要定期地從該刷子移除該淤漿。然而，從該 刷子移除該淤漿是非常困難且需要很多時間的。除此之 外，由於當該清潔過程執行時該菱形板頻繁地與該刷子接 觸，所以該刷子的一部分會從該刷子分開。該刷子的分開 部分附著至該菱形板。在此例中，當藉由使用該菱形板執 形調整該拋光墊時，該晶圓的表面被附著至菱形板之該刷 子分開部分抓傷。 發明簡述 本發明已用來解決習知技藝的問題，且因此本發明的 第一目的為提供一用來清潔一拋光墊調整器的方法，其可 以有效地移除附著至該拋光墊調整器的粒子。 本發明的第二目的為提供一完成該清潔方法的清潔裝 置。 為了實現本發明的第一目的，此提供一用來清潔一拋 光塾調整器的方法，其包括的步驟如下： 該拋光墊調整器被浸入至容納一清潔液的一清潔槽 中。該清潔液藉由從該清潔槽的底部注入一惰性氣體而起 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（2】〇χ297公爱） --------^-------—線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 7 A7

五、發明說明（5) 泡。外加的清潔液被供給至該清潔槽中。 為了實現本發明的該第二目的，此提供一用來清潔一 拋光墊調整器的裝置。 一清潔槽容納一清潔液。一氣體注入部分從該清潔槽 的底部注入一惰性氣體至該清潔液中。一清潔液供給部分 供給該清潔液至該清潔槽中。 與一菱形板耦合的該拋光墊調整器浸入該清潔液中且 該惰性液體從該清潔槽的底部注入至該清潔液中導致該清 潔液起泡。藉由起泡該清潔液，包括附著至該拋光墊調整 器之游漿的粒子被有效地移除。 除此之外，從拋光墊調整器移除的粒子藉由從該清潔 槽底部注入之惰性氣體的壓力從該清潔槽溢出而沒有漂浮 在清潔液中或沉澱在該清潔槽的底部。因此，該拋光墊調 整器避免被在清潔槽中的粒子污染。 圖式簡要說明 本發明之上述的目的和其他優點將藉由描述在下文之 較佳具體實施例及其相關的伴隨圖示而變得更顯而易見， 該圖示說明如下： 第1圖為一顯示一傳統拋光墊調整器清潔裝置的正視 圖； 第2圖為一顯示一包括一拋光墊調整器清潔裝置之拋 光裝置的正視圖； 第3圖為一顯示根據本發明之一具體實施例的拋光墊 調整器的正視圖； 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公f ) ,„—------—^--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 503155 : A7

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（9 第4圖為一顯示根據本發明之一具體實施例的拋光墊 調整器之薄板的前視圖；和 第5圖為一顯示根據本發明之一具體實施例的一拋光 墊調整器清潔方法流程圖。 較隹具體實施例之詳細說明 本發明將要根據伴隨之圖不描述在下文中。 第2圖係顯示一根據本發明一具體實施例之包括一拋 光墊調整器清潔裝置的拋光裝置。 關於第2圖，用來拋光一晶圓w的拋光墊32被安裝在 可以旋轉的一壓印板30上。該拋光墊32由凹槽組成，其增 加該拋光整32相對於該晶圓W的一接觸區域而因此增進拋 光效益。一拋光頭34被裝設用來藉由吸入該晶圓w而裝載 該晶圓W於該拋光墊32上。該拋光頭34藉由使用一真空壓 力吸入該晶圓W。該拋光頭34藉由一馬達的驅動力旋轉且 向上及向下移動。可能裝設數個拋光塾32和抛光頭34以便 能同時地拋光數個晶圓W。用來供應淤漿至該拋光墊32的 一淤漿供應部分36被安裝在該拋光墊32上。該淤漿藉由拋 光墊32的離心力被供應至裝載於該拋光墊32上的該晶圓 W。用來調整該拋光墊32表面的一拋光墊調整器38鄰近於 該拋光墊32放置。當該淤漿和拋光粒子存在於拋光墊32的 凹槽中或當該凹槽被磨損時，藉由拋光墊調整器38進行該 拋光墊32的調整。拋光墊32的調整和拋光該晶圓W同時地 完成。除此之外，裝設一用來清潔該拋光墊調整器38的拋 光墊調整器清潔裝置40。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） t — — — — — — t!--^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 9 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 503155 A7 ___ B7 五、發明說明（7) · 在下文中，該拋光墊調整器38將要詳細地描述。該拋 光墊調整器38鄰近該拋光墊32。該拋光墊調整器38裝設有 一用來藉由與該拋光墊32接觸而調整該拋光墊32的菱形板 38a。該菱形板38a由一具有凹口和凸起物之薄板及數個被 緊密地附著至該薄板的工業金鋼石組成。該金鋼石與該拋 光塾32的表面接觸。在此情況下，該菱形板38a旋轉以便 執行該拋光墊32之調整。該拋光墊調整器38的旋轉方向與 該拋光墊32的旋轉方向一致。一拋光墊調整器頭38b被連 接至該菱形板38a。該拋光墊調整器頭38b為了讓該菱形板 38a旋轉在該拋光墊32上而旋轉。除此之外，該拋光墊調 整器頭38b為了讓該菱形板38a與該拋光墊32接觸或從那分 開而向上及向下移動。一運送部分38c被連接至該拋光墊 調整器頭38b以便運送該拋光墊調整器38。該運送部分38c 被固定地鄰近該拋光墊安裝。在此狀態下，該運送部分38c 為了運送該抛光塾調整器38至該抛光墊32或該抛光塾清潔 裝置40而旋轉。 當該拋光墊32的調整藉由該拋光墊調整器38而被執行 時，被安裝在該拋光墊32上的薄板30旋轉使得與該晶圓W 接觸的該拋光墊32也旋轉而藉此拋光該晶圓W。該拋光墊 調整器38之菱形板38a藉由該運送部分38c被運送至該拋光 墊32的頂部分。然後，該拋光墊調整器頭38b向下移動以 便於該菱形板38a與該拋光墊的頂表面接觸。在此狀態下， 該菱形板38a旋轉於該拋光墊的32的旋轉方向。因此，一 圓周壓力藉由該菱形板38a被施加至該拋光墊32的頂表 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ---：--r.!i-----------訂--------·線 Φ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 10

五、發明說明（今 〃經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 面’因此增進該拋光墊32表面的品質。 當該晶圓W的拋光執行時由於該抛光塾調整器38進行 該拋光墊32的調整’所以許多於漿附著至該拋光墊調整器 38的該菱形板38a。當時間過去，該淤漿凝結且該凝結的 淤漿導致晶圓W被抓傷。因此，與該菱形板38a耦合的該 拋光墊調整器38在該拋光過程完成後已經被清潔。對於該 拋光塾調整器38的清潔工作藉由鄰近於該拋光墊調整器38 安裝的拋光墊調整器清潔裝置40進行。為了清潔該拋光墊 調整器38，該拋光墊調整器38的該菱形板38&藉由如第2圖 虛線所示之運送部分38c移動至一清潔槽42的頂部分。然 後，該拋光墊調整器頭38b被浸入在該清潔槽42内的一清 潔液44。同時，藉由從該清潔槽42的一底部注入一惰性氣 體而在該清潔液44中形成一氣泡，以致於該拋光墊調整器 38被清潔。 第3圖顯示用來清潔該拋光墊調整器38的拋光墊調整 器清潔裝置40。該拋光墊調整器清潔裝置40移除附著至該 拋光墊調整器38之菱形板38a如淤漿般的粒子。 關於第3圖，該拋光墊調整器清潔裝置40包括容納該 清潔液44於其中的清潔槽42。該清潔液包括純水或去離子 水。較佳地，該去離子水被用來作為清潔液。該拋光墊調 整器清潔裝置40的清潔工作藉由將與該菱形板38a耦合的 該拋光墊調整器清潔裝置4 0浸入至於該清潔槽4 2内的該清 潔液44中而執行。該清潔槽42的底部是打開的。 一清潔液體供給部分5 6被設置用來供應該清潔液4 4至 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ^--------^--------•線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 11 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 503155 A7 ---2Z____ 五、發明說明（9). 該清潔槽42中。 一氣體注入部分46被設置在該清潔槽40—内部的底部 為的是注入該惰性氣體至該清潔液44中。該氣體注入部分 46包括一具有一空間於其内且由數個細孔形成的薄板佔、 一連接至該薄板48 —側邊用來注入該惰性氣體至該空間的 氣體導管50，和一用來供應該惰性氣體至該氣體導管5〇的 氣體供應部分52。該惰性氣體從該氣體供應部分52輸入至 該薄板48的空間，然後穿過該薄板48的細孔被注入至該清 潔液42中。該薄板48被裝配至該清潔槽42的一較低部分。 較佳地，一橡皮環繞著該薄板48的一圓周附著因此固定地 裝配該薄板48至該清潔槽42的較低部分。由於該薄板48被 放置在該清潔液44中，所以該薄板48由一防#刻材料製 成。 數個導引杆54被設置在該薄板48頂表面的一邊緣。與 該菱形板38a耦合的該拋光墊調整器38被放置在導引杆54 上以便於該拋光墊調整器38藉由一預定的距離從該氣體注 入部分46保留一空間。 該氣體注入部分46產生的該惰性氣體在該清潔液44中 形成氣泡以便清潔與該菱形板3 8a耦合的該拋光墊調整器 38。從該拋光墊調整器38和該菱形板38&移除的粒子從該 清潔槽42中與該清潔液44 一起溢出。 一排放部分58被設置用來收集和排出從該清潔槽42溢 出的該清潔液44。從該清潔槽42溢出的清潔液44被收集在 形成於該清潔槽42外面的一凹槽内。然後，該溢出的清潔 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱）

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五、發明說明（1() 辦 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 液沿著該凹槽流動且經由一排放管58b而排出。根據本發 明的另一具體實施例，一外槽58a被設置在該清潔槽42的 外面’其收集從該清潔槽42溢出的清潔液44且經由該排放 管58b排放該溢出的清潔液44。 第4圖顯示根本發明的一具體實施例該拋光墊調整器 清潔裝置的薄板48。 關於第4圖，該薄板48形成有多個細孔48a於其頂端部 分且有一空間在其上。較佳地，該薄板48有200至500個細 孔48a。由於惰性氣體經由該細孔48a注入，所以該細孔48a 形成在這樣的一種方式為的是該惰性氣體可以均勻地注入 至與該菱形板38a耦合的拋光墊調整器38。較佳地，該細 孔48a集中地形成在薄板48上而在其之間維持一恆常距 離。 一氟體導管50被連接至該薄板48的一側邊部分。該惰 性氣體經由該氣體導管50被輸入至該薄板48的空間中。輸 入至該薄板48空間中的惰性氣體經由該薄板48的細孔48a 從該清潔槽的底部被注入至該清潔液44中。該惰性氣體包 括氮氣和氬氣。該氮氣較佳地被用為該惰性氣體。 數個導引杆54被設置在該薄板48的頂表面48。該薄板 48藉由該導引杆54從與該菱形板38a搞合的拋光墊調整器 38分隔一預定的距離❶如果該拋光墊調整器38靠近地鄰近 該薄板48 ’該清潔液44的起泡效應較低而由此降低該拋光 墊調整器38的清潔效應。藉由放置該導引杆54在該薄板48 和該拋光墊調整器38之間，對於拋光墊調整器38的清潔效 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） -------------------I--線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 13 A7

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 應可以增加。除此之外，該導引杆54被設置在該薄板佔的 圓周部分，在這樣的方式中，沒有用來調整該拋光墊32之 有金鋼石設置於上的該菱形板38&之一邊緣部分可位於該 導引杆54上。因此，可以避免由該導引杆54和該菱形板之 間的接觸所造成該菱形板的磨損。較佳地，設置三個導引 杆54以便於穩定地安裝該拋光墊調整器在該導引杆54上。 該薄板48頂表面的一中央是凸起的，在這樣的方式中 該薄板48中央的厚度比該薄板48邊緣部分的厚度薄。當執 行該拋光墊的調節時，許多淤漿附著至與該拋光墊調整器 38耦合之該菱形板3心中。因此，藉由使得該薄板料頂表 面中央是凸出的，介於該細孔48a和該菱形板38a之間的距 離相對地較接近以便於經由該細孔48a被注被入惰性氣體 的壓力增加，因此改良對該菱形板38a中央的清潔效應。 第5圖顯示用來解釋根據本發明一具體實施例之該拋 光墊調整器38清潔方法的流程圖。 關於第5圖，首先藉由使用該拋光墊調整器38來執行 該拋光墊32的調整（步驟S60)。調整該拋光墊32和拋光該 晶圓同時地執行。在下文中，該拋光墊調整器頭3 8b向下 移動以便於接觸正被拋光的拋光墊32表面。然後，該拋光 墊頭部分38b旋轉於該拋光墊32的旋轉方向由此調整拋光 墊32的表面。 當晶圓的拋光完成在該拋光墊32上時（步驟S62)，該 拋光墊調整器38凸出至該拋光墊調整器清潔裝置4〇(步驟 S64)。在下文中，該拋光墊調整器頭3813向上移動以致於 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） t *----—----訂—------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 14 A7 B7

503155 五、發明說明（12) 該菱形板38a從該拋光墊32的表面分離。然後，該凸出部 分38c凸出該拋光墊調整器38以致該菱形板38a被放置在該 拋光墊調整器清潔裝置40之該清潔槽42的頂端部分。 同時，該清潔液44藉由該清潔液供給部分56持續地供 給至該清潔槽42中（步驟S66)。 當該拋光墊調整器38的菱形板38a被放置在該清潔槽 42的頂表面時，該拋光墊調整器頭38b向下移動以致於該 拋光墊調整器38被浸入至容納在清潔槽42内的清潔液44中 (步驟S68)。該去離子水被使用作為該清潔液。同時，該 拋光墊調整器38藉由從該氣體注入部分46分隔一預定距離 而分離。藉由從該拋光墊調整器38分離該氣體注入部分 46，可能增進該清潔液44的起泡效應。較佳地，介於該氣 體注入部分46和該拋光墊調整器38之間的距離在3至5mm 範圍内。 當該拋光墊調整器38被浸入該清潔液44内時，該惰性 氣體從被設置於該清潔槽42 —較低部分的該氣體注入部分 46注入。該惰性氣體持續地注入直到該拋光塾調整器3 8的 清潔完成（步驟S70)。該惰性氣體包括氮氣和氬氣。較佳 地，該氮氣被用來作為惰性氣體。該惰性氣體必須平均地 注入在該抛光塾調整器38之篆形板38a的前端部分附近， 該拋光墊調整器38被浸入在該清潔液44内。因此，該惰性 氣體平均地從該清潔槽42的較低部分注入至該清潔槽42的 較高部分。藉由注入惰性氣體，該清潔液44的起泡產生在 該清潔槽42中以致於包括附著至該拋光墊調整器38之淤漿 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --1II1 · I------I I---- ·線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 15 503155 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（G . 的粒子從該拋光墊調整器38分離。由於從該清潔槽42較低 部分注入之惰性氣體的壓力，該粒子可以從該清潔槽42溢 出而不會漂浮在清潔液44中或沉澱在清潔槽42的底部。由 於藉由該惰性氣體的壓力該粒子可以有效地從清潔槽42中 溢出，該拋光墊調整器38也避免被粒子污染。 當該清潔過程完成，該拋光墊調整器頭381)向上移動 以便與該菱形板38a耦合的拋光墊調整器38離開該清潔液 44 〇 因此，附著至該拋光墊調整器38的粒子藉由清潔液44 的起泡有效地移除。除此之外，由於粒子從該洗滌液儲存 槽42與該清潔液44一起溢出而沒有飄浮在清潔液44上或沉 澱在該清潔槽42的底部。而避免由粒子所造成之拋光墊調 整器的污染。因此，當該晶圓的拋光正執行時，該晶圓可 避免由該拋光墊調整器所造成的抓傷。除此之外，由於該 凝結的淤漿沒有存在於該拋光墊調整器清潔裝置附近，所 以該半導體裝置可以容易地運作。 粒子的測詈 本發明的發明者比較當藉由使用該拋光墊調整器清潔 裝置執行拋光晶圓時產生的粒子和當藉由使用傳統拋光墊 調整器清潔裝置執行拋光晶圓時產生的粒子。該粒子包括 形成於晶圓上的抓痕。表一顯示其結果。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

-___II 線· 表一 在傳統裝置的 粒子數 在本發明裝置 的粒子數 粒子降低效應 (%) m光裝置1 83 78 ' 6.0 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（2】0 X 297公爱） 16 五、 發明說明（1今 拋光裝置2 拋光裝置3 1光裝置4 拋光裝置5 平均值 85 78 105 100 A7 B7 74 64 91 91 12.9 17.9 13.3 9.0 11.8 鰣 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 一肩 一尺一張 氏 如表一所示，顯示在第3圖中根據本發明的該拋光塾 調整器清潔裝置應用至拋光裝置1到5且該拋光墊調整器藉 由使用每一清潔裝置被清潔。然後當調整該拋光墊時該拋 光墊藉由使用每一清潔裝置被拋光。在該拋光墊之拋光已 經被執行之後，測量產生於晶圓上的粒子數量。在這樣的 方式中，該傳統拋光墊調整器清潔裝置被應用至拋光裝置 1到5且該拋光墊調整器藉由使用每一清潔裝置被清潔。然 後當調整該拋光墊時該拋光墊藉由使用每一清潔裝置被拋 光。在該拋光墊之拋光已經被執行之後，測量產生於晶圓 上的粒子數量。顯示在表一的粒子數量為累積資料的數 值，其在藉由應用該傳統拋光墊調整器清潔裝置和本發明 的該抛光墊調整器清潔裝置至該抛光裝置1至5於30天之内 拋光該晶圓後測量。 根據表一。依據該抛光裝置該粒子減少大約6%至 18%。在平均值中該粒子減少大約lh8%。當該拋光過程 正被執行時，由於該拋光墊調整器或由於其他如存在於該 拋光墊本身之粒子的因素而可能產生粒子於晶圓上。因 此’該粒子降低效應’根據本發明其數據為丨丨·8〇/〇，指出 由拋光勢調整器產生的粒子幾乎被移除。 --------^---------^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 17 503155 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（Θ · 如上所述，藉由使用注入該惰性氣體至容納在清潔槽 中的清潔液來起泡該清潔液而有效地移除附著至該拋光墊 調整器的淤漿。除此之外，由於從該拋光墊調整器移除的 粒子可以從清潔槽中溢出而不會漂浮在清潔液中或沉澱在 該清潔槽的底部，該拋光墊調整器可以避免被該粒子污 染。因此，當該晶圓被拋光時由於該拋光墊調整器的污染 物形成在晶圓上的粒子或抓痕被減少以致於半導體裝置的 可靠度和生產力將被增進。 雖然已經描述本發明的較佳具體實施例，將藉由熟知 此技藝者而了解本發明不應該受限於已描述的較佳具體實 施例，且許多變化和修改可以存在於限制在附加申請專利 範圍内的精神和範圍中。 元件標號對照表 10 清潔槽 12 清潔液 14 清潔液供給部 16 刷子 18 排放部分 W 晶圓 30 壓印板 32 抛光墊 34 拋光頭 36 於漿供應部分 38 拋光墊調整器 38a 菱形板 38b 抛光塾調整器頭 38c 運送部分 40 拋光墊調整器清潔裝置 42 清潔槽 44 清潔液 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公^7 !k!r!看-------—訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 18 503155 A7 B7 五、發明說明（1今 46 氣體注入部分 48 48a 細孔 50 氣體導管 52 54 導引杆 56 清潔液體供給部分 58 排放部分 58a 58b 排放管 薄板 氣體供應部分 外盆 -------------裝--------訂· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -線. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 19

Claims (1)

1. 503155 六、申請專利範圍 2. 3. 4. 5. 6. 部 智 慧 財 產 局 員 工 消費 合 作 社 印 製 7. 8. 一種用來清潔一拋光墊調整器之方法。其包括之步驟 為· 將該拋光墊調整器浸入至一容納該清潔液的該清 潔槽中；和 Λ β 藉由從該清潔槽的一底部注入一惰性氣體至該清 潔液中而起泡該清潔液。 如申請專利範圍第旧之方法，其中該惰性氣體持續地主入至該清潔液中直到該拋光墊調整器的一清潔過 程已經完成。 “如申請專利範圍第1項之方法，其中容納在該清潔槽 中的該清潔液藉由該清潔液的起泡而從該清潔槽中： 出。 ’ 如申請專利範圍第3項之方法，其中該清潔液持續地 供給至該清潔槽中以補充該溢出的清潔液。 如申請專利範圍第！項之方法，其中該惰性氣體包括 一氮氣。 如申請專利範圍第!項之方法’纟中該清潔液包括該 去離子水。 如申請專利範圍第1項之方法，其中該被浸入至該 潔液中的該拋錢藉由分隔__預定距離之—氣趙注 部分來隔開’該雜氣趙從該氣m部分注入 如申請專利範圍第7項之方法，其中介於該氣體注八 部分和該拋光塾調整器之間的距離在—3随至5咖之 間的範圍。 清 入 入 本紙張尺度適用中咖冢標準（CNS)A4規格（21G χ挪公髮了 -20 - ，經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 503155 A8 B8 C8 ___ D8 六、申請專利範圍 9·如申請專利範圍第1項之方法，其中該惰性氣體均勻 地注入在該被浸入之拋光墊調整器前表面上。 10·如申請專利範圍第1項之方法，其中在該拋光墊調整 器中央起泡該清潔液的一第一強度大於在該拋光墊調 整器周圍起泡該清潔液的一第二強度。 11· 一種用來清潔一拋光墊調整器之裝置，包括： 一用來容納一清潔液的清潔槽； 一用來從該清潔槽之一底部注入該惰性氣體至該 清潔液中的氣體注入部分；和 一用來供給該清潔液至該清潔槽中的清潔液供給 部分。 12·如申請專利範圍第11項之用來清潔一拋光墊調整器的 裝置’其中該氣體注入部分包括一具有一空間於其中 且形成有數個細孔的薄板，一連接至該薄板之一側用 來注入該惰性氣體至該空間中的氣體導管，和一用來 供給該惰性氣體至該氣體導管中的氣體供給部分。 13·如申請專利範圍第12項之用來清潔一拋光墊調整器的 裝置’其中該薄板係由一防蝕刻材料製成。 14·如申請專利範圍第12項之用來清潔一拋光墊調整器的 裝置，其中數個導引杆被設置驗該薄板頂表面的一邊 緣部分，用來從該薄板分隔該拋光墊調整器。 15·如申請專利範圍第13項之用來清潔一拋光墊調整器的 裝置，其中該導引杆之一長度在大約3mm至5mm的範 圍内。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） — — — — — — — — -1111111 ^ i — — — — — — — (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 21 六、申請專利範圍 16·如申請專利範圍第12項之用來清潔-拋光墊調整器的 I置其中該薄板頂表面之—中央是凸出的在這樣 的方式中該薄板中央的一第一厚度比該薄板邊緣部分 的一第二厚度薄。 17·如申睛專利範圍第11項之用來清潔-抛光墊調整器的 裝置’其中一排出部分被設置成用來收集從該清潔槽 溢出的該清潔液。 18.如申請專利範圍第17項之用來清潔一拋光墊調整器的 裝置’其中該排放部分包括一用來收集從該清潔槽溢 出之清潔液的外槽和一用來排放該溢出液體至外面的 排放管。 • — — — Ml Ll· I I* I 丨！· ·ί (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 訂------線 i^---------------!. 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 22